JPH0415937B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0415937B2 JPH0415937B2 JP57135945A JP13594582A JPH0415937B2 JP H0415937 B2 JPH0415937 B2 JP H0415937B2 JP 57135945 A JP57135945 A JP 57135945A JP 13594582 A JP13594582 A JP 13594582A JP H0415937 B2 JPH0415937 B2 JP H0415937B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- exposure
- workpiece
- frame
- transparent plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/02—Exposure apparatus for contact printing
- G03B27/04—Copying apparatus without a relative movement between the original and the light source during exposure, e.g. printing frame or printing box
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0073—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
- H05K3/0082—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the exposure method of radiation-sensitive masks
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、プリント基板等の被露光体であるワ
ークの露光操作方法に関するもので、さらに詳言
すれば、マスクをワークと一体的に取扱うことに
より、複数枚づつグループとなつて取扱われるワ
ークの露光操作の作業性を向上させることを目的
としたものである。
ークの露光操作方法に関するもので、さらに詳言
すれば、マスクをワークと一体的に取扱うことに
より、複数枚づつグループとなつて取扱われるワ
ークの露光操作の作業性を向上させることを目的
としたものである。
プリント基板等の被露光体であるワークは、所
定のパターンを有するマスクと組合さつて、この
マスクに描かれた所定のパターンを露光装置によ
り焼付けられるのであるが、一般に1つのマスク
のパターンは多数枚のワークに連続して露光され
るものであることから、ワークとマスクとは全く
別個に取扱われていた。
定のパターンを有するマスクと組合さつて、この
マスクに描かれた所定のパターンを露光装置によ
り焼付けられるのであるが、一般に1つのマスク
のパターンは多数枚のワークに連続して露光され
るものであることから、ワークとマスクとは全く
別個に取扱われていた。
すなわち、従来の露光操作は、露光装置の中心
部である露光部を開放して、この露光部の透明板
に目的とするマスクを手作業により定位置に組付
け固定しておき、この状態から所望枚数のワーク
を露光装置内に供給して、各ワークを個々にかつ
順に、前記透明板の定位置に組付け、次いで露光
し、しかる後、露光装置外に搬出して、所望枚数
の露光を達成していた。
部である露光部を開放して、この露光部の透明板
に目的とするマスクを手作業により定位置に組付
け固定しておき、この状態から所望枚数のワーク
を露光装置内に供給して、各ワークを個々にかつ
順に、前記透明板の定位置に組付け、次いで露光
し、しかる後、露光装置外に搬出して、所望枚数
の露光を達成していた。
上記した従来の露光操作方法は、一枚のマスク
により多数枚のワークを連続して露光する場合に
は、さほどの不都合を生じることはなかつたので
あるが、一枚(両面露光の場合には二枚)のマス
クにより、例えば20枚前後の少数のワークを露光
する場合には、マスクの透明板への組付け、取外
し作業が極めて面倒となるという欠点をもつてい
た。
により多数枚のワークを連続して露光する場合に
は、さほどの不都合を生じることはなかつたので
あるが、一枚(両面露光の場合には二枚)のマス
クにより、例えば20枚前後の少数のワークを露光
する場合には、マスクの透明板への組付け、取外
し作業が極めて面倒となるという欠点をもつてい
た。
すなわち、透明板は露光装置の心臓部である露
光部の中心に位置するものであるので、この透明
板を露光装置外に露出させるための開閉操作が面
倒であること、マスク組付け作業時には透明板が
露光装置外に露出されるために、この露出された
透明板および組付けられるマスクにホコリ等が附
着し易くなり、不良品の発生の機会が多くなるこ
と、透明板は露光部の中心に位置し、露光装置内
の各機構は、この透明板を中心に配置され、かつ
駆動されるために、透明板の周囲には各種の機構
が位置して充分な空間を確保するのが困難である
ため、この透明板に対する人手によるマスクの組
付け、取外し作業は極めて行ない難いこと、さら
にマスクにはその種類別を明示するために、周端
部に多数の符号が描かれているが、この符号を描
いたい周端部に取扱い時の指先の接触により手ア
カ等が付着して前記符号の判読が不能となつてし
まうような事態の発生を防止するため、マスクの
周端部は所定幅で取扱い時の指先でつまむ部分と
なつており、その内側に前記した符号を描くよう
にしなければならないので、マスクの大きさの割
にはパターンを描くことのできる有効面積が小さ
くなるということ等の種々の欠点、不都合、不満
があつた。
光部の中心に位置するものであるので、この透明
板を露光装置外に露出させるための開閉操作が面
倒であること、マスク組付け作業時には透明板が
露光装置外に露出されるために、この露出された
透明板および組付けられるマスクにホコリ等が附
着し易くなり、不良品の発生の機会が多くなるこ
と、透明板は露光部の中心に位置し、露光装置内
の各機構は、この透明板を中心に配置され、かつ
駆動されるために、透明板の周囲には各種の機構
が位置して充分な空間を確保するのが困難である
ため、この透明板に対する人手によるマスクの組
付け、取外し作業は極めて行ない難いこと、さら
にマスクにはその種類別を明示するために、周端
部に多数の符号が描かれているが、この符号を描
いたい周端部に取扱い時の指先の接触により手ア
カ等が付着して前記符号の判読が不能となつてし
まうような事態の発生を防止するため、マスクの
周端部は所定幅で取扱い時の指先でつまむ部分と
なつており、その内側に前記した符号を描くよう
にしなければならないので、マスクの大きさの割
にはパターンを描くことのできる有効面積が小さ
くなるということ等の種々の欠点、不都合、不満
があつた。
この上記した従来からの露光操作の欠点および
不満を解消すべく、最近、各マスクを個々に収納
したターレツトとワークを所望枚数づつ収納した
ターレツトとを積重状に昇降変位自在に格納した
収納装置を露光装置に隣接して設けておき、使用
するマスクの収納されているターレツトを所定位
置に昇降位置させた後、このターレツトを露光装
置内に前進させて透明板上の定位置に停止させ、
次いで露光装置の搬送機構によりマスクをターレ
ツト内から引き上げ、その間にターレツトを収納
装置内に後退復帰させ、前記搬送機構を下降させ
てマスクを透明板上の定位置に組付け、しかる後
収納装置内からワークを収納したターレツトを透
明板上の定位置まで前進させてマスクと同様に透
明板上の定位置に組付けてワークに対する露光を
行なうようにしたものが考え出されているが、確
かにこのものは透明板に対するマスクを組付けお
よび取出しを自動化できて、マスクの取扱い上に
おける種々の欠点、不満を解消することができる
のであるが、専用の収納装置とこの収納装置の動
作をプログラム制御するコンピユータが必要とな
るので、設備費が増大すると共に、露光装置運転
のための空間スペースが増大し、そして何よりも
各ワークを透明板上の定位置に組付けるのに、そ
の都度ワークを収納したターレツトが収納装置内
から透明板上に前進、後退移動しなければならな
いので、1枚のワークを露光するのに要する時間
が大きくなり、作業性が悪いという欠点をもつて
いる。
不満を解消すべく、最近、各マスクを個々に収納
したターレツトとワークを所望枚数づつ収納した
ターレツトとを積重状に昇降変位自在に格納した
収納装置を露光装置に隣接して設けておき、使用
するマスクの収納されているターレツトを所定位
置に昇降位置させた後、このターレツトを露光装
置内に前進させて透明板上の定位置に停止させ、
次いで露光装置の搬送機構によりマスクをターレ
ツト内から引き上げ、その間にターレツトを収納
装置内に後退復帰させ、前記搬送機構を下降させ
てマスクを透明板上の定位置に組付け、しかる後
収納装置内からワークを収納したターレツトを透
明板上の定位置まで前進させてマスクと同様に透
明板上の定位置に組付けてワークに対する露光を
行なうようにしたものが考え出されているが、確
かにこのものは透明板に対するマスクを組付けお
よび取出しを自動化できて、マスクの取扱い上に
おける種々の欠点、不満を解消することができる
のであるが、専用の収納装置とこの収納装置の動
作をプログラム制御するコンピユータが必要とな
るので、設備費が増大すると共に、露光装置運転
のための空間スペースが増大し、そして何よりも
各ワークを透明板上の定位置に組付けるのに、そ
の都度ワークを収納したターレツトが収納装置内
から透明板上に前進、後退移動しなければならな
いので、1枚のワークを露光するのに要する時間
が大きくなり、作業性が悪いという欠点をもつて
いる。
本発明は、上記した従来例における欠点、不都
合、不満を解消すべく創案されたもので、マスク
と、このマスクに対応する多数枚のワークとを組
として位置決めした状態でかつマスクを上位に位
置させた状態で1つの枠体内に収納し、この枠体
を露光装置内の定位置に前進位置させ、しかる後
露光装置側だけの動作により、上位のマスクの透
明板への組付けに次いで各ワークの透明板への組
付けおよび露光を順に達成するようにしたもので
ある。
合、不満を解消すべく創案されたもので、マスク
と、このマスクに対応する多数枚のワークとを組
として位置決めした状態でかつマスクを上位に位
置させた状態で1つの枠体内に収納し、この枠体
を露光装置内の定位置に前進位置させ、しかる後
露光装置側だけの動作により、上位のマスクの透
明板への組付けに次いで各ワークの透明板への組
付けおよび露光を順に達成するようにしたもので
ある。
以下、本発明を図面を参照して順に説明する。
本発明による露光操作方法は、露光装置1外か
ら露光装置1内の定位置に出入り自在に設けられ
た上面を開放した薄箱状となつた枠体12内に、
目的とするパターンを有するマスク13(このマ
スク13は片面露光の場合は1枚、両面露光の場
合は2枚となる)と、露光される所望枚数のワー
ク14とを予め位置合せした状態で積重状に収納
セツトしておく。
ら露光装置1内の定位置に出入り自在に設けられ
た上面を開放した薄箱状となつた枠体12内に、
目的とするパターンを有するマスク13(このマ
スク13は片面露光の場合は1枚、両面露光の場
合は2枚となる)と、露光される所望枚数のワー
ク14とを予め位置合せした状態で積重状に収納
セツトしておく。
この枠体12内に収納されるマスク13および
ワーク14は、まず下位の位置にワーク14が積
重状に収納されており、このワーク14の上位に
マスク13が位置している。
ワーク14は、まず下位の位置にワーク14が積
重状に収納されており、このワーク14の上位に
マスク13が位置している。
枠体12内に収納されたマスク13およびワー
ク14は、枠体13に対して正確に位置決めされ
ていると共に相互の位置関係も正確に位置決めさ
れている。
ク14は、枠体13に対して正確に位置決めされ
ていると共に相互の位置関係も正確に位置決めさ
れている。
このように予めマスク13およびワーク14を
定位置に収納した枠体12を露光装置1外から露
光装置1内の定位置まで適当な移動機構により前
進位置させる。
定位置に収納した枠体12を露光装置1外から露
光装置1内の定位置まで適当な移動機構により前
進位置させる。
枠体12が露光装置1内の定位置に位置したな
らば、まず露光装置1のマスク搬送機構5によ
り、枠体12内の上位に位置したマスク13を枠
体12内から取出し、露光装置1の主体である露
光部2の透明板4直上にレール6に沿つて搬送
し、この透明板4の定位置に取付ける。
らば、まず露光装置1のマスク搬送機構5によ
り、枠体12内の上位に位置したマスク13を枠
体12内から取出し、露光装置1の主体である露
光部2の透明板4直上にレール6に沿つて搬送
し、この透明板4の定位置に取付ける。
このマスク搬送機構5により透明板4上の定位
置にセツトされたマスク13の透明板4への不動
固定は、従来からの手段と同様に、バキユーム作
用を利用して達成する。
置にセツトされたマスク13の透明板4への不動
固定は、従来からの手段と同様に、バキユーム作
用を利用して達成する。
マスク13の透明板4への取付けが達成された
ならば、前記枠体12内からワーク搬送機構7に
より最上位のワーク14を取上げて、レール9に
沿つてすでにマスク13を定位置に取付けた透明
板4上に搬送し、この透明板4の定位置に組付け
る。
ならば、前記枠体12内からワーク搬送機構7に
より最上位のワーク14を取上げて、レール9に
沿つてすでにマスク13を定位置に取付けた透明
板4上に搬送し、この透明板4の定位置に組付け
る。
このワーク14の透明板4への組付けが達成さ
れたならば、通常の露光操作により、光源部3か
らの光の照射によつてセツトされたワーク14を
露光する。
れたならば、通常の露光操作により、光源部3か
らの光の照射によつてセツトされたワーク14を
露光する。
露光されたワーク14は、ワーク搬出機構8に
より透明板4から取外されて露光装置1外に取出
されて後処理される。
より透明板4から取外されて露光装置1外に取出
されて後処理される。
この枠体12内における最上位のワーク14に
対する露光操作が完了したならば、以下同様の操
作により枠体12内の上位のワーク14から順に
露光していく。
対する露光操作が完了したならば、以下同様の操
作により枠体12内の上位のワーク14から順に
露光していく。
枠体12に収納された全てのワーク14の露光
が完了したならば、前記マスク搬送機構5によ
り、透明板4に組付けられたマスク13を透明板
4から枠体12に移し換え、マスク13を戻され
た枠体12を露光装置1外に後退搬出すると共に
所定のマスク13およびワーク14を収納した次
の枠体12の搬入に対して待期する。
が完了したならば、前記マスク搬送機構5によ
り、透明板4に組付けられたマスク13を透明板
4から枠体12に移し換え、マスク13を戻され
た枠体12を露光装置1外に後退搬出すると共に
所定のマスク13およびワーク14を収納した次
の枠体12の搬入に対して待期する。
ところで、マスク搬送機構5、ワーク搬送機構
7そしてワーク搬出機構8は、バキユーム作用に
よりマスク13またはワーク14を吸着し、レー
ル6および9に沿つて移動させてマスク13およ
びワーク14の移動を達成するのが位置合せの保
持およびマスクおよびワーク14に対する取扱い
上有利である。
7そしてワーク搬出機構8は、バキユーム作用に
よりマスク13またはワーク14を吸着し、レー
ル6および9に沿つて移動させてマスク13およ
びワーク14の移動を達成するのが位置合せの保
持およびマスクおよびワーク14に対する取扱い
上有利である。
このように、マスク搬送機構5とワーク搬送機
構7とは全く同一の構成で良いので、両機構を兼
用しても差し支えないのであるが、一般にマスク
13はワーク14よりも寸法が大きいこと、およ
び枠体12に収納される状態が、マスク13を直
接ワーク14上に積重しない方が有利であること
等の理由により、図示実施例のようにこのマスク
搬送機構5とワーク搬送機構7とは別個に設ける
のが良い。
構7とは全く同一の構成で良いので、両機構を兼
用しても差し支えないのであるが、一般にマスク
13はワーク14よりも寸法が大きいこと、およ
び枠体12に収納される状態が、マスク13を直
接ワーク14上に積重しない方が有利であること
等の理由により、図示実施例のようにこのマスク
搬送機構5とワーク搬送機構7とは別個に設ける
のが良い。
同様に、ワーク搬送機構7とワーク搬出機構8
とを単一の機構により兼用させても良いのである
が、露光操作の作業時間をより短縮して効率の良
い露光操作を得るには、図示実施例の如く、別個
に設けるのが有利である。
とを単一の機構により兼用させても良いのである
が、露光操作の作業時間をより短縮して効率の良
い露光操作を得るには、図示実施例の如く、別個
に設けるのが有利である。
なお、図示実施例の場合、露光されたワーク1
4は一旦パレツト15上に乗載されて、このパレ
ツト15を露光装置1の出口11から露光装置1
外に搬出するようにしているが、これは従来の露
光装置と同様にベルトコンベアを利用して搬出す
るようにしても良い。
4は一旦パレツト15上に乗載されて、このパレ
ツト15を露光装置1の出口11から露光装置1
外に搬出するようにしているが、これは従来の露
光装置と同様にベルトコンベアを利用して搬出す
るようにしても良い。
このように、本発明による露光操作方法は、予
め1つの枠体12に目的とするパターンを有する
マスク13と、露光されるべき所望枚数のワーク
14とを一緒に収納し、この枠体12を露光装置
1内に供給することにより、一組のマスク13と
ワーク14とを一体的にかつ連続して取扱うこと
ができ、これがためマスク13の取付けとワーク
14の露光とを1つの露光操作にまとめることが
できる。
め1つの枠体12に目的とするパターンを有する
マスク13と、露光されるべき所望枚数のワーク
14とを一緒に収納し、この枠体12を露光装置
1内に供給することにより、一組のマスク13と
ワーク14とを一体的にかつ連続して取扱うこと
ができ、これがためマスク13の取付けとワーク
14の露光とを1つの露光操作にまとめることが
できる。
すなわち、従来の露光操作は、露光装置に対す
るマスクの供給およびセツトと、ワークの露光装
置に対する供給およびセツトとは全く別個の独立
した操作となつていたので、露光装置に対するマ
スクの供給およびセツトの作業が完了するまでの
間、ワークの供給およびセツトを待期させておか
なければならず、かつマスクとワークの供給およ
びセツト作業は全く別個の作業であるために、マ
スクおよびワークの個々に位置合せを行なわなけ
ればならず、そのため各マスクおよびワーク毎に
位置合せの確認作業が必要となり、このため作業
時間が長くなると共に多くの作業工程を要するも
のとなつていたが、本発明においては、露光装置
1に、予め相互位置関係を正確に設定および規制
されたマスク13と所望数のワーク14とを単一
の枠体12に収納して露光装置1内の定位置に供
給するので、マスク13およびワーク14の露光
装置1への供給は1回の操作で良く、かつ露光装
置1内における位置合せ作業を要しないですむこ
とになる。
るマスクの供給およびセツトと、ワークの露光装
置に対する供給およびセツトとは全く別個の独立
した操作となつていたので、露光装置に対するマ
スクの供給およびセツトの作業が完了するまでの
間、ワークの供給およびセツトを待期させておか
なければならず、かつマスクとワークの供給およ
びセツト作業は全く別個の作業であるために、マ
スクおよびワークの個々に位置合せを行なわなけ
ればならず、そのため各マスクおよびワーク毎に
位置合せの確認作業が必要となり、このため作業
時間が長くなると共に多くの作業工程を要するも
のとなつていたが、本発明においては、露光装置
1に、予め相互位置関係を正確に設定および規制
されたマスク13と所望数のワーク14とを単一
の枠体12に収納して露光装置1内の定位置に供
給するので、マスク13およびワーク14の露光
装置1への供給は1回の操作で良く、かつ露光装
置1内における位置合せ作業を要しないですむこ
とになる。
また、予め枠体12内に収納されるマスク13
とワーク14とは、ワーク14の上位にマスク1
3が積重状に収納されているので、露光装置1内
におけるマスク13およびワーク14の透明板4
への組付けは、単に枠体12に収納された上位の
ものから順に透明板4に取付ければ良いことにな
り、マスク13またはワーク14の透明板4への
組付けのために動作する露光装置1の搬送機構の
制御形態が極めて単純となると共に容易となる。
とワーク14とは、ワーク14の上位にマスク1
3が積重状に収納されているので、露光装置1内
におけるマスク13およびワーク14の透明板4
への組付けは、単に枠体12に収納された上位の
ものから順に透明板4に取付ければ良いことにな
り、マスク13またはワーク14の透明板4への
組付けのために動作する露光装置1の搬送機構の
制御形態が極めて単純となると共に容易となる。
さらに、マスク13およびワーク14を収納し
た枠体12は、露光装置1の主体部分である露光
部2内に侵入位置する必要がないので、この種々
の機構が配置されている露光部2の構造を複雑に
することがなく、またマスク13およびワーク1
4だけが出し入れされるので、ホコリ、ゴミ等の
露光部2内への侵入する機会を大幅に減少させる
ことができ、これによつて良好な露光条件と露光
動作とを得ることができる。
た枠体12は、露光装置1の主体部分である露光
部2内に侵入位置する必要がないので、この種々
の機構が配置されている露光部2の構造を複雑に
することがなく、またマスク13およびワーク1
4だけが出し入れされるので、ホコリ、ゴミ等の
露光部2内への侵入する機会を大幅に減少させる
ことができ、これによつて良好な露光条件と露光
動作とを得ることができる。
またさらに、マスク13およびワーク14の枠
体12に体する位置決めされた組付けは、露光装
置1外の適当な箇所で、時間に制約されることな
く、有利な作業機器を用いて行なうことができる
ので、マスク13とワーク14との枠体12内に
おける位置決めが極めて正確に達成できると共に
その位置決め作業自体も容易であり、さらに適当
な機器を用いることによりマスク13の周端部に
手アカをつけずにすむのでマスク13の全面をよ
り有効に利用することができることになる。
体12に体する位置決めされた組付けは、露光装
置1外の適当な箇所で、時間に制約されることな
く、有利な作業機器を用いて行なうことができる
ので、マスク13とワーク14との枠体12内に
おける位置決めが極めて正確に達成できると共に
その位置決め作業自体も容易であり、さらに適当
な機器を用いることによりマスク13の周端部に
手アカをつけずにすむのでマスク13の全面をよ
り有効に利用することができることになる。
所で、本発明は、マスク13と所望枚数のワー
ク14とを1つの枠体12内に一緒に収納して露
光装置1内に供給するものであることから、要求
されるパターンを少数枚のワーク14に露光させ
る場合には極めて有利となる。
ク14とを1つの枠体12内に一緒に収納して露
光装置1内に供給するものであることから、要求
されるパターンを少数枚のワーク14に露光させ
る場合には極めて有利となる。
以上の説明から明らかな如く、本発明による露
光操作方法は、マスクとワークと同等に、かつ一
体的に取扱うことができるので、露光装置1に対
するマスクの取扱いが極めて容易にかつ正確に達
成することができ、また良好なワークの露光を達
成することができ、さらに露光装置そのものの構
造を複雑化することがないので、安価に実施する
ことができる等多くの優れた効果を有するもので
ある。
光操作方法は、マスクとワークと同等に、かつ一
体的に取扱うことができるので、露光装置1に対
するマスクの取扱いが極めて容易にかつ正確に達
成することができ、また良好なワークの露光を達
成することができ、さらに露光装置そのものの構
造を複雑化することがないので、安価に実施する
ことができる等多くの優れた効果を有するもので
ある。
第1図は、本発明の説明に供する一般的な露光
装置の構成簡略図である。 符号の説明、1……露光装置、2……露光部、
4……透明板、5……マスク搬送機構、7……ワ
ーク搬送機構、8……ワーク搬出機構、12……
枠体、13……マスク、14……ワーク。
装置の構成簡略図である。 符号の説明、1……露光装置、2……露光部、
4……透明板、5……マスク搬送機構、7……ワ
ーク搬送機構、8……ワーク搬出機構、12……
枠体、13……マスク、14……ワーク。
Claims (1)
- 1 所望枚数のワークを積重状に位置決めして収
納保持すると共に、前記ワークに対するマスクを
前記ワークの上位に位置決めして収納保持した枠
体を露光装置内の定位置に前進位置させ、次いで
該露光装置の搬送機構により前記枠体に収納され
たマスクを露光部の透明板の定位置に搬送組付け
し、しかる後前記露光装置の搬送機構により、前
記枠体内から順々に各ワークを前記透明板の定位
置に組付けて露光し、かつ前記露光装置外に搬出
し、該各ワークの露光が完了したならば、前記マ
スクを前記搬送機構により前記透明板から前記枠
体内に搬送収納し、該マスクを収納した枠体を前
記露光装置外に後退位置させる露光操作方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57135945A JPS5962858A (ja) | 1982-08-04 | 1982-08-04 | 露光操作方法 |
| US06/520,320 US4541714A (en) | 1982-08-04 | 1983-08-04 | Exposure control method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57135945A JPS5962858A (ja) | 1982-08-04 | 1982-08-04 | 露光操作方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5962858A JPS5962858A (ja) | 1984-04-10 |
| JPH0415937B2 true JPH0415937B2 (ja) | 1992-03-19 |
Family
ID=15163512
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57135945A Granted JPS5962858A (ja) | 1982-08-04 | 1982-08-04 | 露光操作方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
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| JP (1) | JPS5962858A (ja) |
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1982
- 1982-08-04 JP JP57135945A patent/JPS5962858A/ja active Granted
-
1983
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4541714A (en) | 1985-09-17 |
| JPS5962858A (ja) | 1984-04-10 |
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