JPH04161361A - 誘電記録用イオン発生装置の製造方法 - Google Patents
誘電記録用イオン発生装置の製造方法Info
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- JPH04161361A JPH04161361A JP28785790A JP28785790A JPH04161361A JP H04161361 A JPH04161361 A JP H04161361A JP 28785790 A JP28785790 A JP 28785790A JP 28785790 A JP28785790 A JP 28785790A JP H04161361 A JPH04161361 A JP H04161361A
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- Combination Of More Than One Step In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は、静電記録用イオン発生装置の製造方法に係り
、特に静電式の印刷や複写に利用されるイオンフロー静
電記録用イオン発生装置の製造方法に関する。
、特に静電式の印刷や複写に利用されるイオンフロー静
電記録用イオン発生装置の製造方法に関する。
[従来の技術〕
静電印刷等において、高電流密度のイオンを発生させ、
これを抽出して選択的に被帯電部材に付与し、画像状に
帯電させる方法が知られており、そのための装置が例え
ば特開昭57=501348号に開示されている。この
方法に用いられるイオン発生装置は、誘電体層の一方の
面に一方向に伸びる複数の第1の電極を固着し、誘電体
層の他方の面に第1の電極とは交差する方向に伸びる複
数の第2の電極を固着してなり、第1の電極と第2の電
極とでマトリックスを構成するものである。
これを抽出して選択的に被帯電部材に付与し、画像状に
帯電させる方法が知られており、そのための装置が例え
ば特開昭57=501348号に開示されている。この
方法に用いられるイオン発生装置は、誘電体層の一方の
面に一方向に伸びる複数の第1の電極を固着し、誘電体
層の他方の面に第1の電極とは交差する方向に伸びる複
数の第2の電極を固着してなり、第1の電極と第2の電
極とでマトリックスを構成するものである。
このマトリックスの選択された部分に対応する第1の電
極と第2の電極との間に交互に高電圧を印加すると、そ
の部分に対応する第2の電極の近傍に正負のイオンが発
生する。この発生したイオンを第3の電極により選択的
に抽出し、被帯電部材に付与することにより、被帯電部
材を帯電させることが出来る。従って、マトリックス構
造の電極を選択的に駆動することにより、ドツトによる
静電記録を行うことが出来る。
極と第2の電極との間に交互に高電圧を印加すると、そ
の部分に対応する第2の電極の近傍に正負のイオンが発
生する。この発生したイオンを第3の電極により選択的
に抽出し、被帯電部材に付与することにより、被帯電部
材を帯電させることが出来る。従って、マトリックス構
造の電極を選択的に駆動することにより、ドツトによる
静電記録を行うことが出来る。
このようなイオン発生装置に用いられる誘電体の材質と
しては、イオン発生のため印加される高電圧でも絶縁破
壊しないことが要求される。
しては、イオン発生のため印加される高電圧でも絶縁破
壊しないことが要求される。
また、イオンを効率良く発生させるために、高誘電率を
有するものが適している。特開昭57−501348号
に示す装置では、誘電体としてマイカが用いられ、有機
ポリシロキサン系の接着剤により、電極に固着されてい
る。
有するものが適している。特開昭57−501348号
に示す装置では、誘電体としてマイカが用いられ、有機
ポリシロキサン系の接着剤により、電極に固着されてい
る。
[発明が解決しようとする課題]
しかし、特開昭57−501348号に示すように、誘
電体と電極とを固着させる手段として接着剤を用いると
、第2の電極の開口部において誘電体表面が接着剤で覆
われてしまい、イオンの発生が妨げられてしまう。この
第2の電極の開口部は微小であるとともに、その数は極
めて多く、このような部分に存在する接着剤をすべて除
去することは非常に困難である。また、このような接着
剤を洗浄により除去しようとすると、電極と誘電体との
接着部の剥離が生ずる可能性が高い。二の場合イオンを
発生出来ない部分が存在してしまうため、高精細な画像
が得られないという問題がある。
電体と電極とを固着させる手段として接着剤を用いると
、第2の電極の開口部において誘電体表面が接着剤で覆
われてしまい、イオンの発生が妨げられてしまう。この
第2の電極の開口部は微小であるとともに、その数は極
めて多く、このような部分に存在する接着剤をすべて除
去することは非常に困難である。また、このような接着
剤を洗浄により除去しようとすると、電極と誘電体との
接着部の剥離が生ずる可能性が高い。二の場合イオンを
発生出来ない部分が存在してしまうため、高精細な画像
が得られないという問題がある。
また、誘電物質としてのマイカは、電気的特性や耐久性
は他の誘電物質より優れているが、天然物であるため、
均一な厚さ、均一な電気的特性、ピンホール等の欠陥の
ない均質性等の特性を満足する材料を選定、選別するこ
とが非常に困難であり、結果として高価なイオン発生装
置となってしまう。
は他の誘電物質より優れているが、天然物であるため、
均一な厚さ、均一な電気的特性、ピンホール等の欠陥の
ない均質性等の特性を満足する材料を選定、選別するこ
とが非常に困難であり、結果として高価なイオン発生装
置となってしまう。
本発明の目的は、イオンの発生を妨げることなく誘電体
と電極とを固着させることができ、それによって高精細
な画像形成を可能とするイオン発生装置を安価に製造す
る方法を提供する゛ことにある。
と電極とを固着させることができ、それによって高精細
な画像形成を可能とするイオン発生装置を安価に製造す
る方法を提供する゛ことにある。
[課題を解決するための手段]
本発明の誘電記録用イオン発生装置の製造方法は、誘電
体層と、この誘電体層の一方の面に形成された一方向に
伸びる複数の第1の電極と、誘電体層の他方の面に形成
された前記第1の電極と交差する方向に伸びる複数の第
2の電極を具備する誘電記録用イオン発生装置の製造方
法において、ポリフッ化ビニリデン分散溶液を調製する
工程、前記第1の電極及び/又は第2の電極の表面にポ
リフッ化ビニリデン分散溶液を塗布し、誘電体層を形成
する工程、この誘電体層を乾燥して揮発成分を揮発せし
める工程、この誘電体層上に他方の電極を重ねるか又は
他方の電極上の誘電体層を重ねる工程、及び前記誘電体
層を加熱賦活して前記誘電体層と他方の電極又は他方の
電極上の誘電体層とを固着させる工程を具備することを
特徴とする。
体層と、この誘電体層の一方の面に形成された一方向に
伸びる複数の第1の電極と、誘電体層の他方の面に形成
された前記第1の電極と交差する方向に伸びる複数の第
2の電極を具備する誘電記録用イオン発生装置の製造方
法において、ポリフッ化ビニリデン分散溶液を調製する
工程、前記第1の電極及び/又は第2の電極の表面にポ
リフッ化ビニリデン分散溶液を塗布し、誘電体層を形成
する工程、この誘電体層を乾燥して揮発成分を揮発せし
める工程、この誘電体層上に他方の電極を重ねるか又は
他方の電極上の誘電体層を重ねる工程、及び前記誘電体
層を加熱賦活して前記誘電体層と他方の電極又は他方の
電極上の誘電体層とを固着させる工程を具備することを
特徴とする。
また、本発明の誘電記録用イオン発生装置の製造方法は
、誘電体層と、この誘電体層の一方の面に形成された一
方向に伸びる複数の第1の電極と、誘電体層の他方の面
に形成された前記第1の電極と交差する方向に伸びる複
数の第2の電極を具備する誘電記録用イオン発生装置の
製造方法において、ポリフッ化ビニリデン分散溶液を調
製する工程、前記第1の電極及び第2の電極のいずれか
−方の表面にポリフッ化ビニリデン分散溶液を塗布し、
誘電体層を形成する工程、この誘電体層上に他方の電極
を重ねるか工程、及びこの誘電体層を乾燥して揮発成分
を揮発せしめ、前記誘電体層と第1及び第2の電極とを
固着させる工程を具備することを特徴とする。
、誘電体層と、この誘電体層の一方の面に形成された一
方向に伸びる複数の第1の電極と、誘電体層の他方の面
に形成された前記第1の電極と交差する方向に伸びる複
数の第2の電極を具備する誘電記録用イオン発生装置の
製造方法において、ポリフッ化ビニリデン分散溶液を調
製する工程、前記第1の電極及び第2の電極のいずれか
−方の表面にポリフッ化ビニリデン分散溶液を塗布し、
誘電体層を形成する工程、この誘電体層上に他方の電極
を重ねるか工程、及びこの誘電体層を乾燥して揮発成分
を揮発せしめ、前記誘電体層と第1及び第2の電極とを
固着させる工程を具備することを特徴とする。
本発明の方法において、ポリフッ化ビニリデン分散溶液
の調製は、ポリフッ化ビニリデン粉末を溶剤に分散させ
ることにより行われる。ポリフッ化ビニリデンを分散さ
せる溶剤としては、メチルエチルケトン、アセトン、ヘ
キサン等を用いることが出来る。
の調製は、ポリフッ化ビニリデン粉末を溶剤に分散させ
ることにより行われる。ポリフッ化ビニリデンを分散さ
せる溶剤としては、メチルエチルケトン、アセトン、ヘ
キサン等を用いることが出来る。
また、ポリフッ化ビニリデン粉末の溶剤への分散を良好
に行なうために、弗素系界面活性剤等の分散剤を添加す
ることも可能である。
に行なうために、弗素系界面活性剤等の分散剤を添加す
ることも可能である。
本発明の方法では、ポリフッ化ビニリデン分散溶液を第
1及び第2の電極のいずれか一方の表面にのみ塗布する
ことも、双方の表面に塗布することも可能である。この
状態で、塗布により形成された誘電体層と塗布された電
極とは固着している。
1及び第2の電極のいずれか一方の表面にのみ塗布する
ことも、双方の表面に塗布することも可能である。この
状態で、塗布により形成された誘電体層と塗布された電
極とは固着している。
いずれか一方の表面にのろ塗布する場合には、他方の電
極を塗布により形成された誘電体層上に単に重ね、放置
して乾燥することにより、他方の電極と誘電体層とは固
着する。
極を塗布により形成された誘電体層上に単に重ね、放置
して乾燥することにより、他方の電極と誘電体層とは固
着する。
電極と誘電体層との固着は、誘電体層を加熱賦活するこ
とにより、より迅速に、かつより強固に行うことが出来
る。この場合、塗布された誘電体層を乾燥し、他方の電
極を重ねた後に、他方の電極を加熱することにより、誘
電体層の加熱賦活を行うことが出来る。
とにより、より迅速に、かつより強固に行うことが出来
る。この場合、塗布された誘電体層を乾燥し、他方の電
極を重ねた後に、他方の電極を加熱することにより、誘
電体層の加熱賦活を行うことが出来る。
ポリフッ化ビニリデン分散溶液が双方の電極に塗布され
る場合には、塗布により形成された誘電体層を乾燥し、
誘電体層同士を重ねた後に、いず、れか一方又は双方の
電極を加熱することにより、誘電体層の加熱賦活を行う
ことが出来る。
る場合には、塗布により形成された誘電体層を乾燥し、
誘電体層同士を重ねた後に、いず、れか一方又は双方の
電極を加熱することにより、誘電体層の加熱賦活を行う
ことが出来る。
[作用コ
本発明の方法では、誘電体層の形成にポリフッ化ビニリ
デン分散溶液を用いている。このポリフッ化ビニリデン
分散溶液の塗布により形成された誘電体層は濡れ性を有
するため、電極を重ねた後、誘電体層を乾燥させて溶剤
を揮発させると、誘電体層と電極とは強固に固着する。
デン分散溶液を用いている。このポリフッ化ビニリデン
分散溶液の塗布により形成された誘電体層は濡れ性を有
するため、電極を重ねた後、誘電体層を乾燥させて溶剤
を揮発させると、誘電体層と電極とは強固に固着する。
また、ポリフッ化ビニリデン分散溶液の塗布により形成
された誘電体層を乾燥して電極を重ねた後、誘電体層を
加熱すると、誘電体層は賦活されて濡れ性を発現し、冷
却により誘電体層と電極とは強固に固着する。2つの電
極にポリフッ化ビニリデン分散溶液を塗布した場合にも
、同様に誘電体層同士が強固に固着する。
された誘電体層を乾燥して電極を重ねた後、誘電体層を
加熱すると、誘電体層は賦活されて濡れ性を発現し、冷
却により誘電体層と電極とは強固に固着する。2つの電
極にポリフッ化ビニリデン分散溶液を塗布した場合にも
、同様に誘電体層同士が強固に固着する。
本発明の方法により得た誘電記録用イオン発生装置では
、電極と誘電体層との間に接着剤が存在しないため、イ
オンが発生する電極の開口部における誘電体層の表面が
接着剤で覆われることがなく、そのためイオンの発生が
何ら妨げられることがない。従って、本発明の方法によ
り得た誘電記録用イオン発生装置によると、効率良く、
均一なイオンの発生が可能である。
、電極と誘電体層との間に接着剤が存在しないため、イ
オンが発生する電極の開口部における誘電体層の表面が
接着剤で覆われることがなく、そのためイオンの発生が
何ら妨げられることがない。従って、本発明の方法によ
り得た誘電記録用イオン発生装置によると、効率良く、
均一なイオンの発生が可能である。
また、本発明で誘電体として用いているポリフッ化ビニ
リデンは、現在先端材料として広く一般に用いられてお
り、比較的容易に入手可能である。
リデンは、現在先端材料として広く一般に用いられてお
り、比較的容易に入手可能である。
また、マイカよりも高い合格率で所望の特性を有する材
料を確保出来るため、安価なイオン発生装置の製造が可
能である。
料を確保出来るため、安価なイオン発生装置の製造が可
能である。
[実施例]
以下、図面を参照して、本発明の具体的実施例につき、
説明する。
説明する。
第1図は、本発明の方法により製造されたイオン発生装
置の断面図、第2図はその斜視図である。
置の断面図、第2図はその斜視図である。
第1図において、絶縁性基板1上に形成された複数の第
1の電極2が、紙面に垂直な方向に平行に伸びており、
この第1の電極2と異なる方向に、複数の第2の電極4
が伸びている。これら第1及び第2の電極の間に誘電体
層3が挟まれている。
1の電極2が、紙面に垂直な方向に平行に伸びており、
この第1の電極2と異なる方向に、複数の第2の電極4
が伸びている。これら第1及び第2の電極の間に誘電体
層3が挟まれている。
第2の電極4は、第1の電極2に対応した位置、即ち交
差領域に開口を有している。第2の電極4の第1の電極
2の反対側には第3の電極6が配置され、この第3の電
極6は第2の電極4の開口と対応した開口を有している
。第2の電極4と第3の電極6との間には絶縁体層5が
挟まれており、この絶縁体層5は第2の電極4と第3の
電極6の開口に対応した開ロアを有している。
差領域に開口を有している。第2の電極4の第1の電極
2の反対側には第3の電極6が配置され、この第3の電
極6は第2の電極4の開口と対応した開口を有している
。第2の電極4と第3の電極6との間には絶縁体層5が
挟まれており、この絶縁体層5は第2の電極4と第3の
電極6の開口に対応した開ロアを有している。
以上のように構成されたイオン発生装置において、複数
の第1の電極2と第2の電極4との間に選択的に電圧を
印加することにより、選択された部分に対応する第2の
電極4の開口内近傍に正・負のイオンが発生する。第2
の電極4と第3の電極6との間にはバイアス電圧が印加
され、その極性により決定されるイオンのみが発生した
イオン中から抽出される。この抽出されたイオンは絶縁
体層5と第3の電極6の開口を通過し、第3の電極6に
対向して配置されている被帯電部材(図示せず)を選択
的に帯電させる。このようにして、複数の第1の電極2
と第2の電極4の選択的駆動により、被帯電部材上にド
ツト潜像が形成される。
の第1の電極2と第2の電極4との間に選択的に電圧を
印加することにより、選択された部分に対応する第2の
電極4の開口内近傍に正・負のイオンが発生する。第2
の電極4と第3の電極6との間にはバイアス電圧が印加
され、その極性により決定されるイオンのみが発生した
イオン中から抽出される。この抽出されたイオンは絶縁
体層5と第3の電極6の開口を通過し、第3の電極6に
対向して配置されている被帯電部材(図示せず)を選択
的に帯電させる。このようにして、複数の第1の電極2
と第2の電極4の選択的駆動により、被帯電部材上にド
ツト潜像が形成される。
即ち、このイオン発生装置は、静電記録ヘッドとして作
用する。
用する。
以下、以上説明したイオン発生装置を具体的に製造する
実施例について、第3〜6図を参照して説明する。
実施例について、第3〜6図を参照して説明する。
実施例1
第3図に示すように、ガラス−エポキシFPC板からな
る絶縁基板11上に厚さ5μmの銅箔を貼りつけた電気
基板に、通常のフォトリソグラフィーにより銅箔を選択
的にエツチングし、所定のパターンの複数の第1の電極
12を形成した。この第1の電極12が設けられている
絶縁基板11を洗浄し、乾燥した。次に、誘電率が7の
ポリフッ化ビニリデン粉末の50重量%メチルエチルケ
トン溶液からなる誘電体分散溶液を調製した。この誘電
体分散溶液を、通常のスクリーン印刷を用いて、絶縁基
板11上に第1の電極12を埋め込むように30μmの
厚さに塗布した。なお、塗布方法としては、誘電体分散
溶液の希釈率に応じてスプレー法やディッピング法を用
いることも可能である。
る絶縁基板11上に厚さ5μmの銅箔を貼りつけた電気
基板に、通常のフォトリソグラフィーにより銅箔を選択
的にエツチングし、所定のパターンの複数の第1の電極
12を形成した。この第1の電極12が設けられている
絶縁基板11を洗浄し、乾燥した。次に、誘電率が7の
ポリフッ化ビニリデン粉末の50重量%メチルエチルケ
トン溶液からなる誘電体分散溶液を調製した。この誘電
体分散溶液を、通常のスクリーン印刷を用いて、絶縁基
板11上に第1の電極12を埋め込むように30μmの
厚さに塗布した。なお、塗布方法としては、誘電体分散
溶液の希釈率に応じてスプレー法やディッピング法を用
いることも可能である。
その後、希釈率に応じて常温で10〜60分間放置して
誘電体分散溶液中の溶剤を揮発させ、塗布層を乾燥した
。この塗布から乾燥までの工程を繰り返し、厚さ30μ
mの誘電体層13を第1の電極12を覆うように形成し
た。
誘電体分散溶液中の溶剤を揮発させ、塗布層を乾燥した
。この塗布から乾燥までの工程を繰り返し、厚さ30μ
mの誘電体層13を第1の電極12を覆うように形成し
た。
次に、第4図に示すように誘電体層13上に、それぞれ
複数の開口を有する複数の第2の電極14(ステンレス
製、厚さ30μm))を、その開口15が第1の電極1
2に対応するように、第1の電極12とは異なる方向に
配置した。この状態で第2の電極14上に静かに加熱板
を乗せ、200〜250℃の温度でヒートブレスし、加
熱により誘電体層13の表面を賦活させ、粘着性を発現
させた。その後、加熱板を常温まで冷却し、誘電体層1
3と第2の電極14とを固着させた。
複数の開口を有する複数の第2の電極14(ステンレス
製、厚さ30μm))を、その開口15が第1の電極1
2に対応するように、第1の電極12とは異なる方向に
配置した。この状態で第2の電極14上に静かに加熱板
を乗せ、200〜250℃の温度でヒートブレスし、加
熱により誘電体層13の表面を賦活させ、粘着性を発現
させた。その後、加熱板を常温まで冷却し、誘電体層1
3と第2の電極14とを固着させた。
加熱板を除去した後、第2の電極14の上に厚さ100
μmの感光性絶縁樹脂フィルム(ソルダーレジスト)を
真空ラミネートし、このフィルムをフォトリソグラフィ
ーによりパターニングして第2の電極14の開口に対応
した開口を設けた。
μmの感光性絶縁樹脂フィルム(ソルダーレジスト)を
真空ラミネートし、このフィルムをフォトリソグラフィ
ーによりパターニングして第2の電極14の開口に対応
した開口を設けた。
そして、更にその上に第3の電極(図示せず)をその開
口部が感光性絶縁樹脂フィルムの開口に対応するように
位置決めして2μmの厚さのシリコーン接着剤層を介し
て接着することにより、イオン発生装置を得た。
口部が感光性絶縁樹脂フィルムの開口に対応するように
位置決めして2μmの厚さのシリコーン接着剤層を介し
て接着することにより、イオン発生装置を得た。
このようにして製造されたイオン製造装置では、第2の
電極の14の開口15の近傍に接着剤が存在しない。そ
のため、第1の電極と第2の電極との間に交互に電圧を
印加したところ、接着剤によってイオンの発生が妨げら
れることなく効率良く、均一にイオンが発生した。
電極の14の開口15の近傍に接着剤が存在しない。そ
のため、第1の電極と第2の電極との間に交互に電圧を
印加したところ、接着剤によってイオンの発生が妨げら
れることなく効率良く、均一にイオンが発生した。
なお、この実施例では、誘電率が7のポリフッ化ビニリ
デン粉末の50重量%メチルエチルケトン溶液からなる
誘電体分散溶液を用い、厚さ30μmの誘電体層を形成
したが、ポリフッ化ビニリデンの誘電率は6〜15の間
で変化させることが出来、また濃度は30〜50重量%
の間で使用可能である。また、誘電体層の厚さは15〜
30μmの間で変化させてもよい。
デン粉末の50重量%メチルエチルケトン溶液からなる
誘電体分散溶液を用い、厚さ30μmの誘電体層を形成
したが、ポリフッ化ビニリデンの誘電率は6〜15の間
で変化させることが出来、また濃度は30〜50重量%
の間で使用可能である。また、誘電体層の厚さは15〜
30μmの間で変化させてもよい。
実施例2
第5図に示すように、厚さ75μmのポリイミドフィル
ム21上に厚さ5μmの銅箔を貼りつけたフレキシブル
基板21に、通常のフォトリソグラフィーにより銅箔を
選択的にエツチングし、所定のパターンの複数の第1の
電極22を形成した。
ム21上に厚さ5μmの銅箔を貼りつけたフレキシブル
基板21に、通常のフォトリソグラフィーにより銅箔を
選択的にエツチングし、所定のパターンの複数の第1の
電極22を形成した。
この第1の電極22を有するフレキシブル基板21上に
、粘度500cpsの紫外線硬化型エポキシ樹脂をエア
デイスペンサーにより吐出し、ドクターブレードにより
第1の電極間に埋め込むように塗布した。この紫外線硬
化型エポキシ樹脂を紫外線照射炉内で硬化させ、第1の
電極22と同様の厚さの第1の誘電体層23を形成した
。
、粘度500cpsの紫外線硬化型エポキシ樹脂をエア
デイスペンサーにより吐出し、ドクターブレードにより
第1の電極間に埋め込むように塗布した。この紫外線硬
化型エポキシ樹脂を紫外線照射炉内で硬化させ、第1の
電極22と同様の厚さの第1の誘電体層23を形成した
。
次に、ポリフッ化ビニリデン粉末の40重量%メチルエ
チルケトン溶液からなる誘電体分散溶液を調製し、これ
を通常のスクリーン印刷を用いて全面に塗布した。そし
て直ちに塗布層上に、それぞれ複数の開口26を有する
複数の第2の電極25を、その開口が第1の電極22に
対応するように、第1の電極22とは異なる方向に配置
した。
チルケトン溶液からなる誘電体分散溶液を調製し、これ
を通常のスクリーン印刷を用いて全面に塗布した。そし
て直ちに塗布層上に、それぞれ複数の開口26を有する
複数の第2の電極25を、その開口が第1の電極22に
対応するように、第1の電極22とは異なる方向に配置
した。
この状態のままで常温下で1日〜2日程度の期間放置し
、ゆっくりと塗布層を乾燥し、厚さ22μmの第2の誘
電体層24を形成した。なお、同時に第2の電極25が
第2の誘電体層24の表面に固着した。
、ゆっくりと塗布層を乾燥し、厚さ22μmの第2の誘
電体層24を形成した。なお、同時に第2の電極25が
第2の誘電体層24の表面に固着した。
その後、実施例1と同様にして、第2の電極25の上に
感光性絶縁樹脂フィルム(図示せず)を真空ラミネート
し、このフィルムをフォトリソグラフィーによりパター
ニングして第2の電極25の開口に対応した開口を設け
、更にその上に第3の電極(図示せず)をその開口部が
感光性絶縁樹脂フィルムの開口に対応するように位置決
めして接着することにより、イオン発生装置を得た。
感光性絶縁樹脂フィルム(図示せず)を真空ラミネート
し、このフィルムをフォトリソグラフィーによりパター
ニングして第2の電極25の開口に対応した開口を設け
、更にその上に第3の電極(図示せず)をその開口部が
感光性絶縁樹脂フィルムの開口に対応するように位置決
めして接着することにより、イオン発生装置を得た。
このようにして製造されたイオン製造装置を用いて、実
施例1と同様、第1の電極と第2の電極との間に交互に
電圧を印加したところ、接着剤によってイオンの発生が
妨げられることなく効率良く、均一にイオンが発生した
。
施例1と同様、第1の電極と第2の電極との間に交互に
電圧を印加したところ、接着剤によってイオンの発生が
妨げられることなく効率良く、均一にイオンが発生した
。
なお、この実施例では、粘度が500cpsの紫外線硬
化型エポキシ樹脂を用いたが、粘度は1000cps以
下、好ましくは100〜65゜cpsの範囲で適宜選択
することが出来る。また、誘電体分散溶液の濃度は実施
例1と同様、30〜50重量%の間で使用可能であり、
固化後の誘電体層の厚さは15〜30μmの間で変化さ
せることが可能である。
化型エポキシ樹脂を用いたが、粘度は1000cps以
下、好ましくは100〜65゜cpsの範囲で適宜選択
することが出来る。また、誘電体分散溶液の濃度は実施
例1と同様、30〜50重量%の間で使用可能であり、
固化後の誘電体層の厚さは15〜30μmの間で変化さ
せることが可能である。
実施例3
ポリフッ化ビニリデン粉末の30重量%メチルエチルケ
トン溶液に分散剤として弗素系界面活性剤を加えて誘電
体分散溶液を調製し、これを厚さ5μmの銅箔27と厚
さ30μmのステンレス箔28のそれぞれの上にスプレ
ー塗布し、常温で60分間乾燥した。その後、これら銅
箔27及びステンレス箔28の塗布層同士を重ね合せ、
両塗布層を接合して誘電体層29を形成した。次いで、
銅箔27又はステンレス箔28の上に静かに加熱板を置
き、200〜250”Cでヒートプレスした。
トン溶液に分散剤として弗素系界面活性剤を加えて誘電
体分散溶液を調製し、これを厚さ5μmの銅箔27と厚
さ30μmのステンレス箔28のそれぞれの上にスプレ
ー塗布し、常温で60分間乾燥した。その後、これら銅
箔27及びステンレス箔28の塗布層同士を重ね合せ、
両塗布層を接合して誘電体層29を形成した。次いで、
銅箔27又はステンレス箔28の上に静かに加熱板を置
き、200〜250”Cでヒートプレスした。
その結果、誘電体層29は加熱賦活され、第6図に示す
ように、相互に強固に固着された銅箔27−誘電体層2
9−ステンレス箔28からなる3層構造が得られた。な
お、誘電体層29は薄いため銅箔27又はステンレス箔
28のいずれかの上に加熱板を置くことで誘電体層29
の両面が賦活されるが、もちろん銅箔27及びステンレ
ス箔28の双方の上に加熱板を置くことも可能である。
ように、相互に強固に固着された銅箔27−誘電体層2
9−ステンレス箔28からなる3層構造が得られた。な
お、誘電体層29は薄いため銅箔27又はステンレス箔
28のいずれかの上に加熱板を置くことで誘電体層29
の両面が賦活されるが、もちろん銅箔27及びステンレ
ス箔28の双方の上に加熱板を置くことも可能である。
この3層構造の銅箔27とステンレス箔28とを、フォ
トリソグラフィーを用いてそれぞれ所定のパターンにパ
ターニングすることにより、第5図に示すものと同様の
第1の電極23及び第2の電極25を得た。なお、第2
の電極の開口は、第1の電極22と第2の電極25との
交差部に対応している。その後、実施例2と同様に、第
1の電極22の電極間をエポキシ樹脂で充填して第1の
誘電体層23を形成し、更に厚さ125μmのポリエス
テルフィルムからなる絶縁基板21を第1の電極22上
に重ねた。そして、この絶縁基板21を介して紫外線を
照射してエポキシ樹脂を硬化させることにより、絶縁基
板21と第1の電極とを固着させた。
トリソグラフィーを用いてそれぞれ所定のパターンにパ
ターニングすることにより、第5図に示すものと同様の
第1の電極23及び第2の電極25を得た。なお、第2
の電極の開口は、第1の電極22と第2の電極25との
交差部に対応している。その後、実施例2と同様に、第
1の電極22の電極間をエポキシ樹脂で充填して第1の
誘電体層23を形成し、更に厚さ125μmのポリエス
テルフィルムからなる絶縁基板21を第1の電極22上
に重ねた。そして、この絶縁基板21を介して紫外線を
照射してエポキシ樹脂を硬化させることにより、絶縁基
板21と第1の電極とを固着させた。
その後、実施例と同様にして第2の電極25の上に感光
性絶縁樹脂フィルム(図示せず)を真空ラミネートシ、
このフィルムをフォトリソグラフィーによりパターニン
グして第2の電極25の開口に対応した開口を設け、更
にその上に′!s3の電極(図示せず)をその開口部が
感光性絶縁樹脂フィルムの開口に対応するように位置決
めして接着することにより、イオン発生装置を得た。
性絶縁樹脂フィルム(図示せず)を真空ラミネートシ、
このフィルムをフォトリソグラフィーによりパターニン
グして第2の電極25の開口に対応した開口を設け、更
にその上に′!s3の電極(図示せず)をその開口部が
感光性絶縁樹脂フィルムの開口に対応するように位置決
めして接着することにより、イオン発生装置を得た。
このようにして製造されたイオン製造装置を用いて、実
施例1と同様、第1の電極と第2の電極との間に交互に
電圧を印加したところ、接着剤によってイオンの発生が
妨げられることなく効率良く、均一にイオンが発生した
。
施例1と同様、第1の電極と第2の電極との間に交互に
電圧を印加したところ、接着剤によってイオンの発生が
妨げられることなく効率良く、均一にイオンが発生した
。
なお、この実施例では、30重量%メチルエチルケトン
溶液からなる誘電体分散溶液を用い、固化後の厚さ15
μmの誘電体層を形成したが、誘電体分散溶液の濃度は
20〜40重量%の間で使用可能であり、固化後の誘電
体層の厚さは15〜30μmの間で変化させることが可
能である。
溶液からなる誘電体分散溶液を用い、固化後の厚さ15
μmの誘電体層を形成したが、誘電体分散溶液の濃度は
20〜40重量%の間で使用可能であり、固化後の誘電
体層の厚さは15〜30μmの間で変化させることが可
能である。
[発明の効果コ
以上説明したように、本発明の方法により得た誘電記録
用イオン発生装置では、電極と誘電体層との間に接着剤
が存在しないため、イオンが発生する電極の開口部にお
ける誘電体層の表面が接着剤で覆われることがなく、そ
のためイオンの発生が何ら妨げられることがない。従っ
て、本発明の方法により得た誘電記録用イオン発生装置
によると、効率良く、均一なイオンの発生が可能である
。
用イオン発生装置では、電極と誘電体層との間に接着剤
が存在しないため、イオンが発生する電極の開口部にお
ける誘電体層の表面が接着剤で覆われることがなく、そ
のためイオンの発生が何ら妨げられることがない。従っ
て、本発明の方法により得た誘電記録用イオン発生装置
によると、効率良く、均一なイオンの発生が可能である
。
また、本発明で誘電体として用いているポリフッ化ビニ
リデンは、現在先端材料として広く一般に用いられてお
り、比較的容易に入手可能である。
リデンは、現在先端材料として広く一般に用いられてお
り、比較的容易に入手可能である。
また、マイカよりも高い合格率で所望の特性を有する材
料を確保出来るため、安価なイオン発生装置の製造が可
能である。
料を確保出来るため、安価なイオン発生装置の製造が可
能である。
第1図は本発明の方法により製造されたイオン発生装置
の断面図、第2図はその斜視図、第3図及び第4図は本
発明の一実施例に係るイオン発生装置の製造工程を示す
断面図、第5図及び6図は本発明の他の実施例に係るイ
オン発生装置の製造工程を示す断面図である。 1・・・絶縁基板、2・・・第1の電極、3・・・誘電
体層、4・・・第2の電極、5・・・絶縁体層、6・・
・第3の電極、7・・・開口。 出願人代理人 弁理士 坪井 淳 第3図 第4図 第5図 第6図
の断面図、第2図はその斜視図、第3図及び第4図は本
発明の一実施例に係るイオン発生装置の製造工程を示す
断面図、第5図及び6図は本発明の他の実施例に係るイ
オン発生装置の製造工程を示す断面図である。 1・・・絶縁基板、2・・・第1の電極、3・・・誘電
体層、4・・・第2の電極、5・・・絶縁体層、6・・
・第3の電極、7・・・開口。 出願人代理人 弁理士 坪井 淳 第3図 第4図 第5図 第6図
Claims (2)
- (1)誘電体層と、この誘電体層の一方の面に形成され
た一方向に伸びる複数の第1の電極と、誘電体層の他方
の面に形成された前記第1の電極と交差する方向に伸び
る複数の第2の電極を具備する誘電記録用イオン発生装
置の製造方法において、ポリフッ化ビニリデン分散溶液
を調製する工程、前記第1の電極及び/又は第2の電極
の表面にポリフッ化ビニリデン分散溶液を塗布し、誘電
体層を形成する工程、この誘電体層を乾燥して揮発成分
を揮発せしめる工程、この誘電体層上に他方の電極を重
ねるか又は他方の電極上の誘電体層を重ねる工程、及び
前記誘電体層を加熱賦活して前記誘電体層と他方の電極
又は他方の電極上の誘電体層とを固着させる工程を具備
することを特徴とする誘電記録用イオン発生装置の製造
方法。 - (2)誘電体層と、この誘電体層の一方の面に形成され
た一方向に伸びる複数の第1の電極と、誘電体層の他方
の面に形成された前記第1の電極と交差する方向に伸び
る複数の第2の電極を具備する誘電記録用イオン発生装
置の製造方法において、ポリフッ化ビニリデン分散溶液
を調製する工程、前記第1の電極及び第2の電極のいず
れか一方の表面にポリフッ化ビニリデン分散溶液を塗布
し、誘電体層を形成する工程、この誘電体層上に他方の
電極を重ねるか工程、及びこの誘電体層を乾燥して揮発
成分を揮発せしめ、前記誘電体層と第1及び第2の電極
とを固着させる工程を具備することを特徴とする誘電記
録用イオン発生装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28785790A JPH04161361A (ja) | 1990-10-25 | 1990-10-25 | 誘電記録用イオン発生装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28785790A JPH04161361A (ja) | 1990-10-25 | 1990-10-25 | 誘電記録用イオン発生装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04161361A true JPH04161361A (ja) | 1992-06-04 |
Family
ID=17722668
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28785790A Pending JPH04161361A (ja) | 1990-10-25 | 1990-10-25 | 誘電記録用イオン発生装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04161361A (ja) |
-
1990
- 1990-10-25 JP JP28785790A patent/JPH04161361A/ja active Pending
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