JPH04147149A

JPH04147149A - 耐久画像板

Info

Publication number: JPH04147149A
Application number: JP27135890A
Authority: JP
Inventors: Kenta Sato; 健太佐藤; Junji Sato; 順二佐藤
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 1990-10-10
Filing date: 1990-10-10
Publication date: 1992-05-20

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〈発明の関連分野〉本発明は、極めて耐久性が大きく、画質の劣化なしに永
久に画像を保存することができ、且つ肉眼で直接具ても
非常に美しいと感することができる耐久画像板に関する
。

〈発明の背景〉一般に使われている銀塩写真媒体、印刷物、磁気記録媒
体、光記録媒体等は、その主要材料が有機材料であり、
耐熱性、耐腐食性及び機械的耐久性等が劣る。例えば、
白黒プリント、白黒フィルム、カラープリント、カラー
フィルム、磁気テープ、光カード、光ディスク等は、耐
炎性がない。

また、強い薬品に侵されたり、ある種の溶剤に溶けたり
する。更に、機械的外力により破れたり、引きちぎれた
り、傷がついたり、しわができたり、伸びたりすること
もある。更に、白黒プリント、カラープリント、カラー
フィルム等は経時で変色したり、退色する可能性があっ
た。

銀塩マイクロフィルムは１００年の保存性が証明されて
いるが、デジタル記録はまだ保存性に疑問がある。また
数１０年後、数１００年後に現在使用されているデジタ
ル再生装置が存在するか疑問である。アナログ可視画像
であれば肉眼で直接みることができるし、簡単な光学的
拡大または縮小装置により容易に再生できるので、将来
再生装置が存在しないという恐れはない。

印刷の分野では、石版印刷、グラビア印刷、平版印刷等
が知られている。

石版印刷は歴史的な方法であり、石版に手で彫刻して凸
版をつくり、これにインクをつけて紙に転写するもので
ある。従って精密な画像は得られなかったし、また版も
脆くて弱いものであった。

更にその版上り画像は、低コントラストで且つ階調のな
いものであり、鑑賞の目的に使えるものではなかった。

グラビア印刷は、銅のシリンダにサイズは一定で画像濃
度に応じて深さが大きくなるドツトが形成された版を用
いる。版を直接肉眼で見ても、階調やコントラストが殆
どないので、鑑賞の目的に使えるものではなかった。

平版印刷版のうち２８版は、アルミニウム板の表面を陽
極酸化して新水性表面を形成し、その上に新油性の樹脂
画像を形成したものが一般的である。これは耐熱性、耐
腐食性ともに小さいものである。平版印刷版の中でも、
バイメタル版、トライメタル版と呼ばれる特殊なものか
あ。バイメタル版は、新油性の銅又はステンレス基板の
上に新水性のクロムの画像を形成したものである。トラ
イメタル版は、鉄基板の上に新油性の銅の層を設け、そ
の上に新水性のクロムの画像を形成したものであり、ど
ちらの版もかなり耐熱性は大きいが、銅が使われている
ため耐熱性、耐腐食性、機械的耐久性のいずれも不十分
であった。

印刷版の場合、特に耐熱性、耐腐食性は要求されないの
で、超耐熱金属が使われていない。上記バイメタル、ト
ライメタルの場合も、ステンレスは通常のもので耐熱性
はそれほど大きいものではない。また版は直接肉眼で見
るためのものではなく、インクをつけてそれを紙に転写
するためのものなので、板上の画像は階調やコン）・ラ
ストが非常に小さくてもよい。実際に石版印刷版、グラ
ビア印刷版、バイメタル及びトライメタル印刷版は、肉
眼で見ても印刷物のように美しいものではない。

かりにこれらの印刷版を耐久性画像板として利用しよう
としても、空気中で高温に長時開−されると、画像部及
び非画像部の金属がともに酸化着色して、画像のコント
ラストが一層低下してしまい画像の美しさは殆ど消失し
てしまう。

印刷版はそれ自体が鑑賞されるのではなく、版を用いて
印刷した印刷物が鑑賞されるのであ。従って版自体は美
しくなくてもよいし、耐熱性や耐腐食性も要求されない
のである。

その他にステンレス板に図柄をエツチングしたものが、
壁面装飾とか、観光地の案内板として用いられることが
知られている。これらのもののうち、ステンレス板に単
純に図柄をエツチングしたものは、図柄と背景のコント
ラストが小さいので、良好な画像が得られない。これに
対して、ステンレス板の表面に着色皮膜を設けたのち、
図柄をエツチングしたものは高コントラストが得られる
が、空気中で長時間高温に曝されると、エツチングされ
た部分が次第に着色し、やはり画像のコントラストが低
下してしまう欠点があった。

また従来の印刷版では、色分解された版は別々に用意さ
れ、−枚の板の上に一つのカラー画像が複数色に色分解
された複数個の画像として記録されるという思想はなか
った。特に小サイズに色分解して、手札サイズとかキャ
ビネサイズの板上に並べて記録するという思想はなかっ
た。

従来、ステンレスの如き金属板に化学食刻法により文字
を食刻して、銘板を作製したり、簡単な図柄を食刻して
装飾品とする例は知られている。

文字や簡単な図柄はこの方法で作られたものでも一応の
鑑賞の目的に耐えるが、写真を網点画像化してこの方法
で作製しても、十分なコントラストや階調が得られず、
また背景が写真のように白くなく、且つ濃い部分も写真
のように黒くないので、到底写真として鑑賞できるもの
でなかった。

また従来の金属板に食刻された銘板や装飾品は、水の比
重よりはるかに大きいので、洪水等の水害に遭遇すると
、水底に沈んだり、土中に埋もれたりして行方不明にな
る恐れがあった。

〈発明の目的〉本発明は、上記背景に鑑みてなされたもので、本発明の
第一の目的は耐熱性、耐腐食性、機械的耐久性等が極め
て大きく、画質の劣化なしに永久的に画像を保存できる
耐久画像板を提供することである。

本発明の第二の目的は、水害で水をかぶっても水没しな
い耐久画像板を提供することである。

本発明の第三の目的は、火災の如き高熱、地震の如き機
械的衝撃、水害等に遭遇しても、少なくともどれか一つ
は無事に残る耐久画像板の組を提供することである。

本発明の第四の目的は、遠い将来でも再生装置が無くな
っている恐れのない耐久画像板を提供することである。

本発明の第五の目的は、それ自身が肉眼による鑑賞の目
的に耐える美しい画像を有する耐久画像板を提供するこ
とである。

〈発明の開示〉本発明耐久画像板の第一の態様では、耐熱性、耐腐食性
、機械的耐久性の大きな材料からなる基板の上に、耐熱
性、耐腐食性、機械的耐久性が大きく、前記基板とは異
なる画像形成物質でフォトリソグラフ法を用いて、階調
のある可視画像が網点画像化して記録されたものであっ
て、網点ドツト部と非ドツト部との光学的コントラスト
が、通常の印刷物程度に十分に大きいものであることを
特徴とする。

好ましくは、網点ドツト部と非ドツト部との白色光に対
する光学濃度差が、反射画像の場合０．９以上、透過画
像の場合　１．４以上であるとこが望ましい。以下の態
様についても同様である。

本発明耐久画像板の第二の態様は、機械的耐久性の大き
い金属基板及び耐熱性の大きい耐久性セラミックス基板
の上に、階調のある同一可視画像が、耐熱性、耐腐食性
、機械的耐久性が大きく、前記基板とは異なる画像形成
物質でフォトリソグラフ法により網点画像として記録さ
れたものであって、網点ドツト部と非ドツト部との光学
的コントラストが充分に大きい耐久画像板の少なくとも
二種からなる。

本発明耐久画像板の第三の態様は、耐久性の大きい金属
又はセラミックスの独立気泡型発泡体基板又は／及び耐
久性の大きい金属又はセラミックスの中空体基板の上に
、階調のある可視画像が、耐熱性、耐腐食性、機械的耐
久性が大きく前記基板とは異なる画像形成物質で、フォ
トリソグラフ法により網点画像として記録されたもので
あって、網点ドツト部と非ドツト部との光学的コントラ
ストが充分に大きく、且つ全体の比重が１よりも小さい
ものである。

ここで耐久性が大きいとは、上記二態様のようには、耐
熱性、耐腐食性、機械的耐久性は大きくないが、従来の
写真や印刷版とは比較にならぬほど耐久性が大きいこと
である。

本発明耐久画像板の第四の態様は、上記第二の態様の耐
久画像板と、上記第三の態様の耐久画像板の少なくとも
三種からなる。

本発明耐久画像板の階調のある可視画像はモノクロ画像
として表現される。

もとの階調のある可視画像がカラー画像の場合は、網点
画像は複数色に色分解された複数個の色分解網点画像か
ら成る。色分解網点画像には、印刷の分野で使用されて
いる４色分解画像の場合のように、墨版用の分解画像が
含まれてもよい。

複数個の色分解網点画像は、−枚の基板の上に形成され
てもよいし、別々の基板の上に形成されてもよい。この
場合、色分解画像を直接見ても、美しいモノクロ画像で
あるがカラー画像ではない。

カラー画像に再現するには各分解画像をスクリーン上に
位置合わせして投影するか、プリントする必要がある。

後述する如くスキャナで読み取り、デイスプレィしたり
ハードコピーにしてもよい。

またカラー写真感光材料に引き伸ばしプリントしてもよ
い。

本発明耐久画像板は、耐久性を向上するために、網点画
像の上に耐熱性、耐腐食性１機械的耐久性が大きく透明
な保護層が設けられてもよい。基板又は画像形成物質が
高温で酸化され、着色する性質を有する場合、保護層に
よる酸化着色防止効果は特に大きい。

本発明耐久画像板は、耐久性画像が耐久性基板の両面に
形成されてもよい。

本発明に於ける耐久性基板は、必ずしも平板状である必
要はなく、画像面が平面であればよく、裏面は曲面その
他任意の形状でよい。また画像が形成される面も、方形
、ディスク状その他任意の形状でもよい。宝石のような
人工の多面体、水晶のような天然の多面体でもよい。

本発明に於ける耐久性基板は、透明でも不透明でもよい
。

上記のような各種の態様を有する本発明の耐久性画像を
ｒ　ＤＵＲＡＧＲＡＰＨＪと命名する。

本発明耐久画像板の作成方法は、公知のフォトリソグラ
フ工程を含む。

上記の作成方法において、フォトレジスト膜への露光に
は二つの方法がある。即ち、網点画像で変調されたエネ
ルギビームを直接照射する方法と、銀塩感光材料の如き
感光材料に照射後、感光材料を現像して形成されたフォ
トマスクにより露光する方法とである。

網点画像作成法として、従来から印刷の分野でコンタク
トスクリーンを用いて網点画像化する網点技法（カメラ
製版とも呼ばれる）がある。またスキャナーにより網点
画像を形成してもよい。

デイザ法は本発明に包含されるが、解像度の点で従来か
らの網点（−個の網点の面積を変えることにより階調を
変える）の方が望ましい。

濃度の階調数は、６４階調以上、好ましくは１２８階調
以上、さらに好ましくは２５６階調以上であるとこが望
ましい。

また、網点画像の画素密度は、写真画像として十分に鑑
賞に耐える程度であることが必要であり、観察手段によ
り異なる。直接肉眼で鑑賞する場合は、少なくとも約２
．５線／　ｍｍ　（５ｄｏｔ／ｍｍ）以上、好ましくは
約５線／　［＋１１１１　（１０ｄｏｔ／ｍｍ）以上、
更に好ましくは８線／　＋ｎｍ　（１６ｄｏｔ／ｍｍ）
以上が望ましい。

耐久性画像を拡大してプリントする場合は、更に高密度
にしておく必要がある。

本発明に於いて、階調のある画像とは写真の如き自然画
、印刷画像、コンピュータグラフィックス画像、及びこ
れらと文字画像、文書等との組み合わせ等を意味する。

文字画像、文書、線画等は網点化しない方が望ましい。

本発明において、耐熱性とは単に高温の雰囲気に置かれ
ることのみでなく、炎に対しても耐久性がある、即ち耐
炎性をも含んでいる。

本発明に於いて、耐腐食性とは耐薬品性、耐溶剤性、耐
空気酸化性、耐湿性のごとく、薬品、溶剤、空気及び水
分等により変質、変色、溶解その他の劣化を受けにくい
性質を意味する。

本発明に於いて、機械的耐久性とは耐摩耗性、外力によ
り変形しにくい性質（例えば折り曲げにくい）、衝撃に
対して強い性質等を意味する。

く具体的説明〉以下に図面を参照して本発明の第一の態様の耐久画像板
及びその製作方法について詳細に説明する。尚、理解を
容易にするため、図面では凹部の深さ、不透明部の厚さ
、感光層の厚さ、フォトレジスト膜の厚さ、薄膜、保護
層の厚さ等は、誇張されて描かれている。

第１図は本発明耐久画像板（Ｄｕｒλｇｒａｐｈ）　１
０の一具体例の上面図、第２図はそのＡ−Ａ線断面図で
ある。

第１図及び第２図に於いて、１１．１２．１３はそれぞ
れ三個の階調のある可視カラー画像に対応する網点画像
である。網点画像１１は三色分解画像である１１−１．
１１−２．１１３から成る。同様に画像１２と１３も三
色分解画像１２−１．１２−２．１２−３．１３−１．
１３−２．１３−３から成る。１４は平板状の基板であ
る。

第３図は、網点画像部たとえば１１−１の部分拡大断面
図で、図中、３０は網点画像領域で、凸部３１（網点ド
ツト部、画像形成物質層）及び凹部３２（非ドツト部、
基板表面）より成っている。３３は非画像領域である。

凸部３１及び凹部３２を形成するには、フォトリソグラ
フ法が適用される。

以下に図を用いてフォトリソグラフ法により、凸部３１
及び凹部３２を形成する方法を説明する。

第４図は基板１４の上に、基板１４とは別の材料の耐久
性の薄膜４１を設け、その上に例えばポジ型のフォトレ
ジスト膜４０が例えばスピンコード法により設けられた
状態の断面図である。

第５図は、フォトマスクを作成するためにフォトマスク
用感光材料５０（プラスチックフィルム、ガラス等の透
明基板５２及びその上に設けられた感光層５１からなる
）に、可視画像に対応する網点画像で変調されたエネル
ギビーム５３を照射して、感光層５Ｉを網点画像状に露
光している状態を示している。エネルギビームの具体例
としては、レーザビーム、電子ビーム等が挙げられる。

感光材料の具体例としては、湿式現像方式あるいは熱現
像方式の銀塩高解像力フィルム、乾板等が有利に用いら
れる。エネルギビームによる露光後または露光と同時に
現像処理を行えば、フォトマスクが得られる。

フォトマスクの作成方法として、上記のようにエネルギ
ビームでドツトごとに露光する方法の他に、つぎに述べ
る従来から印刷分野でコンタクトスクリーン法として知
られている方法でもよい。

例えば、リスフィルムの如き感光材料に密着して置かれ
たコンタクトスクリーンを通して、可視画像を露光し、
現像処理すると網点画像が得られる。

これをフォトマスクとしてもよいが、−層高解像度のフ
ォトマスクを得るには、この網点画像を、高精度の縮小
露光装置を用いて、高解像度の写真フィルムとか写真乾
板に露光、現像処理して、高解像度のフォトマスクが得
られる。

第６図は、第４図の材料の上にフォトマスク６０を重ね
、フォトマスク６０を通して、フォトレジスト膜４０に
紫外線６１を均一に照射して、フォトレジスト膜に潜像
を形成している状態を示す。この際、フォトレジスト膜
４０とフォトマスクのパターン保有層６２とが接触する
ように配置するのが望ましい。

パターン保有層６２中の黒部６３は紫外線６１を吸収す
る部分、透明部６４は透過する部分である。

次いでフォトレジスト膜４０を現像すると、第７図の如
くフォトレジスト膜４０の紫外線に露光された部分が溶
解除去され、その部分の薄膜表面が露出（７０）　ｔ、
、未露光部（７１）は残る。次いで、薄膜４１をエツチ
ングできるエツチング液により化学エツチングするか、
或いはスパッタエッチ、イオンエッチ、プラズマエッチ
等のドライエツチング法により、薄膜４１をエツチング
することにより凸部３１が形成される。基板１４及び薄
膜４１が金属の場合は、電解エツチングを利用すること
もできる。

最後に公知の方法により、残留レジストを除去すれば、
第３図の耐久画像板が得られる。

次にフォトマスクを用いないフォトリソグラフ法につい
て説明する。

第４図のフォトレジスト膜４０に、フォトレジストが感
するエネルギビームを、階調のある可視画像から変換さ
れた網点画像で変調して直接露光することにより、フォ
トレジスト膜に網点画像の潜像を形成できる。ついで第
７図及びそれ以降の説明と同様に、フォトレジスト膜の
現像、薄膜のエツチング、残留レジストの除去のプロセ
スを実施して網点画像部が形成される。この方法では、
フォトレジスト膜４０はエネルギビームに感する必要が
あり、レーザビーム、電子ビーム等が用いられる。レー
ザとしてはＡｒレーザ、Ｈｅ−Ｃｄ　レーザ等が用いら
れる。またレーザビームのパワーもフォトレジストを感
光できる大きさである数ｍＷ〜数１０ｍＷ必要である。

フォトレジスト、フォトマスク、エツチング等は、半導
体デバイスやプリント基板作製のためのフォトリソグラ
フ法に用いられている公知の材料や技術を利用すること
ができる。

フォトレジストとしては、露光された部分が現像液（溶
剤）に溶解されやすくなるポジタイプのもの、露光され
た部分が現像液（溶剤）に溶解しにくくなるネガタイプ
のものが使える。

具体的な商品としては、東京応化（株）より販売されて
いる０ＦＰＲ−８００（ポジ型レジスト）、０νＲ８３
（ネガ型レジスト）、富士ハント株式会社より販売され
ているＨＰＲ−２０４（ポジ型）、ＳＣシリーズ。

ＩＣシリーズ、　ＨＲシリーズ等（ネガ型）、長瀬産業
株式会社より販売されているＮＰＲ−８２０（ポジ型）
、ＮＮＲ−７３２（ネガ型）、日立化成工業株式会社製
紫外線レジストＲＤ−２００ＯＮ　（ネガ型）　、ＲＧ
−８０４０Ｐ　（ポジ型）、電子線レジストＲＥ−５０
００Ｐ　（ポジ型）、その他を用いることができる。

フォトマスク材料としては、エマルジョンタイプの感光
材料（例えば、イーストマンコダック社製コダックＨＲ
Ｐプレート、アグファゲバルト社製ジエンチアプレート
等）、ハードマスク（例えばクロムマスクブランク、酸
化鉄マスクブランク等の上に、フォトレジスト膜を設け
、フォトレジスト膜に適当な方法でパターン露光を行う
。例えばレーザビームで走査露光してもよいし、パター
ンジェネレータを用いて露光してもよい。次いで、フォ
トレジスト膜の現像、マスク層のエツチング、残留レジ
ストの除去により、ハードマスクが得られる）、フィル
ムマスク（エマルジョンフィルム、ジアゾフィルム等）
が用いられる。

化学エツチング液としては、石英には弗酸系エツチング
液、ステンレスには塩化第二鉄系エツチング液、クロム
には硝酸セリウムアンモン系エツチング液、アルミナに
は燐酸系エツチング液が用いられる。その他公知のエツ
チング液が用いられる。

化学エツチングでエツチング出来ない場合は、スパッタ
エツチング、イオンエツチング、プラズマエツチング等
の公知のドライエツチング法を適用できる。

基板及び薄膜が導体の場合は、電解エツチングが利用で
きる。電解エツチングは、エツチングされる基板を陽極
とし、エツチングしたくない部分をレジストで覆ってか
ら、電解液中で通電することにより達成される。

エツチングしにくい物質で画像を形成する場合は、上記
の通常のエツチング法の代わりに、いわゆるリフトオフ
法を用いることができる。

上記の作製例では、画像物質（薄膜４１）はフォトレジ
スト膜の中に含まれていないが、次に画像形成物質がフ
ォトレジスト膜の中に含まれている例を示す。フォトレ
ジストの中に、金属、金属酸化物、セラミックス等の微
粒子を分散し、これを塗布、乾燥したフォトレジスト膜
は、通常のフォトレジスト膜と同様に感光性であり、画
像露光後、現像処理によりフォトレジストのレリーフ画
像が形成される。次いでこのレリーフ画像を空気中で高
温（約５００℃以上）に曝すと、フォトレジストは気化
してフォトレジスト膜の中に分散していた微粒子あるい
はその酸化物が、画像状に残り第３図の耐久画像板が得
られる。微粒子の種類を適当に選べは、極めて耐久性の
大きな画像が形成される。例えば、微粒子として０．Ｏ
１〜０．０５μｍ程度の酸化鉄、酸化クロム、貴金属、
炭化珪素等が用いられる。これらの着色微粒子の他に、
シリカ、アルミナ等の無色微粒子を混入させてもよい。

このような製作法では、薄膜４１を設ける工程が不要で
あり、また薄膜４１のエツチング工程も不要になるので
、製造工程が簡単になる利点がある。

第３図の例では、網点ドツト部が凸部又は凹部から成る
が、凹凸部が無く、全く平坦な面から成っていてもよい
。以下にこの例を説明する。

第８図は、網点画像部の暗部と明部とが全く同じ面上に
ある耐久画像板の具体例の断面図である。

図中、例えば８１は暗部、８２は明部である。第８図の
耐久画像板を得る方法を以下に述べる。

第９図は第８図の耐久性画像板を得るための中間画像板
である。第９図の中間画像板を得るには、第４図の薄膜
４１がないものを用意し、これに第５図〜第７図と同じ
方法を適用する。第７図の段階で、薄膜４１のかわりに
基板１４が露出する。ついで基板１４をエツチングし、
残留レジストを除去すると第９図の中間画像板が得られ
る。９１は凸部、９２は凹部である。凹部９２に基板１
４に対して光学的コントラストの大きな物質８１が埋め
込まれる。

凹部９２を埋める具体的な方法としては、第９図の耐久
画像板の全面に耐久性物質がメツキとかスパッタ法、ゾ
ル−ゲル法等により付着され、次いで全面が研磨され凸
部９１が丁度露出するところで、研磨が停止される。凹
部９２を埋める他の方法としては、凸部９１を適当なレ
ジストで覆っておいて、メツキ、真空蒸着、スパッタ、
ブルーゲル法等により、凹部９２に基板１４と別の物質
を、凹部の深さに等しい厚さに付着させ、次いでレジス
トを除去する方法等がある。

本例の如く凹凸がない平坦な面を有する耐久画像板は、
表面に一層傷がつきにくい利点がある。

凹部９２を途中の深さまで埋めて、窪みが残るようにし
てもよい。

本発明の耐久画像板は、その表面が透明な耐久性物質で
保護されていてもよい。透明の意味は、観察光に対して
透明であることであり、必ずしも無色透明である必要は
ない。

第１Ｏ図は、第３図の構造の耐久画像板の表面に透明な
耐久性保護層１００を設けた耐久画像板の具体例の断面
図である。第８図の構造の耐久画像板にも、同様に保護
層を設けることができる。耐久性透明保護層＋００の材
料の具体例としては、シリカ、ベリリア、アルミナ、チ
タニア、ジルコニア等が挙げられる。保護層１００は例
えば真空蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング
、ＣＶＤ法、ゾル−ゲル法等により設けることができる
。

透明保護層の厚さは数分の１〜数１０μｍの範囲が適当
であるが、この範囲外でもよい。

透明な耐久性基板の具体例としては、シリカ、アルミナ
、ベリリア、ジルコニア、チタニア等がある。

網点ドツト部３１及び８１等の画像形成物質としては、
耐熱性、耐腐食性、機械的耐久性の大きな金属（含む半
金属）又はセラミックスがあり、非ドツト部に対して大
きな光学的コントラストを有することが必要である。美
しい写真としては、ドツト部と非ドツト部の光学濃度差
が、反射画像の場合は少なくとも０．９、透過画像の場
合は少なくとも　１．４は必要である。

耐久性画像物質の厚さは数分の１〜数μｍの範囲が適当
であるが、この範囲外でもよい。

耐久性の画像物質の具体例としてはクロム、ニッケル、
チタン、コバルト、金、白金、ロジウム、イリジウム、
ルテニウム、タンタル、ニオブ、タングステン、モリブ
デン、耐熱合金等の金属：カ−ホン、シリコン等の半金
属；　Ｒｕｂ、、Ｃｒ、０３、ＳＣｓ　Ｔｉｃ　％　５
ｉｓＬ　、ＷＣｓ　ＴａＣｓ　ＴａＮ　１Ｔ＋Ｎ等のセ
ラミックス：その他（後述の基板１４の具体例と同じよ
うに、基板との光学的コントラストが大きいもの）が挙
げられる。

基板１４の具体例としては、耐熱性、耐腐食性及び機械
的耐久性の大きな金属、セラミックス（耐熱ガラスを含
む）、金属とセラミックスとのラミネート或いはサンド
イッチ構造等がある。

金属の具体例としては、ニッケル、コノくルト、クロム
、チタン、白金等の単体金属、ニオブ基合金、モリブデ
ン基合金、タンタル基合金、タングステン基合金、クロ
ム基合金、ニッケル基合金、コバルト基合金、その他の
超耐熱合金、その他が挙げられる。

セラミックスの具体例としては、アルミナ、ムライト、
ステアタイト、シリカ、ベリリア、ジルコニア、チタニ
ア、炭化クロム、炭化珪素、窒化アルミニウム、窒化珪
素、窒化チタン：珪酸ガラス（例えばコーニング社製バ
イコールガラス）、硼珪酸ガラス（例えばコーニング社
製パイレックスガラス）、結晶化ガラスその他が挙げら
れる。

またセラミックスの表面を異種セラミックス又は金属で
被覆した構造のものも使用できる。

これらの内、空気中での最高使用温度が約１０００℃以
上、好ましくは約１２００℃以上、更に好ましくは約１
５００℃以上のものが本発明に適している。

基板１４の厚さは、約０．２ｍｍ〜約１００ｍｍが適当
であるが、この範囲に限定されるものではない。

基板１４と画像形成物質の好ましい組合せの例としては
、基板は反射画像用には白色又は金属光沢を有し、透過
画像用には透明であることが望ましく、画像形成物質は
黒色に近いものが望ましい。

基板の特に望ましい具体例としては、クロム基、ニッケ
ル基、コバルト基、ニオブ基、モリブデン基、タンタル
基及びタングステン基等の超耐熱合金、アルミナ、ムラ
イト、ステアタイト、ジルコニア、シリカ、チタニア等
のセラミックス、耐熱ガラスが挙げられる。

画像形成物質の特に望ましい具体例としては、クロム、
コバルト、チタン、モリブデン、タングステン、シリコ
ン、金、白金、ロジウム、イリジウム、ルテニウム等の
金属、Ｒｕ５ｔ、Ｃｒ、Ｏｓ　、５ｉＣ１ＴｉＣ、５１
ｓＮｒ及びＷＣ等のセラミックスが挙げられる。

尚、以上の説明では、網点画像の非ドツト部は基板の表
面であるとしたが、基板と画像形成物質との間に他の物
質の薄層を設けてもよい。その目的は、基板と画像形成
物質との密着力の向上、網点ドツト部と非ドツト部との
光学的コントラストの向上等である。この場合、非ドツ
ト部は該薄層の表面である。

以上に本発明の第一の態様について述べたが、以下に本
発明の第二の態様について述べる。

第一の態様では、一つの基板が機械的にも、熱的にも、
更に化学的にも耐久性の大きいものについてであった。

しかし、金属は機械的にも化学的にも大きな耐久性を有
するが、耐熱性はセラミックスよりかなり劣る。またセ
ラミックスは熱的にも化学的にも大きな耐久性を有する
が、機械的耐久性（特に靭性）は金属より劣る。そこで
同一画像を有する金属製の耐久画像板とセラミックス製
の耐久画像板の二種を所有していれば、一方が劣化して
も、他方が無事に残る可能性は非常に高くなるので、二
種を一つの画像とみなした時の耐久性は非常に大きくな
る。これが本発明の第二の態様である。

例えばセラミックス基板として、マグネシア、カルシア
等を用いれば、機械的及び化学的には比較的弱いが、耐
熱性は空気中で２０００数百℃にもなる。またジルコニ
アも同様の耐熱性を有し、且つ化学的にも安定である。

更に前述の基板１４の具体例の中で、１５００℃以上の
耐久性を有するセラミックスは多数ある。従ってこれら
のセラミックス基板を用いた耐久画像板と金属基板を用
いた耐久画像板との組を所有していれば、火災とか地震
災害でも無事に残る可能性は、一つの耐久画像板を所有
しているよりもはるかに大きい。

同一画像に対して二種三枚以上の耐久画像板の組を有し
ていてもよい。例えば異種セラミックス基板の耐久画像
板を二枚、金属基板の耐久画像板を一枚という組合せで
もよい。

これまで述べてきた耐久画像板は、比重が水よりはるか
に大きいので、洪水等の水害に遭遇すると水底に沈んだ
り、土中に埋もれたりして行方不明になる恐れがある。

本発明の第三の態様は、比重の小さい耐久性の大きな基
板の上に、耐久性の大きな画像を形成し、全体として比
重が１より小さい耐久画像板である。

耐久性の大きな画像は前述と同じように設けられる。ま
た耐久性の保護層も前述と同じように設けられる。

耐久性が大きく、比重が小さい基板としては、内部に微
小な気泡又は孔を有する耐久性が大きい金属又はセラミ
ックスの基板、耐久性の大きい金属又はセラミックスの
気密中空体等がある。微小な気泡又は孔が透水性の場合
は、基板表面が耐久性の大きい金属又はセラミックスの
薄層でシールされ内部は気密にされる。

第三の態様の耐久画像板は、第−及び第二の態様の耐久
画像板に比して、機械的耐久性は劣るが従来の写真、印
刷版、印刷物等に比して比較にならぬ程耐久性が大きい
。機械的に大きな破壊力を受けなければ、永久に保存可
能である。

本発明の第四の態様は、火災、地震、洪水等のどの災害
に遭遇しても、どれかの耐久画像板が無事に残るように
、同一画像に対して耐熱性の大きな耐久画像板と機械的
耐久性の大きな耐久画像板と水に浮く耐久画像板の三種
の組からなる。四枚以上の耐久画像板の組からなっても
よい。

種類の違う耐久画像板（例えば耐熱性の大きいセラミッ
クス製の耐久画像板と、機械的に強い金属製の耐久画像
板）は、別々の場所に保管されてもよいし、同一の箱の
中に保管されてもよい。また金属製とセラミックス製の
２枚の耐久画像板を重ねて、四隅をビス止めして保管し
てもよい。画像面を内側にして対面するようにしておけ
ば、画像に傷がつきにくい利点がある。この場合、基板
の両面に画像を形成しておけば、表側にも画像が形成さ
れているので、画像が見えなくなるという問題がない。

また金属製基板の両面に同一画像を形成し、−方の画像
面を耐久性金属板でカバーしたものと、セラミックス基
板の両面に上記と同一画像を形成し、一方の画像面をセ
ラミックス板でカバーしたものとをセットとしてもよい
。

尚、本発明においてセラミックス基板は、前述の耐熱性
ガラス基板をも含むものである。

本発明の耐久画像板は肉眼で直接具ることができるが、
再生装置により再生するには、レーザビームの如きエネ
ルギビームでドツトごとに走査して反射光または透過光
の大きさを読み取っていく方法と、光学系を用いて一次
元的または二次元的に読み取る方法とがある。エネルギ
ビームを用いる場合は、−旦メモリに記録され、ＣＲＴ
、　ＬＣＤモニタ等にデイスプレィされるか、プリンタ
に接続してハードコピーが作成される。光学的に読み出
す場合は、肉眼でみるか、スクリーンに投影するか、空
間像を覗き込むか、あるいは感光材料に結像させてハー
ドコピーが作成される。

光学的にスクリーンにデイスプレィしたり、感光材料に
露光してハードコピーを作成する場合は、耐久画像板は
透過型でかつ網点画像を形成するドツトは不透明である
ことが望ましい。

本発明に於ける網点画像は、単色画像として記録するの
が有利である。その理由は、耐熱性、耐腐食性、機械的
耐久性等の全てが大きい材料だけで三原色を表現できる
ものが存在しないからである。天然色のカラーではない
が、複数の単色画像を組み合わせてマルチカラー画像と
してもよい。

次に、耐久画像板の具体例およびその作成方法について
、実施例により述べる。

〈実施例１〉キャビネサイズの黒白ポートレート写真から、モノクロ
スキャナを用いて、４×５インチサイズ、スクリーン線
数　２００線／インチの網点ネガフィルムを作製した。

得られた網点ネガフィルムをフォトマスクとして、以下
のフォトリソグラフ工程を実施した。

耐久画像板用基板として厚さ約２ｍＩ＋］、サイズ４×
５インチの超耐熱合金（ハステロイＣ）の片面を鏡面光
沢仕上げをし、その上に２０μｍの厚さに硬質クロムメ
ツキしたものを用い、その上にフォトレジスト（東京応
化（株）製０ＦＰＲ−８００）の塗膜を乾燥厚的１，５
μｍになるように設け、約８５℃で３０分間プリベーク
した後、上記フォトマスクをフォトレジスト膜の上に画
像面が接触するように密着し、フォトマスクを通して紫
外光を全面に照射した。次いでフォトレジスト用現像液
（東京応化（株）製、商品名ＮＭＤ−３）によりフォト
レジスト膜の現像を行うと、紫外線が照射された部分の
フォトレジストが除去された。かくして得られたフォト
レジストパターンを約１３０℃の温風循環加熱機で２０
分間ボストベークして、後続のエツチング処理に対する
耐久性を向上した後、エツチング液（和光純薬（株）製
クロムエツチング液Ｈ−Ｙ）によりエツチング処理を行
った。フォトレジストが除去された部分のクロム層を約
０．５μｍの深さになるまでエツチングした。エツチン
グされた部分は、わずかに光散乱性であり肉眼でも画像
を確認することは可能であったが、美しい写真とはほど
遠いものであった。

ついでスパッタリングにより、全面に炭化珪素を約０．
５μｍの厚さに設けた。ついでフォトレジスト除去液（
東京応化（株）製、剥離液−１０５）でフォトレジスト
を除去した後、イソプロピルアルコールで洗浄し、水洗
、乾燥したところ、クロムの金属光沢のある背景に真黒
の美しい画像が得られた。

かくして得られた耐久画像板は大気中１２００℃に数時
間曝されると、背景が薄い茶色に着色したが充分に美し
かった。

上記の耐久画像板を大気中で加熱する前に、その表面に
シリカの透明保護層を約５μｍの厚さに設けたち−のは
、上記条件で長時間加熱しても殆ど着色しなかった。

同一画像を有する上記の耐久画像板を２枚作製し、一方
の画像面と他方の裏面とが対面するように重ね、四隅を
ビス止めした。このような構造にしておくと、なにかの
原因で表面に露出している画像に傷がついても、内側に
無傷の画像が保存されているという利点がある。

基板の両面に同一画像を形成し、一方の面を耐久性板で
カバーしても、同様の効果が得られた。

上記の如き保護技術は他の例にも適用できる。

〈実施例２〉耐久画像板用基板として厚さ約３ωｍ、サイズ４×５イ
ンチの鏡面光沢を有する透明シリカ（人工水晶）を用い
、その上にスパッタリングによりクロムを約０．３μｍ
の厚さに設けた。この鏡面光沢を有するクロム表面に、
実施例１と同じにフォトレジストの塗膜を設け、プリベ
ーク、フォトマスク（実施例１と同じ画像のポジ分解フ
ィルム）を通して密着画像露光、フォトレジストの現像
、ボストベーク、クロムのエツチング（実施例１のエツ
チング液使用）、フォトレジストの除去等の一連の処理
を実施して、耐久画像板が得られた。ついで画像面側に
全面に、透明シリカの保護層をスパッタリングにより、
約ｌＯμｍの厚さに設けた。

かくして得られた耐久画像板も極めて耐熱性、耐腐食性
、機械的耐久性が大きく、大気中１２００℃に長時間曝
されても画像は無事に保存されていた。

〈実施例３〉基板として厚さ約５　ｍｍ、サイズ８×１０インチの光
散乱性表面を有する高純度白色アルミナ基板を用いた。

この基板の上にスパッタリングにより銅を約１μｍの厚
さに設けた。次いでその上に実施例１と同じに、フォト
レジストの塗膜を設け、プリベーク、フォトマスク（実
施例１と同じ原画から２００線／インチの線数で、サイ
ズが８Ｘ１０インチの網点ネガフィルム）を通して密着
露光、フォトレジストの現像、ポストベークを行った。

次に塩化第二鉄と塩酸との混合水溶液により銅をエツチ
ングした。次いで残っているフォトレジストを剥離液（
東京応化（株）製剥離液＝１０４）で除去して、銅のパ
ターンを形成した。つぎに該パターン面に全面に炭化珪
素を約０６μｍの厚さに、スパッタリングにより形成し
た。

つぎに該基板を塩化第二鉄と水酸化ナトリウムの混合水
溶液に浸漬し、超音波エネルギを加えたところ、銅は溶
解しその上の部分の炭化珪素が脱落し、炭化珪素のパタ
ーンが得られた。

かくして得られた耐久画像板は、１６００℃の雰囲気に
も耐える極めて耐久性の大きな反射型耐久画像板であっ
た。

保護層として透明アルミナをスパッタリングにより約１
μｍの厚さに設けたものは、−層機械的耐久性が向上し
た。

〈実施例４〉本例はカラーの耐久側ａ板を得る例である。

サイズが４×５インチのカラースライドを原稿とし、カ
ラースキャナを用いてマゼンタ、シアン、イエロー、墨
の網点分解ポジフィルム（スクリーン線数２００線／イ
ンチ、画面サイズは約１００Ｘ　７５ｍｍ）に分解した
。この分解ポジフィルムを原稿として、イーストマンコ
ダック社製の高解像力乾板コダックＨＲＰプレートに密
着露光し、分解ネガプレートを得た。ついでこの分解ネ
ガプレートを原稿として、縮小露光装置により４インチ
サイズのＨＲＰプレートに、５分の１（面積で２５分の
■）に縮小露光し、現像定着して分解ポジプレートを得
た。この分解ポジプレートを用いて、下記の如くフォト
リソグラフ工程を実施した。

基板として厚さ約２　ｍｍ、サイズ約７０Ｘ　６０ｍｍ
の鏡面光沢を有する透明アルミナを用いた。この基板の
上にスパッタリングにより酸化クロムを約０．３μｍの
厚さに設けた。次いで酸化クロム膜の上に実施例１と同
じに、フォトレジストの塗膜を設置九プリベークを実施
した。ついで上記分解ポジプレートの一枚を原稿として
、上記フォトレジスト膜に紫外線を用いて密着露光した
。同様にして他の３枚の分解ポジプレートを、四つの画
像がフォトレジスト膜上で、１０ｍｍの間隔で２行２列
に並ぶように順次露光した。ついで、フォトレジストの
現像、ボストベークを行った。次に実施例１のクロムの
エツチング液により、酸化クロムをエツチングした。次
いで残っているフォトレジストを除去して、透過型の耐
久画像板が得られたが、更に耐熱性と機械的耐久性を向
上するため、この耐久画像板の画像面側に、スパッタリ
ングにより透明アルミナの保護層を約１μｍの厚さに設
けた。このようにして得られた耐久画像板は、大気中１
８００℃の雰囲気にも耐える極めて耐久性の大きなもの
であった。

基板として単結晶アルミナを用いた場合は、空気中で１
９００℃の温度にも耐えた。

本実施例はカラー画像を耐久画像板化したものである。

かかる耐久画像板をカラー画像に再生するには、三つの
画像をそれぞれ対応する原色光（赤、緑、青）で照明し
、それぞれの画像を同一スクリーン上に重ねて投影する
か、それぞれの画像を同−光学軸に集めたものを覗き込
むようにしてもよい。また三つの画像をスキャナで読み
取り、その画像信号を銀塩カラープリンタ、サーマルプ
リンタ、インクジェットプリンタ等に入力してハードコ
ピーを作成してもよい。また網点分解フィルムを再現し
、これからカラープルーフ作製法によりハードコピーを
作製してもよい。

〈実施例５〉基板として厚さ３　ｍｍ、サイズが４×５インチの両面
が鏡面光沢を有する透明アルミナを用い、その上にクロ
ムを約０．２μｍの厚さに設けたものを用いた。フォト
マスクとしては４×５インチのＨＲＰプレートに、２９
Ｘ　２Ｄｍｍの黒白網点画像を９駒形成したものを用い
た。フォトマスクの作製は実施例２と同様にして、まず
画面サイズ１１６ｘ　８０ｒｎｍの網点ポジフィルム（
２００線／インチ）を作り、ついで４×５インチサイズ
のＨＲＰプレートに密着プリントし、さらに同サイズの
ＨＲＰプレートに４分の１に縮小撮影した。この工程を
９種の画像について実施し、１枚のＨＲＰプレートに９
駒の網点画像を３行３列に、隣接画像との間隔が５ｍｍ
になるように設けた。このフォトマスクを用いて実施例
２と同じフォトリソグラフ工程を実施した。

すなわち、クロム膜の上に設けられたフォトレジスト膜
への画像露光、フォトレジストの現像、クロムのエツチ
ング、フォトレジストの除去を実施し、９駒のモノクロ
画像からなる耐久画像板を形成した。保護層として透明
シリカを約２μｍの厚さにスパッタリングにより設けた
。

画像としては、−人の人間の幼年期、少年期、青年期、
壮年期、老年期の代表的な写真を採用した。青年期の写
真は、成人の時の記念写真、結婚の記念写真及び出産の
時の記念写真の三枚、壮年期の写真は、子供の入学の時
の記念写真、子供の結婚の時の記念写真及び自分の引退
の時の写真の三枚であり、残りは各−枚ずつである。

使用した写真がカラーの場合は、上記のような耐久画像
板を色分解の数（３〜４）だけ用意してもよいし、−枚
の中に色分解したモノクロ画像を記録した耐久画像板を
作製してもよい。

〈実施例６〉アルミナの粉末でハート型のペレット（画像面は平面、
裏面は曲面）を成型し、画像形成面は鏡面研磨した。次
に実施例２と同様にして、透明シリカの保護層付クロム
の網点顔写真（１７５線／インチ）を形成した。名前も
同時に食刻した。画面サイズが＋２Ｘ８ｍｍ程度になる
ように、縮小されたフォトマスクを使用した。このよう
なペレットを二つ、二枚重のように合わせ、合わせ目を
白金でシールし、さらに鎖かけ用のリングを設けてロケ
ット（ペンダント）を作製した。このようなものを所持
していれば、焼死したり、遭難して白骨体で発見されて
も、身元が容易に判明できる。

〈実施例７〉実施例１、実施例２及び実施例３の耐久画像板を各−枚
、合計三枚を一組とした。但し、各耐久画像板は同一サ
イズ（４×５インチ）で同一画像を有していて、耐久画
像板の厚さはそれぞれ２ｍｍ、３ｍｍ及び３ｍｍであっ
た。

各耐久画像板の画像面は２ｍｍ厚の透明石英板でカバー
された（四隅をビス止め）。かかる三点セットの耐久画
像板は耐久性が一層向上する。

〈実施例８〉同一画像を有する実施例１の金属製耐久画像板を２枚製
作した。一方の耐久画像板の四隅にはバカ穴を形成し、
他方の耐久画像板の四隅にはネジ穴を形成した。ついで
一方の画像面が他方の裏面と対面するように重ね、四隅
をビス止めした。

この二枚重ねの耐久画像板は、表に露出している画像に
何らかの原因で傷がついても、内側の画像は無傷で残っ
ているので安全である。

同一画像を有する実施例７のアルミナ基板製耐久画像板
を２枚製作した。上記と同様にしてこの２枚の耐久画像
板を重ねて四隅をビス止めした。

この２枚重ねの耐久画像板も、一方の画像に何らかの原
因で傷がついても、他方の画像が無事に残っている。

〈実施例９〉基板として厚さ約２５ｍｍ、サイズ４×５インチの独立
気泡型発泡セラミックス（セントラル硝子（株）製、商
品名セラフオーム）を用い、この上に実施例３のセラミ
ックス製耐久画像板（但し、サイズは４×５インチ、基
板の厚さを約１　ｍｍに薄くしたもの）を、セメントを
用いて接合した。

かくして得られた耐久画像板は耐熱性、機械的耐久性は
実施例１〜５のものより劣るが、水に浮くので洪水にあ
っても水没しない特徴がある。

〈実施例１０＞実施例８の二種の耐久画像板の他に、実施例９の耐久画
像板を加えて、三つの耐久画像板のセットを作製した。

かくして得られた三点セットは、どのような災害に遭遇
しても、どれかが残る確率が非常に大きい。

〈実施例１１＞実施例１Ｏの三つの耐久画像板の他に、以下に述べる比
重が１より小さい耐久画像板を加えて、四つの耐久画像
板の組を作製した。

厚さ約１　ｍｍ、サイズ４×５インチの鏡面研磨された
チタン板を基板とし、これを上面として他の面は厚さ　
０．５ｍｍのチタン板を溶接した中空箱（上面が４×５
インチ、高さが＋ｏｍｍ）を形成した。箱内には厚さ　
０．５ｍｍのチタン板を両対角線に沿って溶接して補強
した。隙間がないように周囲を溶接して中を気密にした
。従って箱の中には水が入らないようになっている。

この中空箱の上面には、実施例Ｉのセラミックス基板を
用いた耐久画像板の作製と同様にして、リフトオフ法に
よりチタン面の上に炭化珪素の耐久性画像が形成された
。

かくして得られた耐久画像板は耐熱性も機械的耐久性も
比較的大きく、水に浮くものであった。

〈実施例＋２＞セラミックス基板製耐久画像板の二酸化珪素基板に替え
て、マグネシア基板を用いた以外は実施例７と同じであ
った。この組合せだと、大気中で２２００℃の高温でも
無事に残るものが存在した。

〈実施例１３＞基板として厚さ約２　ｍｍ１サイズ４×５インチの光散
乱性表面を有する高純度白色アルミナ基板を用いた。こ
の基板の上に下記フォトレジストの塗膜を乾燥膜厚的１
ｕｍに設け、フォトマスク（実施例１と同じ網点ネガフ
ィルム）を通して密着露光後、下記現像液で約１分間現
像し、下記リンス液でリンスして乾燥した。次いで空気
中で約６００℃で３０分ベータした後、約１０００℃で
２０分間ベータした。

得られた耐久画像板は１５００℃に耐えた。

フォトレジスト二東京応化（株）製、商品名ＯＭＲ−８
３にＳｉＣ粉末（平均粒径的０．０３μｍ）を、乾燥膜のフォトレジストとＳｉＣ粉体の重量比が約１対８５になるように超音波分散した現像液：東京応化（株）製、商品名ＯＵＲ現像液リンす
液二東京応化（株）製、商品名０！、ｌＲＩＪンス液〈発明の効果〉本発明による耐久画像板（Ｄｕｒａｇｒａｐｈ）ｌよ極
めて耐久性が大きく、熱、光、薬品、湿気、機械的衝撃
等に対して従来とは比較にならぬ程安定なものであり、
真の耐久画像板といえるものである。

自分がこの世に存在した証拠として、永久１こ後世に残
せるのである。

通常の環境下であれば、数千年、数万年の後世に残りつ
るものである。天変地異に際しても、無事に残る可能性
が極めて大である。

身分証明カード、ペンダント等として常時携帯していれ
ば、災難にあった時の身元判明ｉこ最適である。

また特殊な再生装置または読み出し装置がなくても、画
像を肉眼または簡単な光学装置により再生または読み出
しできる。しかも肉眼で見ても美しいモノクロ画像とし
て鑑賞できる。

更にカラー画像を複数色に色分解して一枚の耐久性基板
の上に形成して耐久画像板として保存しておけば、保存
にも便利であり、一部が紛失する恐れもなく、いつでも
カラー画像を再現でき、またカラープリントも再現でき
るので、その効果は極めて大きい。

【図面の簡単な説明】第１図は本発明による耐久画像板の具体例の上面図、第
２図は上記具体例のＡ−Ａ線断面図、第３図は網点画像
部ｌｉｔの拡大断面図、第４図から第７図までは本発明
耐久画像板の製法の具体例を示すもので、第４図は表面
にフォトレジスト膜が設けられた基板の断面図、第５図
はフォトマスク感光材料にエネルギビームが照射されて
いる様子を示す側面図、第６図はフォトレジスト膜にフ
ォトマスクが密着露光されている様子を示す側面図、第
７図はフォトレジストの現像後の基板の断面図である。第８図は耐久画像板の他の具体例の断面図、第９図は第
８図の耐久性画像板を得るための中間体の断面図、第１
０図は保護膜を有する本発明耐久画像板の具体例の断面
図である。図中、ｌＯ・・・・・・耐久画像板　　１４
・−・・・・基板１１、１２．１３・・・・・・網点画
像１１−１．１１２．１１−３・・・・・・１１の色分
解網点画像１２−１１１２−２．１２−３・・・・・・
１２の色分解網点画像１３−１．１３−２．１３−３・
・・・・・１３の色分解網点画像３０−・・−・−画像
領域　　　３３・・・・・・非画像領域３１、３２．８
１．８２・・・・・・網点の拡大断面４０・・・・・・
フォトレジスト膜４１・・・・・・薄膜（画像物質）５０・・・・・・フォトマスク感光材料６０・−・・−
・フォトマスク　　　６１・・・・・・紫外線６２・・
・・・・マスク画像層　　　７１・・・・・・残留レジ
スト９２・・・・・・基板に設けられた凹部１００・−
・・・・保護膜第８図手□　Ｍ′、：ｉＥ″Ｆ、（、！Ｉｆ♀２月２８□差出
平成　３年　　月　　日

Claims

【特許請求の範囲】

（１）耐熱性、耐腐食性、機械的耐久性の大きな材料か
ら成る基板の上に、耐熱性、耐腐食性、機械的耐久性が
大きく前記基板とは異なる画像形成物質で、フォトリソ
グラフ法を用いて、階調のある可視画像が網点画像化し
て記録されたものであって、網点ドット部と非ドット部
（基板表面）との光学的コントラストが通常の印刷物程
度に大きいことを特徴とする耐久画像板。
（２）請求項（１）において、基板が下記グループＡの
中から選ばれたものであり、画像形成物質が下記グルー
プＢの中から選ばれたものであることを特徴とする耐久
画像板。グループＡ：クロム基、ニッケル基、コバルト基、ニオ
ブ基、モリブデン基、タンタル基及びタングステン基の
超耐熱合金；アルミナ、ムライト、ステアタイト、ジル
コニア、シリカ、チタニア；珪酸ガラス、硼珪酸ガラス
及び結晶化ガラスグループＢ：クロム、コバルト、チタ
ン、モリブデン、タングステン、シリコン、金、白金、
ロジウム、イリジウム、ルテニウム；ＲｕＯ＿２、Ｃｒ
＿２Ｏ＿３、Ｓｉ＿３Ｎ＿４、ＳｉＣ、ＴｉＣ、ＷＣ
（３）機械的耐久性の大きい金属基板及び耐熱性の大き
い耐久性セラミックス基板の上に、階調のある同一可視
画像が、耐熱性、耐腐食性、機械的耐久性が大きく前記
基板とは異なる画像形成物質で、フォトリソグラフ法に
より網点画像として記録されたものであって、網点ドッ
ト部と非ドット部（基板表面）との光学的コントラスト
が通常の印刷物程度に大きいことを特徴とする耐久画像
板。
（４）内部に微小な気泡又は孔を有する耐久性の金属又
はセラミックスの基板又は／及び耐久性の大きい金属又
はセラミックスの中空体基板の上に、階調のある可視画
像が、耐熱性、耐腐食性、機械的耐久性が大きく、前記
基板とは異なる画像形成物質で、フォトリソグラフ法に
より網点画像として記録されたものであって、網点ドッ
ト部と非ドット部（基板表面）との光学的コントラスト
が通常の印刷物程度に大きく、且つ全体の比重が１未満
であることを特徴とする耐久画像板。
（５）同一可視画像を有する請求項（３）の少なくとも
二種の耐久画像板、及び請求項（４）の少なくとも一種
の耐久画像板からなる少なくとも三種からなる同一可視
画像を有する耐久画像板。
（６）請求項（１）、（２）、（３）、（４）及び（５
）において、階調のある可視画像はカラー画像であり、
網点画像は複数色に色分解された複数個の色分解網点画
像から成ることを特徴とする耐久画像板。
（７）請求項（１）、（２）、（３）、（４）、（５）
及び（６）において、網点画像の上に耐熱性、耐腐食性
、機械的耐久性が大きく、且つ透明な保護層が設けられ
たことを特徴とする耐久画像板。
（８）請求項（１）、（２）、（３）、（４）、（５）
、（６）及び（７）において、網点ドット部と非ドット
部との白色光に対する光学濃度差が、反射画像の場合０
．９以上、透過画像の場合１．４以上であることを特徴
とする耐久画像板。