JPH04187690A - 直鎖状シリコーンの製造法 - Google Patents
直鎖状シリコーンの製造法Info
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- JPH04187690A JPH04187690A JP31465190A JP31465190A JPH04187690A JP H04187690 A JPH04187690 A JP H04187690A JP 31465190 A JP31465190 A JP 31465190A JP 31465190 A JP31465190 A JP 31465190A JP H04187690 A JPH04187690 A JP H04187690A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、直鎖状シリコーンの製造法、更に詳細には、
シロキサン単位に分布がなく、一定のシロキサン鎖長を
有する直鎖状シリコーンの製造法に関する。
シロキサン単位に分布がなく、一定のシロキサン鎖長を
有する直鎖状シリコーンの製造法に関する。
［従来の技術］
揮発性ンリコーンオイルは、香粧品用途なとに広範囲に
用いられている。かがる揮発性シリコ−ンオイルの需要
の大部分は、オクタメチルシクロテトラシロキサン及び
デカメチルシクロペンタシロキサンの環状シリコーンで
占められているが、多種多様な製品に対応した揮発性コ
ントロールという観点からは、例えばこれらの中間ある
いはこれら以下の揮発度のシリコーンが必要になるケー
スがある。このような場合には、特定シロキサン鎖長の
直鎖状シリコーンが、その揮発度に応じて適宜選択して
用いられている。従って、環状シリコーンと直鎖状シリ
コーンにより、揮発性コントロールの大部分は対応可能
である。
用いられている。かがる揮発性シリコ−ンオイルの需要
の大部分は、オクタメチルシクロテトラシロキサン及び
デカメチルシクロペンタシロキサンの環状シリコーンで
占められているが、多種多様な製品に対応した揮発性コ
ントロールという観点からは、例えばこれらの中間ある
いはこれら以下の揮発度のシリコーンが必要になるケー
スがある。このような場合には、特定シロキサン鎖長の
直鎖状シリコーンが、その揮発度に応じて適宜選択して
用いられている。従って、環状シリコーンと直鎖状シリ
コーンにより、揮発性コントロールの大部分は対応可能
である。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、揮発性直鎖状シリコーンは、−般にはオ
クタメチルシクロテトラシロキサンとテトラメチルジシ
ロキサンとの平衡化重合生成物の低沸部分の分留により
製造されているため、ある特定の直鎖状シリコーンのみ
を大量に得ることは困難である。また、トリメチルクロ
ロシランとジメチルクロロシランを部分加水分解する方
法［Ｊ。
クタメチルシクロテトラシロキサンとテトラメチルジシ
ロキサンとの平衡化重合生成物の低沸部分の分留により
製造されているため、ある特定の直鎖状シリコーンのみ
を大量に得ることは困難である。また、トリメチルクロ
ロシランとジメチルクロロシランを部分加水分解する方
法［Ｊ。
Ａｍ、 Ｃｈｅｍ、 Ｓｏｃ、、 ６８．３５８（１９
４６））も知られているが、この方法によってもやはり
種々のシロキサン鎖長の直鎖状シリコーンの混合物が得
られるに過ぎない。
４６））も知られているが、この方法によってもやはり
種々のシロキサン鎖長の直鎖状シリコーンの混合物が得
られるに過ぎない。
従って、本発明は、シロキサン単位に分布がない特定の
シロキサン鎖長の直鎖状シリコーンのみを、大量に製造
し得る方法を提供することを目的とする。
シロキサン鎖長の直鎖状シリコーンのみを、大量に製造
し得る方法を提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］
かかる実情において、本発明者らは鋭意研究を行った結
果、環状シリコーン、トリ置換ハロゲノシラン及び水を
無機固体化合物の存在下に反応させるという方法により
、上記課題が解決されることを見出し、本発明を完成し
た。
果、環状シリコーン、トリ置換ハロゲノシラン及び水を
無機固体化合物の存在下に反応させるという方法により
、上記課題が解決されることを見出し、本発明を完成し
た。
本発明は、次の反応式で示される。
（以下余白）
Ｒ” Ｒ”
１ ］
（ＳＩＯ）、、 ＋ Ｒ’ Ｓｉ Ｘ
十 Ｈ２０Ｒ２Ｒ５ （１）（ｎ） １ｌ Ｒ６Ｒ２Ｒ５ （ＩＩＩ） （式中、Ｒ１及びＲ２は同一でも異なってもよく、水素
原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はハロ
ゲン化アルキル基を、ＲＢ、 Ｒ’及びＲ５は同一で
も異なってもよく、アルキル基、アルケニル基、アリー
ル基又はハロゲン化アルキル基を、Ｘはハロゲン原子を
、ｎは３〜１０の整数を示す。） すなわち本発明は、環状シリコーン（■）、トリ置換ハ
ロゲノシラン（ｎ）及び水を、無機固体化合物の存在下
に反応させることを特徴とする直鎖状シリコーン（Ｉｎ
）の製造法を提供するものである。
十 Ｈ２０Ｒ２Ｒ５ （１）（ｎ） １ｌ Ｒ６Ｒ２Ｒ５ （ＩＩＩ） （式中、Ｒ１及びＲ２は同一でも異なってもよく、水素
原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はハロ
ゲン化アルキル基を、ＲＢ、 Ｒ’及びＲ５は同一で
も異なってもよく、アルキル基、アルケニル基、アリー
ル基又はハロゲン化アルキル基を、Ｘはハロゲン原子を
、ｎは３〜１０の整数を示す。） すなわち本発明は、環状シリコーン（■）、トリ置換ハ
ロゲノシラン（ｎ）及び水を、無機固体化合物の存在下
に反応させることを特徴とする直鎖状シリコーン（Ｉｎ
）の製造法を提供するものである。
本反応に用いられる出発原料である環状シリコーン（Ｉ
）の具体例としては、ヘキサメチルシクロトリシロキサ
ン、ヘキサエチルシクロトリシロキサン、ヘキサフェニ
ルシクロトリシロキサン、ヘキサエチルシクロトリシロ
キサン、トリメチルトリビニルシクロトリシロキサン、
トリメチルトリフェニルシクロトリシロキサン、オクタ
メチルシクロテトラシロキサン、オクタエチルシクロテ
トラシロキサン、オクタフェニルシクロテトラシロキサ
ン、テトラメチルテトラフェニルシクロテトラシロキサ
ン、テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサン
、テトラ（トリフルオロプロピル）テトラメチルシクロ
テトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン
、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等が挙げられる
。
）の具体例としては、ヘキサメチルシクロトリシロキサ
ン、ヘキサエチルシクロトリシロキサン、ヘキサフェニ
ルシクロトリシロキサン、ヘキサエチルシクロトリシロ
キサン、トリメチルトリビニルシクロトリシロキサン、
トリメチルトリフェニルシクロトリシロキサン、オクタ
メチルシクロテトラシロキサン、オクタエチルシクロテ
トラシロキサン、オクタフェニルシクロテトラシロキサ
ン、テトラメチルテトラフェニルシクロテトラシロキサ
ン、テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサン
、テトラ（トリフルオロプロピル）テトラメチルシクロ
テトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン
、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等が挙げられる
。
また他方の原料であるトリ置換ハロゲノシラン（ｎ）の
具体例としては、トリメチルクロロシラン、トリエチル
クロロシラン、トリフェニルクロロシラン、ジメチルエ
チルクロロシラン等が挙げられる。
具体例としては、トリメチルクロロシラン、トリエチル
クロロシラン、トリフェニルクロロシラン、ジメチルエ
チルクロロシラン等が挙げられる。
更に、本発明の製造法において用いられる無機固体化合
物としては、反応溶液に不溶性で、更には反応溶液に均
一に分散するものが好ましい。具体的にはシリカゲル、
二酸化チタン、シリカ・アルミナ等が挙げられ、特にシ
リカゲルが好ましい。
物としては、反応溶液に不溶性で、更には反応溶液に均
一に分散するものが好ましい。具体的にはシリカゲル、
二酸化チタン、シリカ・アルミナ等が挙げられ、特にシ
リカゲルが好ましい。
本発明におけるシリカゲルとは、無定形珪酸重合物をい
い、いかなる種類のものであっても用いることができる
が、粒度の小さい物の方が少量で高い反応速度が得られ
るという点において好ましい。
い、いかなる種類のものであっても用いることができる
が、粒度の小さい物の方が少量で高い反応速度が得られ
るという点において好ましい。
ここにおいて、反応に用いられるトリ置換ハロゲノシラ
ン（ＩＩ）の量は、環状シリコーン（１）に対して２〜
１０倍モル、特に２〜４倍モル、更には３倍モル程度が
好ましい。無機固体化合物の使用量は、環状シリコーン
（Ｉ）及びトリ置換ハロゲノシラン（ＩＩ）の反応性に
応じて選択されるが、環状シリコーン（Ｉ）に対して１
〜５０重量％の範囲が好ましい。水は原則として化学量
論的過剰量、すなわち環状シリコーン（Ｉ）に対して１
〜５００倍モル、特に５〜２０倍モルの範囲で使用する
のか好ましい。
ン（ＩＩ）の量は、環状シリコーン（１）に対して２〜
１０倍モル、特に２〜４倍モル、更には３倍モル程度が
好ましい。無機固体化合物の使用量は、環状シリコーン
（Ｉ）及びトリ置換ハロゲノシラン（ＩＩ）の反応性に
応じて選択されるが、環状シリコーン（Ｉ）に対して１
〜５０重量％の範囲が好ましい。水は原則として化学量
論的過剰量、すなわち環状シリコーン（Ｉ）に対して１
〜５００倍モル、特に５〜２０倍モルの範囲で使用する
のか好ましい。
また、反応溶媒は使用してもしなくてもよいが、例えば
環状シリコーン（Ｉ）として常温で固体であるヘキサメ
チルシクロトリシロキサン等を用いる場合なとには反応
を円滑に進行させるために用いてもよい。この反応溶媒
としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、
トルエン等の水と混じり合わない炭化水素系溶媒が好ま
しい。
環状シリコーン（Ｉ）として常温で固体であるヘキサメ
チルシクロトリシロキサン等を用いる場合なとには反応
を円滑に進行させるために用いてもよい。この反応溶媒
としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、
トルエン等の水と混じり合わない炭化水素系溶媒が好ま
しい。
本発明の製造方法は、例えば環状シリコーン（Ｉ）、無
機固体化合物及び水の混合液中にトリ置換ハロゲノシラ
ン（ＩＩ）を添加することにより実施される。反応は、
環状シリコーン（Ｉ）の反応性にもよるが、通常、室温
条件下で１〜２０時間を要して終了する。
機固体化合物及び水の混合液中にトリ置換ハロゲノシラ
ン（ＩＩ）を添加することにより実施される。反応は、
環状シリコーン（Ｉ）の反応性にもよるが、通常、室温
条件下で１〜２０時間を要して終了する。
得られた直鎖状シリコーン（ｍ）は、常圧下又は減圧下
、好ましくは減圧下蒸留することにより、未反応環状シ
リコーン（Ｉ）及びトリ置換ハロゲノシラン（ＩＩ）と
容易に分離することができる。こ二で、回収された環状
シリコーン（Ｉ）及びトリ置換ハロゲノシラン（ＩＩ）
は再び反応に使用することかできる。
、好ましくは減圧下蒸留することにより、未反応環状シ
リコーン（Ｉ）及びトリ置換ハロゲノシラン（ＩＩ）と
容易に分離することができる。こ二で、回収された環状
シリコーン（Ｉ）及びトリ置換ハロゲノシラン（ＩＩ）
は再び反応に使用することかできる。
［実施例］
以下、実施例を挙げて更に詳細に説明するが、本発明は
これらに限定されるものではない。
これらに限定されるものではない。
実施例１
滴下ロートを備えた５００ｍ１フラスコに、オクタメチ
ルシクロテトラシロキサン１００ｇ、水６０．６ｇ及び
シリカゲル（メルク社製キーゼルゲル６０．２５０〜４
００メツシユ） １０．１ｇを装入した。充分な攪拌を
行いながら、トリメチルクロロシラン１０９．９ｇを１
時間かけて滴下した。１０時間後、攪拌を停止し、シリ
カゲルをろ過した。得られたろ液から過剰のトリメチル
クロロシランを留去した後、分液ロートに移して水層を
分液し、油層を５０ｍ１２の水で２回、５０吋の飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液で１回、更に５０ｍ１２の水で
２回洗浄した。得られた溶液を減圧蒸留し、テトラデカ
メチルヘキサシロキサン６３．５ｇが得られた。原料の
オクタメチルシクロテトラシロキサンは４６８ｇ回収さ
れた。反応したオクタメチルシクロテトラシロキサンを
基に算出した収率は７８％であった。
ルシクロテトラシロキサン１００ｇ、水６０．６ｇ及び
シリカゲル（メルク社製キーゼルゲル６０．２５０〜４
００メツシユ） １０．１ｇを装入した。充分な攪拌を
行いながら、トリメチルクロロシラン１０９．９ｇを１
時間かけて滴下した。１０時間後、攪拌を停止し、シリ
カゲルをろ過した。得られたろ液から過剰のトリメチル
クロロシランを留去した後、分液ロートに移して水層を
分液し、油層を５０ｍ１２の水で２回、５０吋の飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液で１回、更に５０ｍ１２の水で
２回洗浄した。得られた溶液を減圧蒸留し、テトラデカ
メチルヘキサシロキサン６３．５ｇが得られた。原料の
オクタメチルシクロテトラシロキサンは４６８ｇ回収さ
れた。反応したオクタメチルシクロテトラシロキサンを
基に算出した収率は７８％であった。
実施例２
滴下ロートを備えた５００ｍ１フラスコに、デカメチル
シクロペンタシロキサン１５０ｇ、水７３２ｇ及びシリ
カゲル（メルク社製キーゼルゲル６０．２５０〜４００
メツシユ） １２．２ｇを装入した。充分な攪拌を行い
ながら、トリメチルクロロンラン１３２ｇを１時間かけ
て滴下した。１１時間後、攪拌を停止し、シリカゲルを
ろ過した。得られたろ液から過剰のトリメチルクロロシ
ランを留去した後、分液ロートに移して水層を分液し、
油層を５０証の水で２回、５０ｍ１の飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液で１回、更に５０誰の水で２回洗浄した。
シクロペンタシロキサン１５０ｇ、水７３２ｇ及びシリ
カゲル（メルク社製キーゼルゲル６０．２５０〜４００
メツシユ） １２．２ｇを装入した。充分な攪拌を行い
ながら、トリメチルクロロンラン１３２ｇを１時間かけ
て滴下した。１１時間後、攪拌を停止し、シリカゲルを
ろ過した。得られたろ液から過剰のトリメチルクロロシ
ランを留去した後、分液ロートに移して水層を分液し、
油層を５０証の水で２回、５０ｍ１の飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液で１回、更に５０誰の水で２回洗浄した。
得られた溶液を減圧蒸留し、ヘキサデカメチルヘプタシ
ロキサン７８８ｇが得られた。原料のデカメチルシクロ
ペンタシロキサンは８３０ｇ回収された。反応したデカ
メチルシクロペンタシロキサンを基に算出した収率は６
７．１％であった。
ロキサン７８８ｇが得られた。原料のデカメチルシクロ
ペンタシロキサンは８３０ｇ回収された。反応したデカ
メチルシクロペンタシロキサンを基に算出した収率は６
７．１％であった。
［発明の効果］
以上のように、本発明の直鎖状シリコーンの製造法によ
れば、シロキサン単位に分布がない特定のシロキサン鎖
長の直鎖状シリコーンを、大量に製造することができる
。
れば、シロキサン単位に分布がない特定のシロキサン鎖
長の直鎖状シリコーンを、大量に製造することができる
。
以 上
Claims (2)
- （１）次の一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＾１及びＲ＾２は同一でも異なってもよく、
水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又は
ハロゲン化アルキル基を示し、ｎは３〜１０の整数を示
す。） で表わされる環状シリコーンと次の一般式（II）▲数式
、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｒ＾３、Ｒ＾４及びＲ＾５は同一でも異なって
もよく、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はハ
ロゲン化アルキル基を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。 ） で表わされるトリ置換ハロゲノシラン及び水を、無機固
体化合物の存在下に反応させることを特徴とする次の一
般式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５及び
ｎは上記と同じ意味を示す。） で表わされる直鎖状シリコーンの製造法。 - （２）無機固体化合物がシリカゲルである請求項１記載
の直鎖状シリコーンの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31465190A JP2805393B2 (ja) | 1990-11-20 | 1990-11-20 | 直鎖状シリコーンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31465190A JP2805393B2 (ja) | 1990-11-20 | 1990-11-20 | 直鎖状シリコーンの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04187690A true JPH04187690A (ja) | 1992-07-06 |
| JP2805393B2 JP2805393B2 (ja) | 1998-09-30 |
Family
ID=18055897
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31465190A Expired - Fee Related JP2805393B2 (ja) | 1990-11-20 | 1990-11-20 | 直鎖状シリコーンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2805393B2 (ja) |
-
1990
- 1990-11-20 JP JP31465190A patent/JP2805393B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2805393B2 (ja) | 1998-09-30 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |