JPH04147982A - クロメート塗布装置 - Google Patents
クロメート塗布装置Info
- Publication number
- JPH04147982A JPH04147982A JP27006090A JP27006090A JPH04147982A JP H04147982 A JPH04147982 A JP H04147982A JP 27006090 A JP27006090 A JP 27006090A JP 27006090 A JP27006090 A JP 27006090A JP H04147982 A JPH04147982 A JP H04147982A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chromate
- roll
- coating
- liquid
- steel plate
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- Pending
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- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、連続式の薄鋼板表面処理設備において、鋼
板の表面へクロメートを塗布する塗布装置に関するもの
である。
板の表面へクロメートを塗布する塗布装置に関するもの
である。
従来この種のクロメート塗布装置としては（第７図参照
）、鋼板２１の両端に配置したスプレーノズル２２によ
ってクロメートを噴射し、鋼板２１０表面にクロメート
を塗布するものが一般に知られている。
）、鋼板２１の両端に配置したスプレーノズル２２によ
ってクロメートを噴射し、鋼板２１０表面にクロメート
を塗布するものが一般に知られている。
そしてこの従来の塗布装置において、鋼板の幅が変わる
場合には、ノズル部を変えることによって対処する。ま
たクロメートの鋼板への塗布・無塗布の切り換えは、ノ
ズルへのクロメート液の供給を操作することにより行っ
ている。
場合には、ノズル部を変えることによって対処する。ま
たクロメートの鋼板への塗布・無塗布の切り換えは、ノ
ズルへのクロメート液の供給を操作することにより行っ
ている。
［この発明が解決しようとする課題］
しかし前述した従来の塗布装置では、クロメートの塗布
から無塗布へと切り換える場合に、ノズル先端の残り液
が鋼板の表面に付着してしまうことがある、そのためこ
の残り液が付着した時に、鋼板を汚損してしまうことと
なる。
から無塗布へと切り換える場合に、ノズル先端の残り液
が鋼板の表面に付着してしまうことがある、そのためこ
の残り液が付着した時に、鋼板を汚損してしまうことと
なる。
またこのような残り液による鋼板の汚損を防止すべく、
クロメート塗布量を適正量に制御しようとしても、ノズ
ルから噴射方式では確実に制御することが困難となる。
クロメート塗布量を適正量に制御しようとしても、ノズ
ルから噴射方式では確実に制御することが困難となる。
さらに鋼板の幅変更の際には、ノズル自体を移動させる
ため、クロメート塗布条件がその都度変動してしまい、
鋼板の表面へのクロメート塗布をその都度均一に行うこ
とができない。
ため、クロメート塗布条件がその都度変動してしまい、
鋼板の表面へのクロメート塗布をその都度均一に行うこ
とができない。
この発明は前述した事情に鑑みて創案されたもので、そ
の目的はクロメートの塗布、無塗布切り換えの際の鋼板
汚損を防止することができ、クロメート塗布量の制御を
確実にすることができ、鋼板幅に関係なく塗布すること
が可能なりロメート塗布装置を提供することにある。
の目的はクロメートの塗布、無塗布切り換えの際の鋼板
汚損を防止することができ、クロメート塗布量の制御を
確実にすることができ、鋼板幅に関係なく塗布すること
が可能なりロメート塗布装置を提供することにある。
この発明のクロメート塗布装置は、クロメート液を塗布
する鋼板表面への当接位置および非当接位置の間を移動
自在に設けられ、周表面が多孔質の高分子層で形成され
ていると共に、軸部が中空に形成されている塗布用ロー
ルと、この塗布用ロールの中空軸部にクロメート液を圧
送する供給部と、この供給部から送られたクロメート液
を前記塗布用ロールの中空軸部内から排出する排出部と
を備えてなる。
する鋼板表面への当接位置および非当接位置の間を移動
自在に設けられ、周表面が多孔質の高分子層で形成され
ていると共に、軸部が中空に形成されている塗布用ロー
ルと、この塗布用ロールの中空軸部にクロメート液を圧
送する供給部と、この供給部から送られたクロメート液
を前記塗布用ロールの中空軸部内から排出する排出部と
を備えてなる。
また前記クロメート液は、前記塗布用ロールの鋼板表面
への当接時に前記供給部からロール軸部へ圧送され、前
記ロール表層の高分子層から浸透して鋼板の表面へ塗布
される共に、前記塗布用ロールの鋼板表面への非当接時
に、排出部によって前記ロール軸部内から排出されるよ
うに構成されていることとする。
への当接時に前記供給部からロール軸部へ圧送され、前
記ロール表層の高分子層から浸透して鋼板の表面へ塗布
される共に、前記塗布用ロールの鋼板表面への非当接時
に、排出部によって前記ロール軸部内から排出されるよ
うに構成されていることとする。
そしてクロメート液の塗布、無塗布の切り換えを行った
時に、塗布用ロールの中空軸部、供給部。
時に、塗布用ロールの中空軸部、供給部。
排出部の作用により、鋼板への残り液による汚損を防止
することができる。
することができる。
また塗布用ロールにより、クロメート液の塗布量制御を
確実にすることができると共に、鋼板幅に関係なくクロ
メート液を塗布することができるようにしたものである
。
確実にすることができると共に、鋼板幅に関係なくクロ
メート液を塗布することができるようにしたものである
。
以下この発明のクロメート塗布装置を図示する実施例に
よって説明する。
よって説明する。
クロメート塗布装置１は（第１図〜第５図参照）、クロ
メート液を塗布する鋼板２の表面への当接位置（第２図
参照）および非当接位置（第５図参照）の間を移動自在
に設けられ、周表面が多孔質の高分子層３で形成されて
いると共に、軸部４が中空に形成されている塗布用ロー
ル５と、この塗布用ロール５の中空軸部４にクロメート
液を圧送する供給部６と、この供給部６から送られたク
ロメート液を塗布用ロール５の中空軸部４内から排出す
る排出部７とを備えてなっている。
メート液を塗布する鋼板２の表面への当接位置（第２図
参照）および非当接位置（第５図参照）の間を移動自在
に設けられ、周表面が多孔質の高分子層３で形成されて
いると共に、軸部４が中空に形成されている塗布用ロー
ル５と、この塗布用ロール５の中空軸部４にクロメート
液を圧送する供給部６と、この供給部６から送られたク
ロメート液を塗布用ロール５の中空軸部４内から排出す
る排出部７とを備えてなっている。
そしてクロメート液は、ロール５の鋼板２表面への当接
時に供給部からロール軸部４へ圧送され、ロール表層の
高分子層３から浸透して鋼板２の表面へ塗布される共に
、ロール５の鋼板２表面への非当接時に、排出部７によ
ってロール軸部４内から排出されるように構成されてい
る。
時に供給部からロール軸部４へ圧送され、ロール表層の
高分子層３から浸透して鋼板２の表面へ塗布される共に
、ロール５の鋼板２表面への非当接時に、排出部７によ
ってロール軸部４内から排出されるように構成されてい
る。
なおこの実施例での塗布用ロール５は、周表面に多数の
孔が穿設されている中空軸４と、柔軟な多孔質の高分子
層３からなる非駆動のアイドルロールであり、中空軸４
の位置を移動させることで、鋼板２への当接および非当
接状態にすることが可能に構成されている。またこの中
空軸４の移動によって、ロール５の鋼板２への押し付は
圧を適宜変えることができる。
孔が穿設されている中空軸４と、柔軟な多孔質の高分子
層３からなる非駆動のアイドルロールであり、中空軸４
の位置を移動させることで、鋼板２への当接および非当
接状態にすることが可能に構成されている。またこの中
空軸４の移動によって、ロール５の鋼板２への押し付は
圧を適宜変えることができる。
そしてこの塗布用ロール５へのクロメート液は、中空軸
４の一端を貫通する管部８を介して、供給部６からロー
ル５の内部へ送液される。さらにその後、このクロメー
ト液は、ロール５・表面の高分子層３より、徐々にロー
ル５外へ浸透される。
４の一端を貫通する管部８を介して、供給部６からロー
ル５の内部へ送液される。さらにその後、このクロメー
ト液は、ロール５・表面の高分子層３より、徐々にロー
ル５外へ浸透される。
供給部６は、クロメートタンク９と、送液ポンプ１０と
、送液バルブ１１とからなり、タンク９から供給される
クロメート液は送液ポンプ１０により加圧されて、中空
軸部４内へ送液される。なおこの送液時の送液バルブ１
１は、「開」としておく。
、送液バルブ１１とからなり、タンク９から供給される
クロメート液は送液ポンプ１０により加圧されて、中空
軸部４内へ送液される。なおこの送液時の送液バルブ１
１は、「開」としておく。
排出部７は、廃液タンク１２と、排出ポンプ１３と、排
出バルブ１４とからなり、送液バルブ１１を「閉」にす
ると共に、排出バルブ１４を「開」とした後に、排出ポ
ンプ１３によって中空軸部４内部のクロメート液を吸引
し、廃液タンク１２へ排出することができるように構成
されている。
出バルブ１４とからなり、送液バルブ１１を「閉」にす
ると共に、排出バルブ１４を「開」とした後に、排出ポ
ンプ１３によって中空軸部４内部のクロメート液を吸引
し、廃液タンク１２へ排出することができるように構成
されている。
なおりロメート液の塗布・無塗布の切り換えは、塗布用
ロール５の鋼板２への当接および非当接状態にすること
によって行う。そして塗布用ロール５を非当接状態にす
る際は、中空軸部４内部のクロメート液の鋼板２上への
落下を防止するために、前述した排出部７による中空軸
部４内部のクロメート液の排出を併せて行う。
ロール５の鋼板２への当接および非当接状態にすること
によって行う。そして塗布用ロール５を非当接状態にす
る際は、中空軸部４内部のクロメート液の鋼板２上への
落下を防止するために、前述した排出部７による中空軸
部４内部のクロメート液の排出を併せて行う。
このような構成からなるクロメート塗布装置１を使用し
て、綱板２へのクロメート液の塗布作業は、次に述べる
ようにして行う。
て、綱板２へのクロメート液の塗布作業は、次に述べる
ようにして行う。
まずクロメート塗布の開始に際しては、中空軸４の移動
により、塗布用ロール５を鋼板２０表面へ当接させる。
により、塗布用ロール５を鋼板２０表面へ当接させる。
またこの中空軸４の移動により、目的とするクロメート
塗布量に合わせ、鋼板２表面へのロール５押付は圧を調
節する。
塗布量に合わせ、鋼板２表面へのロール５押付は圧を調
節する。
そして供給部６の送液バルブ１１を「開」にすると共に
、送液ポンプ１０を作動させて、クロメートタンク９か
らのクロメート液を加圧して塗布用ロール５の中空軸部
４内へ送る。
、送液ポンプ１０を作動させて、クロメートタンク９か
らのクロメート液を加圧して塗布用ロール５の中空軸部
４内へ送る。
このようにして、中空軸部４内へ送られたクロメート液
は、塗布用ロール５表面の高分子層３より、徐々にロー
ル５外へ浸透し、塗布用ロール５が当接している綱板２
へ塗布される。
は、塗布用ロール５表面の高分子層３より、徐々にロー
ル５外へ浸透し、塗布用ロール５が当接している綱板２
へ塗布される。
次にクロメート液を無塗布に切り換える際には、中空軸
４の移動により、塗布用ロール５を鋼板２より離す。
４の移動により、塗布用ロール５を鋼板２より離す。
そして供給部６の送液ポンプ１０を停止すると共に、送
液バルブ１１を［閉ｊとする。
液バルブ１１を［閉ｊとする。
また排出バルブ１４を「開」にすると共に、排出ポンプ
１３を作動させる。ここでの排出ポンプ１３は、塗布用
ロール５の表面よりクロメート液が完全になくなるまで
、数分間作動させ続ける。
１３を作動させる。ここでの排出ポンプ１３は、塗布用
ロール５の表面よりクロメート液が完全になくなるまで
、数分間作動させ続ける。
このことにより、クロメート液の残り液で、鋼板２が汚
損してしまうようなことがない。
損してしまうようなことがない。
次にクロメート液の排出が完了したら、排出ポンプ１３
を停止すると共に、排出バルブ１４をを「閉」として、
クロメート塗布の再開始に備える。
を停止すると共に、排出バルブ１４をを「閉」として、
クロメート塗布の再開始に備える。
このような作業を繰り返すことによって、この発明のク
ロメート塗布装置１を使用した、綱板２へのクロメート
液の塗布作業が行われる。
ロメート塗布装置１を使用した、綱板２へのクロメート
液の塗布作業が行われる。
なおこの発明のクロメート塗布装置１によるクロメート
液塗布作業の概略を、第６図のフローチャートに示す。
液塗布作業の概略を、第６図のフローチャートに示す。
またこの発明の塗布装置では、前述した実施例のクロメ
ートの他、防錆油塗布などにも応用できる。
ートの他、防錆油塗布などにも応用できる。
この発明は、以上のような構成からなり、次に述べる効
果を有する。
果を有する。
従来の第７図に示したスプレーによるクロメート塗布と
比較し、クロメート塗布および無塗布の切り換え時に、
クロメート液の残り液によって鋼板を汚損してしまうこ
とを防止することができる。
比較し、クロメート塗布および無塗布の切り換え時に、
クロメート液の残り液によって鋼板を汚損してしまうこ
とを防止することができる。
またクロメート液のヒユーム飛散の防止できると共に、
クロメート液の塗布量制御を容易に行うことができる。
クロメート液の塗布量制御を容易に行うことができる。
第１図はこの発明のクロメート塗布装置を示す概略図、
第２図はこの発明のクロメート塗布装置による鋼板への
クロメート塗布状態を示す概略図、第３図は第２図のＡ
部拡大詳細図、第４図はこの発明のクロメ−１４’布装
置による鋼板へのクロメート無塗布状態を示す概略図、
第５図は第４図のＢ部拡大詳細図、第６図はこの発明の
クロメート塗布装置による塗布作業を示すフローチャー
ト、第７図は従来の塗布装置を示す概略図である。 １・・・クロメート塗布装置、２・・・綱板、３・・・
高分子層、４・・・中空軸部、５・・・塗布用ロール、
６・・・供給部、７・・・排出部、８・・・管部、９・
・・クロメートタンク、１０・・・送液ポンプ、１１・
・・送液バルブ、１２・・・廃液タンク、１３・・・排
出ポンプ、１４・・・排出バルブ。 第 図 第 図
第２図はこの発明のクロメート塗布装置による鋼板への
クロメート塗布状態を示す概略図、第３図は第２図のＡ
部拡大詳細図、第４図はこの発明のクロメ−１４’布装
置による鋼板へのクロメート無塗布状態を示す概略図、
第５図は第４図のＢ部拡大詳細図、第６図はこの発明の
クロメート塗布装置による塗布作業を示すフローチャー
ト、第７図は従来の塗布装置を示す概略図である。 １・・・クロメート塗布装置、２・・・綱板、３・・・
高分子層、４・・・中空軸部、５・・・塗布用ロール、
６・・・供給部、７・・・排出部、８・・・管部、９・
・・クロメートタンク、１０・・・送液ポンプ、１１・
・・送液バルブ、１２・・・廃液タンク、１３・・・排
出ポンプ、１４・・・排出バルブ。 第 図 第 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 クロメート液を塗布する鋼板表面への当接位置および
非当接位置の間を移動自在に設けられ、周表面が多孔質
の高分子層で形成されていると共に、軸部が中空に形成
されている塗布用ロールと、この塗布用ロールの中空軸
部にクロメート液を圧送する供給部と、この供給部から
送られたクロメート液を前記塗布用ロールの中空軸部内
から排出する排出部とを備えてなり， 前記クロメート液は、前記塗布用ロールの鋼板表面への
当接時に前記供給部からロール軸部へ圧送され、前記塗
布用ロール表層の高分子層から浸透して鋼板の表面へ塗
布される共に、前記塗布用ロールの鋼板表面への非当接
時に、排出部によって前記ロール軸部内から排出される
ように構成されていることを特徴するクロメート塗布装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27006090A JPH04147982A (ja) | 1990-10-08 | 1990-10-08 | クロメート塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27006090A JPH04147982A (ja) | 1990-10-08 | 1990-10-08 | クロメート塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04147982A true JPH04147982A (ja) | 1992-05-21 |
Family
ID=17480963
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27006090A Pending JPH04147982A (ja) | 1990-10-08 | 1990-10-08 | クロメート塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04147982A (ja) |
-
1990
- 1990-10-08 JP JP27006090A patent/JPH04147982A/ja active Pending
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