JPH04182910A - 非磁性酸化物基板材料及び磁気ヘッド - Google Patents
非磁性酸化物基板材料及び磁気ヘッドInfo
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- JPH04182910A JPH04182910A JP2311128A JP31112890A JPH04182910A JP H04182910 A JPH04182910 A JP H04182910A JP 2311128 A JP2311128 A JP 2311128A JP 31112890 A JP31112890 A JP 31112890A JP H04182910 A JPH04182910 A JP H04182910A
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- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/46—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates
- C04B35/462—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/10—Structure or manufacture of housings or shields for heads
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- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
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- Soft Magnetic Materials (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は軟磁性薄膜を被着してなる磁気ヘッドに用いら
れる非磁性の酸化物基板材料と、それを用いた磁気ヘッ
ドに関するものである。
れる非磁性の酸化物基板材料と、それを用いた磁気ヘッ
ドに関するものである。
［従来の技術］
ＶＴＲ、ディジタルオーディオ（ＤＡＴ）等に組み込ま
れる磁気ヘッドとして、基板材料の表面にセンダスト、
アモルファス磁性合金等の磁性薄膜を形成した薄膜磁気
ヘッドが広く用いられている。
れる磁気ヘッドとして、基板材料の表面にセンダスト、
アモルファス磁性合金等の磁性薄膜を形成した薄膜磁気
ヘッドが広く用いられている。
かかる薄膜磁気ヘッドにおいては、基板材料の熱膨張係
数が磁性薄膜の熱膨張係数と近似していることが必要と
される。すなわち、両者の熱膨張係数の差が大きいと、
温度変化によって両材料の接合界面に応力が生じ、亀裂
を発生させたり、磁気特性を低下させたりするおそれが
ある。さらに基板材料として具現すべき性質に磁気テー
プとの走行において平滑性が維持され、かつ適度な摩耗
性を有すること等、磁気テープとの摺動性、摩耗性が良
好なことが挙げられる。
数が磁性薄膜の熱膨張係数と近似していることが必要と
される。すなわち、両者の熱膨張係数の差が大きいと、
温度変化によって両材料の接合界面に応力が生じ、亀裂
を発生させたり、磁気特性を低下させたりするおそれが
ある。さらに基板材料として具現すべき性質に磁気テー
プとの走行において平滑性が維持され、かつ適度な摩耗
性を有すること等、磁気テープとの摺動性、摩耗性が良
好なことが挙げられる。
磁性薄膜としては磁気特性が優れているコバルト（Ｃｏ
）系アモルファス薄膜及びセンダスト薄膜の利用が進め
られている。Ｃｏ系アモルファス合金の熱膨張係数は１
００〜１２０ ｘｌ０．７／℃であり、センダストの熱
膨張係数は１２０Ｘ １０−７／’Ｃ以上であり、基板
材料としても同様の熱膨張係数を有する材料が必要とな
る。
）系アモルファス薄膜及びセンダスト薄膜の利用が進め
られている。Ｃｏ系アモルファス合金の熱膨張係数は１
００〜１２０ ｘｌ０．７／℃であり、センダストの熱
膨張係数は１２０Ｘ １０−７／’Ｃ以上であり、基板
材料としても同様の熱膨張係数を有する材料が必要とな
る。
かかる特性を有した基板材料として、Ｎｉ０−Ｔ ｉ
Ｏ２糸酸化物材料（特開昭６２−９５８１０号、同６０
−２０４６６８号、同６０−２０４６６９号、同６０−
２４６２５８号、同６０−２４６２５９号−１同６０−
２６４３６２号、同６０〜２６４３６３号、同６２−１
４３８５７号）及びＮ１０．Ｃｏｏ ＴｉＯ２系酸化
物材料（特開平２−１５４３０７号）等が公知である。
Ｏ２糸酸化物材料（特開昭６２−９５８１０号、同６０
−２０４６６８号、同６０−２０４６６９号、同６０−
２４６２５８号、同６０−２４６２５９号−１同６０−
２６４３６２号、同６０〜２６４３６３号、同６２−１
４３８５７号）及びＮ１０．Ｃｏｏ ＴｉＯ２系酸化
物材料（特開平２−１５４３０７号）等が公知である。
特開昭６２−９５８１０号にはＮｉ０５０〜９０ｗｔ％
、残部Ｔ ｉ Ｏ２よりなる基板材料と、Ｎｉ０１Ｔｉ
ｅ２にさらにＺｒＯ□を少量添加した基板材料が開示さ
れている。これ以外の公報には、Ｎ１０．ＴｉＯ２系に
おいて、更にＣａ Ｏ、Ｍ ｇ Ｏ、Ａ ｌ ２０３、
Ｚｒ（）ｚ 、Ｃｒ２Ｏ３、Ｌ ｔ２０．ＣａＭｎＯ３
等を添加した組成系の基板材料が開示されている。
、残部Ｔ ｉ Ｏ２よりなる基板材料と、Ｎｉ０１Ｔｉ
ｅ２にさらにＺｒＯ□を少量添加した基板材料が開示さ
れている。これ以外の公報には、Ｎ１０．ＴｉＯ２系に
おいて、更にＣａ Ｏ、Ｍ ｇ Ｏ、Ａ ｌ ２０３、
Ｚｒ（）ｚ 、Ｃｒ２Ｏ３、Ｌ ｔ２０．ＣａＭｎＯ３
等を添加した組成系の基板材料が開示されている。
また、特開平２−１５４３０７号にはＣ００２５〜８５
ＩＴＩ０１％、 Ｎ ｉ ＯＯ〜５０ ｍｏｌ％
、 Ｔ １０２ ５〜２０ Ｉｎ０１％よりなる基板材
料が開示されている。
ＩＴＩ０１％、 Ｎ ｉ ＯＯ〜５０ ｍｏｌ％
、 Ｔ １０２ ５〜２０ Ｉｎ０１％よりなる基板材
料が開示されている。
これら公知の基板材料は、熱膨張係数は磁性薄膜合金と
近似したものが得られるが、磁気テープとの走行時にお
ける平滑性の保持や摩耗性について問題があること、及
び面荒れや磁性薄膜との偏摩耗が生じ易い欠点のあるこ
とが最近指摘されている。
近似したものが得られるが、磁気テープとの走行時にお
ける平滑性の保持や摩耗性について問題があること、及
び面荒れや磁性薄膜との偏摩耗が生じ易い欠点のあるこ
とが最近指摘されている。
非磁性体を基板材料とし、磁気ヘッドとしてのギャップ
相当部に磁性薄膜を配した例としては、特開昭６０−２
３１９０３号記載のものが挙げられる。この磁気ヘッド
は、磁気記録媒体対向面における断面形状が突出してい
るほぼ７字状の突起部の少なくとも両側面と作動ギャッ
プ形成面上に前記金属磁性体が被着され、該突起部の先
端部において作動ギャップを介して該金属磁性体が相対
峙した構造となっている。
相当部に磁性薄膜を配した例としては、特開昭６０−２
３１９０３号記載のものが挙げられる。この磁気ヘッド
は、磁気記録媒体対向面における断面形状が突出してい
るほぼ７字状の突起部の少なくとも両側面と作動ギャッ
プ形成面上に前記金属磁性体が被着され、該突起部の先
端部において作動ギャップを介して該金属磁性体が相対
峙した構造となっている。
［発明が解決しようとする課題］
また、ＣＯ系アモルファス薄膜の熱膨張係数に合致した
非磁性基板材料としては、先に本発明者等が提案した実
質的にＮ ｉ Ｔ ｉ ０．相とＮｉＯ相より成り、Ｎ
ｉ０６０〜７７ｗｔ％、Ｔｉ０ｚ４０〜２３ｗｔ％より
成る組成のものがある（特願平２−８１５０３号）。し
かし、この組成のものにおいても磁気テープとの摺動に
おいて面荒れが大きく、また、摩耗性についても改良す
べき点のあることがわかった。
非磁性基板材料としては、先に本発明者等が提案した実
質的にＮ ｉ Ｔ ｉ ０．相とＮｉＯ相より成り、Ｎ
ｉ０６０〜７７ｗｔ％、Ｔｉ０ｚ４０〜２３ｗｔ％より
成る組成のものがある（特願平２−８１５０３号）。し
かし、この組成のものにおいても磁気テープとの摺動に
おいて面荒れが大きく、また、摩耗性についても改良す
べき点のあることがわかった。
本発明は、磁気ヘッドの基板材料において、磁気テープ
との摺動時の面荒れの解決及びテープ走行時の磁性薄膜
と基板間の摩耗の合致を図り、磁気テープとの摺動性、
摩耗性が適合した磁気ヘッドを提供することを目的とす
る。
との摺動時の面荒れの解決及びテープ走行時の磁性薄膜
と基板間の摩耗の合致を図り、磁気テープとの摺動性、
摩耗性が適合した磁気ヘッドを提供することを目的とす
る。
［課題を解決するための手段〕
本発明は、Ｎ ｉ ０１５〜６０ ｍｏｌ％、ＣｏＯ１
Ｏ〜７０ｍｏｌ％、Ｔ ｉ Ｏ２１０〜４０ ｍｏｌ％
、Ｃａ００．５〜２５ｍｏｌ％からなることを特徴とす
るものである。また、本発明は上記組成のもの１００重
量部に対し、さらにＭｇＯまたはＺｒ ０２を０．５〜
３ｗｔ％添加したことを特徴とするものである。
Ｏ〜７０ｍｏｌ％、Ｔ ｉ Ｏ２１０〜４０ ｍｏｌ％
、Ｃａ００．５〜２５ｍｏｌ％からなることを特徴とす
るものである。また、本発明は上記組成のもの１００重
量部に対し、さらにＭｇＯまたはＺｒ ０２を０．５〜
３ｗｔ％添加したことを特徴とするものである。
従来のＮ ｉ Ｏ’ Ｔ ｉ Ｏ２系基板材料は磁気テ
ープと摺動させると時間経過と共に面荒れが激しくなり
、磁気ヘッドに供するには不適であることは先に述べた
が本発明者らが種々研究した結果、ＣａＯを加えること
により結晶粒が微細化され、磁気テープとの摺動による
面荒れが大幅に低減され、実用に供し得ることを見出し
た。
ープと摺動させると時間経過と共に面荒れが激しくなり
、磁気ヘッドに供するには不適であることは先に述べた
が本発明者らが種々研究した結果、ＣａＯを加えること
により結晶粒が微細化され、磁気テープとの摺動による
面荒れが大幅に低減され、実用に供し得ることを見出し
た。
すなわち、Ｎ１０．ＴｉＯ□系において、ＮｉＯをＣａ
Ｏで０〜３０ ｍｏｌ％まで置換したところ、Ｃａ Ｏ
０．５ｍｏｌ％未滴では磁気テープとの摺動における面
荒れが大きく、かつ結晶粒の大きさもＮ１０．ＴｉＯ□
系と同等であり効果がないが、ＣａＯを０−５ ｍｏｌ
％以上置換すると結晶粒の微細化が図られ、面荒れの大
きさも著しく低減されることがわかった。
Ｏで０〜３０ ｍｏｌ％まで置換したところ、Ｃａ Ｏ
０．５ｍｏｌ％未滴では磁気テープとの摺動における面
荒れが大きく、かつ結晶粒の大きさもＮ１０．ＴｉＯ□
系と同等であり効果がないが、ＣａＯを０−５ ｍｏｌ
％以上置換すると結晶粒の微細化が図られ、面荒れの大
きさも著しく低減されることがわかった。
ＣａＯの上限を３０ ｍｏｌ％としたのは、ＣａＯは吸
湿性があり、そのためできるだけ使用料を少なくする方
が望ましいためである。なお、磁気テープ走行時の摩耗
性を考慮すると、ＣａＯの範囲は０．５〜２５ ｍｏｌ
％の範囲が好ましい。
湿性があり、そのためできるだけ使用料を少なくする方
が望ましいためである。なお、磁気テープ走行時の摩耗
性を考慮すると、ＣａＯの範囲は０．５〜２５ ｍｏｌ
％の範囲が好ましい。
磁気テープとの走行において、上述した摺動性（平滑性
）と共に重要なことは適度に摩耗することである。具体
的には磁気薄膜と基板材料がほぼ同等に摩耗することが
要求される。これが満足されないと、薄膜と基板との摩
耗量が異なり（偏摩耗）、磁気ヘッドの寿命に影響し、
信頼性に欠けることになる。このため、現用の磁性体フ
ェライト基板とほぼ同等レベルの摩耗量のものが望まれ
る。
）と共に重要なことは適度に摩耗することである。具体
的には磁気薄膜と基板材料がほぼ同等に摩耗することが
要求される。これが満足されないと、薄膜と基板との摩
耗量が異なり（偏摩耗）、磁気ヘッドの寿命に影響し、
信頼性に欠けることになる。このため、現用の磁性体フ
ェライト基板とほぼ同等レベルの摩耗量のものが望まれ
る。
また、材料の摩耗性を予測する物性値としてはビッカー
ス硬さが挙げられる。Ｎ１０．ＴｉＯ□系基板材料のビ
ッカース硬さは約９００ ｋｇｆ／ｍａｄ２であり、硬
いために磁気テープとの走行においてほとんど摩耗しな
い。そのため磁性薄膜との偏摩耗を生ずる。ビッカース
硬さを低減させるためには、焼結温度を高（すれば良い
が、これを行うと結晶粒が大きくなり面荒れの原因とな
る。このため、本発明者らは第３成分の探索を行い、Ｎ
ｉ ０．ＴｉＯ２系にＣｏｏを加えるとビッカース硬
さを制御できることを見出し本発明を成し得たものであ
る。
ス硬さが挙げられる。Ｎ１０．ＴｉＯ□系基板材料のビ
ッカース硬さは約９００ ｋｇｆ／ｍａｄ２であり、硬
いために磁気テープとの走行においてほとんど摩耗しな
い。そのため磁性薄膜との偏摩耗を生ずる。ビッカース
硬さを低減させるためには、焼結温度を高（すれば良い
が、これを行うと結晶粒が大きくなり面荒れの原因とな
る。このため、本発明者らは第３成分の探索を行い、Ｎ
ｉ ０．ＴｉＯ２系にＣｏｏを加えるとビッカース硬
さを制御できることを見出し本発明を成し得たものであ
る。
現用の磁性体フェライト基板のビッカース硬さは６００
〜７００ ｋｇｆ／ｍｍ２であるが、本発明によるＮｉ
０．Ｔ ｉ Ｏｔ系にＣｏｏを例えば１０ ｍｏｌ％
加えたものは、ビッカース硬さがほぼ７００ｋｇｆ／ｍ
＋ａ２であり、さらにＣａＯ量を増加すると、７０ ｍ
ｏｌ％まで６００ ｋｇｆ／−ｍ２台で緩やかに減少し
、７０■０１％を越えるとビッカース硬さはＳＯＯｋｇ
ｆ／ｎｍ”台まで低下する。これらＣａＯ量を変化させ
たＮ１０．Ｔｉ０２ ＣｏＯ系材系材対し、磁気テープ
走行に対する摩耗量をフェライトと比較したところ、Ｃ
ｏＯ量２０〜７０ ｍｏｌ％のものはフェライトの１１
５〜１／ｌＯ程度しか摩耗せず、Ｃｏ ０７（ｌ ｍｏ
ｌ％を越えると逆にフェライトの２倍以上摩耗すること
がわかった。更にまた、Ｃｏ０２０〜７０ ｍｏｌ％を
含むものは磁気テープ走行後の面荒れが低減されている
こともわかった。
〜７００ ｋｇｆ／ｍｍ２であるが、本発明によるＮｉ
０．Ｔ ｉ Ｏｔ系にＣｏｏを例えば１０ ｍｏｌ％
加えたものは、ビッカース硬さがほぼ７００ｋｇｆ／ｍ
＋ａ２であり、さらにＣａＯ量を増加すると、７０ ｍ
ｏｌ％まで６００ ｋｇｆ／−ｍ２台で緩やかに減少し
、７０■０１％を越えるとビッカース硬さはＳＯＯｋｇ
ｆ／ｎｍ”台まで低下する。これらＣａＯ量を変化させ
たＮ１０．Ｔｉ０２ ＣｏＯ系材系材対し、磁気テープ
走行に対する摩耗量をフェライトと比較したところ、Ｃ
ｏＯ量２０〜７０ ｍｏｌ％のものはフェライトの１１
５〜１／ｌＯ程度しか摩耗せず、Ｃｏ ０７（ｌ ｍｏ
ｌ％を越えると逆にフェライトの２倍以上摩耗すること
がわかった。更にまた、Ｃｏ０２０〜７０ ｍｏｌ％を
含むものは磁気テープ走行後の面荒れが低減されている
こともわかった。
すなわち、本発明はＣａＯとＣｏｏを同時に加えること
により面荒れの低減化を図るとともに、摩耗性を著しく
向上させたことを特徴とするものである。Ｎ１０．Ｔｉ
Ｏｔ −ＣａＯ系にＣａＯを加えると、 ５ ｍｏｌ％
ＣａＯでフェライトの約１７２．１０ ｍｏｌ％以上加
えるとほぼフェライトと同等の摩耗量が得られ、これは
２５ ｍｏｌ％ＣａＯまで持続され、３０ ｍｏｌ％Ｃ
ａＯになると再び摩耗しなくなる。
により面荒れの低減化を図るとともに、摩耗性を著しく
向上させたことを特徴とするものである。Ｎ１０．Ｔｉ
Ｏｔ −ＣａＯ系にＣａＯを加えると、 ５ ｍｏｌ％
ＣａＯでフェライトの約１７２．１０ ｍｏｌ％以上加
えるとほぼフェライトと同等の摩耗量が得られ、これは
２５ ｍｏｌ％ＣａＯまで持続され、３０ ｍｏｌ％Ｃ
ａＯになると再び摩耗しなくなる。
本発明において各成分の限定範囲を規定したのは以下に
述べる理由からである。ＣａＯを０．５〜２５ ｗｏｏ
１％としたのは、０．５ｍｏｌ％未満では、磁気テープ
との摺動において面荒れが太き（、かつ摩耗量が少ない
。一方、２５ ｍｏｌ％を越えると摩耗量が少なく、基
板材料として不適当であるためである。Ｃｏｏを１０〜
７０１１０１％としたのは、Ｃｏｏが１０ ｇｏａ１％
未満ではビッカース硬さが７００ｋｇｆ／ｍｍ”以上を
有し、摩耗しに（いためである。しかし、７０ ｍｏｌ
％を越えるとビッカース硬さが６００ｋｇｆ１０＋ｍ２
よりも小さく、摩耗が激しくなるため信頼性を損なう、
Ｔｉ０−をｌＯ〜４０請０１％と限定したのは、Ｔｉ０
ｚは熱膨張係数を低下させ、ＣａＯは逆に増加させるた
め、’Ｔｉ０ｚが１０ ｍｏｌ％未満では熱膨張係数を
所望の範囲を越え、調整することが困難となる。一方、
４０ ＩＩａ１％を越えると、Ｔ ｉ Ｏｚ量が多過ぎ
て熱膨張係数が１００Ｘ １０−’／ ’Ｃ以下となる
ため好ましくない。
述べる理由からである。ＣａＯを０．５〜２５ ｗｏｏ
１％としたのは、０．５ｍｏｌ％未満では、磁気テープ
との摺動において面荒れが太き（、かつ摩耗量が少ない
。一方、２５ ｍｏｌ％を越えると摩耗量が少なく、基
板材料として不適当であるためである。Ｃｏｏを１０〜
７０１１０１％としたのは、Ｃｏｏが１０ ｇｏａ１％
未満ではビッカース硬さが７００ｋｇｆ／ｍｍ”以上を
有し、摩耗しに（いためである。しかし、７０ ｍｏｌ
％を越えるとビッカース硬さが６００ｋｇｆ１０＋ｍ２
よりも小さく、摩耗が激しくなるため信頼性を損なう、
Ｔｉ０−をｌＯ〜４０請０１％と限定したのは、Ｔｉ０
ｚは熱膨張係数を低下させ、ＣａＯは逆に増加させるた
め、’Ｔｉ０ｚが１０ ｍｏｌ％未満では熱膨張係数を
所望の範囲を越え、調整することが困難となる。一方、
４０ ＩＩａ１％を越えると、Ｔ ｉ Ｏｚ量が多過ぎ
て熱膨張係数が１００Ｘ １０−’／ ’Ｃ以下となる
ため好ましくない。
本発明における基板材料は適度な摩耗性を付与させるた
め、ビッカース硬さの調整が重要である。
め、ビッカース硬さの調整が重要である。
ＣａＯは限定範囲においてはほとんど硬さを変化させな
いが、Ｃｏｏはビッカース硬さを低減させ、ＮｉＯとＴ
ｉＯ２は逆に増大させる。従って、ＮｉＯを１５〜６０
ＩＩＩＯ１％と限定したのは、１５ ｍｏｌ％未満では
相対的にＣａＯ量が多（なり、ビッカース硬さが６００
ｋｇｆ／ｌｌｌｍ２よりも小となり、摩耗量が大となる
ためである。また、６０ ｍｏｌ％を越えるとビッカー
ス硬さの調整が困難となり、７５０ｋｇｆ／ｍｍ”以と
と硬（なり、摩耗しにくくなるためである。
いが、Ｃｏｏはビッカース硬さを低減させ、ＮｉＯとＴ
ｉＯ２は逆に増大させる。従って、ＮｉＯを１５〜６０
ＩＩＩＯ１％と限定したのは、１５ ｍｏｌ％未満では
相対的にＣａＯ量が多（なり、ビッカース硬さが６００
ｋｇｆ／ｌｌｌｍ２よりも小となり、摩耗量が大となる
ためである。また、６０ ｍｏｌ％を越えるとビッカー
ス硬さの調整が困難となり、７５０ｋｇｆ／ｍｍ”以と
と硬（なり、摩耗しにくくなるためである。
なお、後述する実施例ではＣａＯとしてＣａＣ０−を使
用したが、本発明においては、ＣａＯそのものを使用し
ても何ら問題はない。
用したが、本発明においては、ＣａＯそのものを使用し
ても何ら問題はない。
また、本発明者らは、当初は特級試薬の原料を使用した
が、コスト高となるため、市販の量産原料でも検討を加
えた。このとき、製造メーカーの異なる原料粉あるいは
製造ロットが異なる原料粉を用いると、焼結体の結晶粒
子間の結合が弱くなるためか、鏡面仕上げの際に脱粒の
問題が発生した。この改善のため、本発明者らは種々検
討を行い、ＭｇＯあるいはＺ ｒ Ｏ２添加が効果ある
ことを見出した。ＭｇＯあるいはＺ ｒ Ｏ２添加量が
０、５ｗｔ％未満では脱粒が多く、さらに添加量を増す
と改善され、ボイドの無い鏡面が得られる。添加量が３
ｗｔ％を越えるとＴ ｌ ０２及びＣａＯとの化合物を
形成し、異相として出現して、磁気テープとの摺動性を
損なうため、ＭｇＯまたはＺ ｒ ０２は０．５〜３ｗ
ｔ％添加するのが望ましい。
が、コスト高となるため、市販の量産原料でも検討を加
えた。このとき、製造メーカーの異なる原料粉あるいは
製造ロットが異なる原料粉を用いると、焼結体の結晶粒
子間の結合が弱くなるためか、鏡面仕上げの際に脱粒の
問題が発生した。この改善のため、本発明者らは種々検
討を行い、ＭｇＯあるいはＺ ｒ Ｏ２添加が効果ある
ことを見出した。ＭｇＯあるいはＺ ｒ Ｏ２添加量が
０、５ｗｔ％未満では脱粒が多く、さらに添加量を増す
と改善され、ボイドの無い鏡面が得られる。添加量が３
ｗｔ％を越えるとＴ ｌ ０２及びＣａＯとの化合物を
形成し、異相として出現して、磁気テープとの摺動性を
損なうため、ＭｇＯまたはＺ ｒ ０２は０．５〜３ｗ
ｔ％添加するのが望ましい。
また本発明による磁気ヘッドは、前記非磁性酸化物基板
により一対のコアを作成し、両コアの間にギャップを形
成し、そのギャップ部を含むコア合わせ面に磁性薄膜を
形成することにより作製することができる。
により一対のコアを作成し、両コアの間にギャップを形
成し、そのギャップ部を含むコア合わせ面に磁性薄膜を
形成することにより作製することができる。
［実施例］
以下、本発明を実施例に基づいて説明するが、本発明は
これら実施例の態様のみに限定されるものではない。
これら実施例の態様のみに限定されるものではない。
（実施例１）
特級試薬Ｎ ｉ ０．Ｔ ｉ ０２ 、 Ｃｏｏ、及び
ＣａＯとしてＣａＣ０−を使用し、第１表に示す割合と
なるように秤量し、純水を用いてボールミル混合した。
ＣａＯとしてＣａＣ０−を使用し、第１表に示す割合と
なるように秤量し、純水を用いてボールミル混合した。
乾燥後９００℃で仮焼し、再びボールミル粉砕を行い、
乾燥した。ポリビニルアルコール１０ｗｔ％水溶液を乾
燥粉重量１００ｗｔ％に対しｌ ０ｗｔ％加えて造粒し
、加圧成形した。この成形体を１２００〜１３００℃で
２時間空気中またばＮ２中にて焼結した。
乾燥した。ポリビニルアルコール１０ｗｔ％水溶液を乾
燥粉重量１００ｗｔ％に対しｌ ０ｗｔ％加えて造粒し
、加圧成形した。この成形体を１２００〜１３００℃で
２時間空気中またばＮ２中にて焼結した。
さらに、この焼結体を１５００ａｔｗ 、 １２５０〜
１３００℃、１時間、熱間静水圧加工（ＨＩ Ｐ）処理
した。
１３００℃、１時間、熱間静水圧加工（ＨＩ Ｐ）処理
した。
このようにして得られた各焼結体について、アルキメデ
ス法により密度を測定した結果、いずれも９９．５％以
上の相対密度を有することが認められた。また、熱膨張
係数、ビッカース硬さ、および磁気テープ走行による摩
耗量等を測定した結果を第１表に示す。
ス法により密度を測定した結果、いずれも９９．５％以
上の相対密度を有することが認められた。また、熱膨張
係数、ビッカース硬さ、および磁気テープ走行による摩
耗量等を測定した結果を第１表に示す。
第１表
熱膨張係数は、各焼結体から測定用資料を切り出し、熱
膨張計により室温から５００℃まで加熱し、１００〜４
００℃の間の平均熱膨張係数を求めた。ビッカース硬さ
はビッカース硬さ硬度計により、荷重３００ｇにて１０
点測定し、その平均値を求めた。磁気テープとの走行評
価は市販のＶＴＲデツキのヘッド部分を改良して試験し
た。試験時間は１００時間とし、面粗さは表面アラザ計
によりピーク対ピークの値とした。また、摩耗量は、顕
微鏡により測定した。フェライトの摩耗量との比を求め
た。
膨張計により室温から５００℃まで加熱し、１００〜４
００℃の間の平均熱膨張係数を求めた。ビッカース硬さ
はビッカース硬さ硬度計により、荷重３００ｇにて１０
点測定し、その平均値を求めた。磁気テープとの走行評
価は市販のＶＴＲデツキのヘッド部分を改良して試験し
た。試験時間は１００時間とし、面粗さは表面アラザ計
によりピーク対ピークの値とした。また、摩耗量は、顕
微鏡により測定した。フェライトの摩耗量との比を求め
た。
熱膨張係数は主にＴｉＯ□量とＣａＯ量によって調整す
ることができ、ＴｉＯ□量が増加すると減少し、ＣａＯ
量が増加すると増大する。従って、本発明においては、
Ｔ ｉ Ｏ２量とＣａＯ量を調合することにより熱膨張
係数が１００〜１４０ ×１０−７／℃のものを任意に
得ることができる。ビッカース硬さはＴ ｉ ０２量が
増加すると硬くなり、Ｃｏ。
ることができ、ＴｉＯ□量が増加すると減少し、ＣａＯ
量が増加すると増大する。従って、本発明においては、
Ｔ ｉ Ｏ２量とＣａＯ量を調合することにより熱膨張
係数が１００〜１４０ ×１０−７／℃のものを任意に
得ることができる。ビッカース硬さはＴ ｉ ０２量が
増加すると硬くなり、Ｃｏ。
量が増加すると軟らかくなる。従って、Ｔｉ０ｚ量とＣ
ａＯ量を調合することにより適正なビッカース硬さのも
のを得ることができる。ただし、ＣａＯ量が７０ ｍｏ
ｌ％を越えるとビッカース硬さは急激に低下し、７５
＋ｎｏ１％で約４９０ｋｇｆ／ｍｍ２程度になるので、
ＣａＯ量は７０ ＋ｍｏｌ％以下とすることが好ましい
６磁気テープとの摺動後の面粗さは、３０ｒ＋＋＋＋ｐ
−ｐ以下で実用に供し得るが、Ｃｏ ０７５ ｍｏｌ％
ではビッカース硬さが小さいため、面荒れが太き（なっ
ている。
ａＯ量を調合することにより適正なビッカース硬さのも
のを得ることができる。ただし、ＣａＯ量が７０ ｍｏ
ｌ％を越えるとビッカース硬さは急激に低下し、７５
＋ｎｏ１％で約４９０ｋｇｆ／ｍｍ２程度になるので、
ＣａＯ量は７０ ＋ｍｏｌ％以下とすることが好ましい
６磁気テープとの摺動後の面粗さは、３０ｒ＋＋＋＋ｐ
−ｐ以下で実用に供し得るが、Ｃｏ ０７５ ｍｏｌ％
ではビッカース硬さが小さいため、面荒れが太き（なっ
ている。
第１図は第１表に示した例の中で、Ｔ ｘ Ｏ２２０ｍ
ｏｌ％一定とし、ＮｉＯとＣｏｏを１：１とした時、Ｃ
ａＯ量による摩耗量の変化を示したものである。ＣａＯ
量が０及び０．２ ｍｏｌ％ではフェライトの約ｌ／１
０程度でほとんど摩耗しないが、ＣａＯ量の増加と共に
摩耗し易（なり、ＣａＯ量がｌＯ〜１５ ｍｏｌ％でフ
ェライトと同等の摩耗量が得られ、さらにＣａＯ量が増
すと摩耗量は減少し、ＣａＯ３０ｍｏｌ％で再びフェラ
イトの約１／１０程度となり、低摩耗材料となる。
ｏｌ％一定とし、ＮｉＯとＣｏｏを１：１とした時、Ｃ
ａＯ量による摩耗量の変化を示したものである。ＣａＯ
量が０及び０．２ ｍｏｌ％ではフェライトの約ｌ／１
０程度でほとんど摩耗しないが、ＣａＯ量の増加と共に
摩耗し易（なり、ＣａＯ量がｌＯ〜１５ ｍｏｌ％でフ
ェライトと同等の摩耗量が得られ、さらにＣａＯ量が増
すと摩耗量は減少し、ＣａＯ３０ｍｏｌ％で再びフェラ
イトの約１／１０程度となり、低摩耗材料となる。
すなわち、本発明においては、ＣｏｏとＣａＯを複合で
加えることにより従来得られなかったような効果のある
ことが明らかである。
加えることにより従来得られなかったような効果のある
ことが明らかである。
以上述べたように、本発明によるＮ１０．ＴｉＯ□−Ｃ
ｏｏ−ＣａＯ系基板材料は、熱膨張係数が１００〜１４
０ ×１０−’／’Ｃが得られ、かつ適度な硬さを有し
、磁気テープとの摺動後の面荒れが小さく、摩耗量もフ
ェライトと同等である。
ｏｏ−ＣａＯ系基板材料は、熱膨張係数が１００〜１４
０ ×１０−’／’Ｃが得られ、かつ適度な硬さを有し
、磁気テープとの摺動後の面荒れが小さく、摩耗量もフ
ェライトと同等である。
（実施例２）
Ｎｉｐ、Ｔｉ０ｚ 、Ｃｏｏ、ＣａＣＯ５、ＭｇＯ及び
Ｚ ｒ Ｏｚ粉末原料として市販の量産原料を使用し、
第２表に示した割合で調合したほかは、実施例１と同じ
条件で焼結体を作製した。得られた焼結体から試料を切
り出し、鏡面仕上げを行い、脱粒の有無を調べた。その
結果を第２表に示す。
Ｚ ｒ Ｏｚ粉末原料として市販の量産原料を使用し、
第２表に示した割合で調合したほかは、実施例１と同じ
条件で焼結体を作製した。得られた焼結体から試料を切
り出し、鏡面仕上げを行い、脱粒の有無を調べた。その
結果を第２表に示す。
第２表
ＭｇＯまたはＺｒ０．を０．５〜３ｗｔ％添加した試料
は脱粒によるボイドがないことがわかるが、４ｗｔ％添
加すると異相が発生し、基板材料として好ましくない。
は脱粒によるボイドがないことがわかるが、４ｗｔ％添
加すると異相が発生し、基板材料として好ましくない。
（実施例３）
実施例１で得た基板材料を用いて１対のコアを作成し、
その１対のコアをガラス接合（ガラスボンディング）す
ることにより磁気ヘッドを製造した。これらのコアには
、それらの合わせ面に磁気ギャップが形成され、その磁
気ギャップを含むコア合わせ面に高透磁率の磁性薄膜を
スパッタリングにより形成した。なお、磁性薄膜の形成
は、スパッタリングに限定されるものではなく、蒸着・
ＣＶＤ・めっき等の手法により形成しても良い。
その１対のコアをガラス接合（ガラスボンディング）す
ることにより磁気ヘッドを製造した。これらのコアには
、それらの合わせ面に磁気ギャップが形成され、その磁
気ギャップを含むコア合わせ面に高透磁率の磁性薄膜を
スパッタリングにより形成した。なお、磁性薄膜の形成
は、スパッタリングに限定されるものではなく、蒸着・
ＣＶＤ・めっき等の手法により形成しても良い。
この磁性薄膜としては、 １００〜１２０ Ｘ １０−
’ｄｅｇ−草の熱膨張係数を有する合金薄膜が好適であ
り、このような薄膜としては例えばＣｏ系アモルファス
合金の薄膜がある。また、好適なＣｏ系アモルファス合
金の組成としてはｃｏ８３〜８６、Ｎｄ１Ｏ〜１２、Ｚ
ｒ２〜７ａｔ％が例示される。
’ｄｅｇ−草の熱膨張係数を有する合金薄膜が好適であ
り、このような薄膜としては例えばＣｏ系アモルファス
合金の薄膜がある。また、好適なＣｏ系アモルファス合
金の組成としてはｃｏ８３〜８６、Ｎｄ１Ｏ〜１２、Ｚ
ｒ２〜７ａｔ％が例示される。
本実施例では、実施例１に従って製造された基板材料か
らＣ形コア及びＩ形コアを切り出し、これらの接合され
る側の面にＣｏ系アモルファス合金（組成：Ｃｏ８４、
Ｎ ｂ １２、Ｚｒ４ａｔ％、熱膨張係数１１０ Ｘ
１０−’ｄｅｇ−’ ）厚さ３０μｍにスパッタリング
した。スパッタリング前にはＶ溝をＣ形及び■形コアに
加工（各々のブロックについて２５本）した。なおスパ
ッタリング後にＣｏ系アモルファス膜のＶ溝を削って作
成した突起部をトラック幅とした。これら１対のＣ形及
び■形コアをガラスボンディング（ガラス組成はＶ＊０
ｓ６０、Ｐ２Ｏ。
らＣ形コア及びＩ形コアを切り出し、これらの接合され
る側の面にＣｏ系アモルファス合金（組成：Ｃｏ８４、
Ｎ ｂ １２、Ｚｒ４ａｔ％、熱膨張係数１１０ Ｘ
１０−’ｄｅｇ−’ ）厚さ３０μｍにスパッタリング
した。スパッタリング前にはＶ溝をＣ形及び■形コアに
加工（各々のブロックについて２５本）した。なおスパ
ッタリング後にＣｏ系アモルファス膜のＶ溝を削って作
成した突起部をトラック幅とした。これら１対のＣ形及
び■形コアをガラスボンディング（ガラス組成はＶ＊０
ｓ６０、Ｐ２Ｏ。
２０、Ｔ Ｉ ２０ １５ 、 Ｓ ｂｚ ０３５
ｗｔ％、ボンディング温度４５０℃）した。か（して得
られた磁気ヘッドは、磁気テープとの摺動において、磁
性薄膜と基板との偏摩耗が認められず、基板の面荒れも
２０ｎｍｐ−ｐ以下であり、十分に実用に供し得るもの
であった。
ｗｔ％、ボンディング温度４５０℃）した。か（して得
られた磁気ヘッドは、磁気テープとの摺動において、磁
性薄膜と基板との偏摩耗が認められず、基板の面荒れも
２０ｎｍｐ−ｐ以下であり、十分に実用に供し得るもの
であった。
（比較例１）
比較例１はＮ Ｉ ＯＴ Ｉ Ｏを系材にＣａＯを単独
で添加した結果である。
で添加した結果である。
特級試薬Ｎｉ０１Ｔ ｉ Ｏｚ 、及びＣａＯとしてＣ
ａＣＯ３を使用し、第３表に示す割合となるように秤量
し、純水を用いてボールミル混合した。
ａＣＯ３を使用し、第３表に示す割合となるように秤量
し、純水を用いてボールミル混合した。
乾燥後９００℃で仮焼し、再びボールミル粉砕を行い、
乾燥した。ポリビニルアルコール１０ｗｔ％水溶液を乾
燥粉重量に対し１Ｏｖｔ％加えて造粒し、加圧成形した
。この成形体を１２００〜１３００℃で、２時間空気中
又はＮ２中にて焼結した。さらにこの焼結体を１５（ｌ
Ｑａｔｓ 、 １２５０〜１３００℃、１時間、熱間静
水圧加工（ＨＩＰ）処理した。
乾燥した。ポリビニルアルコール１０ｗｔ％水溶液を乾
燥粉重量に対し１Ｏｖｔ％加えて造粒し、加圧成形した
。この成形体を１２００〜１３００℃で、２時間空気中
又はＮ２中にて焼結した。さらにこの焼結体を１５（ｌ
Ｑａｔｓ 、 １２５０〜１３００℃、１時間、熱間静
水圧加工（ＨＩＰ）処理した。
このようにして得られた各焼結体についてアルキメデス
法により密度を測定した結果、いずれも９９．５％以上
の相対密度を有することが認められた。
法により密度を測定した結果、いずれも９９．５％以上
の相対密度を有することが認められた。
熱膨張係数は各焼結体から測定用試料を切り占し、熱膨
張計により室温から５００℃まで加熱し、１００〜４０
０℃の間の平均熱膨張係数を求めた。ビッカース硬さは
ビッカース硬度計により、荷重３ａＯｇにで１０点測定
し、その平均値を求めた。磁気テープとの走行評価は市
販のＶＴＲデツキのヘッド部分を改良して試験した。試
験時間は１００時間とし、面荒れは表面アラサ計により
ピーク対ピークの値とした。また摩耗量は顕微鏡により
測定し、フェライトの摩耗量との比を求めた。以上の結
果を第３表に示した。Ｎ１０．ＴｉＯ□系にＣａＯを加
えることにより結晶粒が微細化され、それに伴い磁気テ
ープとの摺動後の面荒れが低減されていることがわかる
。しかし、ピッカルス硬さは８００ｋｇｆ／ｍｍ２以上
であり、摩耗量もフェライトの１１５〜１７１０程度し
か摩耗せず、非常に低摩耗性の材料であり、この基板を
用いたときには偏摩耗が生ずることがわかる。
張計により室温から５００℃まで加熱し、１００〜４０
０℃の間の平均熱膨張係数を求めた。ビッカース硬さは
ビッカース硬度計により、荷重３ａＯｇにで１０点測定
し、その平均値を求めた。磁気テープとの走行評価は市
販のＶＴＲデツキのヘッド部分を改良して試験した。試
験時間は１００時間とし、面荒れは表面アラサ計により
ピーク対ピークの値とした。また摩耗量は顕微鏡により
測定し、フェライトの摩耗量との比を求めた。以上の結
果を第３表に示した。Ｎ１０．ＴｉＯ□系にＣａＯを加
えることにより結晶粒が微細化され、それに伴い磁気テ
ープとの摺動後の面荒れが低減されていることがわかる
。しかし、ピッカルス硬さは８００ｋｇｆ／ｍｍ２以上
であり、摩耗量もフェライトの１１５〜１７１０程度し
か摩耗せず、非常に低摩耗性の材料であり、この基板を
用いたときには偏摩耗が生ずることがわかる。
第３表
（比較例２）
比較例２はＣｏｏを加えたときの効果をみたものである
。
。
第４表に示した割合になるようにＮｉ０．ＴｉＯ□及び
ＣｏＯ粉末原料を秤量し、比較例１と同じ製造条件で焼
結体を得た。第２図は本実施例の中の１例で、８２ ｓ
ｏ１％Ｎ ｉ ０−１８ ｍｏｌ％Ｔ ｉ Ｏ２材につ
いてＮｉＯをＣｏＯで置換した時のビッカース硬さの変
化を示したもので、８２ ｍｏｌ％ＮｉＯＮ１０−ｌ８
％Ｔ ｉ Ｏ２材がビッカース硬さ８６０ ｋｇｆ／ｍ
ｍ”有しているのに対し、ＮｉＯを１０ ｍｏｌ％Ｃ０
０で置換するとビッカース硬さは７００ｋｇｆ／ｍｍ”
まで低下し、さらにＣｏｏの置換量を多くするにつれ、
硬さは減少し、７０ ｍａ１％を越えると６００ ｋｇ
ｆ／ｆｆ１ＩＩ＋２以下となる。磁気テープとの摺動後
の面粗さ及び摩耗量の結果を第４表に示した。面荒れは
Ｃ００置換により低減されているが、摩耗量については
フェライトの１７５〜ｌ／１０程度と小さく、低摩耗材
であることがわかる。Ｎｉｐ、Ｔｉｅ、、Ｃ００の配合
比を変えても依然として摩耗しにくいことがわかる。
ＣｏＯ粉末原料を秤量し、比較例１と同じ製造条件で焼
結体を得た。第２図は本実施例の中の１例で、８２ ｓ
ｏ１％Ｎ ｉ ０−１８ ｍｏｌ％Ｔ ｉ Ｏ２材につ
いてＮｉＯをＣｏＯで置換した時のビッカース硬さの変
化を示したもので、８２ ｍｏｌ％ＮｉＯＮ１０−ｌ８
％Ｔ ｉ Ｏ２材がビッカース硬さ８６０ ｋｇｆ／ｍ
ｍ”有しているのに対し、ＮｉＯを１０ ｍｏｌ％Ｃ０
０で置換するとビッカース硬さは７００ｋｇｆ／ｍｍ”
まで低下し、さらにＣｏｏの置換量を多くするにつれ、
硬さは減少し、７０ ｍａ１％を越えると６００ ｋｇ
ｆ／ｆｆ１ＩＩ＋２以下となる。磁気テープとの摺動後
の面粗さ及び摩耗量の結果を第４表に示した。面荒れは
Ｃ００置換により低減されているが、摩耗量については
フェライトの１７５〜ｌ／１０程度と小さく、低摩耗材
であることがわかる。Ｎｉｐ、Ｔｉｅ、、Ｃ００の配合
比を変えても依然として摩耗しにくいことがわかる。
［発明の効果］
以上詳述した様に、本発明の非磁性酸化物基板材料はＮ
ｉ ０．Ｔ ｉ ０２−Ｃｏｏ−ＣａＯからなり、磁
気テープとの摺動に対し、面荒れが小さく、かつ現用ヘ
ッドに用いられるフェライト基板と同等の摩耗性を有し
ている。従って、この基板材料を用いた磁気ヘッドは、
寿命が長く、信頼性に優れるので工業的利用価値が大き
い。
ｉ ０．Ｔ ｉ ０２−Ｃｏｏ−ＣａＯからなり、磁
気テープとの摺動に対し、面荒れが小さく、かつ現用ヘ
ッドに用いられるフェライト基板と同等の摩耗性を有し
ている。従って、この基板材料を用いた磁気ヘッドは、
寿命が長く、信頼性に優れるので工業的利用価値が大き
い。
第１図はＮｉＯＴｉＯ２ＣｏＯＣａＯ系におけるＣａＯ
量と磁気テープ摺動後の基板摩耗量の関係を示すグラフ
、第２図は従来のＮｉ０−Ｔ ｉ Ｏ２系基材において
ＮｉＯをＣｏｏで置換した時のＣａＯ量とビッカース硬
さの関係を示すグラフである。 出願人 日 立 金 属 株式会社 株式会社 日 立 製 作 所 代理人 弁理士 牧 克 次第１図
量と磁気テープ摺動後の基板摩耗量の関係を示すグラフ
、第２図は従来のＮｉ０−Ｔ ｉ Ｏ２系基材において
ＮｉＯをＣｏｏで置換した時のＣａＯ量とビッカース硬
さの関係を示すグラフである。 出願人 日 立 金 属 株式会社 株式会社 日 立 製 作 所 代理人 弁理士 牧 克 次第１図
Claims (4)
- （１）ＮｉＯ１５〜６０ｍｏｌ％、ＣｏＯ１０〜７０ｍ
ｏｌ％、ＴｉＯ＿２１０〜４０ｍｏｌ％、ＣａＯ０．５
〜２５ｍｏｌ％からなることを特徴とする非磁性酸化物
基板材料。 - （２）ＮｉＯ１５〜６０ｍｏｌ％、ＣｏＯ１０〜７０ｍ
ｏｌ％、ＴｉＯ＿２１０〜４０ｍｏｌ％、ＣａＯ０．５
〜２５ｍｏｌ％からなる主成分１００重量部に対し、Ｍ
ｇＯまたはＺｒＯ＿２を０．５〜３ｗｔ％添加含有する
ことを特徴とする非磁性酸化物基板材料。 - （３）熱膨張係数が１００〜１４０×１０＾−＾７／℃
であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載
の非磁性酸化物基板材料。 - （４）請求項１乃至３項のいずれかに記載の非磁性酸化
物基板材料を用いたことを特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2311128A JP2744908B2 (ja) | 1990-11-16 | 1990-11-16 | 非磁性酸化物基板材料及び磁気ヘッド |
| US07/789,688 US5290738A (en) | 1990-11-16 | 1991-11-08 | Material for nonmagnetic oxide substrate and magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2311128A JP2744908B2 (ja) | 1990-11-16 | 1990-11-16 | 非磁性酸化物基板材料及び磁気ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04182910A true JPH04182910A (ja) | 1992-06-30 |
| JP2744908B2 JP2744908B2 (ja) | 1998-04-28 |
Family
ID=18013471
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2311128A Expired - Lifetime JP2744908B2 (ja) | 1990-11-16 | 1990-11-16 | 非磁性酸化物基板材料及び磁気ヘッド |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5290738A (ja) |
| JP (1) | JP2744908B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR970004614B1 (ko) * | 1993-12-03 | 1997-03-29 | 엘지전자 주식회사 | 자기헤드용 비자성 세라믹기판재료 |
| JP3089530B2 (ja) * | 1994-06-28 | 2000-09-18 | ソニー株式会社 | 磁気ヘッド用非磁性材料及びそれを用いた磁気ヘッド |
| US20080283464A1 (en) * | 2007-05-15 | 2008-11-20 | Cummins Filtration Ip, Inc. | Filter assembly with valve requiring compliant filter for open flow path |
| US7946430B2 (en) * | 2007-05-15 | 2011-05-24 | Cummins Filtration Ip, Inc. | Filter with protruding member for engaging valve in head |
| US10677090B2 (en) * | 2017-05-10 | 2020-06-09 | General Electric Company | Component having co-bonded composite and metal rings and method of assembling same |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL7012826A (ja) * | 1970-08-29 | 1972-03-02 | ||
| JPS61184712A (ja) * | 1985-02-12 | 1986-08-18 | Hitachi Metals Ltd | 複合型浮上磁気ヘツド |
| JPH01189020A (ja) * | 1988-01-22 | 1989-07-28 | Hitachi Metals Ltd | 浮上型複合磁気ヘッド |
| JP2523908B2 (ja) * | 1989-01-06 | 1996-08-14 | 株式会社日立製作所 | 磁気ディスク装置及び薄膜磁気ヘッド並びに薄膜磁気ヘッド作製用ウエハ |
| US5021906A (en) * | 1989-10-31 | 1991-06-04 | International Business Machines Corporation | Programmable air bearing slider including magnetic read/write element |
-
1990
- 1990-11-16 JP JP2311128A patent/JP2744908B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-11-08 US US07/789,688 patent/US5290738A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2744908B2 (ja) | 1998-04-28 |
| US5290738A (en) | 1994-03-01 |
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