JPH03154054A

JPH03154054A - フォトマスク

Info

Publication number: JPH03154054A
Application number: JP1294619A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Ogoshi; 大越　健
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 1989-11-13
Filing date: 1989-11-13
Publication date: 1991-07-02

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は、ペリクルが装着されたフォトマスクに関する
。

〔従来の技術］第３図は、従来のペリクル（３１）を装着したフォトマ
スクを示す図である。

ペリクル（３１）は、まず、ペリクル枠（３２）に接着
され、更に、このペリクル枠（３２）がフォトマスク（
３３）に接着剤を介して接着固定される。そして、フォ
トマスク（３３）の表面はクロムで、パクーニング（３
４）された領域を有している。

従来技術では、ペリクル（３１）の透過率測定は、ペリ
クル（３１）をフォトマスク（３３）に接着固定する前
に行なわれていた。

［発明が解決しようとする課題］しかし、前述の従来技術では、以下のような課題を有す
る。

ペリクル（３１）の透過率測定は、ペリクル（３１）を
フォトマスク（３３）に接着固定する以前に行なう必要
があり、フォトマスク（３３）に接着固定後の測定は、
クロム面、基板等を透過して行なう必要があり正確な測
定は困難であった。

現在のｇ線露光装置においては、その使用に際してペリ
クル（３１）の透過率の変化はほとんどないが、次世代
のｉ線露光装置では、その透過率変化を無視できなく、
フォトマスク（３３）にペリクル（３１）を接着固定し
た後にも定期的に透過率を測定する必要性がある。

そこで、本発明は、このような課題を解決するもので、
その目的とするところは、ペリクル（３１）がフォトマ
スク（３３）に接着固定された後、ペリクル（３１）の
透過率測定を容易に行なうところにある。

（課題を解決するための手段］１）ペリクルを装着したフォトマスクにおいて、ペリク
ルに覆われる領域にあるフォトマスク面の少な（とも１
ケ所に反射板を付けたことを特徴とする。

２）反射板の表面に誘電体を設けたことを特徴とする。

〔実　施　例〕

第１図（ａ）、（ｂ）は１本発明のフォトマスクの一実
施例における図であり、第１図（ｂ）は、第１図（ａ）
のＡ、Ａ’の断面図である。

従来技術と同様に、ペリクル（１１）は、ペリクル枠（
１２）に接着されており、更に、このペリクル枠（１２
）がフォトマスク（１３）に接着固定されている。この
フォトマスク（１３）のペリクル（１１）に覆われる領
域のクロムでパターニングされている部分（１４）の外
側に円形の反射板（１５）を取り付けた。

このことにより、以下のような利点から得られる。

１）第２図は、本発明のフォトマスクのペリクルの透過
率測定方法を示す図である。フォトマスク（１３）に反
射板（１５）が取り付けられていることにより、ペリク
ル透過率測定のための光束を入射光（２６）した時に、
それが反射板（２５）によって反射された反射光（２７
）の強度を検出器（２８）によって測定できる。入射光
（２６）の強度、測定値の強度、ペリクルを２回透過し
ていること、反射板での光束の減衰よりペリクル装着後
に、その透過率を算出することができる。

２）反射板（２５）に誘電体ミラーを用いることにより
、測定に用いる光束の波長において、その反射率を９９
．９％にでき１反射光（２７）検出の際、安定した反射
強度を得られると同時に補正の必要性がなくなる。誘電
体被膜には、ｒ　−Ａｌ＊Ｏｓを用いた。

以上、本発明の一実施例を述べたが、これ以外にｌ）反射板を複数個、設けることにより測定精度をあげ
る。

２）測定時の入射の角度を任意に変化させる。

３）ｒ−Ａｌｔｏｓ以外の誘電体被膜を用いる。

などについても１本実施例と同様の利点が得られること
はいうまでもない。

［発明の効果］以上のように１本発明によれば（１）ペリクルを接着固定するフォトマスクにおいて、
ペリクルに覆われる領域にあるフォトマスク面に少なく
とも１ケ所、反射板をつけた。

（２）反射板の表面に誘電体を設けた。

ことにより、ペリクルを装着したフォトマスクの使用上
、困難だったペリクル装着後のペリクルの透過率を容易
に測定できる効果を有する。更に。

前述の反射板に誘電体ミラーを使用することにより、反
射率及び反射強度が安定するという効果を有するもので
ある。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）、（ｂ）は、本発明のフォトマスクの一実
施例を示す図であり、（ａ）は斜視図で、（ｂ）は、（
ａ）のＡＡ’の断面図である。第２図は、本発明のフォトマスクのペリクルの透過率を
測定するときの概略図である。第３図は、従来のペリクル付きのフォトマスクを示す図
である。ペリクルペリクル枠フォトマスククロムによるパターン面反射板２１　・２２　・２３　・２４　・２５　・２６　・２７　・２８　・３　ｌ　・３２　・３３　・３４　・・ペリクル・クロムによるパターン面ペリクル枠・フォトマスク・反射板・入射光・反射光・検出器・ペリクル・ペリクル枠・フォトマスク・クロムによるパターン面

Claims

【特許請求の範囲】

（１）ペリクルを装着したフォトマスクにおいて、ペリ
クルに覆われる領域にあるフォトマスク面の少なくとも
１ケ所に反射板を付けたことを特徴とするフォトマスク
。
（２）反射板の表面に誘電体を設けたことを特徴とする
請求項１記載のフォトマスク。