JPH04186506A - 浮上型複合磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気ヘッドに係り、特に高出力化、狭トラツク
幅、平面度の良好な、高密度磁気記録装置用の磁気ヘッ
ドに関するものである。

〔従来の技術〕

磁気ディスク装置での情報の書き込み、読み出しに用い
られる磁気ヘッドとしては、例えば米国特許３８２３４
１６号および特公昭５７−５６９号に示されているよう
な浮上型磁気ヘッドが多く使用されている。この浮上型
ヘッドにおいては、スライダーの後端部に磁気変換ギャ
ップを設け、全体は高透磁率の酸化物磁性材料で構成さ
れている。

浮上型磁気ヘッドは、磁気ディスクが静止している時に
はスプリングの力で軽く磁気ディスクに接触しているが
、磁気ディスクが回転している時には、磁気ディスク表
面の空気が動いてスライダー下面を持ち上げる力が作用
し、磁気ディスクから浮上する。一方、磁気ディスクの
回転を開始する時および止める時には、磁気ヘッドは、
磁気ディスク上を摺動する。磁気ディスクの回転を止め
る時の接触状況を説明すると、回転数を落してきた時に
その表面の空気の流れも次第に遅くなり、そして磁気ヘ
ッドの浮上刃が失われた時、磁気ヘッドはディスク面に
衝突するとともにその反動で飛び上がり、またディスク
面に落ちるという運動を何度か繰り返した後に、磁気ヘ
ッドはディスク上を引きずられるようにして停止する。

したがって磁気ヘッドは、このような起動、停止時の衝
撃に耐える必要が有り、その性能はＣＳ　Ｓ　（Ｃｏｎ
ｔａｃｔＳｔａｒｔ　５ｔｏｐ）特性と呼ばれることが
多い。

上記高透磁率酸化物磁性材料であるフェライトで構成さ
れた浮上型磁気ヘッドは、比較的良好な耐Ｃ８Ｓ性を示
すが、飽和磁束密度が小さく、高保磁力の記録媒体に対
して十分に記録できないという欠点がある。すなわち、
比較的飽和磁束密度Ｂｓの高いＭ　ｎ　−Ｚ　ｎフェラ
イトでもＢｓは高々５０００　Ｇ程度である。

そこで、最近、Ｂｓが８０００　Ｇ以上となるように金
属磁性薄膜を磁気ギャップ部に配置した構造の磁気ヘッ
ドが提案され実用化されはじめている。

この例として、フェライトで構成された浮上型磁気ヘッ
ドの磁気変換ギャップ部にのみ高飽和磁束密度の金属磁
性膜を設けた磁気ヘッドか特開昭５８−１４３１１号に
開示され提案されている。

さらにギャップ部は、トラック＃ＡＴｗを規制するため
の除肉加工が施されて、他の部分より薄くしばられた形
状となっている。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかし、前述したフェライトのみて構成された浮上型磁
気ヘッドの磁気変換ギャップ部のみに高飽和磁束密度の
金属磁性膜を設けた例のものでは、磁気変換部に所定の
巻線を施した後のインダクタンスが大きく、そのため共
振周波数が低下し、高周波での記録再生が不利になると
いう欠点がある。

ここでインダクタンスが大きいのは、磁気ヘッド全体が
磁性体で構成されていることに基づく。従って、低−イ
ンダクタンスとするためには、磁気回路を小さく構成す
る必要がある。このような観点から全体を磁性材料で構
成せず、磁気コアを非磁性のスライダー中に埋設固着し
た構成の浮上型複合磁気ヘッドが米国特許３．５６２．
４４４号により提案されている。また、磁気コアを非磁
性スライダー中に埋設した磁気ヘッドの望ましい形状に
ついては、例えば特開昭６１−１９９２１９号等にて提
案されている。

以上の点から、高保磁力の媒体に対して十分に記録可能
でかつインダクタンスの小さな浮上型複合磁気ヘッドを
得るために、飽和磁束密度Ｂｓの高いＭ　ｎ　−Ｚ　ｎ
フェライトを基板とし、ギャップ部に高Ｂｓの薄膜磁性
材料を成膜した磁気コアを非磁性スライダー中に埋設し
たものが、例えば特開昭６０−１５４３１０号等に開示
されている。

さらに、埋設される磁気コアのギャップ部の構造として
Ｘ型に斜交したものが特開昭６１−１９９２１７号にて
提案されている。しかしながら、このＸ型構造では各コ
ア片の先端部が鋭（とがっており、その上に高Ｂｓ磁性
膜を被着させてから平行に研磨することにより磁気ギャ
ップを形成しているので、所定のトラック幅を得るには
ある程度高Ｂｓ磁性膜の膜厚を厚くしておかねばならな
いという制約がある。

また、優れた性能の浮上型複合磁気ヘッドを得るには、
磁気ディスクの回転時に安定した浮上量をいかに保つか
という問題もある。

磁気ディスクが回転している時には、磁気ディスク表面
の空気が動いてスライダー下面を持ち上げる力が作用す
る。そのため、磁気ヘッドは回転中は浮上し、磁気ディ
スクから離れている。この離れた間隔は浮上量と呼ばれ
る。磁気ディスク装置の高密度化のため、浮上量は年々
低下しており、Ｄａｔａｑｕｅｓｔ社発行のＣｏｍｐｕ
ｔｅｒ　ＳＬｒａｇｅ　Ｉｎｄｕｓｔｒｙ　５ｅｒｖｉ
ｃｅ　（Ｒｉｇｉｄ　Ｄｉｓｋ　Ｄｒｉｖｅ編）　１９
８４年版２．２−６頁の記載によると、浮上量は１０マ
イクロインチ（０，２５μｍ）にまでなっている。係る
サブミクロンの浮上量を磁気ディスクの回転中安定して
保つためには、特に磁気ヘッドの空気ベアリング面の平
面度を良好に保つ必要がある。磁気ヘッドの浮上は、磁
気ヘッドの浮上面と記録媒体との極めて僅かな隙間に流
れ込む空気流により達成されるのであるから、浮上面の
平面度が悪いと安定した浮上を実現し得なくなるからで
ある。

上記米国特許３８２３４１６号に記載されたような磁気
ヘッドの場合、浮上を司る空気ベアリング面はＮｉ−Ｚ
ｎフェライトあるいはＭ　ｎ　−Ｚ　ｎフェライトのよ
うな単一部材で形成されているので、良好な平面度を容
易に得ることができる。しかしながら、非磁性のスライ
ダーに設けられたスリット中に磁気コアを埋設し、ガラ
スを用いてその磁気コアを固着した後に空気ベアリング
面を研磨することにより得られる複合磁気ヘッドにおい
ては、平面度を良好にするために格別の工夫が必要であ
る。その理由は、磁気コア、固着ガラス、および空気ベ
アリング面を、完全に同一平面内にあるように研摩する
ことが著しく困難であることに起因する。

さらに近年、磁気記録の高密度化に伴う狭トラツク幅、
狭ガートバンド幅に対応するため、トラック幅Ｔｗを規
制するための除肉加工を施しているが、絞った部分から
磁束が漏れて記録再生特性を劣化させたり、隣接トラッ
ク間のクコストークを増加させてしまうという問題点も
指摘されている。

本発明では上記従来技術の欠点を解消し、トラック幅の
寸法精度が良く、再生出力性能の高い狭トラツク幅の高
密度磁気記録装置用磁気ヘッドを提供することを目的と
するものである。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は上記目的達成のため、対向面がそれぞれ平坦な
一対のコア片により磁気コアを構成し、磁気コアのトラ
ック面にトラック幅を規制する切り欠きを設けるととも
に、切り欠きの深さを特定の範囲に設定し、かつ再生出
力を最大にする切り欠き角度を持ち、磁気コアの両側に
寸分な厚さのガラス層を設けて非磁性スライダーのスリ
ット部に固着することにより、簡単に加工精度良く、良
好な空気ベアリング面の平面度を有するとともに上記特
性を有する浮上型複合磁気ヘッドを得たものである。

すなわち、本発明の浮上型複合磁気ヘッドは、両側にサ
イドレール部を有する非磁性セラミックスからなるスラ
イダーと、前記サイドレール部の一方に設けられたスリ
ット部と、前記スリット部内にガラスで固定された一対
のコア片からなる磁気コアとを有し、前記一対のコア片
の平坦な対向面が平行に配置されて磁気ギャップが形成
されている。そして、前記対向面の少なくとも一方に例
えばＦｅ−Ａｌ−８ｉ合金等の高透磁率磁性合金薄膜が
形成され、前記磁気コアのトラック面にはトラック幅を
規制する切り欠きが設けられている。

この切り火きの深さは磁気記録媒体接触面からギャップ
深さ米温の範囲であり、その後は切り欠き角度２０°〜
７０゛　の範囲で傾斜させて形成させであることを特徴
とするものである。

〔実施例〕

本発明を添付図面を参照して以下に詳細を説明する。

第１図は本発明の一実施例による浮上型複合磁気ヘッド
の全体構成を示す斜視図である。１１は非磁性スライダ
ー、１２はスライダー１１の一方のサイドレールに設け
られたスリット部、１３はスリット部１２に埋設された
磁気コア、１４はその磁気コア１３を固着するガラスで
ある。スライダー１１のサイドレール１５．１６の片側
（図では１５）の端部に磁気コア１３が固着されている
。

したがって、安定した浮上を実現するためには磁気コア
１３が埋設固着されている部分の平面度を良好に加工す
ることが重要である。なお、スライダー１１としては、
例えば、熱膨張係数１０５〜１１５　ｘ　１０−’／”
Ｃ１空孔率０．５％以下のＣａＴ　ｉ　Ｏ，からなる非
磁性セラミックスなどを用いるのが好ましい。

第２図（ａ）は磁気コア１３の拡大斜視図である。また
第２図（ｂ）は磁気コアの側面図である。

２１．２２はそれぞれＭ　ｎ−Ｚ　ｎフェライトからな
るＣ型および１型コア片と称される磁性体であり、２３
は■型コア片上に被着されたＦｅ−Ａｌ−５ｉ薄膜であ
る。２４はＣ型コア片２１と１型コア片２２との間に形
成された巻線用の空間であり、その上部にＣ型コア片２
１と■型コア片２２を接合するガラス部２５が設けられ
ている。

磁気ニア１３のトラック面にはトラック幅を規制する切
り火き２６が形成されている。切り火き２６は磁気コア
１３の摺動方向に延在する。これにより磁気ギャップ２
７のトラック幅Ｔｗは任意に設定することができる。な
お磁気ギャップ２７はスパッタリング等により被着され
た５ｉ０２等のギャップ規制膜により形成されている。

本発明の磁気コア１３において切り欠き２６の深さＤと
磁気ギャップ２７の深さＧｄとの間には実質的に欧の関
係が満たされている必要がある。

Ｄ　＜　Ｇｄ　　・・・（１） Ｇｗ≧　Ｃｗ　　　・・・（２） 式（１）について、切り欠き２６の深さＤがギャップ深
さＧｄより大きいと、磁気コアの加工時にコア欠けが起
こりやすくなり、トラック幅Ｔｗの規制が難しくなり、
歩留まりも低下する。また式（２）について、接合ガラ
ス部２５の残りの厚さＧＷが磁気コアの厚さＣｗより小
さいと、磁気コアの加工時にガラス＠１１２５に亀裂が
入ったり、磁気コア１３をスライダーのスリット部内に
固着する際に両コア片の接合が不安定になるという問題
が生ずる。高密度記録を達成する上でギャップ長さＧ１
及びトラック幅Ｔｗは小さくなる傾向にあり、リジッド
・ディスク・ドライブ用としては現在１μｍ以下のＧ１
、及び２０μｍ以下のＴｗのものか用いられている。一
方、磁気コア１３の幅Ｃｗは０．　１〜０．２Ｍ程度で
ある。このような寸法の磁気コアにおいて、上記条件（
１）及び（２）を実質的に満たすことを前提として、一
般的にギャップ深さＧｄは２〜２０μｍ、接合ガラス部
の厚さＧｗは１５０〜７００μｍとするのが好ましい。

この磁気ヘッドは以下のプロセスにより製造することが
できる。まず■型コア片及びＣ型コア片を構成すべきフ
ェライト材料のブロックを準備する。このフェライト材
料としては高Ｂｓでかつ高周波での透磁率が極力大きい
Ｍ　ｎ　−Ｚ　ｎフェライトが望ましい。またガラス接
合時にガラス中に生じる気泡を減らすために、熱間静水
圧プレス（ＨｏｔＩｓｏｓｔａｔｉｃ　Ｐｒｅｓｓ　）
法により高密度化されたものを用いるのか好ましい。特
にＢ、０＝４７００〜’、）４００Ｇ、Ｈｃ　＝０．１
〜０．２０ｅ、５　ＭＨＺにおける透磁−＄８００〜１
３００、空孔率０．５％以下、熱膨張係数１０５〜１２
０ＸＩＯ−’／’ＣのＭｎ　−Ｚ　ｎ多結晶フェライト
を用いるのが好ましいが、多結晶フェライトの代わりに
単結晶フェライト材を用いても良い。

■型コアブロック上には、Ｆｅ−Ａｌ−５ｉ膜をスパッ
タリングで被着する。スパッタの条件としては安定な放
電を維持するため５〜１２ｍＴｏｒｒのＡｒガス圧が望
ましい。また電力は合金ターゲットの温度上昇による割
れを防ぐとともに、８００人／分程度の膜生成速度を得
るために、６００〜１２００Ｗ（直径１５０Ｍのターゲ
ットの例）が望ましい。Ｆｅ−Ａｌ−５ｉ膜の組成とし
ては高透磁率を得るため、重量基準で８３〜８６％のＦ
ｅ、５〜８％のＡ１．８〜１１％のＳｉが好ましい。特
に磁歪定数を小さくする目的で、重量基準で８３．５〜
８５％のＦｅ、５〜７％のＡ１．９〜１０．５％の８１
のものが望ましい。Ｆｅ−Ａｌ−５ｉ膜には釦」食性を
向上させる目的で微量の添加物を加えても良い。この場
合、２重量％以下のＴ１、Ｒｕ、Ｃｒ等を単独あるいは
複合添加するのが望ましい。

次に第３図に示すように１・ｅ−Ａｌ−５ｉ薄膜３３を
被着した１型コア片３２にＣ型コア片３１を接触させ、
巻線窓３４中に置いたガラス棒３５を加熱流入させるこ
とにより結合する。この場合、好ましい接合ガラスは軟
化点５４０〜６３０℃、熱膨張係数９４〜１０３Ｘｌ〇
−°／°Ｃのものである。このような物性を示す接合用
ガラス（第一のガラス）としてはＰｂ０−８１０２にア
ルカリ金属酸化物（Ｋ２Ｏ、Ｌｉ、○、Ｎａ２Ｏ等）を
加えた系、又はｐｂ〇−５１ｏ２−Ｂ、Ｏ，−Ａｌ□Ｏ
５にアルカリ金属酸化物を加えた系が適している。

このような系での好ましい組成範囲は、重量基準て、２
８〜４９％のＳｉｎ、、４４〜５９％のＰｂ０、および
７〜１３％のアルカリ金属酸化物からなる組成、又は２
８〜４９％の８１０２．５〜１０％のＢ、Ｏ，，７〜１
３％のアルカリ金属酸化物、残部Ｐｂ○からなる組成で
ある。また後者の系には５〜１２％のＡ１□○、を添加
しても良い。

この第一のガラスの特に好ましい一例としては、重量基
準て３５Ｐｂ○−４５ＳｉＯ２−８Ｂ、○３−７Ａ１□
０．−５に、○の組成のもの（軟化点５８０℃、９５Ｘ
ＩＯ−“／”Ｃ）が挙げられる。このガラスを使用し接
合を行った磁気コアの接合強度は５ｋｇ／画２てあり申
し分なく、またＦｅ−Ａｌ−５ｉ膜の侵食も認められな
かった。

なお、Ｂ２Ｏ３は高湿度下でのガラスの腐食を防止する
作用を有する。しかし、逆にＢ、Ｏ，が多すぎるとＦｅ
−Ａｌ−３ｉ膜あるいはＭｎ−Ｚｎ７エライトとの濡れ
性が悪くなり、接合強度が保てない。Ａｌ、Ｏ，は高温
度下てのガラスの変色を防止するが、逆に多すぎると軟
化点が高くなり接合できなくなる。アルカリ金属酸化物
類はさらにガラスの流動性を調節する効果を担っている
。

このようなガラスを用い７００〜７６０°Ｃで接合を行
う。この接合ブロックを切断し、磁気コアを得ることが
てきる。

この磁気コアのスライダーのスリット部への固着は次の
ようにして行う。第４図は接合した磁気コア４３をスラ
イダー４１のスリット部４２内に設置するとともに、ガ
ラス棒４８をスライダー４１の上面に乗せた状態を示す
斜視図である。磁気コア４３の切り欠き４６はスライダ
ーのバＴ端部４４に向けられているので、磁気コア・１
３か片端部４４に押し付けられていても、スライダ一部
の内面との間に隙間４７．４９か形成される。磁気コア
４３の固定はハネ材４５による仮固定で容易に達成され
る。ガラス棒４８は第二のガラスとして磁気コア４３を
スライダ一部４２に固着するものであり、係る第二のガ
ラスとしては熱膨張係数８７〜９６　Ｘ　Ｉ　Ｏ−’／
”Ｃ１軟化点３７０〜４８０℃程度のものが好ましい。

このような性質を示す組成としては、重量基準で７０〜
８３％のｐｂ○、３〜１０％のＡｌ、０３．６〜１３％
の８１０２．４〜１０％のＢ２０．のものがある。特に
好ましい一例として、７８Ｐｂ○−８Ａ　１２０．−　
］　ＯＳ　ｉＯ，−４８２０，（、重量％）がある。こ
のガラスの熱膨張係数は９１Ｘ１０−“７℃てあり軟化
点は４４０’Ｃである。このガラスを用いて例えば５３
０℃て固着すれば、クラックのない接合を行うことがで
きる。

以上のように第二のガラスによる磁気コアのスライダ一
部Ｊ＼の固着には、一般に第二のガラスを５００〜５８
０℃に加熱して磁気コアの両側の隙間に流入させる。そ
の後、磁気ヘッドの空気ベアリング面を研削後研磨加工
し、磁気ヘッドを完成する。

第４図に明確に示されるように、磁気コア４３とスライ
ダーのスリット部４２の一方の内面との隙間は、磁気コ
ア４３の下部においては零であるが（すなわちスライダ
ーのスリット部の一方の内面に磁気コア４３が接触して
いるが）、上部においては４９で示されるように十分な
幅となっている。これにより磁気コア４３は両側に設け
られた第二のガラス層によりスリット部内に強固に固定
されることになる。

本発明をさらに以下の具体的な実施例により詳細に説明
する。

実施例１ 第２図に示す構造の磁気コアを形成するためにＭ　ｎ　
−Ｚ　ｎ多結晶フェライトからなるＣ型コア片及び１型
コア片を作成した。Ｍ　ｎ−Ｚ　ｎ多結晶フェライトは
熱間静水圧プレス法により高密度化されたもので、空孔
率か０．　１％であり、磁気特性としてはＢ、、＝５１
００Ｇ、Ｈｃ＝０．１５０ｅ、５　Ｍ　Ｈｚにおける透
磁率＝９５０であり、また熱膨張係数は１１５Ｘ１０−
“／’Ｃてあった。

各Ｃ型コアブロック及び■型コアブロックは外周スライ
サーにより成形し、平面研削盤で研削後ラップ機により
研磨したものである。研磨後クロロセン煮沸を行い、ク
ロロセン中、アセトン中及びアルコール中でそれぞれ超
音波洗浄を行った後、フレオン煮沸を行い、最後にフレ
オン蒸気で洗浄した。

また■型コアブロック上にマグネトロンスパッタ装置に
よりＦｅ−Ａｌ−５ｉ薄膜を形成した。

マグネトロンスパッタ装置の投入電力は０．８ｋＷ、ア
ルゴン圧は８　ｍ　Ｔ　ｏｒｒ、基盤温度は２００’Ｃ
であった。またＦｅ−Ａｌ−５ｉ薄膜は重量基準で８５
％のＦｅ、６％のＡ１及び９％の８１からなる組成を有
し、厚さは２．９μｍであった。この膜の特性はＢｓ＝
１１，０ＯＯＧ、Ｈｃ＝０゜３〜０．５０ｅ、５　Ｍ　
Ｈｚにおける透磁率＝１゜○００〜２．○○Ｏ１磁歪定
数＝＋ｌＸｌ０−”てあった。

次にＦｅ−Ａｌ−５ｉ薄膜を形成した１型コアブロック
上にＲＦスパッタ装置を用いて、０．３ｋＷの投入電力
、５ｍＴｏｒｒのアルゴン圧、１５０℃の基板温度で０
．５μｍの膜厚のＳｉｎ、ギャップ規制膜を形成した。

さらにＣ型コアブロックと１型コアブロックを接合した
第一のガラスの組成は以下の通りであった。

Ｐｂ０　　　５４　　　重量％ ５ｉｎ１３５．９　　　ｒｔ Ｎ２０　　　　　１０．１　　　ｎ この第一のガラスの軟化点は５９７°Ｃ１熱膨張係数は
９６Ｘ１０’／’Ｃであった。第一のガラスによるコア
ブロックの接合は電気炉によりＮ、ガス中て３００°Ｃ
／時間の昇温速度て加熱し、７６０℃に３０分間保持す
ることにより行った。

このようにして接合したコアブロックを平面研削盤及び
ラップ機を用いて研削、研磨し、ワイヤーソーにより厚
さ１５２μｍに切断した。

次に各磁気コアのトラック幅を規定するために、高剛性
ダイサーにより幅１３８．５μｍ、２００μｍの切り欠
きを形成した。

このようにして得られた磁気コアの構造は以下の通りで
ある。

磁気コアの幅Ｃｗ　　　　　　１５２　　μｍトラック
幅　Ｔｗ　　　　　　１３．５　　μｍギャップ長さ　
Ｇｌ　　　　　　　　Ｏ，５５μｍギャップ深さ　Ｇｄ
　　　　　　　４μｍ切り欠き深さ　Ｄ　　　　　　　
３μｍ切り欠き角度θ　　　　　　４５゜ 接合ガラスの厚さＧｗ　　約２００ＩＬｍ次に熱膨張係
数が１０８ＸＩＯ−“℃、空孔率が０．１５％のＣａＴ
ｉ○、セラミックスからなるスライダーの一方のサイド
レールの端部に、長さ１、　５ｒＭＱ、幅２２０μｒＴ
ｌのスリット部を形成し、その中に上記磁気コアを板は
ねにより固定して、下記組成の第二のガラスにより固着
した。

Ｐｂ０７９．０　　重量％ ５ｉｎ２９．ＯｒＴ ＡＩｏ、　　　　　　　　　　６．ＯＩＴＢ、０．　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　６．０　　　　
　　１ノ第二のガラスの熱膨張係数は９１　Ｘ　Ｉ　Ｏ
−’／”Ｃ１軟化点は４４７℃、転移点は３７９℃、屈
伏点は４０６℃であった。これを電気炉でＮ２中３００
℃／時間の昇温速度で加熱し、５４０℃の温度に３０分
間保持することによりスリット部と磁気コアとの間隙に
流入させた。このようにして得た磁気ヘッドの空気ベア
リング面を鏡面研削盤及びラップ機により研削、研磨し
、本発明の浮上型複合磁気ヘッドとした。なおスリット
部の内面と磁気コアの両側部との間隔はそれぞれ６８μ
ｍ、１３８．５μｍであった。

この磁気ヘッドを用い、Ｃｏ−Ｎｉスパッタ記録媒体（
Ｈｃ＝ｌ１５００ｅ）を有する５、２５インチの磁気デ
ィスクに対して浮上ｉ０．３μｍ、周速１２．１．ｍ／
秒で２．５ＭＨｚにおける再生出力特性その他のヘッド
特性を測定した。また比較のためにＦｅ−Ａｌ−５ｉ薄
膜を有さない従来の複合磁気ヘッドについても、同じ滉
定を行った。

結果を第１表に示す。

第１表 （注）　（１）　２．５ＭＨｚでの出力特性（２）オー
バーライド特性 （３）限界記録密度 また本発明の磁気ヘッド（Ａ）及び従来例の磁気ヘッド
（Ｂ）を用いて、上記磁気ディスクに対する記録電流と
再生高力との関係を求めた。結果を第５図に示す。

以上の比較から、本発明の磁気ヘッドは優れた再生出力
特性及びヘッド特性を有することがわかる。

寒度琺互 実施例１の磁気コアにおいて接合ガラスの厚さを種々変
更し、切り欠き形成時における接合ガラスの亀裂発生状
況を調べた。結果を第２表に示す。

第２表 （注）×：亀裂が著しく発生 ０：亀裂が僅かに発生 ◎：亀裂が発生せず 以上の結果から、接合カラスの厚さが８０〜１００μｍ
の場合（コア厚より実質的に小さい場合）、切り欠き形
成によるトラック幅出し加工時に接合ガラス内に亀裂が
発生し、製品歩留まりが低下することがわかる。

寒廐色互 実施例１において、１型コアに被着するＦｅ−Ａｌ−５
ｉ薄膜の厚さを３．８．１２μｍと変化させ、それ以外
は同じ方法により磁気コアを作成し、加工時のＦｅ−Ａ
ｌ−５ｉ薄膜の剥離及び磁気コアの脱粒について調べた
。またその磁気コアを用いて各磁気ヘッドを作成し、実
施例１と同じ磁気ディスクにより再生出力特性を測定し
た。結果を第３表に示す。

第３表 第３表から明らかな通り、Ｆｅ−Ａｌ−３ｉ薄膜の膜厚
が３μｍ及び８μｍの場合、磁気コアの加工時になんら
問題がないのみならず、磁気ヘッドの特性も良好である
が、１２μｍとなると加工時に膜剥離やコアの脱粒が起
こり、かつ得られる磁気ヘッドの再生出力特性も低い。

これはＦｅ−Ａｌ−５ｉ薄膜が厚すぎるために、コア基
板と膜との界面に熱膨張係数の差による大きな応力がか
かり、膜の剥離やコア基板の脱粒が発生するためである
。

裏施忽−先 実施例１と同様にして磁気コアを作成し、これに５通り
の切り欠き角度を形成した。これらの磁気ヘッドを用い
実施例１と同様にして磁気ｌ＼ラッド作成した。得られ
た磁気ヘッドの諸元は以下の通りであった。

磁気コア幅　Ｃｗ　　　　　　１７８　　μｍトラック
幅　Ｔｗ　　　　　　１３．５　　μｍギャップ長　Ｇ
ｌ　　　　　　Ｏ，５５μｍギャップ深さ　Ｇｄ　　　
　　　　３　　μｍＦｅ−Ａｌ　−５ｉ薄膜　ｔｍａｇ
　　　　　２　　μｍ接合ガラスの厚さ　Ｇｗ　　　３
２ＯｌＬｍ切り欠き深さ　　　Ｄ　　　　　２　μｍ切
り欠き角度　　　θ　　１５°、２０’　、４５゜６０
°、７０°、９０″ これらの磁気ヘッドを用いて、実施例１と同じ測定条件
でヘッド特性を評価した。結果を第４表に示す。

第４表 以上の結果から、切り欠き角度θが小さい場合鋭くトラ
ック斜面を切り欠かれるためヘッド特性が向上せず、ま
たθが大きい場合はヘッド効率は良くなるが、正規のト
ラック幅以外へ記録される幅（書きにじみ量）が増大す
る。したがってθは２０゜〜７０°の範囲で優れたヘッ
ド特性が得られることがわかる。

〔発明の効果］ 以上に詳述した通り、本発明の浮上型複合磁気ヘッドは
いわゆる平行型であるとともにトラック面にトラック幅
を規制する切り欠きを有し、かつ前記切り欠き角度が２
０゜〜７０°の範囲で、しかも前記切り欠き深さはトラ
ック面からギャップ深さ未満の範囲にすることにより、
酸化物磁性材料面に成膜された強磁性金属薄膜の内部ス
トレス等が解消される。また、強磁性薄膜の磁気特性が
十分発揮され、高抗磁力の記録媒体に適用すると極めて
電磁変換特性に優れた磁気ヘッドが得られる。さらに、
本発明の磁気ヘッドは、加工時の歩留まりも良好で、し
かも高い信頼性を有した浮上型複合磁気ヘッドとなって
いる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例による浮上型複合磁気ヘッド
を示す斜視図、第２図（ａ）は第１図の浮上型複合磁気
ヘッドに絹み込まれる磁気コアの一例を示す斜視図、第
２図（ｂ）は第２図（ａ）の側面図、第３図は両コア片
を組み合わせた後接合用ガラス棒を巻線用窓内に挿入し
た状態を示す斜視図、第４図は第１図の浮上型複合磁気
ヘッドを製造するために第二のガラスを充填するための
工程を示す図、第５図は切り欠き角度と規格化出力との
関係を示す図、第６図および第７図は本発明による他の
実施例の構成を示す斜視図である。 １１ニスライダー、１２ニスリツト、１３：磁気コア、
１４：接合ガラス、１５．１６：サイドレール、２１：
Ｃ型コア片、２２：１型コア片、２３　：　Ｆｅ　−Ａ
ｌ−５ｉ薄膜、２４：巻線用窓、２５：接合ガラス、２
６：切り欠き、２７：磁気ギャップ、Ｔｗ：トラック幅
、Ｇ１：ギャップ長、Ｇｄ：ギャップ深さ、θ：切り欠
き角度、Ｄ＝切り欠き深さ、Ｇｗ二接合ガラス部の厚さ
、Ｃｗ：磁気コア幅。 第１図 第２図（ａ） Ｔｗ １２図（ｂ） 第３！！！ 第４図 第５図 記録電流（ｍＡｐ−ｐ） 第６図 第７図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 両側にサイドレール部を有する非磁性セラミックスから
   なるスライダーと、前記サイドレール部の一方に設けら
   れたスリット部と、前記スリット部内にガラスにより接
   合固定された一対のコア片からなる磁気コアとを有し、
   前記一対のコア片の平坦な対向面が平行に配置されて磁
   気ギャップを形成しているとともに前記コア片の少なく
   とも一方に強磁性薄膜を形成した磁気ヘッドにおいて、
   磁気コアのトラック面にトラック幅を規制する切り欠き
   が設けられており、前記切り欠きは、トラック面に対し
   ギャップ深さ未満の領域内で直角に設けられ、かつその
   後は前記切り欠きを設けられた直角面とのなす角度が２
   ０゜〜７０゜の範囲内で傾斜させて設けられ、トラック
   幅規制されたことを特徴とする浮上型複合磁気ヘッド。