JPH04176664A - 静電記録用イオン発生装置 - Google Patents
静電記録用イオン発生装置Info
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- JPH04176664A JPH04176664A JP30517590A JP30517590A JPH04176664A JP H04176664 A JPH04176664 A JP H04176664A JP 30517590 A JP30517590 A JP 30517590A JP 30517590 A JP30517590 A JP 30517590A JP H04176664 A JPH04176664 A JP H04176664A
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- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims abstract 5
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- 150000002500 ions Chemical class 0.000 abstract 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 abstract 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 abstract 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
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- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
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- Printers Or Recording Devices Using Electromagnetic And Radiation Means (AREA)
- Electrophotography Using Other Than Carlson'S Method (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、静電記録用イオン発生装置に係り、特に静電
式の印刷や複写に利用されるイオンフロー静電記録用イ
オン発生装置に関する。
式の印刷や複写に利用されるイオンフロー静電記録用イ
オン発生装置に関する。
[従来の技術]
静電印刷等において、高電流密度のイオンを発生させ、
これを抽出して選択的に被帯電部材に付与し、画像状に
帯電させる方法が知られており、そのための装置が例え
ば特開昭57−501348号に開示されている。この
方法に用いられるイオン発生装置は、誘電体層の一方の
面に一方向に伸びる複数の第1の電極を固着し、誘電体
層の他方の面に第1の電極とは交差する方向に伸びる複
数の第2の電極を固着してなり、第1の電極と第2の電
極とでマトリックスを構成するものである。
これを抽出して選択的に被帯電部材に付与し、画像状に
帯電させる方法が知られており、そのための装置が例え
ば特開昭57−501348号に開示されている。この
方法に用いられるイオン発生装置は、誘電体層の一方の
面に一方向に伸びる複数の第1の電極を固着し、誘電体
層の他方の面に第1の電極とは交差する方向に伸びる複
数の第2の電極を固着してなり、第1の電極と第2の電
極とでマトリックスを構成するものである。
このマトリックスの選択された部分に対応する第1の電
極と第2の電極との間に交互に高電圧を印加すると、そ
の部分に対応する第2の電極の近傍に正負のイオンが発
生する。この発生したイオンを、第2の電極と第3の電
極との間に介在する絶縁体層の開口部を通して選択的に
抽出し、被帯電部材に付与することにより、被帯電部材
を帯電させることが出来る。従って、マトリックス構造
の電極を選択的に駆動することにより、ドツトによる静
電記録を行うことが出来る。
極と第2の電極との間に交互に高電圧を印加すると、そ
の部分に対応する第2の電極の近傍に正負のイオンが発
生する。この発生したイオンを、第2の電極と第3の電
極との間に介在する絶縁体層の開口部を通して選択的に
抽出し、被帯電部材に付与することにより、被帯電部材
を帯電させることが出来る。従って、マトリックス構造
の電極を選択的に駆動することにより、ドツトによる静
電記録を行うことが出来る。
このようなイオン発生装置に用いられる誘電体の材質と
しては、イオン発生のため印加される高電圧でも絶縁破
壊しないことが要求される。また、第1の電極、誘電体
層、第2の電極、絶縁体層及び第3の電極により構成さ
れるイオン発生部に気泡が混入すると、各開口部間及び
各電極間で電流のリークが発生し、放電破壊を起こして
しまう。
しては、イオン発生のため印加される高電圧でも絶縁破
壊しないことが要求される。また、第1の電極、誘電体
層、第2の電極、絶縁体層及び第3の電極により構成さ
れるイオン発生部に気泡が混入すると、各開口部間及び
各電極間で電流のリークが発生し、放電破壊を起こして
しまう。
そのため、誘電体や絶縁体と第2の電極との間には気泡
が存在せず、即ち誘電体や絶縁体は、第2の電極と密着
性を有している必要がある。
が存在せず、即ち誘電体や絶縁体は、第2の電極と密着
性を有している必要がある。
特開昭54−53537号公報には、誘電体としてポリ
イミドが開示されており、特開昭60−196364号
公報には、絶縁体としてポジ型感光性樹脂が開示されて
いる。
イミドが開示されており、特開昭60−196364号
公報には、絶縁体としてポジ型感光性樹脂が開示されて
いる。
C発明が解決しようとする課題]
しかし、第1の電極、誘電体層、第2の電極、絶縁体層
及び第3の電極により構成されるイオン発生部の第2の
電極に接する部位に気泡が存在すると、各開口部間及び
各電極間で放電が生じ、それによって気泡内の酸素が活
性化し、誘電体層、第2の電極及び絶縁体層を構成する
材料が酸化劣化してしまう。誘電体層や絶縁体としては
、加工性や構造のフレキシブル性から、通常、有機物が
用いられ、特に絶縁体はスペーサーとしての役割も兼ね
るため、通常は一定の厚さのフィルム状に成形されたも
のを用いる。これを第2の電極上にラミネートする際、
真空ラミネーターにより気泡が入らないように、かつ第
2の電極と誘電体層との段差に完全に追従して空気層が
残らないようにする必要がある。しかし、数百ケ所もの
段差に空気層が残らないようにすることは、かなり困難
を極め、この残留した空気層により絶縁体は酸化され、
浸蝕され、耐久性が劣化してしまう。
及び第3の電極により構成されるイオン発生部の第2の
電極に接する部位に気泡が存在すると、各開口部間及び
各電極間で放電が生じ、それによって気泡内の酸素が活
性化し、誘電体層、第2の電極及び絶縁体層を構成する
材料が酸化劣化してしまう。誘電体層や絶縁体としては
、加工性や構造のフレキシブル性から、通常、有機物が
用いられ、特に絶縁体はスペーサーとしての役割も兼ね
るため、通常は一定の厚さのフィルム状に成形されたも
のを用いる。これを第2の電極上にラミネートする際、
真空ラミネーターにより気泡が入らないように、かつ第
2の電極と誘電体層との段差に完全に追従して空気層が
残らないようにする必要がある。しかし、数百ケ所もの
段差に空気層が残らないようにすることは、かなり困難
を極め、この残留した空気層により絶縁体は酸化され、
浸蝕され、耐久性が劣化してしまう。
また、第2の電極と絶縁体との界面付近に残留した微小
気泡により、第2の電極が酸化され、長期的には劣化し
てしまう。
気泡により、第2の電極が酸化され、長期的には劣化し
てしまう。
本発明の目的は、イオン発生部の酸化による劣化や浸蝕
を防止した、耐久力のある静電記録用イオン発生装置を
提供することにある。
を防止した、耐久力のある静電記録用イオン発生装置を
提供することにある。
[課題を解決するための手段]
本発明は、一方向にかつ平行に延設された複数の第1の
電極と、この第1の電極と交差する方向に延設され、前
記第1の電極とともにマトリックスを形成し、このマト
リックスに対応する部位に開口部が形成された複数の第
2の電極と、この第2の電極に対し前記第1の電極とは
反対側に配置され、前記マトリックスに対応する部位に
開口部が形成された第3の電極と、前記第1の電極と第
2の電極との間に設けられた誘電体層と、前記第2の電
極と第3の電極との間に設けられ、前記マトリックスに
対応する部位に開口部が形成されたた絶縁体層とを具備
する誘電記録用イオン発生装置において、前記誘電体層
及び/又は絶縁体層は、0.1〜20重量%の酸化防止
剤を含有することを特徴とする静電記録用イオン発生装
置を提供する。
電極と、この第1の電極と交差する方向に延設され、前
記第1の電極とともにマトリックスを形成し、このマト
リックスに対応する部位に開口部が形成された複数の第
2の電極と、この第2の電極に対し前記第1の電極とは
反対側に配置され、前記マトリックスに対応する部位に
開口部が形成された第3の電極と、前記第1の電極と第
2の電極との間に設けられた誘電体層と、前記第2の電
極と第3の電極との間に設けられ、前記マトリックスに
対応する部位に開口部が形成されたた絶縁体層とを具備
する誘電記録用イオン発生装置において、前記誘電体層
及び/又は絶縁体層は、0.1〜20重量%の酸化防止
剤を含有することを特徴とする静電記録用イオン発生装
置を提供する。
本発明に用いられる酸化防止剤としては、通常、合成樹
脂に用いられるものを使用することか出来る。例えば、
2,6−シーtert−ブチル−p−クレゾール、2,
2−メチレンビス(4−エチル−6−tert−ブチル
fwノール)等のフェノール系酸化防止剤、トリノニル
フェニルフォスファイト、ジステアリルペンタエリスリ
トールフォスフエイト等の燐系酸化防止剤、ジステアリ
ルチオジプロピオネート、ジラウリルチオジプロピオネ
ート等の硫黄系酸化防止剤等を挙げることが出来る。
脂に用いられるものを使用することか出来る。例えば、
2,6−シーtert−ブチル−p−クレゾール、2,
2−メチレンビス(4−エチル−6−tert−ブチル
fwノール)等のフェノール系酸化防止剤、トリノニル
フェニルフォスファイト、ジステアリルペンタエリスリ
トールフォスフエイト等の燐系酸化防止剤、ジステアリ
ルチオジプロピオネート、ジラウリルチオジプロピオネ
ート等の硫黄系酸化防止剤等を挙げることが出来る。
酸化防止剤の含有量は0.1〜20重量%であり、好ま
しくは1〜5重量%である。0.1重量%未満では添加
する効果が殆ど現れず、20重量%を越えると誘電体や
絶縁体の物性を低下させてしまう。
しくは1〜5重量%である。0.1重量%未満では添加
する効果が殆ど現れず、20重量%を越えると誘電体や
絶縁体の物性を低下させてしまう。
[作用〕
第1の電極−誘電体層一第2の電極−絶縁体一第3の電
極から構成されるイオン発生装置において、第1の電極
と第2の電極との間に高電圧を印加すると、誘電体上の
開口で、空気層を介してイオンを発生する。この時、開
口部の空気に触れている箇所の誘電体や絶縁体を構成す
る有機物の表面は、表面に存在する酸化防止剤により徐
々に界面の空気を取り込み、その結果、界面には酸化に
関わる活性化した酸素が存在しにくい状態になる。
極から構成されるイオン発生装置において、第1の電極
と第2の電極との間に高電圧を印加すると、誘電体上の
開口で、空気層を介してイオンを発生する。この時、開
口部の空気に触れている箇所の誘電体や絶縁体を構成す
る有機物の表面は、表面に存在する酸化防止剤により徐
々に界面の空気を取り込み、その結果、界面には酸化に
関わる活性化した酸素が存在しにくい状態になる。
従って、高電圧を印加しても、誘電体や絶縁体の表面は
酸化されに<<、酸化による浸蝕も発生しにくい。
酸化されに<<、酸化による浸蝕も発生しにくい。
また、絶縁体と第2の電極との間に存在する微小な気泡
についても同様のことが言え、微小気泡中の酸素を、絶
縁体中の酸化防止剤が吸収し、第2の電極や絶縁体を酸
化されにくくすることが出来る。
についても同様のことが言え、微小気泡中の酸素を、絶
縁体中の酸化防止剤が吸収し、第2の電極や絶縁体を酸
化されにくくすることが出来る。
[実施例コ
以下、図面を参照して、本発明の具体的実施例につき、
説明する。
説明する。
第1図は、本発明の一実施例に係るイオン発生装置の全
゛体の概略を示す斜視図、第2図は第1図における開ロ
アを円形とした場合の断面を概略的に示す図である。
゛体の概略を示す斜視図、第2図は第1図における開ロ
アを円形とした場合の断面を概略的に示す図である。
第1図及び第2図において、絶縁性基板1上に形成され
た複数の第1の電極2か、紙面に垂直な方向に平行に伸
びており、この第1の電極2と異なる方向に、複数の第
2の電極4が伸びている。
た複数の第1の電極2か、紙面に垂直な方向に平行に伸
びており、この第1の電極2と異なる方向に、複数の第
2の電極4が伸びている。
これら第1及び第2の電極の間に誘電体層3が挟まれて
いる。第2の電極4は、第1の電極2に対応した位置、
即ち交差領域に開口を有している。
いる。第2の電極4は、第1の電極2に対応した位置、
即ち交差領域に開口を有している。
第2の電極4の第1の電極2の反対側には第3の電極6
が配置され、この第3の電極6は第2の電極4の開口と
対応した開口を有している。第2の電極4と第3の電極
6との間には絶縁体層5か挾まれており、この絶縁体層
5は第2の電極4と第3の電極6の開口に対応した開ロ
アを有している。
が配置され、この第3の電極6は第2の電極4の開口と
対応した開口を有している。第2の電極4と第3の電極
6との間には絶縁体層5か挾まれており、この絶縁体層
5は第2の電極4と第3の電極6の開口に対応した開ロ
アを有している。
以上のように構成されたイオン発生装置において、複数
の第1の電極2と第2の電極4との間に選択的に電圧を
印加することにより、選択された部分に対応する第2の
電極4の開口内近傍に正・負のイオンか発生する。第2
の電極4と第3の電極6との間にはバイアス電圧が印加
され、その極性により決定されるイオンのみが発生した
イオン中から抽出される。この抽出されたイオンは絶縁
体層5と第3の電極6の開口を通過し、第3の電極6に
対向して配置されている被帯電部材(図示せず)を選択
的に帯電させる。このようにして、複数の第1の電極2
と第2の電極4の選択的駆動により、被帯電部材上にド
ツト潜像が形成される。
の第1の電極2と第2の電極4との間に選択的に電圧を
印加することにより、選択された部分に対応する第2の
電極4の開口内近傍に正・負のイオンか発生する。第2
の電極4と第3の電極6との間にはバイアス電圧が印加
され、その極性により決定されるイオンのみが発生した
イオン中から抽出される。この抽出されたイオンは絶縁
体層5と第3の電極6の開口を通過し、第3の電極6に
対向して配置されている被帯電部材(図示せず)を選択
的に帯電させる。このようにして、複数の第1の電極2
と第2の電極4の選択的駆動により、被帯電部材上にド
ツト潜像が形成される。
即ち、このイオン発生装置は、静電記録ヘッドとして作
用する。
用する。
以下、以上説明したイオン発生装置を具体的に製造する
実施例について、第3〜6図を参照して説明する。
実施例について、第3〜6図を参照して説明する。
実施例1
絶縁体としてポリイミドとポリイソイミドの共重合体か
らなるアセチレン末端の付加型ポリイミドを用い、これ
にフェノール系酸化防止剤として0.1〜20重量%、
好ましくは1〜5重量%の2.6−ジー第3ブチル−バ
ラ−クレゾールを加え、60重量%のアセトン溶液を調
製した。この溶液をステンレス箔12a及び12bのそ
れぞれにスクリーン印刷により塗布した。これを常温で
5〜30分間放置して溶剤を揮発させ、塗布された溶液
を乾燥した。この塗布から乾燥までの工程を繰り返し、
厚さ25〜75μmの塗布層を形成した。
らなるアセチレン末端の付加型ポリイミドを用い、これ
にフェノール系酸化防止剤として0.1〜20重量%、
好ましくは1〜5重量%の2.6−ジー第3ブチル−バ
ラ−クレゾールを加え、60重量%のアセトン溶液を調
製した。この溶液をステンレス箔12a及び12bのそ
れぞれにスクリーン印刷により塗布した。これを常温で
5〜30分間放置して溶剤を揮発させ、塗布された溶液
を乾燥した。この塗布から乾燥までの工程を繰り返し、
厚さ25〜75μmの塗布層を形成した。
次に、第3図に示すように、これらステンレス箔12a
、12bの塗布層同士を真空ラミネートし、両塗布層を
接合して厚さ50〜150μmの絶縁体層11を形成し
た。次いで、1〜3kg/cm2の加圧下、220℃の
温度で約1時間ヒートプレスした。この時、絶縁体層1
1の層厚が大きく減少しないように加圧条件を設定し、
スペーサーを併用した。その後、常圧下でゆっくりと3
70℃まで昇温し、16時間保持した。
、12bの塗布層同士を真空ラミネートし、両塗布層を
接合して厚さ50〜150μmの絶縁体層11を形成し
た。次いで、1〜3kg/cm2の加圧下、220℃の
温度で約1時間ヒートプレスした。この時、絶縁体層1
1の層厚が大きく減少しないように加圧条件を設定し、
スペーサーを併用した。その後、常圧下でゆっくりと3
70℃まで昇温し、16時間保持した。
このようにして得た積層体のステンレス箔12a、12
bを、第4図に示すように同一のパターンにエツチング
して、第2の電極13と第3の電極14とを形成した。
bを、第4図に示すように同一のパターンにエツチング
して、第2の電極13と第3の電極14とを形成した。
その後、第2の電極13及び第3の電極14をマスクと
して用いて絶縁体層11をアルカリでエツチングすると
、第5図に示すように開口15が第2の電極13から第
3の電極14まで貫通した構造体が得られた。
して用いて絶縁体層11をアルカリでエツチングすると
、第5図に示すように開口15が第2の電極13から第
3の電極14まで貫通した構造体が得られた。
この構造体の第2の電極13の開口15に、ピロリドン
系のUV硬硬化型水溶相樹脂注入し、紫外線を照射して
硬化させた。次に、酸化チタンをフィラーとした誘電体
ペーストに、絶縁体に添加したのと同一の酸化防止剤を
同一の割合で加えたものを、スクリーン印刷により第2
の電極13上に塗布し、乾燥硬化させた。
系のUV硬硬化型水溶相樹脂注入し、紫外線を照射して
硬化させた。次に、酸化チタンをフィラーとした誘電体
ペーストに、絶縁体に添加したのと同一の酸化防止剤を
同一の割合で加えたものを、スクリーン印刷により第2
の電極13上に塗布し、乾燥硬化させた。
一方、ポリイミドFPCからなる絶縁基板16に銅箔を
貼り、この銅箔をパターニングして第1の電極17を形
成し、この第1の電極17のパターン間に上述と同一の
誘電体ペーストを注入し、乾燥した。そして、第6図に
示すように、誘電体層同士を張合わせ、加熱圧着して、
イオン発生装置を得た。
貼り、この銅箔をパターニングして第1の電極17を形
成し、この第1の電極17のパターン間に上述と同一の
誘電体ペーストを注入し、乾燥した。そして、第6図に
示すように、誘電体層同士を張合わせ、加熱圧着して、
イオン発生装置を得た。
このようにして製造されたイオン発生装置は、イオン発
生部か酸化されに<<、そのため酸化防止剤を添加しな
いものに比べ2〜5倍も長寿命であり、耐久性かあった
。
生部か酸化されに<<、そのため酸化防止剤を添加しな
いものに比べ2〜5倍も長寿命であり、耐久性かあった
。
実施例2
酸化防止剤として燐系のトリノニルフェニルフォスファ
イトを0.1〜20重量%、好ましくは1〜5重量%添
加したことを除いて、実施例1と同様にしてイオン発生
装置を製造した。
イトを0.1〜20重量%、好ましくは1〜5重量%添
加したことを除いて、実施例1と同様にしてイオン発生
装置を製造した。
このイオン発生装置もイオン発生部か酸化されに<<、
実施例1のイオン発生装置と同様に長寿命であり、耐久
性かあった。
実施例1のイオン発生装置と同様に長寿命であり、耐久
性かあった。
実施例3
酸化防止剤として硫黄系のジステアリルチオプロピオネ
ートを0.1〜20重量%、好ましくは1〜5重量%添
加したことを除いて、実施例1と同様にしてイオン発生
装置を製造した。
ートを0.1〜20重量%、好ましくは1〜5重量%添
加したことを除いて、実施例1と同様にしてイオン発生
装置を製造した。
このイオン発生装置もイオン発生部か酸化されに<<、
実施例1のイオン発生装置と同様に長寿命であり、耐久
性かあった。
実施例1のイオン発生装置と同様に長寿命であり、耐久
性かあった。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明によると、誘電体層及び絶
縁体層の少なくとも一方が0.1〜20重量%の酸化防
止剤を含有しているため、それらは酸化されに<<、酸
化による劣化や浸蝕か発生しにくい。そのため、長寿命
で耐久性かあるイオン発生装置が提供される。
縁体層の少なくとも一方が0.1〜20重量%の酸化防
止剤を含有しているため、それらは酸化されに<<、酸
化による劣化や浸蝕か発生しにくい。そのため、長寿命
で耐久性かあるイオン発生装置が提供される。
第1図は、本発明に係るイオン発生装置の全体の概略を
示す斜視図、第2図は第1図における開ロアを円形とし
た場合の断面を概略的に示す図、第3図〜第6図は本発
明の一実施例に係るイオン発生装置の製造工程を示す断
面図である。 1・・・絶縁性基板、2・・・第1の電極、3・・・誘
電体層、4・・・第2の電極、5・・・絶縁体層、6・
・・第3の電極、7・・・開口。 出願人代理人 弁理士 坪井 淳 第2図
示す斜視図、第2図は第1図における開ロアを円形とし
た場合の断面を概略的に示す図、第3図〜第6図は本発
明の一実施例に係るイオン発生装置の製造工程を示す断
面図である。 1・・・絶縁性基板、2・・・第1の電極、3・・・誘
電体層、4・・・第2の電極、5・・・絶縁体層、6・
・・第3の電極、7・・・開口。 出願人代理人 弁理士 坪井 淳 第2図
Claims (1)
- 一方向にかつ平行に延設された複数の第1の電極と、こ
の第1の電極と交差する方向に延設され、前記第1の電
極とともにマトリックスを形成し、このマトリックスに
対応する部位に開口部が形成された複数の第2の電極と
、この第2の電極に対し前記第1の電極とは反対側に配
置され、前記マトリックスに対応する部位に開口部が形
成された第3の電極と、前記第1の電極と第2の電極と
の間に設けられた誘電体層と、前記第2の電極と第3の
電極との間に設けられ、前記マトリックスに対応する部
位に開口部が形成されたた絶縁体層とを具備する誘電記
録用イオン発生装置において、前記誘電体層及び/又は
絶縁体層は、0.1〜20重量%の酸化防止剤を含有す
ることを特徴とする静電記録用イオン発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30517590A JPH04176664A (ja) | 1990-11-09 | 1990-11-09 | 静電記録用イオン発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30517590A JPH04176664A (ja) | 1990-11-09 | 1990-11-09 | 静電記録用イオン発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04176664A true JPH04176664A (ja) | 1992-06-24 |
Family
ID=17941964
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30517590A Pending JPH04176664A (ja) | 1990-11-09 | 1990-11-09 | 静電記録用イオン発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04176664A (ja) |
-
1990
- 1990-11-09 JP JP30517590A patent/JPH04176664A/ja active Pending
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