JPH04152885A - 細胞の培養方法および装置 - Google Patents

細胞の培養方法および装置

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JPH04152885A
JPH04152885A JP27553990A JP27553990A JPH04152885A JP H04152885 A JPH04152885 A JP H04152885A JP 27553990 A JP27553990 A JP 27553990A JP 27553990 A JP27553990 A JP 27553990A JP H04152885 A JPH04152885 A JP H04152885A
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JP
Japan
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cells
culture
microchamber
culturing
micro chambers
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JP27553990A
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English (en)
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Masahiko Susa
諏佐 昌彦
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C12BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
    • C12MAPPARATUS FOR ENZYMOLOGY OR MICROBIOLOGY; APPARATUS FOR CULTURING MICROORGANISMS FOR PRODUCING BIOMASS, FOR GROWING CELLS OR FOR OBTAINING FERMENTATION OR METABOLIC PRODUCTS, i.e. BIOREACTORS OR FERMENTERS
    • C12M23/00Constructional details, e.g. recesses, hinges
    • C12M23/02Form or structure of the vessel
    • C12M23/16Microfluidic devices; Capillary tubes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C12BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
    • C12MAPPARATUS FOR ENZYMOLOGY OR MICROBIOLOGY; APPARATUS FOR CULTURING MICROORGANISMS FOR PRODUCING BIOMASS, FOR GROWING CELLS OR FOR OBTAINING FERMENTATION OR METABOLIC PRODUCTS, i.e. BIOREACTORS OR FERMENTERS
    • C12M23/00Constructional details, e.g. recesses, hinges
    • C12M23/20Material Coatings

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 細胞培養を行う方法と装置に関し、 マイクロメカニズムを用いて作った細胞培養装置を用い
、複数種の細胞を培養液を変えて効率よく培養すること
を目的とし、 シリコン・ウェハ上に酸化シリコン膜が形成されており
、該酸化シリコン膜の一部に写真蝕刻技術を用いて窓開
けすると共に、該窓開は部に異方性エツチングを行って
方形のマイクロチャンバを形成し、該マイクロチャンバ
の中に細胞と培養液とを供給した状態で、該マイクロチ
ャンバの番地および該細胞の履歴を記録装置のメモリに
記録させた後、該細胞の培養を行い、該細胞を管理する
ことを特徴として細胞の培養方法を構成する。
〔産業上の利用分野〕
本発明は細胞の培養方法および装置に関する。
半導体集積回路、半導体レーザなどの半導体デバイスは
シリコン(Si)で代表される単体半導体やガリウム・
砒素(Ga−As)で代表される化合物半導体を基板と
し、これに薄膜形成技術、写真蝕刻技術(フォトリソグ
ラフィ)、半導体層形成技術などからなるマイクロエレ
クトロニツクス技術を駆使して作られている。
そして半導体ウェハ上に最小線幅がサブミクロンに及ぶ
微細パターンを備えたチップを形成し、これをスクライ
ブして分離することにより半導体デバイスが形成されて
いる。
さて、装置および部品の小型化の趨勢に対応し、半導体
デバイス形成に使用されている微細化技術はセンサなど
小型化が必要な他の分野にも使用されている。
例えば、加速度センサ、圧力センサなどがこれに当たる
そして、このような微細化素子ができる主な理由はSi
ウェハは異方性エツチングが可能であり、これにより寸
法精度のよい微細な加工かできるためである。
このようにマイクロエレクトロニックス技術を用いて基
板加工を行う技術はマイクロメカニズム(Micro−
mechanism)と言われている。
本発明はマイクロメカニズムを用いて形成した細胞の培
養装置と培養方法に関するものである。
〔従来の技術〕
生命現象の謎を分子の段階から探ろうとする分子生物学
は異常な速度で研究が進められている。
こ\で生体組織に機械的な処理を行ったり、酵素処理を
行って細胞塊を個々の球形細胞に分類すると共に分取し
、分取した細胞を動物細胞の場合にはイーグルの最少培
地のような培養液を加えて培養を行うことは通常行われ
ている手段である。
こ−で、従来はガラス又はプラスチックスよりなる培養
容器の中に分取した多量の細胞と培養液とを入れ、一定
の環境(温度、湿度)の許で培養を行っていた。
そして、個々の細胞の観察法としては画像処理により細
胞を識別すると共に、予めメモリに記録しである情報と
照らし合わせて研究か行われている。
すなわち、テレビカメラを用いて培養培地中の細胞を撮
像し、この画像入力を既に記録装置に入力しである画像
情報と対照し、細胞の形状などの特徴から識別した後、
すてに記録しであるこの細胞の情報と比較して研究を行
うと共に、新情報を追加入力することを行っている。
従って、細胞の識別に時間を要しており、また異種の細
胞を同時に培養したり、同種の細胞を培養条件を変えて
培養することが困難であった。
〔発明か解決しようとする課題〕
従来は、培養培地にある複数の細胞の内から必要とする
細胞をテレビカメラで撮像し、画像に現れる特徴から識
別すると共に、既にメモリに格納しである情報を表示装
置に表示し、比較検討すると共にデータを追加記録する
などの手段か採られていた。
しかし、この方法では細胞の識別に時間を要し、また同
時に異なった環境て細胞を培養し、比較観察ができない
ことか問題であった。
〔課題を解決するだめの手段〕
上記の課題はSiウェハ上にSiO□膜か形成されてお
り、このSiO□膜の一部に写真蝕刻技術を用いて窓開
けすると共に、この窓開は部に異方性エツチングを行っ
て方形のマイクロチャンバを形成し、このマイクロチャ
ンバの中に細胞と培養液とを供給した状態で、マイクロ
チャンバの番地および細胞の履歴を記録装置のメモリに
記録させた後、細胞の培養を行い、細胞を管理すること
を特徴として細胞の培養方法を構成することにより解決
することができる。
〔作用〕
本発明はマイクロメカニズムを用いてSiウェハ上に多
数のマイクロチャンバをマトリックス状に形成し、この
マイクロチャンバに一個づつ細胞と培養液とを入れて培
養を行うものである。
そして、マトリックス状に形成したマイクロチャンバに
個々に番地を付与し、このマイクロチャンバの番地と培
養履歴をメモリに記録しておき、培養を行うものである
そして、必要に応じて培養中の細胞を観察すると共に必
要とする情報を記録装置より引出し、比較検討と、情報
の追加を行うものである。
このようにすると、細胞の識別の手間がなくなり、また
同種の細胞を培養液を変えて同じ条件で培養することも
できるし、また異種の細胞を同種の培養液で同じ条件で
培養することができる。
〔実施例〕
実施例1: (マイクロチャンバの形成例)(100)
面を表面にもち、径5インチ、厚さ500μmのSiウ
ェハlを用い、これを水蒸気雰囲気中で1000°Cに
加熱するウェット酸化を行ってSiウェハ1の上に厚さ
が1μmのSiO□膜2を形成した。
(以上第1図へ) 次に、スピンコード法によりレジスト膜3を被覆した後
、ステップ・アンド・レビート法による縮小露光を行っ
て後、レジストを現像し、500μm角で縦、横のピッ
チが500μmの方形のレジスト穴4を横方向に70個
、縦方向に90個計6300個形成した。(以上同図B
) 次に、弗酸(HF)と弗化アンモニウム(NH,F)と
の混合液を用いてSiO□膜2をエツチングした後、苛
性カリ(KOH)の水溶液(濃度比1:1)を用いて深
さが300μmに達するまで異方性エツチングを行った
こ\で、SiはKOH水溶液、苛性ソーダ(NaOH)
水溶液、 FDP(エチレンジアミンとパイロカテコー
ル)混合液などのエツチング液に対しては原子の配列方
向によりエツチング速度が異なり、(110)面は最も
早くエツチングされ、(100)面では遅く、(111
)面では殆どエツチングされないと云う性質かある。
そのため、異方性エツチングを行うと、壁面が(111
)面が現れたピラミッド状の穴が開くが、エツチングを
底に達する前の300μmの深さで停止することにより
、底に平坦な(100)面をもつマイクロチャンバ5を
作ることかでた。
(以上同図C) 次に、このSiウェハ1上のレジスト膜3を硫酸(H2
SO4)水溶液で煮沸し剥離した後、水洗洗浄し乾燥す
ることにより第2図に示すように6300個のマイクロ
チャンバ5をもつ細胞培養装置が完成した。
実施例2: (細胞の培養例) 酵素を用いて生体より単離したたばこ(煙草)細胞をマ
イクロノズルを用いて一個づつマイクロチャンバ5に入
れた後に、このマイクロチャンバ5に第1表に示す培養
液を供給し、3o″C,5%炭酸ガス(Coz)環境下
で培養を行った。
なお、培養に当たっては、マイクロチャンバ5の番地(
座標)毎に煙草細胞の形状(大きさ)。
培養液の種類、培養日時などの情報を記録装置に記録し
ておいた。
そして、定時間経過毎に従来のようにテレビカメラで各
マイクロチャンバ毎に撮像して画像表示すると共に、情
報を記録装置より引き出して検討すると共に新情報を入
力し、 記録した。
第1表 〔発明の効果〕 本発明はSiウェハ上にマイクロメカニズムを用いて作
ったマイクロチャンバに細胞を一個づつ収容し、この情
報を記録装置のメモリに記録させ、随時、情報を引出し
て観察しながら培養を行うもので、本発明の実施により
能率よく生体培養を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係るマイクロチャンバ形成工程を示す
断面図、 第2図はマイクロチャンバを形成したSiウェハの平面
図、 である。 図において、 1はSiウェハ、      2はSiO2膜、3はレ
ジスト膜、     4はレジスト穴、5はマイクロチ
ャンバ、 である。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)シリコン・ウェハ(1)に異方性エッチングを行
    って複数のマイクロチャンバ(5)をマトリックス状に
    形成し、該マイクロチャンバ(5)の中に細胞と培養液
    とを供給した状態で、該マイクロチャンバ(5)の番地
    および該細胞の履歴を記録装置のメモリに記録させた後
    、該細胞の培養を行い、該細胞を管理することを特徴と
    する細胞の培養方法。
  2. (2)シリコン・ウェハ(1)上に酸化シリコン膜(2
    )が形成されており、該酸化シリコン膜の一部に写真蝕
    刻技術を用いて窓開けすると共に、該窓開け部に異方性
    エッチングを施して方形のマイクロチャンバ(5)が形
    成されていることを特徴とする細胞培養装置。
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