JPH04185357A - サーマルヘッド - Google Patents
サーマルヘッドInfo
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- JPH04185357A JPH04185357A JP31197990A JP31197990A JPH04185357A JP H04185357 A JPH04185357 A JP H04185357A JP 31197990 A JP31197990 A JP 31197990A JP 31197990 A JP31197990 A JP 31197990A JP H04185357 A JPH04185357 A JP H04185357A
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- JP
- Japan
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- heat
- layer
- metal layers
- layers
- accumulation layer
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、感執式プリンターや熱転写式プリンター等に
使用されるサーマルヘッドの電極構造に関するものであ
る。
使用されるサーマルヘッドの電極構造に関するものであ
る。
〈従来技術〉
近年、サーマルヘッドは、ファクノミリ、ワードプロセ
ッサ用プリンタ等の各種の記録装置に多用されるように
なり、家庭用機器としての需要か高まるにつれて、その
小型軽量化、低価格化および、低騒音化さらには、低消
費電力化、高速化が要求されている。
ッサ用プリンタ等の各種の記録装置に多用されるように
なり、家庭用機器としての需要か高まるにつれて、その
小型軽量化、低価格化および、低騒音化さらには、低消
費電力化、高速化が要求されている。
そうした中、従来のサーマルヘッドにおいては、生産コ
ストが高いグレーズドセラミックス基板に代わり、熱伝
導率の小さな高耐熱樹脂からなる蓄S1層を有した耐熱
性樹脂基板を用いたサーマルヘッドの実用化が進められ
ている。
ストが高いグレーズドセラミックス基板に代わり、熱伝
導率の小さな高耐熱樹脂からなる蓄S1層を有した耐熱
性樹脂基板を用いたサーマルヘッドの実用化が進められ
ている。
つまり、このサーマルヘッドにおいては、第3図に示す
ように、耐熱性樹脂基板1(例えば、耐桔性ガラスエボ
キノ基板)上に、Cu(9μm)、N1−PあるいはN
1(1,5μm)、Au(0、1μm)の3層から構成
された共通電極兼放熱用金属層2a、2b、2cと、リ
ード電極兼用の駆動素子(IC)接続用金属13a、3
b、3cと、Cu、N1−PあるいはN1およびAuの
3層からなる裏面金属層4 a、 4 b。
ように、耐熱性樹脂基板1(例えば、耐桔性ガラスエボ
キノ基板)上に、Cu(9μm)、N1−PあるいはN
1(1,5μm)、Au(0、1μm)の3層から構成
された共通電極兼放熱用金属層2a、2b、2cと、リ
ード電極兼用の駆動素子(IC)接続用金属13a、3
b、3cと、Cu、N1−PあるいはN1およびAuの
3層からなる裏面金属層4 a、 4 b。
4cとをフォトエツチング法により所定のパターンに形
成している。その後、これらの金属層に、ポリイミド等
の高耐熱樹脂からなる蓄熱層5、Si0..5iAIO
N、5iON等の無機絶縁物からなる無機物層6、Ta
5iOt等の発熱抵抗体7、AI又はAl−5i等の共
通電極9、およびリート電極8を順次積層して形成して
いる。さらに、少なくとも発熱抵抗体7を覆うように、
S i 、A 10 N。
成している。その後、これらの金属層に、ポリイミド等
の高耐熱樹脂からなる蓄熱層5、Si0..5iAIO
N、5iON等の無機絶縁物からなる無機物層6、Ta
5iOt等の発熱抵抗体7、AI又はAl−5i等の共
通電極9、およびリート電極8を順次積層して形成して
いる。さらに、少なくとも発熱抵抗体7を覆うように、
S i 、A 10 N。
5iON等の耐摩耗保護膜10をスパッタ蒸着又はプラ
ズマCVD法により形成し、最後にフェイスダウンボン
デイノグ部12として、ポリイミド等で形成した半田ダ
ム11を設けるようにしている。
ズマCVD法により形成し、最後にフェイスダウンボン
デイノグ部12として、ポリイミド等で形成した半田ダ
ム11を設けるようにしている。
ここで、放熱用金属層2a、2b、2c、IC接続用金
属層3 a、 3 b、 3 cおよび裏面金属層4
a、 4 b。
属層3 a、 3 b、 3 cおよび裏面金属層4
a、 4 b。
4cは、耐熱性樹脂基板1に銅箔を張り付けた(1)わ
ゆる両面銅張積層基板)後、片面に、放熱用およびrC
接続用のCuパターンを形成し、次に、無電解メツキ法
によりN1−P層(まfこはN1層)を介して、Au層
を積層した3層構造となってし)る。
ゆる両面銅張積層基板)後、片面に、放熱用およびrC
接続用のCuパターンを形成し、次に、無電解メツキ法
によりN1−P層(まfこはN1層)を介して、Au層
を積層した3層構造となってし)る。
この3層構造とする理由は以下の2点による。
すなわち、
■銅(Cu)のみでは酸化しやすく、フエイスグウノボ
ンデイノク部12の半田タム11を形成しf二後に半田
バッグの接続が困難である。
ンデイノク部12の半田タム11を形成しf二後に半田
バッグの接続が困難である。
■銅(Cu)の金属層上に直接会(Au)を積層した場
合、生産工程中の熱処理工程において、両層間の拡散が
生じ、この結果、Au層の表面で銅(Cu’)か酸化を
引き起こすため、銅(Cu)層と、Au層間に拡散防止
バリヤー層として、N1−Pあるし1はN1層を施した
3層構造とすることて、酸化防止を図る。
合、生産工程中の熱処理工程において、両層間の拡散が
生じ、この結果、Au層の表面で銅(Cu’)か酸化を
引き起こすため、銅(Cu)層と、Au層間に拡散防止
バリヤー層として、N1−Pあるし1はN1層を施した
3層構造とすることて、酸化防止を図る。
く 発明か解決しようとする課題 〉
しかしながら、従来のこのよらな電極H4造の場合、ポ
リイミド等の高耐軌樹脂により蓄熱層5を形成すると、
その生産工程中の熱処理工程において放熱用金属層のA
u層の表面と、蓄熱層5の界面とて、部分的に蓄熱層5
のフクレ・剥離か発生する。
リイミド等の高耐軌樹脂により蓄熱層5を形成すると、
その生産工程中の熱処理工程において放熱用金属層のA
u層の表面と、蓄熱層5の界面とて、部分的に蓄熱層5
のフクレ・剥離か発生する。
まf二、耐環境試験(プレツノヤークツカーテスト)に
おいても、Au層2Cと蓄熱層5(ポリイミド使用)と
の間でフクレか発生することか実験的に確認されており
、Au層とポリイミド樹脂系の蓄#V層5との間の密着
不良という問題点かあった。
おいても、Au層2Cと蓄熱層5(ポリイミド使用)と
の間でフクレか発生することか実験的に確認されており
、Au層とポリイミド樹脂系の蓄#V層5との間の密着
不良という問題点かあった。
本発明は、上記に鑑み、放熱用金属層と蓄熱層の密着強
度を向上させ、歩留り良好で信頼性の高い、サーマルヘ
ッドを提供するものである。
度を向上させ、歩留り良好で信頼性の高い、サーマルヘ
ッドを提供するものである。
〈 課題を解決するための手段 〉
本発明による課題解決手段は、耐熱性樹脂基板i上に、
放熱用金属層2a、2bおよび駆動素子接続用金属層3
a、 3 b、3cと、これらの金属層2a〜3c上
に形成された高耐熱樹脂よりなる蓄熱層5とを配し、少
なくとも発熱抵抗体7、電極8.9、保護膜10を具備
したサーマルヘッドにおいて、前記蓄熱層5と接する放
熱用金属層の表面は、ぺiあるいはN1−P層とし1こ
ものである。
放熱用金属層2a、2bおよび駆動素子接続用金属層3
a、 3 b、3cと、これらの金属層2a〜3c上
に形成された高耐熱樹脂よりなる蓄熱層5とを配し、少
なくとも発熱抵抗体7、電極8.9、保護膜10を具備
したサーマルヘッドにおいて、前記蓄熱層5と接する放
熱用金属層の表面は、ぺiあるいはN1−P層とし1こ
ものである。
〈作用〉
上記課題解決手段において、放熱用金属層2a。
2bの表面層をNiあるいはN1−P層にすることで、
ポリイミド等からなる蓄熱層5との密着強度を改善でき
、生産工程中の熱処理工程で発生する放熱用金属層と、
蓄熱層5の界面のフクレ・剥離か抑制され、歩留り、お
よび信頼性の向上を図ることか可能である。
ポリイミド等からなる蓄熱層5との密着強度を改善でき
、生産工程中の熱処理工程で発生する放熱用金属層と、
蓄熱層5の界面のフクレ・剥離か抑制され、歩留り、お
よび信頼性の向上を図ることか可能である。
〈実施例〉
以下、本発明の実施例を図面に基ついて説明する。
第1図は、本発明第一実施例のサーマルlペットの要部
断面図である。
断面図である。
図示の如く、耐熱性樹脂基板1上に、放熱用金属層2a
、2bおよび駆動素子(ic)接続用金属層3 a、
3 b、 3 cと、前記金属層2 a〜3 c上に形
成されfコ高it軌樹脂よりなる蓄熱層5とを配し、少
なくとも発熱抵抗体7と、該発熱抵抗体7に通電するん
おの共通電極9およびリート電極8と、肪記発軌抵抗体
7の発熱部を覆うように形成された耐摩耗保護膜lOと
を具備している。
、2bおよび駆動素子(ic)接続用金属層3 a、
3 b、 3 cと、前記金属層2 a〜3 c上に形
成されfコ高it軌樹脂よりなる蓄熱層5とを配し、少
なくとも発熱抵抗体7と、該発熱抵抗体7に通電するん
おの共通電極9およびリート電極8と、肪記発軌抵抗体
7の発熱部を覆うように形成された耐摩耗保護膜lOと
を具備している。
耐熱性樹脂基板1は、熱分解開始温度350°C1縦3
00mm、横400曲、厚さ0 、8 mmのカラス繊
維にエボキン樹脂を含浸して形成しfコガラスエボキン
基板(SUB)である。この両面に厚さ9μmの銅箔2
a、 3 a、 4 aを接着しに、いわゆる両面銅
張積層基板を用いて、一方の銅箔を、フォトリソグラフ
ィ法によって、所定のパターンにエツチングし、パター
ン化された銅層2 a、 3 aを形成する。
00mm、横400曲、厚さ0 、8 mmのカラス繊
維にエボキン樹脂を含浸して形成しfコガラスエボキン
基板(SUB)である。この両面に厚さ9μmの銅箔2
a、 3 a、 4 aを接着しに、いわゆる両面銅
張積層基板を用いて、一方の銅箔を、フォトリソグラフ
ィ法によって、所定のパターンにエツチングし、パター
ン化された銅層2 a、 3 aを形成する。
この際、裏面の銅箔4aは、テープあるいはレノスト等
でマスクしておき、そのまま残しておく。
でマスクしておき、そのまま残しておく。
次に、この銅層2a、3a、4aの上に無電解メツキ法
等によって厚さ1〜2μmのNiあるいはN1−2層2
b、3b、4.bおよび厚さ約0.1μmのAu層2c
(第1図は省<)、3c、4cを順に積層して、電極層
すなわち、共通電極兼放熱用金属層2 a、 2 b。
等によって厚さ1〜2μmのNiあるいはN1−2層2
b、3b、4.bおよび厚さ約0.1μmのAu層2c
(第1図は省<)、3c、4cを順に積層して、電極層
すなわち、共通電極兼放熱用金属層2 a、 2 b。
2c(第1図は省く)と、リート電極兼1G接続用金属
層3a、3b、3c、さらに、裏面金属層4. a、
4 b。
層3a、3b、3c、さらに、裏面金属層4. a、
4 b。
4cを形成する。
ここで、裏面金属層4a、4b、4cの役割と効果は、
耐熱性樹脂基板lよりも熱伝導性のよい金属層を基板裏
面に設けることて、駆動パルス印加時に発熱する発熱抵
抗体部の熱応答性を向上することかでき、高速印字か可
能となる。また、鵡の放散性も改善され、発熱抵抗体部
の残熱による尾引き現象を防止することかできる。さら
に、基板1の裏面か金属層のため、加工時7つ樹脂基板
自体の劣化や、反りが緩和され、パターン加工精度が向
上し、ファインパターン化が容易になるということであ
る。
耐熱性樹脂基板lよりも熱伝導性のよい金属層を基板裏
面に設けることて、駆動パルス印加時に発熱する発熱抵
抗体部の熱応答性を向上することかでき、高速印字か可
能となる。また、鵡の放散性も改善され、発熱抵抗体部
の残熱による尾引き現象を防止することかできる。さら
に、基板1の裏面か金属層のため、加工時7つ樹脂基板
自体の劣化や、反りが緩和され、パターン加工精度が向
上し、ファインパターン化が容易になるということであ
る。
次に、パターンを形成した放熱用金属層2a、2b、2
cのAu層2cを、逆スパツタリングやウェットエツチ
ング法により除去し、N1ま1こはN1−P層を表面に
出す。
cのAu層2cを、逆スパツタリングやウェットエツチ
ング法により除去し、N1ま1こはN1−P層を表面に
出す。
次に、この上部に、N−メチル2ピロリドン(\MP)
を溶媒とするポリイミド萌駆体をスピンコーターあるい
はロールコータ−を用いて所定の厚さ(6〜15μm)
に塗布し、120℃程度の温度で数分間乾燥後、200
℃の?L fて30分間予備硬化を行ない、ポリイミド
樹脂を形成する。
を溶媒とするポリイミド萌駆体をスピンコーターあるい
はロールコータ−を用いて所定の厚さ(6〜15μm)
に塗布し、120℃程度の温度で数分間乾燥後、200
℃の?L fて30分間予備硬化を行ない、ポリイミド
樹脂を形成する。
次に、フォトリソグラフィ法を用いて、前記ポリイミド
層のパターン形成を行なった後に、オーブンて200°
C/30分、300°C/30分の熱硬化、さらに赤外
線(IR)の照射によって、表面温間約2809C〜3
80℃の温度で10〜30分間加熱し、ポリイミド樹脂
蓄熱層5を形成する。
層のパターン形成を行なった後に、オーブンて200°
C/30分、300°C/30分の熱硬化、さらに赤外
線(IR)の照射によって、表面温間約2809C〜3
80℃の温度で10〜30分間加熱し、ポリイミド樹脂
蓄熱層5を形成する。
次いで、スペック法により、S10.膜(4000人)
からなる無機物層6を形成する。この810、は、絶縁
材料であるうえに、熱拡散率か発熱抵抗体7であるTa
5iOzより大きく、発熱抵抗体部の熱分布を均一化す
るー・く、熱を2次元方向にすばやく拡散させる効果を
もっている。
からなる無機物層6を形成する。この810、は、絶縁
材料であるうえに、熱拡散率か発熱抵抗体7であるTa
5iOzより大きく、発熱抵抗体部の熱分布を均一化す
るー・く、熱を2次元方向にすばやく拡散させる効果を
もっている。
次に、Ta5iOt等の発熱抵抗体7をスパッタ法を用
いて、全面に形成し、更にフォトエツチングにより発熱
抵抗体7をパターン化する。そして、その上部にAl−
5i等の共通電極9およびリート電極8をフォトエツチ
ングにより所定のパターンに形成する。
いて、全面に形成し、更にフォトエツチングにより発熱
抵抗体7をパターン化する。そして、その上部にAl−
5i等の共通電極9およびリート電極8をフォトエツチ
ングにより所定のパターンに形成する。
なお、この際、共通電極9を放熱用金属層2b。
2aと電気的に接続すると熱効率か向上すると同時に、
共通電極9に流れる電流に対して十分な電流容量を得る
ことかできるため、サーマルヘッドの小型化か可能にな
る。
共通電極9に流れる電流に対して十分な電流容量を得る
ことかできるため、サーマルヘッドの小型化か可能にな
る。
次に、5iAION、SiOx等の耐摩耗保護膜IOを
、スパッタ法やプラズマC〜′D法で3μmの厚さて所
定の位置に成膜する。
、スパッタ法やプラズマC〜′D法で3μmの厚さて所
定の位置に成膜する。
最後に、ポリイミド樹脂を用(1て、ボ?ノイミト樹脂
蓄熱層5と同様にして、厚み3μm以下の半田ダム11
を形成し、フェイスダウンボンデインク部12(95〜
100μmφ)に駆動素子としてのICが接続される。
蓄熱層5と同様にして、厚み3μm以下の半田ダム11
を形成し、フェイスダウンボンデインク部12(95〜
100μmφ)に駆動素子としてのICが接続される。
第2図は、本発明第二実施例のサーマルl\ットの要部
断面図である。
断面図である。
作製方法は、第一実施例とほぼ同様であるか、異なる点
は、まず、放熱用金属層のAu1i52cを取り除く際
、同時に、rc接続用金属層3 a、 3 b、 3C
のフェイスダウンボンデインク部12のAu層のみを残
して、ずぺてのAu層を除去する点にある。
は、まず、放熱用金属層のAu1i52cを取り除く際
、同時に、rc接続用金属層3 a、 3 b、 3C
のフェイスダウンボンデインク部12のAu層のみを残
して、ずぺてのAu層を除去する点にある。
し1こかつて、第一実施例でポリイミドにより半田ダム
を形成していたか、第二実施例では、rC接続用金属層
3 a、 3 bのNiあるいはNiP層3bをそのま
ま、フェイスダウンボッディング用の半田ダムとして利
用する。
を形成していたか、第二実施例では、rC接続用金属層
3 a、 3 bのNiあるいはNiP層3bをそのま
ま、フェイスダウンボッディング用の半田ダムとして利
用する。
Au層の除去の方法は、あらかじめ、フオトレンス]・
等てフェイスダウンボンデインク部12を覆っておき、
逆スパツタ法か、ある0は、沃素系エツチング液を用い
1ニウエツトエツチング等により行なうことが可能であ
る。
等てフェイスダウンボンデインク部12を覆っておき、
逆スパツタ法か、ある0は、沃素系エツチング液を用い
1ニウエツトエツチング等により行なうことが可能であ
る。
以上のような手順で作製したサーマルヘッドについて、
ポリイミド樹脂蓄熱層5と放熱用金属層2a、2bとの
密着性を評価するため、放熱用金属層2a、2b上の耐
摩耗保護膜部にAl製スタッドを接着し、引張試験機に
より、引張強度を測定し几。
ポリイミド樹脂蓄熱層5と放熱用金属層2a、2bとの
密着性を評価するため、放熱用金属層2a、2b上の耐
摩耗保護膜部にAl製スタッドを接着し、引張試験機に
より、引張強度を測定し几。
その結果を表1に示す。ここでは、AuとN1−Pの差
を明確にするf二のに、各々の膜厚は、1μ。
を明確にするf二のに、各々の膜厚は、1μ。
5μと通常(Auは0.1μ、N1−Pは1.5μ)よ
り厚くしである。また、表中、PIはポリイミド樹脂、
SUBは1軌樹脂基板(substrate)を意味す
る。
り厚くしである。また、表中、PIはポリイミド樹脂、
SUBは1軌樹脂基板(substrate)を意味す
る。
(以下余白ン
人工
(引張試験機によるポリイミド−金属層間の密着評価)
(以下余白) この結果、金属層の上層がAu層の場合、どの工程にお
いてもポリイミド(PI)とAuの界面て剥離(強度0
〜l 98 kg/ cm’) シたのに対し、N1−
P層の場合はどの工程時でも樹脂基板内で剥離(強度2
37−316 kg/cm’)しており、ポリイミド樹
脂蓄熱層と放熱用金属層の密着性は、金属層上層をN1
−Pにすることにより改善され1こ。
(以下余白) この結果、金属層の上層がAu層の場合、どの工程にお
いてもポリイミド(PI)とAuの界面て剥離(強度0
〜l 98 kg/ cm’) シたのに対し、N1−
P層の場合はどの工程時でも樹脂基板内で剥離(強度2
37−316 kg/cm’)しており、ポリイミド樹
脂蓄熱層と放熱用金属層の密着性は、金属層上層をN1
−Pにすることにより改善され1こ。
さらに、環境試験として、プレツノヤークツカーテスト
(PCT、I 21’C,2atm)によるポリイミド
樹脂−金属層間の密着評価を行なった結果を表2に示す
。
(PCT、I 21’C,2atm)によるポリイミド
樹脂−金属層間の密着評価を行なった結果を表2に示す
。
(以下余白ン
表2
1) N1−P上のAu(0,1μ)を逆スハ゛7り(
3分30秒)により除去したもの。
3分30秒)により除去したもの。
(逆スパッタ条件=PowerO,5KVSGas圧1
7mTorr、Ar流j130sccM)2) 防滴タ
イツ装置、121°C,2atm3)保護膜酸膜後の軌
処理完了時 本実施例においては、PCT投人後72時間まで(それ
以降は未評価)、ポリイミド’−Ni−P間にフクレは
発生していないのに対して、従来例では、PCT投人後
2〜24時間でポリイミド−AU間にフクレが発生した
。また、比較例として金属層をCu(9μli)のみで
形成した場合は、PCT投入前(初期)にすてにポリイ
ミドとCu間でフクレが発生しf二。
7mTorr、Ar流j130sccM)2) 防滴タ
イツ装置、121°C,2atm3)保護膜酸膜後の軌
処理完了時 本実施例においては、PCT投人後72時間まで(それ
以降は未評価)、ポリイミド’−Ni−P間にフクレは
発生していないのに対して、従来例では、PCT投人後
2〜24時間でポリイミド−AU間にフクレが発生した
。また、比較例として金属層をCu(9μli)のみで
形成した場合は、PCT投入前(初期)にすてにポリイ
ミドとCu間でフクレが発生しf二。
なお、本発明は、上記実施例に限定されるものではなく
、本発明の範囲内で上記実施例に多くの修正および変更
を加え得ることは勿論である。
、本発明の範囲内で上記実施例に多くの修正および変更
を加え得ることは勿論である。
〈発明の効果〉
以上の説明から明らかな通り、本発明によると、放熱用
金属層の表面層をj〈1あるいは、N1−P層にするこ
とで、ポリイミド等からなる蓄熱層との密着強度を改善
でき、生産工程中の熱処理工程(200〜300℃)で
発生する放熱用金属層と蓄熱層の界面のフクレ・剥離が
防止でき、歩留り向上および信頼性向上を図ることか可
能である。
金属層の表面層をj〈1あるいは、N1−P層にするこ
とで、ポリイミド等からなる蓄熱層との密着強度を改善
でき、生産工程中の熱処理工程(200〜300℃)で
発生する放熱用金属層と蓄熱層の界面のフクレ・剥離が
防止でき、歩留り向上および信頼性向上を図ることか可
能である。
第1図は本発明の第一実施例のサーマルヘッドを示す断
面図、 第2図は本発明第二実施例のサーマルヘッドを示す断面
図、 第3図は従来のサーマルヘッドを示す断面図である。 1・耐熱性樹脂基板、2axCu層、2b:Niあるい
はN1−P層、2c:Au層、5.ポリイミド樹脂蓄熱
層、6無機物層、71発熱抵抗体、8 リート電極、9
.共通電極、IO耐摩耗保護膜、1に半田ダム、12.
フェイスダウンボッディング部。 出 願 人 ンセープ株式会社
面図、 第2図は本発明第二実施例のサーマルヘッドを示す断面
図、 第3図は従来のサーマルヘッドを示す断面図である。 1・耐熱性樹脂基板、2axCu層、2b:Niあるい
はN1−P層、2c:Au層、5.ポリイミド樹脂蓄熱
層、6無機物層、71発熱抵抗体、8 リート電極、9
.共通電極、IO耐摩耗保護膜、1に半田ダム、12.
フェイスダウンボッディング部。 出 願 人 ンセープ株式会社
Claims (1)
- 耐熱性樹脂基板上に、放熱用金属層および駆動素子接続
用金属層と、これらの金属層上に形成された高耐熱樹脂
よりなる蓄熱層とを配し、少なくとも、発熱抵抗体、電
極、保護膜を具備したサーマルヘッドにおいて、前記蓄
熱層と接する前記放熱用金属層の表面は、Niあるいは
Ni−P層であることを特徴とするサーマルヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31197990A JPH04185357A (ja) | 1990-11-16 | 1990-11-16 | サーマルヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31197990A JPH04185357A (ja) | 1990-11-16 | 1990-11-16 | サーマルヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04185357A true JPH04185357A (ja) | 1992-07-02 |
Family
ID=18023744
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31197990A Pending JPH04185357A (ja) | 1990-11-16 | 1990-11-16 | サーマルヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04185357A (ja) |
-
1990
- 1990-11-16 JP JP31197990A patent/JPH04185357A/ja active Pending
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