JPS6226618A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
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- JPS6226618A JPS6226618A JP16619985A JP16619985A JPS6226618A JP S6226618 A JPS6226618 A JP S6226618A JP 16619985 A JP16619985 A JP 16619985A JP 16619985 A JP16619985 A JP 16619985A JP S6226618 A JPS6226618 A JP S6226618A
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- film
- groove
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- thin film
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
- G11B5/3166—Testing or indicating in relation thereto, e.g. before the fabrication is completed
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、Ｐ ＣＭ （Ｐｕｌｓｅ Ｃｏｄｅ Ｍｏｄ
ｕｌａｔｉｏｎ）記録再生装置等に用いられる薄膜磁気
ヘッドに関し、特に溝加工工程で溝の深さを確認するた
めのマーカー膜に関する。
ｕｌａｔｉｏｎ）記録再生装置等に用いられる薄膜磁気
ヘッドに関し、特に溝加工工程で溝の深さを確認するた
めのマーカー膜に関する。
本発明は、薄膜磁気ヘッドの溝加工工程で溝の深さを確
認するに際し、 下部磁性体上に上記溝加工の深さ精度を確保するための
マーカー膜を形成することにより、容易に、かつ精度良
く溝加工を行おうとするものである。
認するに際し、 下部磁性体上に上記溝加工の深さ精度を確保するための
マーカー膜を形成することにより、容易に、かつ精度良
く溝加工を行おうとするものである。
一般に、薄膜磁気ヘッドは、ヘッドを構成する下部磁性
体、コイル導体及び上部磁性体等がスパッタリング等の
真空薄膜形成技術で形成されるため、量産性に優れ、か
つ特性の均一なヘッドが得られるとともに、フォトリソ
グラフィ技術でパターンニングを行っているため、狭ト
ランク、狭ギャップ等の微小寸法化が容易である。
体、コイル導体及び上部磁性体等がスパッタリング等の
真空薄膜形成技術で形成されるため、量産性に優れ、か
つ特性の均一なヘッドが得られるとともに、フォトリソ
グラフィ技術でパターンニングを行っているため、狭ト
ランク、狭ギャップ等の微小寸法化が容易である。
このため、上記薄膜磁気ヘッドは、記録に関与するヘッ
ド磁界が急峻となり、高記録密度の記録が可能となると
ともに、高分解能の記録ができ、さらに小型化が可能で
ある。
ド磁界が急峻となり、高記録密度の記録が可能となると
ともに、高分解能の記録ができ、さらに小型化が可能で
ある。
この種の薄膜磁気ヘッドは、磁気記録媒体との当たりを
確保するために磁気記録媒体との対接幅を狭くする必要
があり、磁気記録媒体対接面の近傍に溝を形成して、磁
気記録媒体との対接幅を規制している。
確保するために磁気記録媒体との対接幅を狭くする必要
があり、磁気記録媒体対接面の近傍に溝を形成して、磁
気記録媒体との対接幅を規制している。
また、上記薄膜磁気ヘッドは、その構造上コイル導体の
巻回数を増やすことが困難である。したがって、磁路形
成部分では、コイル導体の形成を微細なスペースに集束
形成しデプス長を小さくしてヘッドの記録効率を上げる
とともに、他の部分では、コイル導体の電気的特性を向
上するためにある程度広いスペースに亘って形成してい
る。このため、上記コイル導体は上記溝の近傍まで広が
る如く形成されることになる。
巻回数を増やすことが困難である。したがって、磁路形
成部分では、コイル導体の形成を微細なスペースに集束
形成しデプス長を小さくしてヘッドの記録効率を上げる
とともに、他の部分では、コイル導体の電気的特性を向
上するためにある程度広いスペースに亘って形成してい
る。このため、上記コイル導体は上記溝の近傍まで広が
る如く形成されることになる。
ところが、上記溝を深く形成しすぎるとコイル導体をも
切断してしまい、逆に浅過ぎると磁気記録媒体のうねり
等で磁気記録媒体にキズを付けてしまう。そこで、この
溝深さの許容誤差範囲は、±５μｍ〜±１０μｍと極め
て小さな値にせざるを得なくなっている。
切断してしまい、逆に浅過ぎると磁気記録媒体のうねり
等で磁気記録媒体にキズを付けてしまう。そこで、この
溝深さの許容誤差範囲は、±５μｍ〜±１０μｍと極め
て小さな値にせざるを得なくなっている。
したがって、この種の薄１１９ 磁気ヘッドにおいては
、上記溝加工工程で、所定の溝深さとなるように上記溝
加工を施すことが重要な課題となちている。
、上記溝加工工程で、所定の溝深さとなるように上記溝
加工を施すことが重要な課題となちている。
そこで従来は、溝加工をした後、ヘッドを加工機から取
り外し顕微鏡で深さを確認する方法が採られている。し
かし、この方法では、一度取り外したヘッドを再び加工
機にセットして溝加工を施さなければならず、このため
セット誤差が生じ易いという問題がある。
り外し顕微鏡で深さを確認する方法が採られている。し
かし、この方法では、一度取り外したヘッドを再び加工
機にセットして溝加工を施さなければならず、このため
セット誤差が生じ易いという問題がある。
あるいは、予め所定の溝深さを有するダミーを形成して
おき、このダミーと比較することにより溝深さを確認す
るという方法もあるが、この場合には、ダミーを作成す
るために余分な手間を要するという欠点がある。
おき、このダミーと比較することにより溝深さを確認す
るという方法もあるが、この場合には、ダミーを作成す
るために余分な手間を要するという欠点がある。
このように、従来の薄膜磁気ヘッドでは、溝加工の途中
で溝の深さを確認しようとすると、非常に手間を要する
とともに、精度良く確認できないという問題があった。
で溝の深さを確認しようとすると、非常に手間を要する
とともに、精度良く確認できないという問題があった。
そこで、本発明は上述の実情に鑑みて提案されたもので
あって、上記溝加工が容易、かつ精度良く行えるような
薄膜磁気ヘッドを提案すること目的とする。
あって、上記溝加工が容易、かつ精度良く行えるような
薄膜磁気ヘッドを提案すること目的とする。
この目的を達成するために、本発明の薄膜磁気ヘッドは
、基板上にコイル導体及び上部磁性体が絶縁層を介して
積層され、磁気記録媒体との対接幅を規制するための溝
加工が施されてなる薄膜磁気へノドにおいて、上記下部
磁性体上に上記溝加工の深さ精度を確保するためのマー
カー膜が形成されていることを特徴とするものである。
、基板上にコイル導体及び上部磁性体が絶縁層を介して
積層され、磁気記録媒体との対接幅を規制するための溝
加工が施されてなる薄膜磁気へノドにおいて、上記下部
磁性体上に上記溝加工の深さ精度を確保するためのマー
カー膜が形成されていることを特徴とするものである。
このように、下部磁性体上に溝加工の深さ精度を確保す
るための（上記溝加工法さの許容誤差以内の幅を有する
）マーカー膜を形成することにより、溝加工を上記マー
カー膜のを無を確認するだけで、上記ａ深さが許容誤差
以内にあることが確認できる。
るための（上記溝加工法さの許容誤差以内の幅を有する
）マーカー膜を形成することにより、溝加工を上記マー
カー膜のを無を確認するだけで、上記ａ深さが許容誤差
以内にあることが確認できる。
以下、本発明を適用した薄膜磁気ヘッドの一実施例につ
いて図面を参照しながら説明する。
いて図面を参照しながら説明する。
本発明の薄膜磁気ヘッドにおいては、第１図（Ａ）及び
第１図（Ｂ）に示すように、下部磁性体（１）の一平面
上にフロントギャップ部Ｇやバンクギャップ部Ｇ′を除
いて５ｉＯｚ等よりなる第１絶縁Ｎ（２）が形成されて
いる。
第１図（Ｂ）に示すように、下部磁性体（１）の一平面
上にフロントギャップ部Ｇやバンクギャップ部Ｇ′を除
いて５ｉＯｚ等よりなる第１絶縁Ｎ（２）が形成されて
いる。
上記下部磁性体（１）としては、Ｍ ｎ −Ｚ ｎ系フ
ェライトやＮｉ−Ｚｎ系フェライト等の強磁性酸化物基
板、または、セラミック等の非磁性基板上にＦｅ−Ｎｉ
系合金（パーマロイ）やＦｅ−Ａｆｆｉ−３ｉ系合金（
センダスト）等の強磁性金属材料を積層した複合基板、
あるいは上記強磁性酸化物基板上にパーマロイやセンダ
スト等の強磁性金属材料を積層した複合基板、等が使用
される。
ェライトやＮｉ−Ｚｎ系フェライト等の強磁性酸化物基
板、または、セラミック等の非磁性基板上にＦｅ−Ｎｉ
系合金（パーマロイ）やＦｅ−Ａｆｆｉ−３ｉ系合金（
センダスト）等の強磁性金属材料を積層した複合基板、
あるいは上記強磁性酸化物基板上にパーマロイやセンダ
スト等の強磁性金属材料を積層した複合基板、等が使用
される。
また、上記第１絶縁層（２）上にはＣｕあるいはＡ１等
の金属導体よりなる第１コイル導体（３）が所定の間隔
をもって渦巻状（本実施例では４ターン）にパターンエ
ツチングされている。
の金属導体よりなる第１コイル導体（３）が所定の間隔
をもって渦巻状（本実施例では４ターン）にパターンエ
ツチングされている。
ここで、本発明においては、上記第１コイル導体（３）
のパターンエツチング時に、溝深さの許容誤差以内の幅
を有するマーカー膜（４）が残存する如くフォトリソグ
ラフィ技術によりエツチングが施されている。
のパターンエツチング時に、溝深さの許容誤差以内の幅
を有するマーカー膜（４）が残存する如くフォトリソグ
ラフィ技術によりエツチングが施されている。
さらに、上記第１コイル導体（３）を被覆するように第
２絶縁層（７）が被着形成され、上記第１コイル導体（
３）と同一の巻回方向を有し、上記第２絶縁層（７）に
形成されたコンタクト窓部（８）を介して、上記第１コ
イル導体（３）と電気的に接続される渦巻状（本実施例
では３ターン）の第２コイル導体（９）が形成されてい
る。すなわち、本実施例のコイル導体はスパイラル２層
重ね７ターンの巻線構造となる。また、この第２コイル
導体（９）上には、後述の上部磁性体（１２）との絶縁
を図るために第３絶縁層（１０）が形成されている。
２絶縁層（７）が被着形成され、上記第１コイル導体（
３）と同一の巻回方向を有し、上記第２絶縁層（７）に
形成されたコンタクト窓部（８）を介して、上記第１コ
イル導体（３）と電気的に接続される渦巻状（本実施例
では３ターン）の第２コイル導体（９）が形成されてい
る。すなわち、本実施例のコイル導体はスパイラル２層
重ね７ターンの巻線構造となる。また、この第２コイル
導体（９）上には、後述の上部磁性体（１２）との絶縁
を図るために第３絶縁層（１０）が形成されている。
上記コイル導体（３） 、 （９）としては、スパイラ
ル多層型に限られず、ヘリカル型あるいはジグザグ型等
如何なるＳ線構造であっても良い。
ル多層型に限られず、ヘリカル型あるいはジグザグ型等
如何なるＳ線構造であっても良い。
さらにまた、フロントギャップ部のＴａ２０５等よりな
るギャップスペーサ（１１）や上記第３絶縁層（１０）
を被覆する如くセンダストやパーマロイ等強磁性金属材
料よりなる上部磁性体（１２）が所定のトランク幅とな
るように形成されている。したがって、上記コイル導体
（３） 、 （９）に駆動電流を供給することにより、
下部磁性体と上部磁性体（１２）との共働により磁気回
路を構成し、記録・再生が行われるように構成されてい
る。
るギャップスペーサ（１１）や上記第３絶縁層（１０）
を被覆する如くセンダストやパーマロイ等強磁性金属材
料よりなる上部磁性体（１２）が所定のトランク幅とな
るように形成されている。したがって、上記コイル導体
（３） 、 （９）に駆動電流を供給することにより、
下部磁性体と上部磁性体（１２）との共働により磁気回
路を構成し、記録・再生が行われるように構成されてい
る。
さらにまた、図示してないが、上記上部磁性体（１２）
等を覆うように、５ｉ０２等よりなる保護膜が形成され
、この保護膜上にガラス等の接着材を溶融充填すること
により手用化され、さらに、デプスの摩耗対策としてセ
ラミ、りの非磁性材よりなる保護板が上記接着材上に融
着接合されている。
等を覆うように、５ｉ０２等よりなる保護膜が形成され
、この保護膜上にガラス等の接着材を溶融充填すること
により手用化され、さらに、デプスの摩耗対策としてセ
ラミ、りの非磁性材よりなる保護板が上記接着材上に融
着接合されている。
このように構成される薄Ｉ！２Ｍ気ヘッドにおいては、
上記マーカー膜（４）を設けることにより、磁気記録媒
体との対接幅を規制する溝加工の加工精度が大幅に向上
する。
上記マーカー膜（４）を設けることにより、磁気記録媒
体との対接幅を規制する溝加工の加工精度が大幅に向上
する。
以下、本発明の薄膜磁気ヘッドに形成されるマーカー膜
（４）について詳述する。
（４）について詳述する。
上記マーカー膜（４）は、第２図に示すように、例えば
長方形形状をなし、この相対向する辺（４ａ） 。
長方形形状をなし、この相対向する辺（４ａ） 。
（４ｂ）がデプス後端位置（Ｉｂ） （デプス長ｐｐ＝
０）ラインと平行となるように形成されている。
０）ラインと平行となるように形成されている。
また、溝深さをａとし、溝深さ位置（５ａ） （所定の
溝深さａとなるような位置）の許容誤差範囲を８ｂとじ
巷だ場合、上記マーカー膜（４）の中心線（ｂ＝ｏ）が
所定の溝深さａと一致し、このマーカー膜（４）の磁気
記録媒体封接面方向Ｘの長さが上記許容誤差±ｂ以内と
なるように形成されている。なお、上記マーカー膜（４
）の形状は長方形に限られることはなく、一対の平行な
辺を有する形状であれば、台形、正方形、平行四辺形等
如何なる形状であっても良い。
溝深さａとなるような位置）の許容誤差範囲を８ｂとじ
巷だ場合、上記マーカー膜（４）の中心線（ｂ＝ｏ）が
所定の溝深さａと一致し、このマーカー膜（４）の磁気
記録媒体封接面方向Ｘの長さが上記許容誤差±ｂ以内と
なるように形成されている。なお、上記マーカー膜（４
）の形状は長方形に限られることはなく、一対の平行な
辺を有する形状であれば、台形、正方形、平行四辺形等
如何なる形状であっても良い。
したがって、砥石等で溝加工を施し、この加工面に上記
マーカー膜（４）の−辺（４ｂ）が露出したときがａ深
さａの下限となり、さらに溝加工を続けて上記マーカー
膜（４）の−辺（４ａ）が見えなくなるときが上記マー
カー膜（４）の上限となる。すなわち、上記溝加工工程
で、加工面にマーカー膜（４）が露出していれば、／＃
深さａは許容誤差±ｂ以内にあることが確認される。
マーカー膜（４）の−辺（４ｂ）が露出したときがａ深
さａの下限となり、さらに溝加工を続けて上記マーカー
膜（４）の−辺（４ａ）が見えなくなるときが上記マー
カー膜（４）の上限となる。すなわち、上記溝加工工程
で、加工面にマーカー膜（４）が露出していれば、／＃
深さａは許容誤差±ｂ以内にあることが確認される。
一膜を形成しておき、溝加工後にこの加工面に露出する
上記マーカー膜の長さを測定して、絶対的も な溝深さを検出する方法が考えられ一牛件る。しかしな
がら、通常、この溝加工には砥石を使用しているので、
加工面が滑らかにはならない。したがって、上記マーカ
ー膜の長さの測定に誤差を生し易く、上記溝深さを精度
良く検出することができない。さらに、加工機上で上記
マーカー膜の長さを測定しようとすると、溝深さの設定
値を変える必要があり、逆に溝加工精度を低下する虞れ
かある。
上記マーカー膜の長さを測定して、絶対的も な溝深さを検出する方法が考えられ一牛件る。しかしな
がら、通常、この溝加工には砥石を使用しているので、
加工面が滑らかにはならない。したがって、上記マーカ
ー膜の長さの測定に誤差を生し易く、上記溝深さを精度
良く検出することができない。さらに、加工機上で上記
マーカー膜の長さを測定しようとすると、溝深さの設定
値を変える必要があり、逆に溝加工精度を低下する虞れ
かある。
このように、斉加工精度を要する上記溝加工において、
本発明の薄膜磁気ヘッドは、加工面に露出するマーカー
膜（４）の有無を確認するだけで、溝深さが許容誤差以
内にあるか否かを判定することができる。したがって、
上記溝加工は、薄膜磁気ヘッドを溝加工機に取り付けた
状態でこの深さを精度良く確認することができる。また
、マーカー膜（４）の有無を確認するだけで良いので、
高倍率の顕微鏡を使用しなくても良い。特に、複数の薄
膜磁気ヘッド素子を有するブロック片を研磨する場合に
は本発明のマーカー膜（４）は有効である。
本発明の薄膜磁気ヘッドは、加工面に露出するマーカー
膜（４）の有無を確認するだけで、溝深さが許容誤差以
内にあるか否かを判定することができる。したがって、
上記溝加工は、薄膜磁気ヘッドを溝加工機に取り付けた
状態でこの深さを精度良く確認することができる。また
、マーカー膜（４）の有無を確認するだけで良いので、
高倍率の顕微鏡を使用しなくても良い。特に、複数の薄
膜磁気ヘッド素子を有するブロック片を研磨する場合に
は本発明のマーカー膜（４）は有効である。
なお、本実施例では上記マーカー膜（４）を第１コイル
導体（３）の形成と同時に形成したが、第２コイル導体
（９）と同時に形成してもよいことはいうまでもない。
導体（３）の形成と同時に形成したが、第２コイル導体
（９）と同時に形成してもよいことはいうまでもない。
また、本発明は上述の実施例に限定されるものではなく
、本発明の主旨を逸脱することなく種々の構造が取り得
ることはいうまでもない。
、本発明の主旨を逸脱することなく種々の構造が取り得
ることはいうまでもない。
以上の説明から明らかなように、本発明の薄膜磁気ヘッ
ドにおいては、下部磁性体上に磁気記録媒体との対接幅
を規制する溝の深さ精度を確保するためのマーカー膜が
形成されており、上記対接幅を規制する溝加工は、加工
面に露出する上記マーカー膜の有無を確認しながら行う
ことができる。
ドにおいては、下部磁性体上に磁気記録媒体との対接幅
を規制する溝の深さ精度を確保するためのマーカー膜が
形成されており、上記対接幅を規制する溝加工は、加工
面に露出する上記マーカー膜の有無を確認しながら行う
ことができる。
したがって、上記溝加工は、容易に、かつ精度良く行え
る。
る。
第１図（Ａ）は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの一例を示
す概略的な平面図、第１図（Ｂ）は第１図（Ａ）のａ−
ａ線における断面図である。 第２図はマーカー膜近傍を拡大して示す平面図である。 ｌ・・・・下部磁性体 ３・・・・第１コイル導体 ４・・・・マーカー膜 ９・・・・第２コイル導体 １２・・・上部磁性体
す概略的な平面図、第１図（Ｂ）は第１図（Ａ）のａ−
ａ線における断面図である。 第２図はマーカー膜近傍を拡大して示す平面図である。 ｌ・・・・下部磁性体 ３・・・・第１コイル導体 ４・・・・マーカー膜 ９・・・・第２コイル導体 １２・・・上部磁性体
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 基板上にコイル導体及び上部磁性体が絶縁層を介して積
層され、磁気記録媒体との対接幅を規制するための溝加
工が施されてなる薄膜磁気ヘッドにおいて、 上記下部磁性体上に上記溝加工の深さ精度を確保するた
めのマーカー膜が形成されていることを特徴とする薄膜
磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16619985A JPS6226618A (ja) | 1985-07-27 | 1985-07-27 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16619985A JPS6226618A (ja) | 1985-07-27 | 1985-07-27 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6226618A true JPS6226618A (ja) | 1987-02-04 |
Family
ID=15826927
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16619985A Pending JPS6226618A (ja) | 1985-07-27 | 1985-07-27 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6226618A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11291357B2 (en) | 2011-12-13 | 2022-04-05 | Endochoice, Inc. | Removable tip endoscope |
-
1985
- 1985-07-27 JP JP16619985A patent/JPS6226618A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11291357B2 (en) | 2011-12-13 | 2022-04-05 | Endochoice, Inc. | Removable tip endoscope |
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