JPH03156347A - 透過率測定方法 - Google Patents
透過率測定方法Info
- Publication number
- JPH03156347A JPH03156347A JP1295516A JP29551689A JPH03156347A JP H03156347 A JPH03156347 A JP H03156347A JP 1295516 A JP1295516 A JP 1295516A JP 29551689 A JP29551689 A JP 29551689A JP H03156347 A JPH03156347 A JP H03156347A
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- JP
- Japan
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- pellicle
- transmittance
- photomask
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- reflected
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- Pending
Links
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 9
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- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Landscapes
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、ペリクルが装着されたフォトマスクに関する
。
。
第２図は、従来のペリクルの透過率の測定方法の図であ
る。
る。
ペリクル（２１）は、ペリクル枠（２２）に接着固定さ
れており、更に、接着剤を介してペリクル枠（２２）が
フォトマスクに接着される。
れており、更に、接着剤を介してペリクル枠（２２）が
フォトマスクに接着される。
従来の技術では、ペリクル（２１）の透過率測定は、ペ
リクル枠（２２）をフォトマスクに接着固定する前に光
束（２３）を透過し、検出器（２４）によって、その強
度を検出した。入射光束（２３）の強度と透過した光束
の強度よりペリクル（２１）の透過率を算出していた。
リクル枠（２２）をフォトマスクに接着固定する前に光
束（２３）を透過し、検出器（２４）によって、その強
度を検出した。入射光束（２３）の強度と透過した光束
の強度よりペリクル（２１）の透過率を算出していた。
〔発明が解決しようとする課題］
しかし、前述の従来技術では、以下のような課題を有す
る。
る。
ペリクル（２１）の透過率測定方法において。
従来の技術では、ペリクル（２１）をフォトマスクに接
着固定した後では、ペリクル（２１）の透過率を測定す
ることができなかった。現在、主流のｇ線投影露出装置
では、ペリクルの経時的劣化による透過率の変化は、は
とんどないが、次期のｉ線投影露光出装置では、ペリク
ルの経時的劣化が激しく、その透過率変化は無視できな
い、よって、これからのペリクルを装着したフォトマス
クでは、定期的なペリクルの透過率測定が必要である。
着固定した後では、ペリクル（２１）の透過率を測定す
ることができなかった。現在、主流のｇ線投影露出装置
では、ペリクルの経時的劣化による透過率の変化は、は
とんどないが、次期のｉ線投影露光出装置では、ペリク
ルの経時的劣化が激しく、その透過率変化は無視できな
い、よって、これからのペリクルを装着したフォトマス
クでは、定期的なペリクルの透過率測定が必要である。
そこで本発明は、このような課題を解決するもので、そ
の目的とするところは、ペリクルをフォトマスクに接着
固定した後も容易にペリクルの透過率を測定するところ
にある。
の目的とするところは、ペリクルをフォトマスクに接着
固定した後も容易にペリクルの透過率を測定するところ
にある。
【課題を解決するための手段１
フォトマスクに装着されたペリクルの透過率測定方法に
おいて、前記フォトマスクの少なくとも１ケ所に反射板
を設け、透過率測定光を前記ペリクルを通して、前記反
射板に対して、ある一定の角度を保って斜め方向から入
射し、前記反射板で反射され、再度、前記ペリクルを通
過した反射光の強度を測定し、前記透過率測定光の入射
強度と反射強度の関係から、前記ペリクルの透過率を求
めることを特徴とする。
おいて、前記フォトマスクの少なくとも１ケ所に反射板
を設け、透過率測定光を前記ペリクルを通して、前記反
射板に対して、ある一定の角度を保って斜め方向から入
射し、前記反射板で反射され、再度、前記ペリクルを通
過した反射光の強度を測定し、前記透過率測定光の入射
強度と反射強度の関係から、前記ペリクルの透過率を求
めることを特徴とする。
［実 施 例］
第１図は、本発明測定方法の一実施例を示す図である。
従来技術と同様に、ペリクル（１１）は、ペリクル枠（
１３）に接着されており、更にこのペリクル枠（１３）
がフォトマスク（１４）に接着固定されている。このフ
ォトマスク（１４）のペリクル（１１）とペリクル枠（
１３）に覆われる領域のパターニングされている部分（
１２）の外側に円形の反射板（１５）が取り付けられて
いる。
１３）に接着されており、更にこのペリクル枠（１３）
がフォトマスク（１４）に接着固定されている。このフ
ォトマスク（１４）のペリクル（１１）とペリクル枠（
１３）に覆われる領域のパターニングされている部分（
１２）の外側に円形の反射板（１５）が取り付けられて
いる。
そして、透過率測定用のＨｅ−Ｎｅレーザーの入射光束
（１６）図の様に斜めから入射し、反射板（１５）によ
って反射させる０反射光（１７）は、再びペリクル面（
１１）を透過し検出器（１８）で反射光（１７）の強度
が検出される。
（１６）図の様に斜めから入射し、反射板（１５）によ
って反射させる０反射光（１７）は、再びペリクル面（
１１）を透過し検出器（１８）で反射光（１７）の強度
が検出される。
このことにより、以下のような利点が得られる。
第１図に示した測定方法により、反射板（１５）での入
射光束（１６）の減衰やペリクル（ｌｌ）を２度、透過
することを考慮することにより、従来の！！！１定方法
では、不可能だったペリクル（１１）をフォトマスク（
１４）に接着固定された後でもペリクル面（１１）の透
過率を算出することができる。
射光束（１６）の減衰やペリクル（ｌｌ）を２度、透過
することを考慮することにより、従来の！！！１定方法
では、不可能だったペリクル（１１）をフォトマスク（
１４）に接着固定された後でもペリクル面（１１）の透
過率を算出することができる。
以上、本発明の一実施例を述べたがこれ以外にも。
ｌ）反射板（１５）に誘電体ミラーを用いることにより
、測定に用いる光束の波長において、その反射率を９９
．９％にでき、反射光（１７）検出の際、安定した反射
強度を得られると同時に補正の必要性がなくなる。誘電
体被膜には、ｒ−Ａｌ友Ｏ３を用いる。
、測定に用いる光束の波長において、その反射率を９９
．９％にでき、反射光（１７）検出の際、安定した反射
強度を得られると同時に補正の必要性がなくなる。誘電
体被膜には、ｒ−Ａｌ友Ｏ３を用いる。
２）ｒ−Ａｌｘ Ｏｓ以外の誘電体被膜を用いる。
３）反射板を複数個、設けることにより測定精度をあげ
る。
る。
４）測定時の入射の角度を任意に変化させる。
などについても、本実施例と同様の利点が得られること
はいうまでもない。
はいうまでもない。
［発明の効果］
以上のように本発明によれば。
ペリクルを装着したフォトマスクでペリクルに覆われる
領域にあるフォトマスク面の少なくとも１ケ所に反射板
をつけたフォトマスクにおいて、ペリクルの透過率測定
時に、入射光をある一定の角度で入射する測定方法によ
り、従来の技術では困難だったペリクルをフォトマスク
に装着した後でもペリクルの透過率測定を容易に行える
という効果を有するものである。
領域にあるフォトマスク面の少なくとも１ケ所に反射板
をつけたフォトマスクにおいて、ペリクルの透過率測定
時に、入射光をある一定の角度で入射する測定方法によ
り、従来の技術では困難だったペリクルをフォトマスク
に装着した後でもペリクルの透過率測定を容易に行える
という効果を有するものである。
第１図は、本発明の実施例の透過率測定方法を説明する
図である。 第２図は、従来の技術によるペリクルの透過率測定方法
を説明する図である。 ・ペリクル ・クロムパターン面 ・ペリクル枠 ・フォトマスク ・反射板 ｌ ６ ・ １７ ・ １８ ・ ２ ｌ ・ ２２ ・ ２３ ・ ２４ ・ ・入射光束 ・反射光束 ・検出器 ・ペリクル ・ペリクル枠 ・光束 ・検出器
図である。 第２図は、従来の技術によるペリクルの透過率測定方法
を説明する図である。 ・ペリクル ・クロムパターン面 ・ペリクル枠 ・フォトマスク ・反射板 ｌ ６ ・ １７ ・ １８ ・ ２ ｌ ・ ２２ ・ ２３ ・ ２４ ・ ・入射光束 ・反射光束 ・検出器 ・ペリクル ・ペリクル枠 ・光束 ・検出器
Claims (1)
- フォトマスクに装着されたペリクルの透過率測定方法に
おいて、前記フォトマスクの少なくとも１ケ所に反射板
を設け、透過率測定光を前記ペリクルを通して、前記反
射板に対して、ある一定の角度を保って斜め方向から入
射し、前記反射板で反射され、再度、前記ペリクルを通
過した反射光の強度を測定し、前記透過率測定光の入射
強度と反射強度の関係から、前記ペリクルの透過率を求
めることを特徴とする透過率測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1295516A JPH03156347A (ja) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | 透過率測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1295516A JPH03156347A (ja) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | 透過率測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03156347A true JPH03156347A (ja) | 1991-07-04 |
Family
ID=17821634
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1295516A Pending JPH03156347A (ja) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | 透過率測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03156347A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016072598A (ja) * | 2014-09-30 | 2016-05-09 | エスアイアイ・セミコンダクタ株式会社 | レチクル透過率測定方法、投影露光装置および投影露光方法 |
| CN109142284A (zh) * | 2018-09-03 | 2019-01-04 | 重庆惠科金渝光电科技有限公司 | 穿透率检测方法、装置和计算机可读存储介质 |
-
1989
- 1989-11-14 JP JP1295516A patent/JPH03156347A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016072598A (ja) * | 2014-09-30 | 2016-05-09 | エスアイアイ・セミコンダクタ株式会社 | レチクル透過率測定方法、投影露光装置および投影露光方法 |
| CN109142284A (zh) * | 2018-09-03 | 2019-01-04 | 重庆惠科金渝光电科技有限公司 | 穿透率检测方法、装置和计算机可读存储介质 |
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