JPH04172693A - 半導体メモリ - Google Patents
半導体メモリInfo
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- JPH04172693A JPH04172693A JP2299715A JP29971590A JPH04172693A JP H04172693 A JPH04172693 A JP H04172693A JP 2299715 A JP2299715 A JP 2299715A JP 29971590 A JP29971590 A JP 29971590A JP H04172693 A JPH04172693 A JP H04172693A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体メモリに関し、特に読み出しと書き込み
を同じサイクル内で並列に行うマルチボートメモリに関
する。
を同じサイクル内で並列に行うマルチボートメモリに関
する。
読み出しと書き込みを1サイクルの間にそれぞれ1回ず
つ行うマルチボートメモリは既に知られている。例えば
、特開昭64−19581号に記載されているメモリは
このようなメモリの一例である。
つ行うマルチボートメモリは既に知られている。例えば
、特開昭64−19581号に記載されているメモリは
このようなメモリの一例である。
このメモリの回路図を第2図に示す。
この第2図のメモリセルはクロスカップルしたCMOS
フリップフロップと2組のトランスファ・ゲートから構
成されている。図示されているように、このメモリセル
では、2組のトランスファ・ゲートを持っていることに
対応して2本のワード線と2組のデータ線が備えられて
いる。1組は読み出し用であり、残りの1組は書き込み
用である。通常このメモリでは読み出しと書き込みはそ
れぞれ独立のセルに対して行われるので、読み出し用と
書き込み用に2組のアドレスが印加される。
フリップフロップと2組のトランスファ・ゲートから構
成されている。図示されているように、このメモリセル
では、2組のトランスファ・ゲートを持っていることに
対応して2本のワード線と2組のデータ線が備えられて
いる。1組は読み出し用であり、残りの1組は書き込み
用である。通常このメモリでは読み出しと書き込みはそ
れぞれ独立のセルに対して行われるので、読み出し用と
書き込み用に2組のアドレスが印加される。
その結果として読み出し用のワード線と書き込み用のワ
ード線が各1本ずつ選ばれる。またデータ線も読み出し
用と書き込み用が各1組ずつ選ばれ、ワード線とデータ
線の交点にあるメモリセルが選択される。一般に同し1
個のメモリセルに対して読み出しと書き込みを同時に行
うことはないが、もし必要ならばそのような動作を許す
ことも可能である。
ード線が各1本ずつ選ばれる。またデータ線も読み出し
用と書き込み用が各1組ずつ選ばれ、ワード線とデータ
線の交点にあるメモリセルが選択される。一般に同し1
個のメモリセルに対して読み出しと書き込みを同時に行
うことはないが、もし必要ならばそのような動作を許す
ことも可能である。
なお第2図ではデータ線の選択回路は省略されているが
、例えば読み出し系の選択はデータ線とセンス回路SA
との間にトランスファMO5を挿入し、そのゲートをデ
コーダ8力で制御し、選択されたデータ線からの出力の
みを共通のコモンデータ線に出力してセンス回路で増幅
することが多い。書き込み回路系についても同様に、デ
ータ線と書き込み回路WOとの間にトランスファMO3
を挿入することが多い。
、例えば読み出し系の選択はデータ線とセンス回路SA
との間にトランスファMO5を挿入し、そのゲートをデ
コーダ8力で制御し、選択されたデータ線からの出力の
みを共通のコモンデータ線に出力してセンス回路で増幅
することが多い。書き込み回路系についても同様に、デ
ータ線と書き込み回路WOとの間にトランスファMO3
を挿入することが多い。
上記のようなメモリは1サイクルの間に1回の読み出し
と1回の書き込みを同時に行うものであるが、計算機の
メモリとして使用する場合にはメモリから読み出した2
つの情報に何らかの処理を行いその結果をメモリに書き
込むという操作が計算機処理のかなりの割合を占める。
と1回の書き込みを同時に行うものであるが、計算機の
メモリとして使用する場合にはメモリから読み出した2
つの情報に何らかの処理を行いその結果をメモリに書き
込むという操作が計算機処理のかなりの割合を占める。
この操作を高速で行うには、2回の読み出しと1回の書
き込みを1サイクルの間に行えれば好都合である。その
ためには、上記例の回路に加え、さらにメモリセルに1
組のトランスファMO5とワード線1本と1組のデータ
線対を加える必要があり、メモリセル面積が大きくかつ
複雑となる。
き込みを1サイクルの間に行えれば好都合である。その
ためには、上記例の回路に加え、さらにメモリセルに1
組のトランスファMO5とワード線1本と1組のデータ
線対を加える必要があり、メモリセル面積が大きくかつ
複雑となる。
そこで9本発明では1回の読み出しに対し1本のデータ
線のみを割り当てることで回路の複雑化を防いでいる。
線のみを割り当てることで回路の複雑化を防いでいる。
このようなセルアレー構成をとるとワード線が1本増え
るだけなので、1サイクルで2回の読み出しと1回の書
き込みを同時に行ない得るようなメモリセルを構成して
もメモリセル面積の増加は極めて小さい。
るだけなので、1サイクルで2回の読み出しと1回の書
き込みを同時に行ない得るようなメモリセルを構成して
もメモリセル面積の増加は極めて小さい。
本発明では各読み出しはそれぞれ1本のデータ線で行う
。一方、書き込みは1本のデータ線で行うことも不可能
ではないが書き込みの速度及び安定性が十分には得られ
ないので、2本のデータ線を使用する。その結果、上記
引例と同じ4本のデータ線のみを使用して2回の読み出
しと1回の書き込みを高速で同時に行い得、しかもこの
ために要するチップ面積増加は僅かである。
。一方、書き込みは1本のデータ線で行うことも不可能
ではないが書き込みの速度及び安定性が十分には得られ
ないので、2本のデータ線を使用する。その結果、上記
引例と同じ4本のデータ線のみを使用して2回の読み出
しと1回の書き込みを高速で同時に行い得、しかもこの
ために要するチップ面積増加は僅かである。
第1図は、本発明の第1の実施例を示す図である。本例
は本発明の特徴が最もよく表れるように、第2図の従来
例とできるだけ対応をとって示した実施例である。図示
されているように、本発明では1つの読み出しボートに
対し読み出し用のデータ線は1本のみしか使用されてい
ない。従って、第2図の従来例と同じ個数の読み出し用
のトランスファMOSとデータ線しか使用しないで異な
るメモリセルからの2ポート読み出しを同時に行うこと
ができる。従来のメモリセルに比べて増えるのは読み出
し用のワード線1本のみである。一方、書き込みは1本
のデータ線で行うことも不可能ではないが、書き込みの
高速性と安定性を考えると左右対称の方が好ましいので
2本のデータ線を使用している。
は本発明の特徴が最もよく表れるように、第2図の従来
例とできるだけ対応をとって示した実施例である。図示
されているように、本発明では1つの読み出しボートに
対し読み出し用のデータ線は1本のみしか使用されてい
ない。従って、第2図の従来例と同じ個数の読み出し用
のトランスファMOSとデータ線しか使用しないで異な
るメモリセルからの2ポート読み出しを同時に行うこと
ができる。従来のメモリセルに比べて増えるのは読み出
し用のワード線1本のみである。一方、書き込みは1本
のデータ線で行うことも不可能ではないが、書き込みの
高速性と安定性を考えると左右対称の方が好ましいので
2本のデータ線を使用している。
センス回路は従来例では第2図のように差動センスを使
用していたが、本発明では、第1図の実施例では例えば
第3図に示すようにセンス増幅器の片方の入力にはデー
タ線出力を、もう片方の入力には参照電圧を加えて読み
出し情報をセンスしている。MOSセルの読み出し電圧
は一般的にかなり小さいので、この参照電圧は温度及び
電源電圧の変動などに対して読み出し時のデータ線電圧
と同様な変動をする必要がある。
用していたが、本発明では、第1図の実施例では例えば
第3図に示すようにセンス増幅器の片方の入力にはデー
タ線出力を、もう片方の入力には参照電圧を加えて読み
出し情報をセンスしている。MOSセルの読み出し電圧
は一般的にかなり小さいので、この参照電圧は温度及び
電源電圧の変動などに対して読み出し時のデータ線電圧
と同様な変動をする必要がある。
第4図は、本発明の第2の実施例を示す図である。第1
図はメモリセル及び周辺回路をすべてCMO5で構成し
た実施例であるが、より高速動作を行わせる場合にはメ
モリセルにMOSを、周辺回路にバイポーラを使用する
と都合がよい。第4図はそのような回路の1実施例を示
している。
図はメモリセル及び周辺回路をすべてCMO5で構成し
た実施例であるが、より高速動作を行わせる場合にはメ
モリセルにMOSを、周辺回路にバイポーラを使用する
と都合がよい。第4図はそのような回路の1実施例を示
している。
以下、本図の回路動作を簡単に説明する。本回路では、
上述したように1サイクルで2回の読み出しと1回の書
き込みを同時に行い得るような構成になっている。この
ことをメモリセルMCIIに着目し、第1の読み出し動
作、第2の読み出し動作、書き込み動作の順に説明する
。
上述したように1サイクルで2回の読み出しと1回の書
き込みを同時に行い得るような構成になっている。この
ことをメモリセルMCIIに着目し、第1の読み出し動
作、第2の読み出し動作、書き込み動作の順に説明する
。
まず、MCIIに対して第1の読み出しを行うには、第
1の読み出しワード線WRLI及び第1の読み出しデー
タ線選択信号VY INRLlを高電位に駆動する。W
RLIが高電位になると、MCIIの情報に応じてデー
タ線BLIにセル電流が流れ、BLIの電位が変化する
。一方、VYINRLIにより、差動アンプDAIがア
クティブ状態になっているので、BLIに現れたMCI
Iの情報信号が増幅され、コモンデータ線CDLL。
1の読み出しワード線WRLI及び第1の読み出しデー
タ線選択信号VY INRLlを高電位に駆動する。W
RLIが高電位になると、MCIIの情報に応じてデー
タ線BLIにセル電流が流れ、BLIの電位が変化する
。一方、VYINRLIにより、差動アンプDAIがア
クティブ状態になっているので、BLIに現れたMCI
Iの情報信号が増幅され、コモンデータ線CDLL。
CDLRに出力される。
次に、MCIIに対して第2の読み出しを行うには、第
2の読み出しワード線WRR12&び第2の読み出しデ
ータ線選択信号VY INRR1を高電位に駆動する。
2の読み出しワード線WRR12&び第2の読み出しデ
ータ線選択信号VY INRR1を高電位に駆動する。
WRRIが高電位になると、MCIIの情報に応じてデ
ータ線BRIにセル電流が流れ、BRIの電位が変化す
る。一方、VYINRRIにより、差動アンプDA2が
アクティブ状態になっているので、BRIに現れたMC
IIの情報信号が増幅され、コモンデータ線CDRL。
ータ線BRIにセル電流が流れ、BRIの電位が変化す
る。一方、VYINRRIにより、差動アンプDA2が
アクティブ状態になっているので、BRIに現れたMC
IIの情報信号が増幅され、コモンデータ線CDRL。
CDRRに出力される。
次に、MCIIに対して書き込みを行うには、書き込み
ワード線WWI及び書き込みデータ線選択信号VYrN
Wlを高電位に駆動する。VYINVIが高電位になる
と、データ入力信号DI、DI’に応して、バイポーラ
トランジスタQIWL。
ワード線WWI及び書き込みデータ線選択信号VYrN
Wlを高電位に駆動する。VYINVIが高電位になる
と、データ入力信号DI、DI’に応して、バイポーラ
トランジスタQIWL。
QIYLまたはQIWR,QIYRの何れかがオンしデ
ータ線BL2またはBR2の何れかが低電位に駆動され
る。一方、WWIが高電位に駆動されているので、MC
II内のBL2.BR2に接続されたトランスファMO
5がオンしており、結局、データ線BL2またはBR2
の何れが低電位になっているかによって、MCIIに情
報が書き込まれる。
ータ線BL2またはBR2の何れかが低電位に駆動され
る。一方、WWIが高電位に駆動されているので、MC
II内のBL2.BR2に接続されたトランスファMO
5がオンしており、結局、データ線BL2またはBR2
の何れが低電位になっているかによって、MCIIに情
報が書き込まれる。
本実施例では、第1図と同様に1回の読み出しに対し1
本のデータ線のみを割り当てることで回路の複雑化を防
いでいる。このようなセルアレー構成をとるとワード線
が1本増えるだけなので、1サイクルで2回の読み出し
と1回の書き込みを同時に行ない得るようなメモリセル
を構成してもメモリセル面積の増加は極めて小さい。さ
らに、本例では高集積化を律即するメモリセルに小面積
のM OSを、高速化を律即する周辺回路に高速のバイ
ポーラを使用しているので、高集積化と高速化の両立が
図られている。
本のデータ線のみを割り当てることで回路の複雑化を防
いでいる。このようなセルアレー構成をとるとワード線
が1本増えるだけなので、1サイクルで2回の読み出し
と1回の書き込みを同時に行ない得るようなメモリセル
を構成してもメモリセル面積の増加は極めて小さい。さ
らに、本例では高集積化を律即するメモリセルに小面積
のM OSを、高速化を律即する周辺回路に高速のバイ
ポーラを使用しているので、高集積化と高速化の両立が
図られている。
第5図は、本発明の第3の実施例を示す図である。本例
でも第4図と同様メモリセルにMOSを、周辺回路にバ
イポーラを使用している6以下、本図の回路動作を簡単
に説明する。本回路でも、上述したように1サイクルで
2回の読み出しと1回の書き込みを同時に行い得るよう
な構成になっている。このことをメモリセルMCIIに
着目し、第1の読み出し動作、第2の読み出し動作、書
き込み動作の順に説明する。
でも第4図と同様メモリセルにMOSを、周辺回路にバ
イポーラを使用している6以下、本図の回路動作を簡単
に説明する。本回路でも、上述したように1サイクルで
2回の読み出しと1回の書き込みを同時に行い得るよう
な構成になっている。このことをメモリセルMCIIに
着目し、第1の読み出し動作、第2の読み出し動作、書
き込み動作の順に説明する。
まず、MC11に対して第1の読み出しを行うには、第
1の読み出しワード線WRLI及び第1の読み出しデー
タ線選択信号VY INRLlを高電位に駆動する。W
RLIが高電位になると。
1の読み出しワード線WRLI及び第1の読み出しデー
タ線選択信号VY INRLlを高電位に駆動する。W
RLIが高電位になると。
MC11の情報に応じてデータ線BLIにセル電流が流
れる。一方、VY I NRLlにより、トランジスタ
QRLがアクティブ状態になっているので、BLIに流
れるセル電流がコモンデータ線CDLに流れる。よって
1次段の回路はCDLに流れる電流を検品することで、
MCIIの情報を読み出すことができる。
れる。一方、VY I NRLlにより、トランジスタ
QRLがアクティブ状態になっているので、BLIに流
れるセル電流がコモンデータ線CDLに流れる。よって
1次段の回路はCDLに流れる電流を検品することで、
MCIIの情報を読み出すことができる。
次に、MCIIに対して第2の読み出しを行うには、第
2の読み出しワードgWRR1及び第2の読み出しデー
タ線選択信号V Y I N RRlを高電位に駆動す
る。WRRIが高電位になると、MCIIの情報に応じ
てデータ線BRIにセル電流が流れる。一方、VY I
NRRlにより、トランジスタQRRがアクティブ状態
になっているので、BRIに流れるセル電流がコモンデ
ータ線CDRに流れる。よって、次段の回路はCDRに
流れる電流を検品することで、MCIIの情報を読み出
すことができる。
2の読み出しワードgWRR1及び第2の読み出しデー
タ線選択信号V Y I N RRlを高電位に駆動す
る。WRRIが高電位になると、MCIIの情報に応じ
てデータ線BRIにセル電流が流れる。一方、VY I
NRRlにより、トランジスタQRRがアクティブ状態
になっているので、BRIに流れるセル電流がコモンデ
ータ線CDRに流れる。よって、次段の回路はCDRに
流れる電流を検品することで、MCIIの情報を読み出
すことができる。
次に、MCIIに対して書き込みを行うには。
書き込みワード線WWI及び書き込みデータ線選択信号
VYINwIを高電位に駆動する。VYINIIIが高
電位になると、データ入力信号DI、I)r’ に応し
て、バイポーラトランジスタQTWL、QIYLまたは
QIWR,QIYRの何れかがオンしデータ線BL2ま
たはBH3の何れかが低電位に駆動される。一方、WW
Iが高電位に駆動されているので、MCII内のBL2
.BH3に接続されたトランスファMO5がオンしてお
り、結局、データ線BL2またはBH3の何れが低電位
になっているかによって、MCIIに情報が書き込まれ
る。
VYINwIを高電位に駆動する。VYINIIIが高
電位になると、データ入力信号DI、I)r’ に応し
て、バイポーラトランジスタQTWL、QIYLまたは
QIWR,QIYRの何れかがオンしデータ線BL2ま
たはBH3の何れかが低電位に駆動される。一方、WW
Iが高電位に駆動されているので、MCII内のBL2
.BH3に接続されたトランスファMO5がオンしてお
り、結局、データ線BL2またはBH3の何れが低電位
になっているかによって、MCIIに情報が書き込まれ
る。
本実施例では、第1図と同様に1回の読み出しに対し1
本のデータ線のみを割り当てることで回路の複雑化を防
いでいる。このようなセルアレー構成をとるとワード線
が1本増えるだけなので、1サイクルで2回の読み出し
と1回の書き込みを同時に行ない得るようなメモリセル
を構成してもメモリセル面積の増加は極めて小さい。さ
らに、本例では高集積化を律即するメモリセルに小面積
のMOSを、高速化を律即する周辺回路に高速のバイポ
ーラを使用しているので、高集積化と高速化の両立が図
られている。
本のデータ線のみを割り当てることで回路の複雑化を防
いでいる。このようなセルアレー構成をとるとワード線
が1本増えるだけなので、1サイクルで2回の読み出し
と1回の書き込みを同時に行ない得るようなメモリセル
を構成してもメモリセル面積の増加は極めて小さい。さ
らに、本例では高集積化を律即するメモリセルに小面積
のMOSを、高速化を律即する周辺回路に高速のバイポ
ーラを使用しているので、高集積化と高速化の両立が図
られている。
第6図は、本発明の第4の実施例を示す図である。本例
は第4図の回路にさらに具体的な周辺回路を付加し、メ
モリ全体を構成した例を示している。本図で、Xlは第
1の読み出しワード線のアドレス信号、XBI、XDR
Iは、それぞt、アドレスバッファ、ワード線駆動回路
である。また、Ylは第1の読み出しデータ線のアドレ
ス信号、YBI、YDRIは、それぞれ、アドレスバッ
ファ、データ線駆動回路である。また、X2は第2の読
み出しワード線のアドレス信号、X3は書き込みワード
線のアドレス信号、また、Y2は第2の読み出しデータ
線のアドレス信号、Y3は書き込みデータ線のアドレス
信号である。また、DBIは第1のセンス、出力回路で
あり、DB2は第2のセンス、出力回路である。これら
個々の回路は、既に良く知られており、多用されている
回路なので、詳細な動作の説明はここでは省略する。
は第4図の回路にさらに具体的な周辺回路を付加し、メ
モリ全体を構成した例を示している。本図で、Xlは第
1の読み出しワード線のアドレス信号、XBI、XDR
Iは、それぞt、アドレスバッファ、ワード線駆動回路
である。また、Ylは第1の読み出しデータ線のアドレ
ス信号、YBI、YDRIは、それぞれ、アドレスバッ
ファ、データ線駆動回路である。また、X2は第2の読
み出しワード線のアドレス信号、X3は書き込みワード
線のアドレス信号、また、Y2は第2の読み出しデータ
線のアドレス信号、Y3は書き込みデータ線のアドレス
信号である。また、DBIは第1のセンス、出力回路で
あり、DB2は第2のセンス、出力回路である。これら
個々の回路は、既に良く知られており、多用されている
回路なので、詳細な動作の説明はここでは省略する。
第7図は、本発明の第5の実施例を示す図である。本例
は第5図の回路にさらに具体的な周辺回路を付加し、メ
モリ全体を構成した例を示している。本図で用いている
記号の意味は、第6図のものと同様である。第7図で付
加した個々の回路は、既に良く知られており、多用され
ている回路なので、詳細な動作の説明はここでは省略す
る。
は第5図の回路にさらに具体的な周辺回路を付加し、メ
モリ全体を構成した例を示している。本図で用いている
記号の意味は、第6図のものと同様である。第7図で付
加した個々の回路は、既に良く知られており、多用され
ている回路なので、詳細な動作の説明はここでは省略す
る。
第8図は1本発明の第6の実施例を示す図である。本図
が第1図と異なる点は、第1図ではメモリセルを構成す
るトランスファMO3がNMOSであったのに対し、本
図ではPMO3になっている点のみである。よって1本
例でも第1図で述べた議論がそのまま成立し、ワード線
を1本増やすだけで、1サイクルで2回の読み出しと1
回の書き込みを同時に行ない得るようなメモリを構成で
きる。
が第1図と異なる点は、第1図ではメモリセルを構成す
るトランスファMO3がNMOSであったのに対し、本
図ではPMO3になっている点のみである。よって1本
例でも第1図で述べた議論がそのまま成立し、ワード線
を1本増やすだけで、1サイクルで2回の読み出しと1
回の書き込みを同時に行ない得るようなメモリを構成で
きる。
なお1以上の実施例では、メモリセルとしてCMOSタ
イプのメモリセルを使用した例を示してきたが、本発明
はこれに限るものではない。すなわち、第9図に示すN
MOSと抵抗負荷で構成されるメモリセル、または第1
0図に示すPMO5と抵抗負荷で構成されるメモリセル
等電界効果トランジスタで構成したフリップフロップ形
のメモリセル、あるいはへイポーラトランジスタで構成
したフリップフロップ形のメモリセル、あるいはD R
A M等で多用されているキヤパシタで構成されたメモ
リセル等、如何様なセルを用いても良い。
イプのメモリセルを使用した例を示してきたが、本発明
はこれに限るものではない。すなわち、第9図に示すN
MOSと抵抗負荷で構成されるメモリセル、または第1
0図に示すPMO5と抵抗負荷で構成されるメモリセル
等電界効果トランジスタで構成したフリップフロップ形
のメモリセル、あるいはへイポーラトランジスタで構成
したフリップフロップ形のメモリセル、あるいはD R
A M等で多用されているキヤパシタで構成されたメモ
リセル等、如何様なセルを用いても良い。
以上述へてきたように、本発明を用いると、ワード線を
1水増やすだけで、1サイクルで2回の読み出しと1回
の書き込みを同時に行ない得るようなメモリを構成でき
る。このようなメモリを計算機のメモリとして使用する
とメモリから読み出した2つの情報に何らかの処理を行
いその結果をメモリに書き込むという操作が極めて高速
に行える。
1水増やすだけで、1サイクルで2回の読み出しと1回
の書き込みを同時に行ない得るようなメモリを構成でき
る。このようなメモリを計算機のメモリとして使用する
とメモリから読み出した2つの情報に何らかの処理を行
いその結果をメモリに書き込むという操作が極めて高速
に行える。
第1図は本発明の第1の実施例を示すメモリセル及びそ
の周辺回路の回路図、第2図は従来例を示すメモリセル
及びその周辺回路の回路図、第3図は本発明の第1の実
施例に使用するセンス増幅器の1例を示す回路図、第4
図は本発明の第2の実施例を示すメモリセル及びその周
辺回路の回路図、第5図は本発明の第3の実施例を示す
メモリセル及びその周辺回路の回路図、第6図は本発明
の第4の実施例を示すメモリ全体の回路図、第7図は本
発明の第5の実施例を示すメモリ全体の回路図、第8図
は本発明の第6の実施例を示すメモリセル及びその周辺
回路の回路図、第9図、第10図はそれぞれ本発明のメ
モリに使用するメモリセルの1例を示す図である。 WRLI・・・第1の読み出しワード線、WRRI・・
第2の読み出しワード線、WWI・・・書き込みワード
線、BLI・・第1の読み出しデータ線、BRI・・・
第2の読み出しデータ線、BL2.BH3・・・書第1
図 第2図 第3図 第4図 第5図 第8図 手 続 補 正 書 (方式)和 3.3□
68
の周辺回路の回路図、第2図は従来例を示すメモリセル
及びその周辺回路の回路図、第3図は本発明の第1の実
施例に使用するセンス増幅器の1例を示す回路図、第4
図は本発明の第2の実施例を示すメモリセル及びその周
辺回路の回路図、第5図は本発明の第3の実施例を示す
メモリセル及びその周辺回路の回路図、第6図は本発明
の第4の実施例を示すメモリ全体の回路図、第7図は本
発明の第5の実施例を示すメモリ全体の回路図、第8図
は本発明の第6の実施例を示すメモリセル及びその周辺
回路の回路図、第9図、第10図はそれぞれ本発明のメ
モリに使用するメモリセルの1例を示す図である。 WRLI・・・第1の読み出しワード線、WRRI・・
第2の読み出しワード線、WWI・・・書き込みワード
線、BLI・・第1の読み出しデータ線、BRI・・・
第2の読み出しデータ線、BL2.BH3・・・書第1
図 第2図 第3図 第4図 第5図 第8図 手 続 補 正 書 (方式)和 3.3□
68
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、複数の第1の読み出しワード線と、複数の第2の読
み出しワード線と、複数の書き込みワード線と、複数の
第1の読み出しデータ線と、複数の第2の読み出しデー
タ線と、複数の書き込みデータ線と、上記ワード線と上
記データ線の交点に配され、上記第1の読み出しワード
線が選択された時、セルの記憶データを上記第1の読み
出しデータ線に出力し、上記第2の読み出しワード線が
選択された時、セルの記憶データを上記第2の読み出し
データ線に出力し、上記書き込みワード線が選択された
時、セルの書き込みデータを上記書き込みデータ線から
入力する複数のメモリセルを有することを特徴とする半
導体メモリ。 2、上記書き込みデータ線は、2本で1組を構成し、上
記メモリセルは、書き込みワード線が選択された時、セ
ルの書き込みデータを上記1組の書き込みデータ線から
入力するメモリセルであることを特徴とする請求項1記
載の半導体メモリ。 3、上記メモリセルは、フリップフロップ形のメモリセ
ルであることを特徴とする請求項1記載の半導体メモリ
。 4、1サイクルで2回の読み出しと1回の書き込みを同
時に行ない得ることを特徴とする半導体メモリ。 5、複数のワード線と、複数のデータ線と、上記ワード
線と上記データ線の交点に配されたメモリセルとからな
り、上記メモリセルが電界効果トランジスタで構成され
、上記ワード線または上記データ線を駆動する回路がバ
イポーラトランジスタで構成されることを特徴とする請
求項4記載の半導体メモリ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2299715A JPH04172693A (ja) | 1990-11-07 | 1990-11-07 | 半導体メモリ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2299715A JPH04172693A (ja) | 1990-11-07 | 1990-11-07 | 半導体メモリ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04172693A true JPH04172693A (ja) | 1992-06-19 |
Family
ID=17876096
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2299715A Pending JPH04172693A (ja) | 1990-11-07 | 1990-11-07 | 半導体メモリ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04172693A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010086643A (ja) * | 2008-10-03 | 2010-04-15 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
-
1990
- 1990-11-07 JP JP2299715A patent/JPH04172693A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010086643A (ja) * | 2008-10-03 | 2010-04-15 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
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