JPH04169596A

JPH04169596A - ステロイド誘導体の製造方法

Info

Publication number: JPH04169596A
Application number: JP2291999A
Authority: JP
Inventors: Yoji Tachibana; 陽二橘
Original assignee: Nisshin Seifun Group Inc
Current assignee: Nisshin Seifun Group Inc
Priority date: 1990-10-31
Filing date: 1990-10-31
Publication date: 1992-06-17
Anticipated expiration: 2014-10-18
Also published as: JP2965262B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】本発明は、Ｉａ、２５−ジヒドロキシ−２０−オキサ−
２１−ノルビタミンＤ３、ｌａ、２５−ジヒドロキシ−
２２−オキサビタミンＤ、およびその誘導体を製造する
際の中間体としての有用性が期待されるｌａ、３β−ジ
アセトキシ−アンドロスタ−５，７−ゲニン−１フーオ
ールまたはｌａ、３β−ジアセトキシ−アンドロスタ−
５，７−ゲニン−１フーオンの新規な製造法並びに上記
化合物の製造過程で得られる新規な中間体化合物に関す
る。

〔従来の技術〕

ｌａ、２５−ヒドロキシビタミンＤ、は高い生物活性を
有する活性型ビタミンＤ、であることが知られている。

さらに、最近になっていわゆるビタミンＤ活性の他に分
化誘導作用をも有することが解明された。しかしながら
、従来の活性型ビタミンＤ３を分化誘導作用に基づいて
制ガン剤として使用する場合、そのビタミンＤ活性はか
えって副作用となる。従ってこれら作用の分離を目的と
してビタミンＤ活性を有しない活性型ビタミンＤ誘導体
とその合成法の研究が行われ、その代表的なものとして
１σ、２５−ジヒドロキシ−２０−オキサ−２１−ノル
ビタミンＤ！（Ｎ。

Ｋｕｂｏｄｅｒａ、　Ｃｈｅｍ、　Ｐｈａｒｍ、　Ｂｕ
ｌｌ−＋　３４＋　２２８６（１９８６））あるいは１
σ、２５−ジヒドロキシ−２２−オキサビタミンＤ３（
Ｅ、　Ｍｕｒａｙａｍａ、　Ｃｈｅｍ、　Ｐｈａｒｍ。

Ｂｕｌｌ、、　３４．４４１０（１９８６））が知られ
ている。

これら活性型ビタミンＤ３の合成は一般にそのプロビタ
ミンＤ、を光照射ついで生成したプレビタミンＤ、を熱
異性化することにより行われている。プロビタミンＤ３
の合成においては、ステロイド骨格への１σ位水酸基の
導入と、５，７−ジエン部の構築がキーステップとなる
。

上記活性型ビタミンＤ３の合成はデヒドロエピアンドロ
ステロンを酵素処理して得られる１σ−ヒドロキシーデ
ヒドロエビアンドロステロンを共通の中間体として５，
７−ジエン部を構築した後側鎖を導入あるいは側鎖を合
成後、５，７−ジエン部を構築することによって行われ
ている。

しかし、上記出発物質のデヒドロエピアンドロステロン
の１０位水酸化は収率も低く、処理も困難である。また
、通常の５，７−ジエンの構築法（ブロム化膜ＨＢｒ）
はよく知られている様に異性体である４、６−ジエンを
大量に副生じ、一般にその収率は低くかつ精製も困難で
ある。

〔解決すべき技術課題〕

従って活性型ビタミンＤ誘導体を効率よく得るためには
プロビタミンＤ化合物のより簡便でかつまた高収率で目
的物を得る合成方法とそのだめの中間体化合物の開発が
求められている。

〔問題を解決するための技術的手段〕

本発明者らは、これらの課題を解決すべく鋭意研究を重
ねた結果、Ｉａ位に水酸基を有する活性型ビタミンＤの
プロ体合成における重要中間体である次の式（ｘｍ）お
よび（ＸＩＶ）で示される化合物と、その新規な製造方
法とを見い出して本発明を完成したのである。

すなわち本発明は次の式で示される１７−ヒトロキシトリエノン化合物を出発物
質としてこれまでに知られていない反応工程を経て比較
的少ない工程でかつ高収率で上記した式（ｘｍ）および
（ｘｒｖ）を製造する方法、並びにこの方法の中間過程
で、得られる新規な化合物に関するものである。

本発明の方法は次の式（１）で示される１７−ヒトロキシトリエノン化合物の１７位
の水酸基を保護して次の式（Ｉ［）（但しＸは水酸基の
保護基である）で示される化合物とし、次いでこの式（
ｎ）の化合物をインプロペニルアセテートを用いるエノ
ールアセチル化反応に付して次の式（Ｉ［［）で示される１、３，５．７−テトラエン化合物とし、次
いでこの式（Ｉ［（）の化合物を還元反応に付して次の
式（ＩＶ）で示される３β−ヒドロキシ−１，５，７−トリエン化
合物とし、次いでこの式（Ｉｌ／）の化合物を４−フェ
ニル−！、２．４−　）リアゾリン−３，５−ジオン（
以下ＰＴＡＤと略称する）と反応させて次の式で示され
るディールス−アルダ−型付加反応生成物である化合物
とし、次いでこの式（Ｖ）の化合物の３位の水酸基をか
さ高い保護基で保護して次の式（■）（但しＹはかさ高
い水酸基の保護基である）で示される化合物とし、引き続きこの式（Ｖｌ）の化合
物の１７位の保護基を除去して次の式（■）で示される
化合物とし、引き続きこの式（■）の化合物の１７位水
酸基をあとの工程で使用する水素化アルミニウムアルカ
リ金属または水素化はう素アルカリ金属に安定である保
護基で保護して次の式（■）（ｆｆｉＬＺは水素化アルミニウムアルカリ金属または
水素化はう素アルカリ金属に安定な水酸基の保護基であ
る）で示される化合物とし、次いでこの式（■）の化合物を
エポキシ化試剤で処理して次の式（［）で示される１σ
、２σ−エポキシ化合物とし、次いでこの式（ＴＩ）の
化合物の３位の水酸基の力）さ高い保護基を除去して次
の式（Ｘ）で示される化合物とし、そして引き続きこの式（Ｘ）の
化合物を水素化アルミニウムアルカリ金属または水素化
はう素アルカリ金属を用いる還元反応に付して次の式（
ｒｌ）で示される５、７−ジエン化合物とし、次いでこの式（
Ｕ）の化合物の１位および３位の水酸基をアセチル化反
応に付して次の式（ＩＩ）で示される化合物とし、次い
でこの式（ｆｆ）の化合物の１７位の保護基を除去して
次の式（ｘｍ）で示される１σ、３β−ジアセトキシ−
アンドロスタ−５，７−ジエン−１フーオールを得るか
、更にこの式（ＸＩ［［）の化合物を酸化して次の式（
ＸＩＶ）で示されるｌα、３β−ジアセトキシ−アンドロスタ−
５，７−ゲニン−１フーオンを得ることを特徴とするも
のである。

上記の方法において反応工程の中間において得られる化
合物（Ｉ）、（ＩＶ）、（Ｖ）、（ＶＩ）、（■）、（
■）、（■）、（Ｘ）、（ｎ）および（ｆｆ）で示され
る化合物は文献未載の新規化合物である。

上記した本発明方法の具体的な反応操作において、出発
化合物の式（Ｉ）の化合物はその１７位の水酸基がはじ
めに保護されるが、この保護基にはその後の反応処理に
おける酸性条件下で安定であるような基、例えばアセチ
ル基、ベンゾイル基、ベンジル基等を用いることが可能
である。しかしながら、反応性および脱離性の容易さを
考慮するとアセチル基が好ましい。このアセチル化は慣
用の無水酢酸−ピリジン、塩化アセチル−ピリジンなど
を用いて容易に行うことができる。このようにして得ら
れた式（Ｉｆ）の化金物は酸性条件下においてインプロ
ペニルアセテートを用いるエノールアセチル化反応に付
されて式（ＩＩＩ）のテトラエン化合物とされる。ここ
で反応を酸性条件とするために用いられる酸としてはパ
ラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸などがあげら
れ、これらは式（Ｉｆ）の化合物に対して０．１〜２．
０当量の量で用いられ、また、インプロペニルアセテー
トは１〜５０倍当量の量で用いられる。この反応は一般
に有機溶媒中で還流下に行うことができ、また反応体の
インプロペニルアセテート自体を溶媒として使用するこ
ともできる。

このようにして得られた式（ＩＩ［）の化合物は、次い
で１７位の水酸基の保護基を分解しないような還元剤例
えばＮａＢＨイＣａ（ＢＨａ）ｚ、Ｚｎ（ＢＨ，）、等
を用いて還元処理して式（ＴＶ）の３β−ヒドロキシ−
１，５，７−トリエン化合物を生成させる。

得られた式（ＩＶ）の化合物をＰＴＡＤと反応させて式
（Ｖ）のディールス−アルダ−を付加反応生成物とし、
次いでこの生成物の３位の水酸基をかさ高い保護基、例
えばｔ−ブチルジメチルシリル基で保護して式（ＶＩ）
の化合物とし、この式（ＶＩ）の化合物の１７位の保護
基を除去（例えばアセチル基の場合、水酸化カリウムを
用いて加水分解）して式（■）の化合物とした後、その
水酸基をさらに別の保護基で保護して式（■）の化合物
とする。この場合の保護基としては次の工程で使用され
る水素化アルミニウムアルカリ金属または水素化はう素
アルカリ金属に安定であるような基、例えばテトラヒド
ロピラニル基、ベンジル基、モノメトキシメチル基等が
用いられる。この工程は好ましくはピリジニウムパラト
ルエンスルホネート（以下ＰＰＴＳと略称する）の存在
下に、ジヒドロピランを用いて処理して１７位の水酸基
をテトラヒドロピラニルエーテルとして保護することで
行われる。

次いでこの式（■）の化合物はエポキシ化Ｅ剤、例えば
ｍ−クロロ過安息香酸で処理して選択的に式（ｆｆ）の
σ−エポキシ化合物とされる。

この式（ＩＩ）の化合物は次いでその３位の保護基を除
去して式（Ｘ）の化合物とされる。この脱保護工程は例
えば保護基がｔ−ブチルジメチルシリル基である場合、
Ｂｕ４ＮＦのテトラヒドロフラン溶液で処理することで
行われる。

次いでこの式（Ｘ）の化合物は水素化アルミニウムアル
カリ金属または水素化はう素アルカリ金属、例えばＬｉ
ＡＱＨイＮａＡｆｆＨ，、ＫＡ１２ＨイＬｉＢＨイＮａ
ＢＨいＫＢＨ，などで還元して式（ＩＩ）の化合物とさ
れる。

この式（ｎ）の化合物は慣用方法、例えば無水酢酸−ピ
リジン、または塩化アセチル−ピリジンを用いてアセチ
ル化して式（ｆｆ）の化合物とされる。

このようにして得られた式（ｒｆＩ）の化合物Ｊこつい
て１７位の保護基が除去される。例えば保護基がテトラ
ヒドロピラニル基の場合、ＰＰＴＳまたはパラトルエン
スルホン酸の存在下にエタノール中処理することにより
この保護基は脱離し、かくして目的化合物の１つである
式（ＸＩ［［）の化合物、すなわち、ｌα、３β−ジア
セトキシ−アンドロスタ−５，７−ジエン−１フーオー
ルが得られる。

本発明の方法に従って更に式（ｘｍ）の１７−オール化
合物はピリジニウムクロロクロメート（ＦＣＣ）または
ピリジニウムジクロロクロメート（ＰＤＣ）などを用い
る酸化処理に付し、目的化合物の他の１つである式（ｘ
ｒｖ）で示される化合物、１６．３β−ジアセトキシ−
アンドロスタ−５，７−ジエン−１フーオンを得ること
ができる。

本発明の方法を具体的な反応試薬を用いる反応によって
例示すると、次の反応スキームで示される。

以下に本発明を実施例によって更に詳細に説明するが、
これらの実施例は本発明を具体例によって説明するため
の目的で記載するものであって、これらによって本発明
は限定的に解釈されるものではない。

実施例　１３．１７−ジアセトキシ−アンドロスター１．３．５．
７−テトラエン（化合物■）１７−アセトキシ−アンドロスター１．４．６−ドリエ
ンー３−オン（化合物Ｉ［）６．５９をインプロペニル
アセテート（６５ｒａＩ２）酢酸ブチル（１３０ｍ１２
）に溶解し、パラトルエンスルホン酸（３，５９）　ヲ
加え、１０時間還流下に加熱した反応混合物を重ソウ水
、ブラインで洗浄後、乾燥しくＭｇ５０４）、溶媒を留
去した。残留物をメタノールより結晶化し、化合物■を
３．８ｇ得た（５２％）。

融点１６０〜１６１’ｏ　；　ｍ／ｚ３６９（Ｍつ、３
０９（Ｍ”−ＣＨｌＣＯＯＨ）。

２４９　（３０９−ＣＨｓＣＯＯＨ）　；　’ＨＮＭＲ
（ＣＤＣＪ）δ５．５７〜６．０４（５Ｈ，ｍ、Ｈ−１
，Ｈ−２，Ｈ−４，Ｈ−６，Ｈ−７）、４．７５（ＩＨ
。

ｍ、Ｈ−１７）、２．０６．２．２０（６Ｈ，ｓ、Ｃ０
ＣＨ５）。

実施例　２１７−アセトキシ−３β−ヒドロキン−５σ、８σ−（
３，５−ジオキソ−４−フェニル−１，２，４−トリア
シリジノ）−アンドロスタ−１，６−ジエン（化合物■
）塩化カルシウム（２０９）をメタノール（ｌｏＯｍｆｆ
）に溶解し、Ｏ〜−５℃に冷却しながら、これに水素化
はう素ナトリウム（ｌｈ）のエタノール溶液（１５０ｍ
ｆｆ）を滴下して加え、同温度で１時間保つｔこ　。

次いでこのようにして得られた混合物に実施例１で得た
化合物（ＩＩＩ　）　（３，８９）のエーテル溶液（１
５０＝Ｑ）を−１０”−−１５°Ｃで滴下して加え、同
温度で２時間、撹拌した後、室温に一夜保った。

ついで５０％酢酸水溶液を加えて過剰の試薬を分解後酢
酸エチルで抽出し、抽出液を重ソウ水、ブラインで洗浄
した。

このようにして得られた溶液に４−フェニル−１，２，
４−トリアシリジン−３，５−ジオンを溶液の色が赤く
なるまで加えた後、酢酸エチルを留去した。残留物をン
リカゲルクロマトグラフィー（溶出液：酢酸エチル／ク
ロロホルム−１／９）で精製し、化合物（Ｖ）を４．２
ｇ得た（８０％）。

ｍ／ｚ　３２９（Ｍ”−１７５）　；　’ＨＮＭＲ（Ｃ
ＤＣＬ）δ７．４０（５Ｈ，ｍ。

ｃ＠Ｈｓ）、　６．２９．６．４３（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ
□８．ＯＨｚ、Ｈ−６，Ｈ−７）。

５．７１　（２Ｈ，ｓ、Ｈ−１，Ｈ−２）、　５．００
　（ＩＨ，ｔ、Ｈ−３）、　４．７６（ＩＨ，ｔ、Ｈ４
７）、　２．０４（３Ｈ，ｓ、Ｃ０ＣＨｓ’）。

実施例　３１７−アセトキシ−３β−ｔ−ブチルジメチルシリロキ
シ−５ａ、８ａ　−（３，５−ジオキソ−４−フェニル
−１，２，４−）リアシリジノ）−アンドロスタ−１，
６−ジエン（化合物■）実施例２で得られた化合物Ｖ　（４，２ｇ）をジメチル
ホルムアミド（２０＋＋ＩＱ）に溶解し、ｔ−ブチルジ
メチルシリルクロライド（２，１ｇ）およびイミダゾー
ル（２，１ｇ）を加え、４０℃で１時間保持した。

反応混合物をエーテルでＮＩＩｆ：ｉシ、ブラインで洗
浄後、乾燥した（ＭｇＳＯａ）。エーテルを留去し、残
留物にメタノールを加えると結晶が析出した。

結晶を濾過して化合物■を４．０ｇ得た（７８％）。

融点２０５〜２０６℃；ｍ／ｚ　４４３　（Ｍ”−１７
５）；　　’ＨＮＭＲ（ＣＤ（４３）δ７．４１　（５
Ｈ，ｍ、Ｃ−Ｈ５）、　６．２８．６−４１（２Ｈ。

ＡＢｑ、Ｊ□８．ＯＨｚ、Ｈ−６，Ｈ−７）、　５．７
０（２Ｈ，ｓ、Ｈ−１，Ｈ−２）。

４．９８（ＩＨ，ｍ、Ｈ−３）、　４．７６（ＩＨ，ｍ
、Ｈ−１７）、　２．０３（３Ｈ，ｓ。

Ｃ０ＣＨ３”）。

実施例　４３β−ｔ−ブチルジメチルシリロキシ−５σ、８α−（
３，５−ジオキソ−４−フェニル−トリアシリジノ）−
アンドロスタ−１，６−ゲニン−１フーオール（化合物
■）実施例３で得られた化合物ＶＩ　（４，０ｇ）を水酸化
カリウム（２，０９）を含むエタノール（５０＋ｎｆｆ
）に溶解し、室温で３０分間撹拌しｔ；。酢酸エチルで
抽出し、ブラインで洗浄後、溶媒を留去した。化合物■
を３．４ｇ得た（粉末）（９０％）。

ｍ／ｚ　４０１（Ｍ”−１７５）、３８３（４０１−ｎ
、ｏ）　；　’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ（２ｓ）δ７．４０（
５Ｈ，ｍ、Ｃ５Ｈｓ）、６．２４．６−４６（２Ｈ，Ａ
Ｂｑ、ＪＪ−ＯＨｚ、Ｈ−６，Ｈ−７）、　５．６９（
２Ｈ，ｓ、Ｈ−１，Ｈ−２）、　４．９４（ＩＨ，ｔ。

Ｈ−３）、　３．７６（ＩＨ，ｍ、Ｈ−１７）。

実施例　５３β−ｔ−ブチルジメチルシリロキシ−５α、８α−（
３，５−ジオキソ−４−フェニル−１，２，４−トリア
シリジノ）−１７−チトラヒドロビラニロキシーアンド
ロスター１，６−ジエン（化合物■）実施例４で得た化
合物■（３，４ｇ）をジクロロメタン（５０ｍ１２）に
溶解し、ジヒドロビラン（１，５ｇ）、ピリジニウムバ
ラトルエンスルホナート（３００１ＩＩｇ）を加え、室
温で４時間撹拌した。ブラインで洗浄後、乾燥しくＭｇ
５Ｏ＜）、ジクロロメタンを留去した。化合物■を３，
６ｇ得た（オイル）（９２％）。

ｍ／ｚ　４８５（Ｍ”−１７５）、４０１（４８５−Ｔ
ＨＰ）；’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＩ２ｓ）８７．４０　（５
Ｈ，ｍ、ｃａＨｓ）、　　６．２６．　６−４４　（２
Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、Ｈ−６，Ｈ−７）、　　
５．６６　（２Ｈ，ｓ、Ｈ−１，Ｈ−２）、　　４．９
４（ＩＨ，ｔ、Ｈ−３）、　　４．５７（ＩＨ，ｓ、Ｔ
ＨＰ）、　　３．８０（２Ｈ，＋ａ、ＴＨＰ。

Ｈ−１７）、３．４９（ＩＨ，ｍ、ＴＩＰ）。

実施例　６３β−ｔ−ブチルジメチルシリロキシ−１σ、２σ−エ
ポキシ−５α、８σ−（３，５−ジオキソ−４−７エニ
ルー１．２．４−　トリアシリジノ）−１７−チトラヒ
ドロビラニロキシーアンドロスター６−エン（化合物■
）実施例５で得た化合物■（３，６ｇ）をクロロホルム（
１００講１２）に溶解し、ｍ−クロロ過安息香酸（４，
０ｇ）を加え、−夜室温で撹拌した。反応混合物を１０
％Ｒｒｊｉカリウム水溶液、次いでグラインで洗浄後、
乾燥しくＭｇ５Ｏａ）、クロロホルムを留去した。化合
物■を３，５ｇ得た（オイル）（９５％）。

ｍ／ｚ　５０１（Ｍ”−１７５）；　ＩＨＮＭＲ（ＣＤ
ＣＱ３）δ　７−４１（５Ｈ，ａ＋。

Ｃ１Ｈｓ）、６．２１，６．４６（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝
８．０Ｈｚ、Ｈ−６，Ｈ−７）。

５．０１（ＩＨ，ｍ、Ｈ−３）、４．６２（ＩＨ，ｓ、
ＴＨＰ）、３．８０（２Ｈ，ｍ。

ＴＨＰ、Ｈ−１７）、３−５０　（ＩＨ，ｍ、ＴＨＰ）
、３．２２（２Ｈ，ｍ、Ｈ−１゜Ｈ−２）。

実施例　７１α、２σ−エポキシ−３β−ヒドロキシ−５σ。

８α−（３，５−ジオキソ−４−７エニルー１．２．４
−トリアシリジノ）−１７−チトラヒドロビラニロキシ
ーアンドロスター６−エン（化合物Ｘ）実施例６で得た
化合物（ＩＩ　８３．５ｇ）をテトラヒドロフラン（５
０ｍｆｆ）に溶解し、これに１Ｍテトラブチルアンモニ
ウムフルオライド（テトラヒドロフラン溶液）（１５ｍ
１２）を加え、室温で４時間撹拌した。反応混合物を酢
酸エチルで抽出し、ブラインで洗浄後溶媒を留去した。

残留物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出液：酢酸
エチル、クロロホルム−１７９）で精製して化合物（Ｘ
）を２．０ａ得た（オイル）（７０％）。

ｍ／ｚ　　３８７（Ｍ”−１７５）；　　’ＨＮＭＲ（
ＣＤＣＩ２ｘ）δ７．４１（５Ｈ，ｍ。

Ｃ１Ｈｓ）、６．２３，６．４７（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝
８．０Ｈｚ、Ｈ−６，Ｈ−７）。

５．０３（ＩＨ，ｔ、Ｈ−３）、４．６３（ｌＨ，ｓ、
ＴＨＰ）、３．８３（２Ｈ，ｍ。

ＴＨＰ、Ｈ−１７）、３．５１　（ＩＨ，ｍ、ＴＨＰ）
、３．２３（２Ｈ，ｍ、Ｈ−１゜Ｈ−２）。

実施例　８１７−チトラヒドロビラニロキシーアンドロスター５．
７−ジユンー１ａ、３β−ジオール（化合物ＩＩ）実施例７で得た化合物（Ｘ　Ｘ２．Ｏｇ）のテトラヒド
ロフラン溶液（４０ｍＱ）をＬｉＡ＜２Ｈ４（４，０９
）を含むテトラヒドロ７ラン溶液（ｌｏＯ＋ｎ（２）に
滴下して加え、さらに１時間加熱還流した。反応物に水
を加えて過剰のＬｉＡｌ２Ｈ，を分解したのち、固形物
を濾過して除きクロロホルムで抽出した。抽出液をブラ
インで洗浄し、乾燥した（　Ｍｇ５ｏ４　）。化合物（
ＩＩ）を９３０ｍｇ得た（オイル）（６７％）。

ｍ／ｚ　３８９（Ｍ”）；　’ＨＮＭＲＣＣＤＣＱｓ）
δ　５．４１．５．７６（２Ｈ。

ｍ、Ｈ−６，Ｈ−７）、４．７０（ＬＨ，ｍ、ＴＨＰ）
、３．９４（ｌＨ，ｍ、ＴＨＰ）。

３．８０（ＩＨ，ｍ、Ｈ−１７）、３．５４（ＬＨ，ｍ
、ＴＨＰ）。

実施例　９１σ、３β−ジアセトキシ−１７−チトラヒドロビラニ
ロキシーアンドロスター５，７−ジエン（化合物■）実施例８で得た化合物（ＩＩ　Ｘ９３０＋ｌＩｇ）をピ
リジン（１０ｍ１２）に溶解し、無水酢酸（２ＩＩ１１
２）を加え、９０°Ｃに１時間加熱撹拌した。反応混合
物を酢酸エチルで抽出し、抽出液を重ソウ水、ブライン
で洗浄し、乾燥した。酢酸エチルを留去し、残留物をシ
リカゲルクロマトグラフィー（ＣＨＣＩ２．で溶出）し
、化合物■を１．０９得た（粉末）（９２％）。

ｍ／ｚ　４１３（Ｍ”−ＣＨｓＣＯＯＨ）；　ＩＨＮＭ
Ｒ（ＣＤＣ４，）δ５．４０゜５．６７　（２Ｈ，ｍ、
Ｈ−６，Ｈ−７）、　４．９８　（２Ｈ，ｍ、Ｈ−１，
Ｈ−３）。

４．６３（ＩＨ，ｓ、ＴＨＰ）、　３．８７（ＩＨ，ｍ
、ＴＨＰ）、　３．７４（ＩＨ，ｍ。

Ｈ−１７）、　３．４９　（ＩＨ，ｍ、ＴＨＰ）、　２
．０３．２．０８　（６Ｈ，ｓ。

Ｃ０ＣＨ、）。

実施例　１０１ａ、３β−ジアセトキシ−アンドロスタ−５，７−ゲ
ニン−１フーオール（化合物ｘｍ）実施例９で得た化合物（、ｎ　Ｘｌ、Ｏｇ）をエタノー
ル（２０ｍＱ）に溶解し、ピリジニウムパラトルエンス
ルホナート（２００＋＋ｇ）を加え、４０〜４５°Ｃで
３時間撹拌下に反応させた。反応混合物を酢酸エチルで
抽出し、ブラインで洗浄したのち、酢酸エチルを留去し
た。残留物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出液：
酢酸エチル／クロロホルム−１／９）で精製し化合物（
Ｘｌｌｌ）を６６０ｍｇ得た（８０％）。

融点１７４〜１７５℃；ｍ／ｚ　３２９　（Ｍ”−ＣＨ
ｓＣＯＯＨ）、　　２６９（３２９−ＣＨｓＣＯＯＨ）
；　ＵＶ　Ａ　ｍａｘ　２８２ｎｍ（ｔ　＝１２，００
０．エタノール）　；　’ＨＮＭＲＣＣＤＣＱ３）δ５
．４３．５．６８（２Ｈ，ｍ。

Ｈ−６，Ｈ−７）、　５−０１　（２Ｈ，ｍ、Ｈ−１，
Ｈ−３）、　３．７７　（ＩＨ，ｍ。

ＨＩ３）、　２．０３．２．０８（６Ｈ，Ｓ、Ｃ０ＣＨ
５）。

実施例　１１ｌａ、３β−ジアセトキシ−アンドロスタ−５，７−ゲ
ニン−１フーオン（化合物ＸＩＶ）実施例１０で化合物（Ｘ　ｍ　Ｘ３００ｍｇ）をジクロ
。

メタン（５０ｍ１２）に溶解し、ピリジニウムクロロク
ロメート（５００１１１１？）を加え、室温で１時間撹
拌下に反応させた。反応後不溶物を濾過して除き、炉液
を濃縮し、得られた残留物をシリカゲルクロマトグラフ
ィー（溶出液：クロロホルム／ヘキサン＝　４／ｌ）に
て精製し、化合物（ＸＩＶ）を１９５ｍ１ｇ得　Ｉこ　
（６５％　）　　。

融点２２０−２２２℃；　ｍ／ｚ　３２７（Ｍ”−ＣＨ
５ＣＯＯＨ）；’ＨＮＭＲＣＣＤＣ（１１）δ５．５７
．５．７１（２Ｈ，ｍ、Ｈ−６，Ｈ−７）、　５．００
（２Ｈ。

ｍ＋Ｈ−１＋Ｈ−３）、２．０４，２．０９（６Ｈ，ｓ
、Ｃ０ＣＨｓ）。

Claims

【特許請求の範囲】次の式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）で示される１７−ヒドロキシトリエン化合物の１７位の
水酸基を保護して次の式（II）（但しＸは水酸基の保護
基を示す） ▲数式、化学式、表等があります▼（II）で示される化合物とし、次いでこの式（II）の化合物を
イソプロペニルアセテートを用いるエノールアセチル化
反応に付して次の式（III）（Ａｃはアセチル基を示す
） ▲数式、化学式、表等があります▼（III）で示される１，３，５，７−テトラエン化合物とし、次
いでこの式（III）の化合物を還元反応に付して次の式
（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV）で示される３β−ヒドロキシ−１，５，７−トリエン化
合物とし、次いでこの式（IV）の化合物を４−フェニル
−１，２，４−トリアゾリン−３，５−ジオンと反応さ
せて次の式（Ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ）で示されるディールス−アルダー型付加反応生成物であ
る化合物とし、次いでこの式（Ｖ）の化合物の３位の水
酸基をかさ高い保護基で保護して次の式（VI） ▲数式、化学式、表等があります▼（VI）（但しＹはかさ高い水酸基の保護基である）で示される
化合物として、引き続きこの式（VI）の化合物の１７位
保護基を除去して次の式（VII）▲数式、化学式、表等
があります▼（VII）で示される化合物とした後、この式（VII）の水酸基を
あとの工程で使用する水素化アルミニウムアルカリ金属
または水素化ほう素アルカリ金属に安定である保護基で
保護して次の式（VIII）（但しＺは水素化アルミニウム
アルカリ金属または水素化ほう素アルカリ金属に安定な
水酸基の保護基を示す） ▲数式、化学式、表等があります▼（VIII）で示される化合物とし、引き続きこの式（VIII）の化合
物をエポキシ化試剤で処理して次の式（IX）▲数式、化
学式、表等があります▼（IX）で示される１α，２α−エポキシ化合物とし、次いでこ
の式（IX）の化合物の３位水酸基を脱保護し次の式（Ｘ
） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ）で示される化合物とし、そして引き続きこの式（Ｘ）の
化合物を水素化アルミニウムアルカリ金属または水素化
ほう素アルカリ金属を用いる還元反応に付して次の式（
Ｘ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ I ）で示される５，７−ジエン化合物とし、次いでこの式（
Ｘ I ）の化合物の１位および３位の水酸基をアセチル
化反応に付して次の式（ＸII） ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸII）で示される化合物とし、ついでこの式（ＸII）の化合物
の１７位の保護基を除去して次の式（ＸIII）▲数式、
化学式、表等があります▼（ＸIII）で示される１α，３β−ジアセトキシ−アンドロスタ−
５，７−ジエン−１７−オールを得、次いで化合物（Ｘ
III）を酸化して次の式（ＸIV） ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸIV）で示される１α，３β−ジアセトキシ−アンドロスタ−
５，７−ジエン−１７−オンを得ることを特徴とする上
記化合物の製造方法。