JPH0415226A - ヒドロキシフェニル基を有する感光性耐熱重合体 - Google Patents

ヒドロキシフェニル基を有する感光性耐熱重合体

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JPH0415226A
JPH0415226A JP2118805A JP11880590A JPH0415226A JP H0415226 A JPH0415226 A JP H0415226A JP 2118805 A JP2118805 A JP 2118805A JP 11880590 A JP11880590 A JP 11880590A JP H0415226 A JPH0415226 A JP H0415226A
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Suketoshi Maeda
前田　祐利
Koichi Kunimune
国宗　弘一
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は新規な感光性耐熱重合体、その製造法等に関す
る。更に詳しくは保存安定性に優れ、高感度である新規
な感光性ポリ（アミド）イミド前駆体、その製造法、そ
れを含む感光性重合体組成物及びそれを用いたパターン
化されたポリ（アミド）イミド膜の形成法に関する。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕耐熱感
光材料として感光性ポリイミドは半導体の絶縁膜やパッ
シベーション膜等に広く使用されているが種々の問題点
を有している。
例えば特開昭５４−１４５７９４号公報では二重結合と
アミノ基又はその４級化塩を含む化合物をポリアミド酸
に混合する方法が提案されているが、不安定なポリアミ
ド酸溶液に多量のアミノ基又はその４級化塩を含む化合
物を添加するため溶液の粘度の経時変化が大になる欠点
がある。特開昭５５−４５７４８号公報及び特開昭６０
−１００１４３号公報では各種ポリアミド酸のカルボキ
シル基に不飽和エポキシ化合物又は二重結合を有するイ
ソシアネート化合物を反応させる方法が提案されている
が、ポリアミド酸のカルボキシル基に感光性不飽和基含
有化合物を反応させる際にポリアミド酸の一部が分解す
る等して溶液の粘度が変化する欠点を有している。特公
昭５５−４１４２２号公報ではポリアミド酸のエステル
側鎖に二重結合などの活性官能基を導入したポリマーが
提案されているが、酸塩化物とジアミンを反応させる際
に塩化物が不純物として残り、この不純物の除去が問題
となる。また特開昭ＦｊＯ−８７２９号公報ではあらか
じめ二重結合を有するジアミンを合成しておき、これら
を用いてポリイミドを合成する方法が提案されているか
、感光性官能基を導入するための工程が複雑であり多く
の費用を要する。
このように従来の技術には種々の問題があり、この様な
点を解決した感光性材料の開発が要望されていた。
本発明の目的は、保存安定性に優れ、不純物含量が少な
く、感度良好で、簡易に製造できる新規な感光性ポリ（
アミド）イミド前駆体、その製造法、それを含む感光性
重合体組成物及びそれを用いたパターン化されたポリ　
（アミド）イミド膜の形成法を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の第１の態様は、下記−数式（Ｉ）で表わされる
反復単位を含み、溶媒中温度３０±０．０１℃、濃度０
．５ｇ／ｄＩで測定された対数粘度数が０６１〜５ｄｆ
ｌ／にである感光性重合体である。
ドと一般式（ＩＶ）で表わされるヒドロキシフェニル基
含有アミンとを温度０〜１００℃で反応させることによ
り製造することができる。このことが本発明の第２の態
様である。
（式（１）に於いて、Ｒ１は３価又は４価の炭素環式芳
香族基または複素環式基、Ｒ２は少なくとも２個の炭素
原子を有する脂肪族基、脂環式基、芳香脂肪族基、炭素
環式芳香族基、複素環式基またはポリシロキサン基を表
わし、Ｒ３は２価の有子または１価の有機基を表わし、
Ｒ５旦水素原子または１価の有機基を表わし、ｍは独立
に１または２、ｎは独立にＯまたは１であり、１≦ｍ＋
ｎ≦２の値をとる。） この感光性重合体は、下記一般式（ｎ）で表わされる反
復単位、一般式（ＩＩＩ）で表わされる反復単位又はこ
の両者を含むポリ（アミド）イソイミ（但し、Ｒ１、Ｒ
２、Ｒ３、Ｒ２ Ｏは前記と同じ意味を表わす。） ｍ及び 前記式（１）で表わされる反復単位を持つ感光性重合体
は、下記（イ）、（ロ）、（ハ）、（ニ）及び溶媒から
なる感光性重合体組成物として使用することができる。
このことが本発明の第３の態様である。
（イ）　前記第１の態様に記載の感光性重合体。
（ロ）　前記感光性重合体に対して０〜２０重量％の光
重合開始剤又は増感剤。
（ハ）　前記感光性重合体に対して０．１〜５０重量％
のジアジド化合物。
（ニ）　前記感光性重合体に対して０〜１０重量％の炭
素−炭素二重結合を有する化合物。
さらにこの感光性重合体組成物を基板上に塗布し、３０
〜１５０℃の温度でプリベークを行なった後、マスクを
介して化学線を照射し、現像、乾燥の順に処理した後、
２００〜５００℃の温度でポストベークを行うことによ
りパターン化されたポリ（アミド）イミド膜を形成する
ことができる。このことが本発明の第４の態様である。
前記一般式（１）で表わされる反復単位を持つ本発明の
感光性重合体はｍｍｌ、ｎ−０の場合には感光性ポリア
ミドイミド前駆体であり、ｍｗｎ−１の場合及びｍ−２
、ｎ−Ｑの場合にはどちらも感光性ポリイミド前駆体で
ある。
これらの感光性重合体を製造する方法を以下に詳述する
。
ポリ（アミド）イソイミドは、テトラカルボン酸二無水
物、トリカルボン酸無水物（その誘導体を含む。以下同
じ。）又はこの両者とジアミンの反応生成物をＰｒｏｃ
ｅｅｄｉｎｇｓ　ｏｆ　５ｅｃｏｎｄＩｎｔｅｒｎａｔ
ｉｏｎａｌ　Ｃｏｎｒｅｒｅｎｃｅ　ｏｎ　Ｐｏ１ｙｉ
１ｄｅｓ（１９８５）　ｐ６３１に記載されている方法
により反応させることにより容易に製造することができ
る。
これらのテトラカルボン酸二無水物、トリカルボン酸無
水物及びジアミンを各々一般式（Ｖ）、（Ｖ′）及び（
Ｖｌ）で表わしこれらについて以下詳述する。
ｃｏ　　　　ｃ。
ｃｏ　　　　ｃ。
ｃ。
ｃ。
ＮＨ２Ｒ’　　　ＮＨ２・・・・・・（ＶＩ）（ただし
、Ｒ１及びＲ２は前記と同じ意味であり、ＹはＨ又はＣ
Ｎである。） １１ｊ＋が炭素環式芳香族基である場合、この基は好ま
しくは、少なくとも一個の六員環を有する。
Ｒ１は、特に、単環式芳香族基、縮合多環式芳香族基、
または数個の縮合環もしくは非縮合環（これらの環は、
直接または橋かけ基を通して互いに結合する）を有する
多環式芳香族基である。
上記の橋かけ基としては、例えば、次の基が適当である
。
ＯＣＨ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ−ＣＨ− 上記式中％Ｑ’は、場合によってはノ１０ゲン原子（好
ましくはフッ素原子）−個もしくはそれ以上で置換され
た、炭素原子数１ないし６、好ましくは１ないし４のア
ルキル基もしくはアルキレン基を表わすか、あるいはシ
クロアルキル基、アリール基またはアリーレン基を表わ
し、 Ｑ２は、水素原子、シクロアルキル基またはアリール基
を表わすか、あるいは場合によってはハロゲン原子−個
もしくはそれ以上で置換された炭素原子数１ないし４の
アルキル基を表わす。
また、Ｑｌ及びＱ２は、上記の基が互いに、二個の橋か
け基、例えば二個の−ＳＯ□−基を通して結合してなる
基でもよい。
Ｒ１が複素環式基を表わす場合、それらの例として特に
挙げられるのは、酸素、窒素及び／またはイオウを含む
五員環もしはく六員環の複素環式芳香族基、またはそれ
らとベンゼン核との縮合環式基である。
Ｒ１が表わす炭素環式芳香族基もしくは複素環式基は、
また、例えばニトロ基、炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基、トリフルオルメチル基、ハロゲン原子（特にフッ
素原子）、シリル基またはスルファモイル基などの一個
以上で置換されたものであってもよい。
Ｒ１が表わす基は、非置換でも、あるいは例えばハロゲ
ン原子（例えば、フッ素、塩素または臭素）、または炭
素原子数１ないし４のアルキル基もしくはアルコキシ基
などの一個以上でｆｆｆｔａされたものでもよい。
Ｒ２が炭素環式芳香族基である場合、好ましいそれらの
例としては、単環式芳香族基、縮合多環式芳香族基、ま
たは非縮合二環式芳香族基が挙げられる。この非縮合二
環式基の場合は、芳香環が互いに橋かけ基を通して結合
している。この場合、可能な橋かけ基は、Ｒ１の説明の
ところで挙げた基と同じものである。
Ｒ２が複素環式基である場合、それは、特に、０、Ｎ及
び／またはＳを含む五員環もしくは六員環の複素環式芳
香族基である。
また、Ｒ２が脂肪族基である場合には、特に、炭素原子
数２ないし１２のアルキレン基、またはそれらのアルキ
レン鎖中にヘテロ原子、例えばＯｌＳまたはＮ原子が介
在したアルキレン基がそれらの例として挙げられる。
Ｒ２が脂環式基である場合の例として挙げられるものは
、シクロヘキシル基またはジシクロヘキシルメタン基な
どであり、一方、芳香脂肪族基である場合の例として特
に挙げられるものは、１゜３−１．４−もしくは２，４
−ビス−アルキレンベンゼンの基、４．４’　　−ビス
−アルキレン−ジフェニル基、及び４．４′　−ビス−
アルキレンジフェニルエーテル基等である。
Ｒ１については、それぞれのＲ１が互いに独立に、非置
換単環式芳香族基、非置換縮合多環式芳香族基、または
非置換非縮合二環式芳香族基を表わすのが好ましい。上
記最後の基は、芳香環が互いに、−〇−または一〇〇−
の橋かけ基を通して結合してなる基である。
一方、Ｒ２については、それぞれのＲ２が互いに独立に
、場合によってはハロゲン原子または炭素原子数１ない
し４のアルキル基もしはくアルコキシ基の一個以上を置
換基として有する、単環式芳香族基もしくは非縮合二環
式芳香族基であるか、あるいは非置換単環式芳香脂肪族
基または炭素原子数２ないし１０の非置換脂肪族基であ
るのが好ましい。
Ｒ２がポリシロキサン基である場合次式（■）で表わさ
れる。
数を示す。）、Ｒ７は独立に炭素数１〜６のアルキル基
、フェニル基または炭素数７〜１２個のアルキル置換フ
ェニル基を表わし、ｇは１≦ｇ≦１００の値をとる。
前記式（Ｖ）で表わされるテトラカルボン酸二無水物の
例としては、以下のものが挙げられる。
ピロメリット酸二無水物、 ３．３’　、４．４’　　−ベンゾフェノン−テトラカ
ルボン酸二無水物、 ２．３．３’　、４’　　−ベンゾフェノン−テトラカ
ルボン酸二無水物、 ２．２’　　　３．３’　　−ベンゾフェノン−テトラ
カルボン酸二無水物、 ３．３’　、４．４’　　−ジフェニル−テトラカルボ
ン酸二無水物、 ２．２’　、３．３’　　−ジフェニル−テトラカルボ
ン酸二無水物、 ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）−メタンニ無水
物、 ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）〜メタンニ無水
物、 ２．２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）−ブロ
バンニ無水物、 ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−エーテルニ無
水物、 ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−スルホンニ無
水物、 Ｎ、Ｎ−（３，４−ジカルボキシフェニル）Ｎ−メチル
アミンニ無水物、 ３．３’　、４．４’　　−テトラカルポキシベンゾイ
ルオキシベンゼンニ無水物、 ２．３，６．７−ナフタリン−テトラカルボン酸二無水
物、 １．２．５．６−ナフタリン−テトラカルボン酸二無水
物、 チオフェン−２，３，４，５−テトラカルボン酸二無水
物、 ピラジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物
、 ピリジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物
、 ２．３．３’　、４’　　−ビフェニルテトラカルボン
酸二無水物、 ２．２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）へキサ
フルオロプロパン等。
前記式（Ｖ′）で表わされるトリカルボン酸無水物とし
ては、トリメリット酸無水物、トリメリット酸無水物ク
ロライドが特に好ましい。
前記式（Ｖｌ）で表わされるジアミン類としては、公知
の化合物が用いられる。
炭素環式芳香族ジアミン類の例としては特に次の化合物
が挙げられる。
ｏ−ｌｍ−及びｐ−フェニレンジアミン、ジアミノトル
エン類（例えば、２，４−ジアミノトルエン）、１．４
−ジアミノ−２−メトキシベンゼン、２，５−ジアミノ
キシレン類、１，３−ジアミノ−４−クロルベンゼン、
１，４−ジアミノ＝２．５−ジクロルベンゼン、１，４
−ジアミノ２−ブロムベンゼン、１．３−ジアミノ−４
−イソプロピルベンゼン、Ｎ、Ｎ’　　−ジフェニル−
１゜４−フェニレンジアミン、４．４’　　−ジアミノ
ジフェニル−２，２−プロパン、４．４’　　〜ジアミ
ノフェニルメタン、２．２’　　−ジアミノスチルベン
、４，４′−ジアミノスチルベン、４，４′ジアミノジ
フェニル−エーテル、４．４’　　−ジアミノジフェニ
ル−チオエーテル、４．４’　　−ジアミノジフェニル
スルホン、３．３’　　−ジアミノジフェニルスルホン
、４．４’　　−ジアミノ安息香酸フェニルエステル、
２．２’　　−ジアミノベンゾフェノン、４．４−ジア
ミノベンゾフェノン、４゜４′−ジアミノベンジル、４
−（４’　　−アミノフェニルカルバモイル）−アニリ
ン、ビス（４−アミノフェニル）−ホスフィンオキシト
、ビス（４アミノフエニル）−メチル−ホスフィンオキ
シト、ビス（３−アミノフェニル）−メチルスルフィン
オキシド、ビス（４−アミノフェニル）−フェニルホス
フィンオキシト、ビス（４−アミノフェニル）−シクロ
ヘキシルホスフィンオキシト、Ｎ、Ｎ−ビス（４−アミ
ノフェニル）−Ｎ−フェニルアミン、Ｎ、Ｎ−ビス（４
−アミノフェニル）−Ｎ−メチルアミン、４．４’　　
−ジアミノジフェニル尿素、１，８−ジアミノナフタリ
ン、１．５−ジアミノナフタリン、１，５−ジアミノア
ントラキノン、ジアミノフルオランテン、ビス（４−ア
ミノフェニル）−ジエチルシラン、ビス（４−アミノフ
ェニル）−ジメチルシラン、ビス（４−アミノフェニル
）−テトラメチルジシロキサン、３．４′　−ジアミノ
ジフェニルエーテル、ベンジジン、２，２′−ジメチル
ベンジジン、２．２＝ビス［４−（４−アミノフェノキ
シ）フェニル〕プロパン、ビスＣ４−Ｃ４−アミノフェ
ノキシ）フェニル〕スルホン、４．４’　　−ビス（４
−アミノフェノキシ）ビフェニル、２，２−ビス〔４（
４−アミノフェノキシ）フェニル〕へキサフルオロプロ
パン、１．４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン
、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン等。
複素環式ジアミン類は、例えば次の化合物である。
２．６−ジアミノベンジル、２，４−ジアミノピリミジ
ン、２，４−ジアミノ−５−トリアジン、２．７−ジア
ミツージベンゾフラン、２，７−ジアミツカルバゾール
、３，７−ジアミツフエノチアジン、２．５−ジアミノ
−１，３，４−チアジアゾール、２．４−ジアミノ−６
−フェニル−Ｓ−トリアジン等。
また、脂肪族ジアミンの例として挙げられるのは、次の
化合物である。
ジメチルジアミン、トリメチレンジアミン、テトラメチ
レンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレ
ンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジ
アミン、デカメチレンジアミン、２．２−ジメチルプロ
ピレンジアミン、２゜５−ジメチルへキサメチレンジア
ミン、２，５ジメチルへブタメチレンジアミン、４４−
ジメチルへブタメチレンジアミン、３−メチルへブタメ
チレンジアミン、３−メトキシへブタメチレンジアミン
、５−メチルノナメチレンジアミン、２１１−ジアミノ
ドデカン、１．１２−ジアミノオクタデカン、１，２−
ビス（３−アミノプロポキシ）−エタン、Ｎ、Ｎ’　　
−ジメチル−エチレンジアミン、Ｎ、Ｎ’−ジエチル−
１，３−ジアミノプロパン、Ｎ、Ｎ’　　〜ジメチル、
１．６−ジアミツヘキサン、式： ％式％ で表わされるジアミン等。
さらに、脂環式ジアミンとして適当な化合物は、１．４
−ジアミノシクロヘキサン及び４．４′ジアミノ−ジシ
クロヘキシルメタン等であり、芳香脂肪族ジアミンとし
ては１，４−ビス（２−メチル−４−アミノペンチル）
−ベンゼン、１，４−ビス（１，１−ジメチル−５−ア
ミノペンチル）−ベンゼン、１，３−ビス（アミノメチ
ル）−ベンゼン及び１，４−ビス（アミノメチル）−ベ
ンゼン等が適当である。
さらに、ジアミノボリシキサンとして次の化合物を挙げ
ることができる。
ＣＨｓ　　　　　Ｌ；　Ｍ　３ 前記一般式（ＩＶ）で表わされるヒドロキシフェニル基
含有アミンについて説明する。
一般式（ＩＶ）に於いてＲ３は好ましくは炭素数１〜１
０の２価の有機基を表わし、脂肪族基、脂環式基、芳香
族基又は芳香脂肪族基等の残基を表わす。しかし基中に
、水酸基、カルボキシル基、エーテル、エステル、ケト
ン等の極性基を含有して水素原子または炭素数１〜■０
の有機基であり、脂肪族基、脂環式基、芳香族基または
芳香脂肪族基を表わす。しかし基中に水酸基、カルボキ
シル基、エーテル、エステル、ケトン等の極性基を含有
しても良い。Ｒ５は好ましくは水素原子または炭素数１
〜１０の１価の有機基であり、脂肪族基、アルコキシ基
を表わす。しかし基中に水酸基、カルボキシル基、エー
テル、エステル、ケトン等の極性基を含有しても良い。
一般式（ＴＶ）で表わされる化合物としては次の化合物
を例示することができる。
ＮＨ 本発明の感光性重合体を製造する際の好ましい溶媒（以
下反応溶媒と言うことがある。）として次のものを挙げ
ることができる。
Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセト
アミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド、テトラメチル尿素、ピリジン、ジメチルスル
ホン、ヘキサメチルホスホルアミド、メチルホルムアミ
ド、Ｎ−アセチル−２−ビロリドン、エチレングリコー
ルモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチル
エーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレング
リコールジメチルエーテル、シクロペンタノン、シクロ
ヘキサノン、クレゾール、γ−ブチロラクトン、Ｎ、Ｎ
−ジエチルアセトアミド、Ｎ、Ｎ−ジエチルホルムアミ
ド、Ｎ、Ｎ−ジメチルメトキシアセトアミド、テトラヒ
ドロフラン、Ｎ−アセチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチ
ル−ε−カプロラクタム、テトラヒドロチオフェンジオ
キシド〔スルホラン（ｓｕｌｐｈｏｌａｎｅ）　）等。
また、この反応は、上記した如き有機溶媒を混合して得
られる混合溶媒中でも行うことができる。
さらに、上記の如き好ましい有機溶媒を、他の非プロト
ン性（中性）有機溶媒、例えば芳容族、脂環式もしくは
脂肪族炭化水素またはそれらの塩素化誘導体（例えば、
ベンゼン、トルエン、キシレン類、シクロヘキサン、ペ
ンタン、ヘキサン、石油エーテル、塩化メチレンなと）
、またはジオキサンで希釈したものを用いることもでき
る。
上記した溶媒の存在下公知の方法により上記酸無水物及
びジアミンからポリ　（アミド）アミド酸を合成するこ
とができる。
この場合基板に対する接着性を向上することを目的にポ
リマー末端に下記式（■）で表わされるアミノシランを
導入することができる。
Ｒ９は独立に炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基ま
たは炭素数７〜１２のアルキル置換フェニル基を表わし
、Ｘは独立に加水分解性のアルコキシ基、アセトキシ基
またはハロゲンを表わし、ｋは１≦に≦３の値をとる。
） 次に式（■）で表わされるアミノシランとしては次の化
合物を挙げることができる。
アミノメチル−ジ−ｎ−プロポキシ−メチルシラン、（
β−アミノエチル）−ジ−ｎ−プロポキシ−メチルシラ
ン、（β−アミノエチル）−ジェトキシ−フェニルシラ
ン、（β−アミノエチル）−トリーロープロポキシシラ
ン、（β−アミノエチル）−ジメトキシ−メチルシラン
、（γ−アミノプロピル）−ジ−ｎ−プロポキシ−メチ
ルシラン、（γ−アミノプロピル）−ジ−ローブトキシ
−メチルシラン、（γ−アミノプロピル）〜トリメトキ
シシラン、（γ−アミノプロピル）−トリエトキシシラ
ン、（γ−アミノプロピル）−ジ−ｎ−ペントキシ−フ
ェニルシラン、（γ−アミノプロピル）−メトキシ−〇
−プロポキシーメチルシラン、（δ−アミノブチル）−
ジメトキシ−メチルシラン、（３−アミノフェニル）−
ジ−ｎ−プロポキシ−メチルシラン、（４−アミノフェ
ニル）−トリーロープロポキシシラン、〔β−（４−ア
ミノフェニル）−エチル〕　−ジェトキシ−メチルシラ
ン、〔β−（３−アミノフェニル）−エチル〕　−ジ−
ｎ−プロポキシ−フェニルシラン、〔γ−（４−アミノ
フェニル）−プロピル〕　−ジ−ｎ−プロポキシ−メチ
ルシラン、〔γ−（４−アミノフェノキシ）−プロピル
〕　−ジ−ｎ−プロポキシ−メチルシラン、〔γ−（３
−アミノフェノキシ）−プロピル〕　−ジ−ｎ−ブトキ
シ−メチルシラン、（γ−アミノプロピル）−メチルー
ジメトキシシラン、（γ−アミノプロピル）−メチル−
ジェトキシシラン、（γ−アミノプロピル）エチル−ジ
−ロープロポキシシラン、４−アミノフェニル−トリメ
トキシシラン、３−アミノフェニルトリメトキシシラン
、４−アミノフェニルメチル−ジ−メトキシシラン、３
−アミノフェニル−ジ−メチル−メトキシシラン、４−
アミノフェニル−トリーエトキシシラン等。
それ以外にもポリ（アミド）アミド酸の分子量をコント
ロールすることを目的に一官能性の酸無水物又はアミン
を添加して反応を行なうこともできる。その様な化合物
の例として以下の化合物を例示できる。
無水フタル酸、無水マレイン酸、アニリン、モノアリル
アミン等。
このようにして合成されたポリアミド酸は前記Ｐｒｏｃ
ｅｅｄｉｎｇ　ｏｆ　５ｅｃｏｎｄ　Ｉｎｔｅｒｎａｔ
ｉｏｎａｌ　Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ　ｏｎ　Ｐｏｌｙｌ
ｗｌｄｅｓに記載されている方法により例えばＮ、Ｎ’
　　−ジシクロへキシルカルボジイミド或いはトリフル
オロ無水酢酸等の脱水剤により容易にポリイソイミドに
変換される。この場合反応条件により一部イミド基が形
成される場合もある。
脱水剤としてＮ、Ｎ’　　−ジシクロへキシルカルボジ
イミドを使用し、ポリアミド酸との反応例を上に示した
が、必ずしも全てのアミド酸をイソイミドに変換する必
要はない。しかしながらポリマー中に於けるイソイミド
の割合が減少すると、付加するヒドロキシフェニル基含
有アミンの割合も減少するため感度が低下する。従って
可能な限りイソイミドに変換しておくのが好ましい。
次にこのポリ　（アミド）イソイミドに式（ｒＶ）で表
わされるアミンを添加して反応溶媒の存在下に反応を行
なう。添加するアミンはイソイミドに対して当モル以上
でも又は以下でも良いが大体当モル近辺が好ましい。反
応温度は０〜１００℃、好ましくは１０〜３０℃くらい
である。反応時間は０．２〜３０時間が好ましく、より
好ましくは１〜１０時間位である。
この様にして一般式（１）で表わされる本発明の感光性
重合体が得られる。この重合体の対数粘度数は０．１〜
５ｄ、ｌ）／ｒの範囲が成膜性の点から好ましい。ここ
で対数粘度数とは次式で表わされるηｉｎｈである。
し くここでηはウベローデ粘度計を使用し、溶媒中で温度
３０±０．０１℃、濃度０．５ｇ／ｄｌｌで測定した値
であり、η０は同粘度計を使用し、同温度における同溶
媒の測定値であり、Ｃは濃度０．５ｇ／ｄＩＩである。
） 本発明の感光性重合体は溶液のまま保存することもでき
るが、この溶液を多量の非溶媒中に添加し、ポリマーを
摘出させた後、ろ別乾燥して得られる粉末状あるいは塊
状の固体としても保存することができる。
本発明の感光性重合体組成物は前記（イ）、（ロ）、（
ハ）、（ニ）及び溶媒より構成される。
（イ）に記載された感光性重合体は前記一般式（１）で
表わされる反復単位を含むが、必ずしもこの反復単位が
１００％である必要はない。しかし実用的にはこの反復
単位が全反復単位の３０モル％以上存在する方が好まし
い。一般式（Ｉ）で表わされる反復単位以外の反復単位
としては特に規定する必要はないが、下記に示される反
復単位の１種又は数種から構成されるのが実際的である
。
感光性重合体組成物中の感光性重合体の濃度は２〜５０
重量％、好ましくは１０〜３０重量％が好ましい。
（ロ）に記載された光重合開始剤又は増感剤としては下
記の化合物を例示することができ、これらの一種又は数
種を混合して使用することができる。
ベンゾイン、ベンゾインエーテル、ベンゾフェノン、ｐ
、ｐ’　　−ジメチルベンゾフェノン、４゜４′　−ビ
ス（ジエチルアミノベンゾフェノン）、ミヒラーズケト
ン、２−ニトロフルオレン、５−ニトロアセナフテン、
４−二トロー１−ナフチルアミン、アントロン、１．９
−ベンズアントロン、ジベンザルアセトン、アントラキ
ノン、２−メチルアントラキノン、１−二トロビレン、
１．８−ジニトロピレン、ピレン−１，６−キノン、シ
アノアクリジン、ベンゾキノン、１．２−ナフトキノン
、１，４−ナフトキノン、１，２−ベンズアントラキノ
ン等。
光重合開始剤又は増感剤の添加量は感光性重合体の０〜
２０重量％、好ましくは０〜ｌＯ重量％である。
（ハ）に記載されたジアジド化合物としては下記の化合
物を例示することができ、これらの一種又は二種以上を
混合して使用することができる。
２．６−ジ（ｐ−アジドベンザル）−４〜メチルシクロ
ヘキサノン、２，６−ジ（ｐ−アジドベンザル）シクロ
ヘキサノン、４．４’　　−ジアジドカルコン、４．４
’　　−ジアジドベンザルアセトン、４．４′−ジアジ
ドスチルベン、４．４′　−ジアジドベンゾフェノン、
４．４′　−ジアジドジフェニルメタン、４．４′　−
ジアジドジフェニルアミン等。
ジアジド化合物の添加量は感光性重合体に対して０．１
〜５０重量％、好ましくは１〜２０重量％である。
（ニ）に記載された炭素−炭素二重結合を有する化合物
としては下記の化合物を例示することができ、これらの
一種又は数種を混合して使用することができる。
ブチルアクリラート、シクロへキシルアクリラート、ジ
メチルアミノエチルメタクリラート、ベンジルアクリラ
ート、カルピトールアクリラート、２−エチルへキシル
アクリラート、２−エチルへキシルメタクリラート、ラ
ウリルメタクリラート、２−ヒドロキシエチルアクリラ
ート、２−ヒドロキシエチルメタクリラート、２−ヒド
ロキシプロピルアクリラート、２−ヒドロキシプロピル
メタクリラート、グリシジルメタクリラート、Ｎ−メチ
ロールアクリルアミド、Ｎ−ジアセトンアクリルアミド
、Ｎ、Ｎ’　　−メチレンビスアクリルアミド、Ｎ−ビ
ニルピロリドン、エチレングリコールシアクリラード、
ジエチレングリコールジアクリラート、トリエチレング
リコールジアクリラート、ブチレングリコールシアクリ
ラード、ブチレングリコールジメタクリラード、ネオペ
ンチルグリコールシアクリラード、ネオペンチルグリコ
ールジメタクリラード、１，４−ブタンジオールシアク
リラード、１，６−ヘキサンシオールジアクリラート、
１．６−ヘキサンシオールジメタクリラート、ペンタエ
リスリトールジアクリラート、ペンタエリスリトールト
リアクリラート、トリメチロールプロパントリアクリラ
ート、トリメチロールプロパントリメタアクリラート等
。
炭素−炭素二重結合を有する化合物の添加量は感光性重
合体に対して０〜１０重量％、好ましくは０〜５重量％
である。
その他に架橋助剤として感光性重合体に対して１０重量
％以下のペンタエリスリトールテトラ（３−メルカプト
プロピオネート）又はペンタエリスリトールテトラ（メ
ルカプトアセテート）等の公知の多価チオール類、染料
、顔料等の副素材を添加することもできる。
（イ）、（ロ）、（ハ）及び（ニ）に記載される化合物
を前記反応溶媒に上述した混合比で溶解させることによ
り本発明の感光性重合体組成物が得られる。
次に本発明の重合体組成物を用いたパターン化されたポ
リ（アミド）イミド膜の形成法について説明する。本発
明の重合体組成物はスピンコード、浸漬又は噴霧印刷等
の公知の方法によりシリコンウェハー、金属板、プラス
チック板、あるいはガラス板等の基板上に塗布すること
が可能である。
塗膜は電気炉あるいはホットプレート等の加熱手段を用
い３０〜１５（］℃の温度で数分〜数十分プリベークを
行なうことにより塗膜中の大部分の溶媒の除去を行なう
。この塗膜にネガマスクを置き、化学線を照射する。化
学線としてはＸ線、電子線、紫外線、遠紫外線あるいは
可視光線などが例として挙げられるが、紫外線又は遠紫
外線が特に好適である。ついで未露光部を現像液で溶解
除去することによりレリーフ・パターンをうる。現像液
は反応溶媒中より選択することができるがこれと本発明
の感光性重合体の非溶媒であるメタノール、エタノール
あるいはプロパツール等の低級アルコールとの混合液を
使用することもてきる。
必要により上記非溶媒中でリンスし、さらに１５（１℃
以下の温度で乾燥を行ないレリーフ・パターンの安定化
を行なうことができる。またプリベーク後のいずれかの
時点で基板からフィルムをはがし、単独のフィルムとし
て使用することもできる。現像により形成されたレリー
フ・パターンのポリマーは前駆体の形であるため、これ
を上記加熱手段により２００〜５００℃、好ましくは８
００〜４００℃の温度で数十分〜数時間加熱することに
よりパターン化されたポリ　（アミド）イミド膜が形成
される。この場合の化学反応は下記に示す通りである。
感光成分は熱分解により揮散してポリ（アミド）イミド
が形成される。
（ただしＱは架橋した感光成分を表わす。）この様にし
て本発明の感光性重合体からパターン化された耐熱性の
ポリ（アミド）イミド膜を得ることができる。
本発明の感光性重合体は電子材料用途、特に半導体のパ
ッシベーション膜、プリント回路等に適用可能である。
〔実施例〕
以下に実施例によって本発明を更に具体的に説明するが
、本発明はこれらの実施例によってなんら限定されるも
のではない。
（実施例１） かくはん装置、滴下ロート、温度計、コンデンサーおよ
び窒素置換装置を付した１ｇのフラスコを恒温槽中に固
定した。脱水精製した５００　ｇのＮ−メチル−２−ピ
ロリドン（以下ｒＮＭＰＪと略記する。）及び２５．４
９　ｇ　（０，１２７モル）の４．４′　−ジアミノジ
フェニルエーテル（以下ｒＤＤＥＪと略記する。）及び
１．０４ｇ　（０，０１１１２モル）のアリルアミンを
投入し、かくはんを続は溶解させた。この溶液に２１．
９７　ｇ　（０，０６８２モル）の３．３’　、４．４
’　　−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物（以
下ｒＢＴＤＡＪと略記する。）及び１４．８７　ｇ　（
０，０Ｂ８２モル）のピロメリット酸二無水物（以下ｒ
ＰＭＤＡＪと略記する。）を添加し２０〜３０℃で８時
間反応を行い、末端にアリルアミンが付加したポリアミ
ド酸を得た。この溶液に５８．２８　ｇ　（０，２７３
モル）のＮ、Ｎ’　　−ジシクロへキシルカルボジイミ
ド（以下ｒＤＣＣＪと略記する。）を添加し、この温度
でさらに１０時間反応を行なったところＮ、Ｎ’　　−
ジシクロへキシルウレアの白色沈殿が析出し、ポリイソ
イミドの溶液が得られた。この溶液に２９．７７　ｔｒ
　（０，２７３モル）のｐ、アミノフェノールを添加し
２０〜３０℃で５時間反応を行なった。この溶液を、こ
の溶液からＮ。
Ｎ′　−ジシクロへキシルウレアの白色沈殿をろ別した
後、多量のエタノール中に滴下したところ、本発明の感
光性重合体が析出した。これをろ別し、５０℃で一昼夜
減圧乾燥することにより単離した。
得られた本発明の重合体のＮＭＰ中での対数粘度数は１
．１３ｄｊ！／ｇであった。この重合体の赤外線吸収ス
ペクトルを第１図に示す。
（実施例２） 実施例１と同様の装置で、５００ｇのＮ、Ｎ−ジメチル
アセトアミド（以下ｒＤＭＡｃＪと略記する。）中に４
０．４０　ｇ　（０，０９３４モル）のビス〔４−（４
−アミノフェノキシ）フェニル〕スルホン及び２．５８
ｓｒ　（０，０１２０モル）のｐ−アミノフェニルトリ
メトキシシランを投入し、かくはんを続は溶解させた。
この溶液に１８．１２　ｇ　（０，０５００モル）のＢ
ＴＤＡ及び１０．９１　ｇ　（０，０５００モル）のＰ
ＭＤＡを添加し２０〜３０℃で８時間反応を行い、末端
にｐアミノフェニルトリメトキシシランが付加したポリ
アミド酸を得た。この溶液に４１，１０　ｇ　（０，２
００モル）のＤＣＣを添加し、この温度でさらに１０時
間反応を行なったところ、Ｎ、Ｎ’　　−ジシクロへキ
シルウレアの白色沈殿が析出し、ポリイソイミドの溶液
が得られた。この溶液に２１．８４　ｇ　（０，２００
モル）のｐ−アミノフェノールを添加し２０〜３０℃で
５時間反応を行なった。この溶液を、この溶液からＮ、
Ｎ’　　−ジシクロへキシルウレアの白色沈殿をろ別し
た後、多量のエタノール中に滴下したところ本発明の感
光性重合体が析出した。これをろ別し、５０℃で一昼夜
減圧乾燥することにより、単離した。この重合体のＮＭ
Ｐ中での対数粘度数は１．５３ｄｊ７／ｓｒであった。
（実施例３） 実施例１と同様の装置で、５００ｇのＤＭＡｃ中に３８
．４８　ｇ　（０，１７７モル）のＤＤＥを投入し、か
くはんを続は溶解させた。この溶液に３４゜７７　ｇ（
０，１５９モル）のＰＭＤＡ及び３．４７ｇ　（０，０
３５４モル）の無水マレイン酸を添加し、２０〜３０℃
で６時間反応を行い、末端に無水マレイン酸が付加した
ポリアミド酸を得た。この溶液に３２．８９　ｇ　（０
，１５９モル）のＤＣＣを添加し、この温度でさらに１
０時間反応を行なったところＮ、Ｎ’　　−ジシクロへ
キシルウレアの白色沈殿が析出し、ポリイソイミドの溶
液が得られた。この溶液に１７．４０　ｇ　（０，１５
９モル）のｐ−アミノフェノールを添加し、２０〜３０
℃で５時間反応を行なった。この溶液を、この溶液から
Ｎ、Ｎ’　　−ジシクロへキシルウレアの白色沈殿をろ
別した後、多量のエタノール中に滴下したところ本発明
の感光性重合体が析出した。これをろ別し、５０℃で一
昼夜減圧乾燥することにより単離した。この重合体のＮ
ＭＰ中での対数粘度数は０．５８ｄｌ／ｌであった。
（実施例４） 実施例１と同様の装置で５００ｇのＮＭＰ中に８１１４
９　ｔｒ　（０，１３１モル）の１．４−ビス（４−ア
ミノフェノキシ）ベンゼンを投入し、かくはんを続は溶
解させた。この溶液に３０．１６　ｇ　（０，１３８モ
ル）のＰＭＤＡを添加し、２０〜３０℃で５時間反応を
行なった後、０．７９ｇ　（０，０１３８モル）のアリ
ルアミンを添加し、さらに５時間反応を行うことにより
、末端にアリルアミンが付加したポリアミド酸を得た。
この溶液に４２．７９　ｇ　（０，２０７モル）のＤＣ
Ｃを添加し、この温度でさらに１０時間反応を行なった
ところ、Ｎ、Ｎ’　　−ジシクロへキシルウレアの白色
沈殿が析出し、ポリイソイミドの溶液が得られた。この
溶液に２２．６３　ｇ　（０，２０７モル）のｐ−アミ
ノフェノールを添加し、２０〜３０℃で６時間反応を行
なった。この溶液を、この溶液からＮ、Ｎ’　　−ジシ
クロへキシルウレアの白色沈殿をろ別した後、多量のエ
タノール中に滴下したところ本発明の感光性重合体が析
出した。これをろ別し、５０℃で一昼夜減圧乾燥するこ
とにより単離した。この重合体のＮＭＰ中での対数粘度
数は１．３２ｄｉ）／ｓｒであった。
（実施例５） 実施例１と同様の装置で５００ｇのＮＭＰ中に３６．５
４　ｇ　（０，１８２モル）のＤＤＥを投入し、かくは
んを続は溶解させた。この溶液に３５．０２　ｇ（０，
１８２モル）のトリメリット酸無水物を添加し、２０〜
３０℃で５時間反応を行なった。この溶液に７５．３１
　ｇ　（０，３８５モル）のＤＣＣを添加し、さらに４
０時間反応を行い、アミド酸のイソイミドへの変換と末
端アミノ基とカルボキシル基の縮合を同時に行うことに
よりポリアミドイソイミドの溶液を得た。この溶液に１
９．９２　ｇ　（０，１１１２モル）のｐ−アミノフェ
ノールを添加し、２０〜３０℃で８時間、反応を行なっ
た。この溶液を、この溶液から析出しているＮ、Ｎ’　
　−ジシクロへキシルウレアの白色沈殿をろ別した後、
多量のエタノール中に滴下したところ本発明の感光性重
合体が析出した。これをろ別し、５０℃で一昼夜減圧乾
燥することにより単離した。この重合体のＮＭＰ中での
対数粘度数は０．３３ｄｊ！／ｇであった。
（実施例６） 実施例１と同様の装置で５００どのＤＭＡｃ中に３１．
７６　ｇ　（０゜０７７４モル）の２．２−ビス〔４−
（４−アミノフェノキシ）フェニル〕プロパンを投入し
、かくはんを続は溶解させた。この溶液に３４．６２　
ｇ　（０，０９６７モル）のジフェニルスルホン３．３
’　、４．４’　　−テトラカルボン酸二無水物を添加
し、２０〜３０℃で５時間反応を行なった後、４．２２
ｇ　（０，０３８７モル）のｐ−アミノフェノールを添
加し、さらに５時間反応を行うことにより、末端にｐ−
アミノフェノールが付加したポリアミド酸を得た。この
溶液に３９．９１　ｇ　（０，１９３モル）のＤＣＣを
添加し、２０〜３０℃で１０時間反応を行なったところ
Ｎ、Ｎ’　　−ジシクロへキシルウレアの白色沈殿が析
出した。この白色沈殿をろ別した後、ろ液を多量のアセ
トンの中へ滴下したところポリイソイミドが析出した。
これをろ別し５０℃で一昼夜減圧乾燥することによりポ
リイソイミドを単離した。得られたポリイソイミド１５
．００　ｇ及び脱水精製した１００ｇのＤ　Ｍ　Ａ　ｃ
をかくはん装置、滴下ロート、温度計、コンデンサーお
よび窒素置換装置を付し、恒温槽中に固定された２００
ｍ１のフラスコに投入し、かくはんを続けてポリイソイ
ミドを溶解させた。この溶液に３．５９ｇ　（０，０３
２９モル）のｐ−アミノフェノールを添加し、２０〜３
０℃で５時間反応を行なった。この溶液を多量のエタノ
ール中に滴下することにより本発明の感光性重合体を析
出させた。これをろ別し、５０℃で一昼夜減圧乾燥する
ことにより単離した。得られた重合体のＮＭＰ中での対
数粘度数は０．４２ｄ　１　／　ｇであった。
（実施例７） 実施例１と同様の装置で５００ｇのＤＭＡｃ中に２１．
４８　ｇ　（０゜０４９６モル）のビス［４−（４−ア
ミノフェノキシ）フェニル〕スルホン、１２．３２　ｇ
（０，（１４９６モル）の１．３−ビス（３−アミノプ
ロピル）１．１，３．３−テトラメチルジシロキサン及
び０．８１　ｇ　（０，０１４２モル）のアリルアミン
を投入し、かくはんを続は溶解させた。この溶液に３４
．２６　ｇ　（０，１０６モル）のＢＴＤＡを添加し、
２０〜３０℃で８時間反応を行い、末端にアリルアミン
が付加したポリアミド酸を得た。この溶液に４３．８７
ｇ　（０，２１３モル）のＤＣＣを添加し、この温度で
さらに８時間反応を行なったところＮ、Ｎ’ジシクロへ
キシルウレアの白色沈殿が析出した。
この白色沈殿をろ別した後、ろ液を多量のアセトン中へ
滴下したところポリイソイミドが析出した。
これをろ別し５０℃で一昼夜減圧乾燥することによりポ
リイソイミドを単離した。
得られたポリイソイミド１５．００　ｇ及び脱水精製し
た１００ｇのＤＭＡｃをかくはん装置、滴下ロート、温
度計、コンデンサーおよび窒素置換装置を付し、恒温槽
中に固定された２００ｍ１のフラスコに投入し、かくは
んを続けてポリイソイミドを溶解させた。この溶液に３
．９４ｇ　（０，０３６１モル）のｐ−アミノフェノー
ルを添加し、２０〜３０℃で６時間反応を行なった。こ
の溶液を多量のエタノール中に滴下することにより本発
明の感光性重合体を析出させた。これをろ別し、５０℃
で一昼夜減圧乾燥することにより単離した。得られた重
合体のＮＭＰ中での対数粘度数はｒ、４６ｄ　Ｉ　／　
ｇであった。
（実施例８） 実施例１〜７で合成した本発明の感光性重合体４．５ｇ
を２５．５ｇのＮＭＰに溶解させ、この溶液にジアジド
化合物、必要により光重合開始剤又は増感剤及び炭素−
炭素二重結合を有する化合物等を適宜添加し本発明の感
光性重合体組成物を調製した。
この組成物をシリコンウェハー上にスピンコードし、７
０℃、４０分間プリベークを行うことにより均一な膜を
形成せしめた。次にマスクを通して超高圧水銀灯（２０
＋ｇＷ／　ｃｄ　）で種々の照射時間で露光した。これ
をＮＭＰ４容、エチルアルコール１容の混合液に浸漬す
ることにより現像を行い、エチルアルコール中でリンス
し、乾燥した。このようにして鮮明なレリーフ・パター
ンを得た。塗布膜厚を残存膜厚で規格した値で０．５を
与える露光量を感度とし第１表に示した。これを２００
℃で３０分間、さらに４００℃で３０分間電気炉中で焼
成を行った結果、パターンはくずれることはなかった。
ポリマーの赤外線吸収スペクトルによると、いずれの感
光性重合体も焼成後はポリ（アミド）イミドに変換され
ていた。実施例８−１のポリマー（焼成後）の赤外線ス
ペクトルを第２図に示す。
さらにこれらの感光性重合体の経時安定性を調べるため
に、前記感光性重合体組成物について調製直後及び室温
に１か月装置したときの各々の同憂） 転粘度　　を測定し、その経時変化を調べた。なお実施
例の感光性組成物及び測定結果の詳細を第１表に示す。
来）　回転粘度とはＥ型粘度計（株式会社東京計器製Ｖ
ＩＳＣＯＮＩＣＥＮＤ　　（商標））を使用して、温度
２５０℃で測定した粘度である。
（比較合成例１） 実施例１と同様の装置及び方法で１００　ｇのＮＭＰ、
　１２．３４　ｇ　（０，０３８３モル）のＢＴＤＡ及
び７．６６ｇ　（０，０３８３モル）のＤＤＥより対数
粘度数１．１ｄＢ／ｇのポリアミド酸溶液を合成した。
この溶液に１４．１９　ｇ　（０，０７６６モル）のジ
メチルアミノエチルメタクリレートを混合し感光性重合
体溶液とした。この溶液を３０ｇをとり第１表に示す添
加剤を加え、前記実施例と同様に感光性試験及び感光性
重合体の経時安定性の測定を行った。その結果〔発明の
効果〕 本発明の新規な感光性重合体は本発明の製造法により容
易に製造することができ、また適切な添加剤を適量加え
溶剤にとかした溶液である本発明の感光性重合体組成物
は実用上十分な感度を有し、良好なパターンを形成する
ことができる。また本発明の感光性重合体組成物は保存
安定性にすぐれるため膜厚の経時的な変動が少ない。
【図面の簡単な説明】
第１図は実施例１で得られた本発明の感光性重合体の赤
外線吸収スペクトル、第２図は実施例８−１のポリマー
（焼成後）の赤外線吸収スペクトルである。 第２図において１７１ｉ０ｃｍ−’及び７２０ｃｍ−’
にイミド基に基づく吸収が強く表われている。 以　　上

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）下記一般式（ I ）で表わされる反復単位を含み
    、溶媒中温度３０±０．０１℃、濃度０．５ｇ／ｄｌで
    測定された対数粘度数が０．１〜５ｄｌ／ｇである感光
    性重合体。▲数式、化学式、表等があります▼……（
    I ） （式（ I ）に於いて、Ｒ＾１は３価又は４価の炭素環
    式芳香族基または複素環式基、Ｒ＾２は少なくとも２個
    の炭素原子を有する脂肪族基、脂環式基、芳香脂肪族基
    、炭素環式芳香族基、複素環式基またはポリシロキサン
    基を表わし、Ｒ＾３は２価の有機基を表わし、Ｒ＾４は
    ▲数式、化学式、表等があります▼、水素原 子または１価の有機基を表わし、Ｒ＾５は水素原子また
    は１価の有機基を表わし、ｍは独立に１または２、ｎは
    独立に０または１であり、１≦ｍ＋ｎ≦２の値をとる。 ）
  2. （２）下記一般式（II）で表わされる反復単位、一般式
    （III）で表わされる反復単位又はこの両者を含むポリ
    （アミド）イソイミドと一般式（IV）で表わされるヒド
    ロキシフェニル基含有アミンとを温度０〜１００℃で反
    応させることを特徴とする請求項（１）に記載の感光性
    重合体の製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼……（II） ▲数式、化学式、表等があります▼……（III） ▲数式、化学式、表等があります▼……（IV） （但し、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５、ｍ
    及びｎは請求項（１）に記載のものと同じ意味を表わす
    。）
  3. （３）下記（イ）、（ロ）、（ハ）、（ニ）及び溶媒か
    らなる感光性重合体組成物。 （イ）請求項１に記載の感光性重合体 （ロ）前記感光性重合体に対して０〜２０重量％の光重
    合開始剤又は増感剤 （ハ）前記感光性重合体に対して０．１〜５０重量％の
    ジアジド化合物 （ニ）前記感光性重合体に対して０〜１０重量％の炭素
    −炭素二重結合を有する化合物
  4. （４）請求項（３）の感光性重合体組成物を基板上に塗
    布し、３０〜１５０℃の温度でプリベークを行なった後
    、マスクを介して化学線を照射し、現像、乾燥の順に処
    理した後、２００〜５００℃の温度でポストベークを行
    うことを特徴とするパターン化されたポリ（アミド）イ
    ミド膜の形成方法。
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