JPH04198740A - ペリクルの透過率測定方法 - Google Patents
ペリクルの透過率測定方法Info
- Publication number
- JPH04198740A JPH04198740A JP2328105A JP32810590A JPH04198740A JP H04198740 A JPH04198740 A JP H04198740A JP 2328105 A JP2328105 A JP 2328105A JP 32810590 A JP32810590 A JP 32810590A JP H04198740 A JPH04198740 A JP H04198740A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- transmittance
- exposure area
- reflected
- reflector
- Prior art date
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- Pending
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- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、ペリクルが装着されたフォトマスクに於いて
、ペリクルの透過率を測定する方法に関する。
、ペリクルの透過率を測定する方法に関する。
［従来の技術］
半導体装置製造などのフォトエツチング工程で使用され
るフォトマスクには、前記フォトマスク上の異物が投影
露光時に転写され、パターン不良を引き起こすことを防
止するために、−数的にペリクルが装着されている。
るフォトマスクには、前記フォトマスク上の異物が投影
露光時に転写され、パターン不良を引き起こすことを防
止するために、−数的にペリクルが装着されている。
第３図は、ペリクルが装着されたフォトマスクを示す図
である。ペリクル１は、ニトロセルロースに代表される
透明薄膜からなり、Ａ１合金などからなるペリクル枠３
を介して、フォトマスク２から一定の距離をおいて、前
記フォトマスク２上のパターン部を覆って固定される。
である。ペリクル１は、ニトロセルロースに代表される
透明薄膜からなり、Ａ１合金などからなるペリクル枠３
を介して、フォトマスク２から一定の距離をおいて、前
記フォトマスク２上のパターン部を覆って固定される。
前記ペリクル１は、露光や異物検査の際に光束を吸収し
徐々に劣化していく。
徐々に劣化していく。
最近、高性能なｉ線専用ペリクルやｇｒ ｉ線共用ペ
リクルなどが実用化されているが、特にｉ線露光装置を
用いる場合、現在主流のｇ線露光装置に比べ吸収が大き
いためペリクルの劣化が激しい。ペリクルの劣化が激し
くなると、その部分におけるペリクルの透過率が低下し
、異物検査装置での異物検査能力の低下や縮／ｈ露光装
置での照度低下などにつながるために管理する必要があ
る。
リクルなどが実用化されているが、特にｉ線露光装置を
用いる場合、現在主流のｇ線露光装置に比べ吸収が大き
いためペリクルの劣化が激しい。ペリクルの劣化が激し
くなると、その部分におけるペリクルの透過率が低下し
、異物検査装置での異物検査能力の低下や縮／ｈ露光装
置での照度低下などにつながるために管理する必要があ
る。
第２図は、従来の反射板を装着したフォトマスクの概略
図である。ペリクル１はまずペリクル枠３に装着され、
更にこのペリクル枠３がフォトマスク２に接着剤を介し
て接着固定されている。ここで反射板５を露光域４に設
けることができないので、前記露光域４外の前記ペリク
ル１に覆われる領域にある、フォトマスク２面上に接着
固定している。
図である。ペリクル１はまずペリクル枠３に装着され、
更にこのペリクル枠３がフォトマスク２に接着剤を介し
て接着固定されている。ここで反射板５を露光域４に設
けることができないので、前記露光域４外の前記ペリク
ル１に覆われる領域にある、フォトマスク２面上に接着
固定している。
ペリクルの透過率測定方法は、入射光としてＨｅ−Ｎｅ
レーザー（波長：６３２．８ｎｍ）６がペリクル１の非
露光部を透過し、反射板５によって反射され、再びペリ
クル１の非露光部を透過し検出器８によって、反射光７
の強度を検圧し、入射光６の強度、反射板５での光の減
衰を考慮した上で算出される。
レーザー（波長：６３２．８ｎｍ）６がペリクル１の非
露光部を透過し、反射板５によって反射され、再びペリ
クル１の非露光部を透過し検出器８によって、反射光７
の強度を検圧し、入射光６の強度、反射板５での光の減
衰を考慮した上で算出される。
具体的な透過率の算出方法は以下の通りである。
Ｉｉ＊Ｔ１２＊Ｒ＝ＩＲ・ ・ ・■
Ｉｉ：入射光の強度 １８１反射光の強度Ｔ１：ペ
リクルの透過率 Ｒ：反射板の反射率０式において、Ｉ
Ｒは前述の測定により求められ、Ｉｉ、Ｒは、既知であ
り、定数であるため、Ｔ１を求めることができる。
リクルの透過率 Ｒ：反射板の反射率０式において、Ｉ
Ｒは前述の測定により求められ、Ｉｉ、Ｒは、既知であ
り、定数であるため、Ｔ１を求めることができる。
［発明が解決しようとする課題］
しかし、前述の従来方法では、以下のような課題を有す
る。
る。
反射板が、露光域外に設けられているため、露光域にあ
るペリクルの透過率を求めることが出来ない。透過率測
定の必要性は、露光域のペリクル透過率の変化から投影
露光や異物検査時に光束の強度を最適化することにある
。
るペリクルの透過率を求めることが出来ない。透過率測
定の必要性は、露光域のペリクル透過率の変化から投影
露光や異物検査時に光束の強度を最適化することにある
。
従って、露光域のペリクルの透過率を直接測定する必要
がある。
がある。
そこで本発明は、このような課題を解決するもので、そ
の目的とするところは、フォトマスクに装着したペリク
ルの投影露光や異物検査により表面劣化される部分を直
接、透過率測定することにある。
の目的とするところは、フォトマスクに装着したペリク
ルの投影露光や異物検査により表面劣化される部分を直
接、透過率測定することにある。
［課題を解決するための手段］
本発明の、ペリクルの透過率測定方法は、ペリクルを装
着したフォトマスクに於いて、断面形状がＬ字型をした
反射板を、その−辺が、前記ペリクルに覆われる領域に
あるフォトマスク面と接し、更に他の面が、ペリクル枠
の内壁に接するように設け、前記ペリクルの透過率を測
定するための光束を、前記ペリクルの露光域を通して前
記反射板のペリクル枠側の面に入射し、その面で反射し
た光束を更に前記反射板のフォトマスク側の面で反射さ
せ、前記ペリクルの露光域を再び通過した光束の強度を
測定し、その測定値と前記光束の入射強度と、前記反射
板の反射率とを用いて、前記ペリクルの露光域の透過率
を求めることを特徴とする。
着したフォトマスクに於いて、断面形状がＬ字型をした
反射板を、その−辺が、前記ペリクルに覆われる領域に
あるフォトマスク面と接し、更に他の面が、ペリクル枠
の内壁に接するように設け、前記ペリクルの透過率を測
定するための光束を、前記ペリクルの露光域を通して前
記反射板のペリクル枠側の面に入射し、その面で反射し
た光束を更に前記反射板のフォトマスク側の面で反射さ
せ、前記ペリクルの露光域を再び通過した光束の強度を
測定し、その測定値と前記光束の入射強度と、前記反射
板の反射率とを用いて、前記ペリクルの露光域の透過率
を求めることを特徴とする。
［実施例コ
第１図は、本発明の測定方法の一実施例を示す図である
。
。
従来技術と同様に、ペリクル１は、ペリクル枠３に接着
されており、更にこのペリクル枠３がフォトマスク２に
接着固定されている。
されており、更にこのペリクル枠３がフォトマスク２に
接着固定されている。
本実施例においては断面形状がＬ字型をした反射板５を
、その−辺が、前記ペリクル１に覆われる領域にあり、
且つ露光域４以外のフォトマスク２面と接し、更に他の
辺が、ペリクル枠３の内壁に接する様に設けた。ここで
、実際に透過率が問題になる領域は、露光や異物検査な
どで劣化の激しいペリクル面、即ち、露光域のペリクル
９である。以下に、その透過率測定方法を述べる。
、その−辺が、前記ペリクル１に覆われる領域にあり、
且つ露光域４以外のフォトマスク２面と接し、更に他の
辺が、ペリクル枠３の内壁に接する様に設けた。ここで
、実際に透過率が問題になる領域は、露光や異物検査な
どで劣化の激しいペリクル面、即ち、露光域のペリクル
９である。以下に、その透過率測定方法を述べる。
まず、前記露光域のペリクル９の透過率を測定するため
、光束６を、前記露光域のペリクル９を通して、前記反
射板５のペリクル枠３側の面に入射し、その面で反射し
た光束を更に、前記反射板５のフォトマスク２側の面で
反射させ、前記露光域のペリクル９を再び、反射光束７
として通過させ、その強度を測定する。そして、前記露
光域のペリクル９の透過率は、以下の■式より求めるこ
とができる。
、光束６を、前記露光域のペリクル９を通して、前記反
射板５のペリクル枠３側の面に入射し、その面で反射し
た光束を更に、前記反射板５のフォトマスク２側の面で
反射させ、前記露光域のペリクル９を再び、反射光束７
として通過させ、その強度を測定する。そして、前記露
光域のペリクル９の透過率は、以下の■式より求めるこ
とができる。
入射光の強度Ｉｉ、及び、反射板の反射率Ｒは、既知で
あり、定数であるため、反射光の強度ＩＲを実測するこ
とにより、露光域のペリクルの透過率Ｔ２を求めること
ができる。
あり、定数であるため、反射光の強度ＩＲを実測するこ
とにより、露光域のペリクルの透過率Ｔ２を求めること
ができる。
工ｉ＊Ｔ２２＊Ｒ２＝ＩＲ・・・■
Ｉｉ：入射光の強度 ＩＲ：反射光の強度Ｔ２：ｊｉ光
域のペリクルの透過率 Ｒ：反射板の反射率 このように、本実施例によれば断面形状がＬ字型をした
反射板を設けることにより、透過率を測定するための光
束の入射光、及び、反射光を共に、露光域にあるペリク
ルを透過させることができるため、前記、露光域のペリ
クルの透過率を直接測定することが可能となった。
域のペリクルの透過率 Ｒ：反射板の反射率 このように、本実施例によれば断面形状がＬ字型をした
反射板を設けることにより、透過率を測定するための光
束の入射光、及び、反射光を共に、露光域にあるペリク
ルを透過させることができるため、前記、露光域のペリ
クルの透過率を直接測定することが可能となった。
以上本発明の一実施例を述べたが、これ以外に
・透過率を測定するための光束として、Ｈｅ−Ｎｅレー
ザー以外の光束を用いる。
ザー以外の光束を用いる。
・反射板を複数個所設けて、それぞれの反射板を用いて
、透過率を測定し、−測定精度 を上げる。
、透過率を測定し、−測定精度 を上げる。
・ペリクル以外の透過膜の透過率を測定する。
等の場合に適用しても、同様な効果が得られる。
［発明の効果］
以上述べたように本発明によれば、ペリクルを装着し六
フォトマスクに於いて、断面形状がＬ字型をした反射板
を、その−辺が、前記ペリクルに覆われる領域にあるフ
ォトマスク面と接し、更に他の面が、ペリクル枠の内壁
に接するように設け、前記ペリクルの透過率を測定する
ための光束を、前記ペリクルの露光域を通して前記反射
板のペリクル枠側の面に入射し、その面で反射した光束
を更に前記反射板のフォトマスク側の面で反射させ、前
記ペリクルの露光域を再び通過した光束の強度を測定し
、その測定値と前記光束の入射強度と、前記反射板の反
射率とを用いて、前記ペリクルの露光域の透過率を求め
ることにより、前記、露光域のペリクルの透過率を直接
求めることが可能になり、露光域のペリクル透過率の変
化から投影露光や、異物検査時の光束の強度を最適化で
きるという効果を有するものである。
フォトマスクに於いて、断面形状がＬ字型をした反射板
を、その−辺が、前記ペリクルに覆われる領域にあるフ
ォトマスク面と接し、更に他の面が、ペリクル枠の内壁
に接するように設け、前記ペリクルの透過率を測定する
ための光束を、前記ペリクルの露光域を通して前記反射
板のペリクル枠側の面に入射し、その面で反射した光束
を更に前記反射板のフォトマスク側の面で反射させ、前
記ペリクルの露光域を再び通過した光束の強度を測定し
、その測定値と前記光束の入射強度と、前記反射板の反
射率とを用いて、前記ペリクルの露光域の透過率を求め
ることにより、前記、露光域のペリクルの透過率を直接
求めることが可能になり、露光域のペリクル透過率の変
化から投影露光や、異物検査時の光束の強度を最適化で
きるという効果を有するものである。
第１図は、本発明の透過率測定方法を説明するための図
である。 第２図は、従来技術の透過率測定方法を説明するための
図である。 第３図は、ペリクルを装着したフォトマスクを示す図で
ある。 １、ペリクル ２．フォトマスク ３、ペリクル枠 ４、 Ｎ光域 ５、反射板 ６、入射光束 ７、反射光束 ８、検出器 ９、露光域にあるペリクル 以上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人 弁理士 鈴木喜三部（他１名）第３図
である。 第２図は、従来技術の透過率測定方法を説明するための
図である。 第３図は、ペリクルを装着したフォトマスクを示す図で
ある。 １、ペリクル ２．フォトマスク ３、ペリクル枠 ４、 Ｎ光域 ５、反射板 ６、入射光束 ７、反射光束 ８、検出器 ９、露光域にあるペリクル 以上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人 弁理士 鈴木喜三部（他１名）第３図
Claims (1)
- ペリクルを装着したフォトマスクに於いて、断面形状が
Ｌ字型をした反射板を、一面が、前記ペリクルに覆われ
る領域にあるフォトマスク面と接し、かつ他の面が、ペ
リクル枠の内壁に接するように設け、前記ペリクルの透
過率を測定するための光束を、前記ペリクルの露光域を
通して前記反射板のペリクル枠側の面に入射し、その面
で反射した光束を更に前記反射板のフォトマスク側の面
で反射させ、前記ペリクルの露光域を再び通過した光束
の強度を測定し、その測定値と前記光束の入射強度と、
前記反射板の反射率とを用いて、前記ペリクルの露光域
の透過率を求めることを特徴とするペリクルの透過率測
定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2328105A JPH04198740A (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | ペリクルの透過率測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2328105A JPH04198740A (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | ペリクルの透過率測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04198740A true JPH04198740A (ja) | 1992-07-20 |
Family
ID=18206559
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2328105A Pending JPH04198740A (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | ペリクルの透過率測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04198740A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001011665A1 (en) * | 1999-08-05 | 2001-02-15 | Nikon Corporation | Optical device for illumination, exposure device, container of optical part, method of assembling exposure device, method of evaluating material, and method and device for evaluating filter |
| US7060403B2 (en) | 2002-07-15 | 2006-06-13 | International Business Machines Corporation | In-situ pellicle monitor |
| CN112213241A (zh) * | 2019-07-12 | 2021-01-12 | 日新电机株式会社 | 尘埃堆积探测装置 |
| JP2021019165A (ja) * | 2019-07-24 | 2021-02-15 | 株式会社ディスコ | 保護テープの識別方法、被加工物の加工方法、識別装置、及び加工装置 |
-
1990
- 1990-11-28 JP JP2328105A patent/JPH04198740A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001011665A1 (en) * | 1999-08-05 | 2001-02-15 | Nikon Corporation | Optical device for illumination, exposure device, container of optical part, method of assembling exposure device, method of evaluating material, and method and device for evaluating filter |
| US7060403B2 (en) | 2002-07-15 | 2006-06-13 | International Business Machines Corporation | In-situ pellicle monitor |
| CN112213241A (zh) * | 2019-07-12 | 2021-01-12 | 日新电机株式会社 | 尘埃堆积探测装置 |
| JP2021015037A (ja) * | 2019-07-12 | 2021-02-12 | 日新電機株式会社 | 塵埃堆積検知装置 |
| CN112213241B (zh) * | 2019-07-12 | 2024-05-17 | 日新电机株式会社 | 尘埃堆积探测装置 |
| JP2021019165A (ja) * | 2019-07-24 | 2021-02-15 | 株式会社ディスコ | 保護テープの識別方法、被加工物の加工方法、識別装置、及び加工装置 |
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