JPH041923A - デイスク基板 - Google Patents
デイスク基板Info
- Publication number
- JPH041923A JPH041923A JP10206190A JP10206190A JPH041923A JP H041923 A JPH041923 A JP H041923A JP 10206190 A JP10206190 A JP 10206190A JP 10206190 A JP10206190 A JP 10206190A JP H041923 A JPH041923 A JP H041923A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- disk substrate
- substrate
- lubricant
- recording
- view
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明はディスク基板に関するものであり、特にディ
スク基板の塗りむらの要因となるいわゆる「液だれ」を
防止するための側面の構造の改良に関する。
スク基板の塗りむらの要因となるいわゆる「液だれ」を
防止するための側面の構造の改良に関する。
最近、めっき、蒸着、スパッタ等によって成膜される薄
膜磁気記録媒体の耐摩耗性等の機械的耐久性改善の要求
が高まってきている。この耐久性は、潤滑処理技術に大
きく左右され、たとえ優えた潤滑処理技術に大きく左右
され、たとえ優れた潤滑性能を有する潤滑剤を用いて処
理したとしても、その処理方法（条件）が適切でないと
十分な性能を発揮しない。そのため潤滑性能の優れた材
料開発も急がれていることはどうまでもないが、その材
料特性を十分活かしきるための最通処理方法を開発する
ことは、より重要なテーマと考えられる。
膜磁気記録媒体の耐摩耗性等の機械的耐久性改善の要求
が高まってきている。この耐久性は、潤滑処理技術に大
きく左右され、たとえ優えた潤滑処理技術に大きく左右
され、たとえ優れた潤滑性能を有する潤滑剤を用いて処
理したとしても、その処理方法（条件）が適切でないと
十分な性能を発揮しない。そのため潤滑性能の優れた材
料開発も急がれていることはどうまでもないが、その材
料特性を十分活かしきるための最通処理方法を開発する
ことは、より重要なテーマと考えられる。
第６図は、例えば刊行物（Ｔｈｓ ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ
ｏｎｍｅｍｏｒｙ ｍａｄ ａｄｖａｎａｓｄ
ｒｓａｏｒｄｉｎｇ ＆ｅａｈｎｏｌｏｇｉ＠ｓ。
ｏｎｍｅｍｏｒｙ ｍａｄ ａｄｖａｎａｓｄ
ｒｓａｏｒｄｉｎｇ ＆ｅａｈｎｏｌｏｇｉ＠ｓ。
ｗａ −３−ａ −１（１９８６））に示されたディッ
ピング装置（潤滑剤塗布装置）の概略構成を示す斜視図
である。図において、（１）は例えばフッ素系潤滑剤を
フッ素溶媒で稀釈した潤滑剤溶液、［２）は潤滑剤溶液
（１）を収容する潤滑剤溶液槽、（３）はディスク基板
、（４）は複数枚のディスク基板（３）を束ねて支持す
る基板支持体、４５）は基板支持体１４）を下に動かし
ディスク基板（３）を潤滑剤溶液（２）に浸漬し、上方
に移動させてディスク基板（３）を潤滑剤溶液（２）か
ら引き１げるアクチュエータである。
ピング装置（潤滑剤塗布装置）の概略構成を示す斜視図
である。図において、（１）は例えばフッ素系潤滑剤を
フッ素溶媒で稀釈した潤滑剤溶液、［２）は潤滑剤溶液
（１）を収容する潤滑剤溶液槽、（３）はディスク基板
、（４）は複数枚のディスク基板（３）を束ねて支持す
る基板支持体、４５）は基板支持体１４）を下に動かし
ディスク基板（３）を潤滑剤溶液（２）に浸漬し、上方
に移動させてディスク基板（３）を潤滑剤溶液（２）か
ら引き１げるアクチュエータである。
第７図は上記ディッピング装置（第６図）によって塗布
されたディスク基板の塗りむらの要因となるいわゆる「
液だれ」の生じ易い箇所を示した平面図である。図にお
いて、（６）はディスク基板（３）の記録面、（７）は
斜線によって表示され、潤滑剤溶液［２１の厚く看いて
くるいわゆる「液だれ」部である。
されたディスク基板の塗りむらの要因となるいわゆる「
液だれ」の生じ易い箇所を示した平面図である。図にお
いて、（６）はディスク基板（３）の記録面、（７）は
斜線によって表示され、潤滑剤溶液［２１の厚く看いて
くるいわゆる「液だれ」部である。
８８図は例えば実開昭６４−１５１４１５号公報に示さ
れたディスク基板への潤滑剤塗布の均一化をはかった従
来例を示す平面図である。図において、（６）はディス
ク基板の記録面、（７）は斜線によって表示され、潤滑
剤溶液（２）の厚く看いてくるいわゆる「液だれ」部、
（８）はディスク基板の記録面（６）と同一面に嵌合さ
れた基板ホルダーで、「液だれ」部（７）は、基板ホル
ダー（８）の周辺部に発生箇所が移っている。そのため
潤滑剤の塗布を行なった後基板ホルタ−（８１を取りは
ずすと、潤滑剤が端部まで均等に塗布されたディスク基
板が得られる。
れたディスク基板への潤滑剤塗布の均一化をはかった従
来例を示す平面図である。図において、（６）はディス
ク基板の記録面、（７）は斜線によって表示され、潤滑
剤溶液（２）の厚く看いてくるいわゆる「液だれ」部、
（８）はディスク基板の記録面（６）と同一面に嵌合さ
れた基板ホルダーで、「液だれ」部（７）は、基板ホル
ダー（８）の周辺部に発生箇所が移っている。そのため
潤滑剤の塗布を行なった後基板ホルタ−（８１を取りは
ずすと、潤滑剤が端部まで均等に塗布されたディスク基
板が得られる。
上記のような従来の基板ホルダーを用いてディスク基板
に潤滑剤を塗布する場合、別途基板ホルダーを製作しな
ければならず、またこの基板ホルダーを取り付けたり取
りはずしたりする手間も必要で、その分デイスク基板の
単価も高くつくという問題点があった。
に潤滑剤を塗布する場合、別途基板ホルダーを製作しな
ければならず、またこの基板ホルダーを取り付けたり取
りはずしたりする手間も必要で、その分デイスク基板の
単価も高くつくという問題点があった。
この発明はかかる課題を解決するためになされたもので
、基板ホルダーを用いずに、しかも記録面に潤滑剤が均
一に塗布できるディスク基板を得ることを目的とする。
、基板ホルダーを用いずに、しかも記録面に潤滑剤が均
一に塗布できるディスク基板を得ることを目的とする。
請求項（１）の発明に係るディスク基板は、ディスク基
板の一方の記録面端部と、上記ディスク基板の他方の記
録面端部とを接続するアール形状の側面を有したもので
ある。
板の一方の記録面端部と、上記ディスク基板の他方の記
録面端部とを接続するアール形状の側面を有したもので
ある。
また、請求項（２）の発明に係るディスク基板は、徽細
な凹凸の形成された側面を有したものである。
な凹凸の形成された側面を有したものである。
請求項（１）における発明のアール形状の側面は、記録
面との不連続点・角の存在を解消する。
面との不連続点・角の存在を解消する。
また、請求項（２１における発明のディスク基板の側面
につけられた鍬細な凹凸は、毛細管現象により潤滑剤溶
液をすいよせる。
につけられた鍬細な凹凸は、毛細管現象により潤滑剤溶
液をすいよせる。
第１図はこの発明の一実施例におけるディスク基板を示
す平面図、第２図はその側断面図である。
す平面図、第２図はその側断面図である。
図において、（３）はディスク基板、（６）はディスク
基板（３１の記録面、（９）はディスク基板のアール形
状側面である。
基板（３１の記録面、（９）はディスク基板のアール形
状側面である。
＠３図はこの発明の他の実施例におけるディスク基板を
示す平面図、第４図はその側面図である。
示す平面図、第４図はその側面図である。
図において、（至）はディスク基板の厚み方向に溝が形
成された微細な凹凸側面である。
成された微細な凹凸側面である。
第５図はこの発明のさらに他の実施例におけるディスク
基板を示す側面図である。図において、０は例えばギザ
ギザやつや消しなどの徽細な凹凸側面である。
基板を示す側面図である。図において、０は例えばギザ
ギザやつや消しなどの徽細な凹凸側面である。
以上のように構成されたこの発明の動作について、実験
データにもとすいて説明する。
データにもとすいて説明する。
まず、外径３０ａｍ 、内径１０ｏｍ、厚６３ｍｍ（７
）フルミニラム製ディスク基板に対し、上記＠６図に示
すディッピング装置を用い、フッ素変成オイルのフッ素
系潤滑剤（商品名ＫＲＹτφｘ１４３Ａｎ、デュポン製
）を、トリフルオロトリクロロエタン（フッ素変成稀釈
液）で濃度がＩＣｆ／／１〕、３Ｃｆ／ＩＩＪ、５Ｃｆ
ｌ／１〕 となるように稀釈した溶液中に浸漬し、基
板の引き上げ速度を０．２（ｍ／分〕で引き上げる。
）フルミニラム製ディスク基板に対し、上記＠６図に示
すディッピング装置を用い、フッ素変成オイルのフッ素
系潤滑剤（商品名ＫＲＹτφｘ１４３Ａｎ、デュポン製
）を、トリフルオロトリクロロエタン（フッ素変成稀釈
液）で濃度がＩＣｆ／／１〕、３Ｃｆ／ＩＩＪ、５Ｃｆ
ｌ／１〕 となるように稀釈した溶液中に浸漬し、基
板の引き上げ速度を０．２（ｍ／分〕で引き上げる。
時間の経過とともに潤滑剤溶液は重力によって下方に流
れ落ち、平衡状態になった残存塗液が最終的には潤滑剤
塗膜としてディスク基板に固着し、潤滑剤の厚さが決定
される。ディスク基板が引き上げられ乾いていく過程で
残存塗液はぬれの良い部分へ引き寄せられていく。表１
ないし表３は、このフッ素系潤滑剤（ＫＲＹ ｒφ！１
４３ＡＤ）の膜厚を、発明者らが開発し、例えば（日本
潤滑学会、秋期大会、予稿集（１９８７） Ｐ、４８５
〜４８８）において発表したＦＴ−ＩＲによる高感度反
射法により測定した結果である。
れ落ち、平衡状態になった残存塗液が最終的には潤滑剤
塗膜としてディスク基板に固着し、潤滑剤の厚さが決定
される。ディスク基板が引き上げられ乾いていく過程で
残存塗液はぬれの良い部分へ引き寄せられていく。表１
ないし表３は、このフッ素系潤滑剤（ＫＲＹ ｒφ！１
４３ＡＤ）の膜厚を、発明者らが開発し、例えば（日本
潤滑学会、秋期大会、予稿集（１９８７） Ｐ、４８５
〜４８８）において発表したＦＴ−ＩＲによる高感度反
射法により測定した結果である。
はじめに第１図および第２図に示した基板の潤滑剤膜厚
測定結果を表１に示す。半径位置５〜１５［ａｍ］の基
板半径方向測定点８点の膜厚０人〕を示したものである
。
測定結果を表１に示す。半径位置５〜１５［ａｍ］の基
板半径方向測定点８点の膜厚０人〕を示したものである
。
表１．各測定位置での潤滑剤膜厚〔Ａ）Ｃ第１１に１第
２図に示した側面形状の基板）もよい。
２図に示した側面形状の基板）もよい。
汲２．各測定位置での工滑剤膜厚〔λ〕（第３図および
第４図に示した側面形状の基板）また、“第３図および
第４図によって示した基板の潤滑剤膜厚測定結果を汲２
に、第２図と１１５図とを組み合わせた形状の側面をも
つ基板の潤滑剤膜厚測定結果を表３に示す。
第４図に示した側面形状の基板）また、“第３図および
第４図によって示した基板の潤滑剤膜厚測定結果を汲２
に、第２図と１１５図とを組み合わせた形状の側面をも
つ基板の潤滑剤膜厚測定結果を表３に示す。
いずれの実施例の結果からも、問題のない範囲の均一な
塗布膜が得られていることが分った。
塗布膜が得られていることが分った。
表３は、アール形状の側面の上に象細な凹凸をつけた組
み合せ例で、より均一な潤滑剤の塗膜ができている。ま
た、会細な凹凸は部分的につけて表３．各測定位置での
潤滑剤膜厚〔λ〕（９７４図と第５図とを組み合せた側
面形状の基板）〔発明の効果〕 請求項（１）の発明に係るディスク基板は、ディスク基
板の一方の記録面端部と、上記ディスク基板の他方の記
録面端部とを接続するアール形状の側面を有するように
したので、また請求項（２）の発明に係るディスク基板
は、微細な凹凸の形成された側面を有するようにしたの
で、基板ホルダーを用いずに、しかも記録面に潤滑剤が
均一に塗布できるディスク基板が得られる。
み合せ例で、より均一な潤滑剤の塗膜ができている。ま
た、会細な凹凸は部分的につけて表３．各測定位置での
潤滑剤膜厚〔λ〕（９７４図と第５図とを組み合せた側
面形状の基板）〔発明の効果〕 請求項（１）の発明に係るディスク基板は、ディスク基
板の一方の記録面端部と、上記ディスク基板の他方の記
録面端部とを接続するアール形状の側面を有するように
したので、また請求項（２）の発明に係るディスク基板
は、微細な凹凸の形成された側面を有するようにしたの
で、基板ホルダーを用いずに、しかも記録面に潤滑剤が
均一に塗布できるディスク基板が得られる。
！！１図はこの発明の一実施例におけるディスク基板を
示す平面図、第２図は第１図におけるディスク基板の側
断面図、第３図はこの発明の他の実施例におけるディス
ク基板を示す平面図、第４図は第３図のディスク基板の
側面図、第５図はこの発明のさらに他の実施例を示すデ
ィスク基板の側面図、第６図はディッピング装置の概略
斜視図、！！７図は従来のディスク基板を示す平面図、
第８図は第７図従来のディスク基板に基板ホルダーを嵌
合した従来例のディスク基板を示す平面図である。 図において、（３）はディスク基板、（６）は記録面、
＋９１はアール形状側面、α０． ＩＤは微細な凹凸が
形成された側面である。 なお、各図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
示す平面図、第２図は第１図におけるディスク基板の側
断面図、第３図はこの発明の他の実施例におけるディス
ク基板を示す平面図、第４図は第３図のディスク基板の
側面図、第５図はこの発明のさらに他の実施例を示すデ
ィスク基板の側面図、第６図はディッピング装置の概略
斜視図、！！７図は従来のディスク基板を示す平面図、
第８図は第７図従来のディスク基板に基板ホルダーを嵌
合した従来例のディスク基板を示す平面図である。 図において、（３）はディスク基板、（６）は記録面、
＋９１はアール形状側面、α０． ＩＤは微細な凹凸が
形成された側面である。 なお、各図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (2)
- （１）ディスク基板の一方の記録面端部と、上記ディス
ク基板の他方の記録面端部とを接続するアール形状の側
面を有したことを特徴とするディスク基板。 - （２）微細な凹凸が形成された側面を有したことを特徴
とするデイスク基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10206190A JPH041923A (ja) | 1990-04-17 | 1990-04-17 | デイスク基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10206190A JPH041923A (ja) | 1990-04-17 | 1990-04-17 | デイスク基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH041923A true JPH041923A (ja) | 1992-01-07 |
Family
ID=14317254
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10206190A Pending JPH041923A (ja) | 1990-04-17 | 1990-04-17 | デイスク基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH041923A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0744860A (ja) * | 1993-07-29 | 1995-02-14 | Nec Corp | 磁気記憶体 |
| WO2008053733A1 (fr) * | 2006-10-31 | 2008-05-08 | Konica Minolta Opto, Inc. | Procédé de retenue de disque en verre pour un support d'enregistrement d'informations et support utilisé pour le procédé |
-
1990
- 1990-04-17 JP JP10206190A patent/JPH041923A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0744860A (ja) * | 1993-07-29 | 1995-02-14 | Nec Corp | 磁気記憶体 |
| WO2008053733A1 (fr) * | 2006-10-31 | 2008-05-08 | Konica Minolta Opto, Inc. | Procédé de retenue de disque en verre pour un support d'enregistrement d'informations et support utilisé pour le procédé |
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