JPH04199055A - ペリクル構造体 - Google Patents
ペリクル構造体Info
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
クル膜と枠体とが十分な接着強度を有するペリクル構造
体に関する。
上に回路パターンを形成するために用いられるホトマス
クやレチクルには、露光されるパターン上に塵埃等の異
物が付着したり、ホトマスクやレチクル上に異物が付着
して露光時にこの異物の影がパターン上に投影されたり
するのを防止するため、ペリクルを装着して露光に供さ
れる。
リクル膜と、このペリクル膜が上部に張設されたアルミ
ニウム等からなる枠体とから構成されるものであり、ホ
トマスクやレチクルを覆うようにして、これらに重ねら
れて使用される。 このようなペリクルを使用するこ
とにより、前述のようなホトマスクやレチクルへの異物
の付着防止と共に、仮にペリクル膜上に異物が付着して
も、露光時に投影される異物の投影像はパターン上には
結像しない所謂ピンボケ像となるために、このような異
物による悪影響を排除することができる。
さらに枠体の内面には、ペリクル内部に侵入した異物が
ホトマスクやレチクルに付着するのを防止するための粘
着剤層、ペリクル膜よって露光光が反射され露光光量が
低下するのを防止するための反射防止層、両者を兼ねた
粘着性の反射防止層、等のコーティング層が各種設けら
れているが、このようなコーティング層がペリクル膜と
枠体との間に介在するために、ペリクル膜と枠体とを直
接の接着した場合にくらべて接着強度が低くなってしま
うという問題点がある。
クル膜上の全面に亘って前述の粘着性の反射防止層や非
粘着性の反射防止層等のコーティング層を形成した後、
各種の接着剤によってペリクル膜と枠体とを接着するこ
とにより形成される。
、あるいは枠体との接着強度が低く、結果的にペリクル
膜と枠体との接着強度が低くなってしまう。
アブロ−等の際に、ペリクル膜と枠体とが剥離してしま
う等の問題点が生じている。
にあり、少なくともペリクル膜の一方の面、特に枠体と
の接着面にコーティング層を有するペリクル構造体であ
って、ペリクル膜と枠体との間に十分な接着強度を有し
、ペリクル膜面の異物除去のためのエアブロ−等を行っ
ても、両者が剥離することがないペリクル構造体を提供
することにある。
開口部を有する枠体と、前記枠体の開口上端に張設され
、少なくとも一方の面にコーティング層を有するペリク
ル膜とを有し、前記枠体と前記ペリクル膜とが前記コー
ティング層を溶解可能な接着剤によって接着されてなる
ことを特徴とするペリクル構造体を提供する。
基に詳細に説明する。
面図が示される。
リクル膜12と、上下に貫通する開口部を有し、このペ
リクル膜12を開口上端に張設する枠体14とから構成
されるものであり、ペリクル膜12の内面側には、第1
コーテイングN16および第1コーテイング!fI16
の上面の第2コーティング層18が形成される。 こ
のような本発明のペリクル構造体10においては、ペリ
クル膜12と枠体14とは、第1コーティング層16お
よび第2コーティング層18を溶解可能な接着剤20に
よって接着されてなるものであり、ペリクル膜12と枠
体14との接着時に前記コーティング層を溶解除去して
、実質的に第1コーティング層16および第2コーティ
ング層18のいずれをも介さず、接着剤20によって直
接接着される。
コーティング層18の2層のコーティング層を有する場
合について行うが、本発明はこれに限定されるものでは
ない。
2としては、ホトリソグラフィのレジストプロセスに適
用される露光光の透過率が高い膜体であれば特に限定は
な(、適用される露光光に応じて適宜設定すればよい。
にはニトロセルロース、エチルセルロース、プロピオン
酸セルロース等が好適に例示される。 特に平均光線透
過率および膜強度の点でニトロセルロースが好ましく、
中でも、11〜12.5%、特に11.5〜12.2%
の硝化度(%)を宵し、平均分子量(重量平均、M w
) 50.000〜350.000 、特に70.0
00〜320,000のニトロセルロースが好適に適用
される。
常500〜5000rv程度である。
状等の筒状体である。 その材料としては、従来のペリ
クル構造体に適用される各種のものがいずれも適用可能
であり、例えばアルマイト処理されたアルミニウム等が
例示される。
、第1コーティング層16および第2コーティング層1
8が形成される。 第1コーティング層16および第2
コーティング層18(以下、両者をまとめてコーティン
グ層とする)は、ペリクル構造体10内に侵入したゴミ
、ホコリ等の異物を貼着し、かつ入射した露光光がペリ
クル膜12によって反射されることを防止する粘着性の
反射防止層や、非粘着性の反射防止層等、各種の機能を
有し、かつ、前述の露光光に対して高い透過率を有する
薄膜層である。
来のペリクル構造体に適用されるすべてものが例示され
るが、−例としては、特開平1−120555号公報に
開示されるフッ素系ポリマー、シリコン系ポリマー等か
らなる光線透過率の高い粘着性物質層、特開平l−26
2548号公報に開示される高屈折率ポリマーと低屈折
率ポリマーとを有する高光透過性防塵膜等が例示され、
必要に応じて各種の組み合わせで形成される。
した層厚を適宜決定すればよいが、通常は30〜500
nm程度である。
ーティング層を形成してもよい。
12と枠体14とを、前述のコーティング層を溶解可能
な接着剤20によって接着した構成を有するものである
。
よって形成される。 そのため、コーティング層はペリ
クル膜12の全面に亘って形成されてしまうので、ペリ
クル膜12と枠体14との接着は、このコーティング層
を介して行われることになる。 ところが、コーティン
グ層を介して両者の接着を行うと、必要にして十分な接
着強度を得ることができず、異物除去のためのエアブロ
−の際に両者が剥離してしまう等の不都合があるのは前
述のとおりである。 また、ペリクル膜12の接着部分
のコーティング層を除去、あるいはマスキングをしてコ
ーティング層を形成して、ペリクル膜12と枠体14と
を直接接着する方法も考えられるが、手間がかかり、ペ
リクル構造体の生産性を著しく低下させることとなって
しまう。
コーティング層を溶解可能な接着剤20でペリクル膜1
2と枠体14とを接着してなる構成とすることにより、
第2図に示されるようにペリクル膜12の全面にコーテ
ィング層を形成した後、ペリクル膜12と枠体14との
接着時に接着剤20によってコーティング層を溶解除去
し、接着剤20を硬化してペリクル膜12と枠体14と
を実質的に直接接着することを可能とし、第1図に示さ
れるペリクル構造体10とするものである。
ることができ、ペリクル膜面の異物除去のためのエアブ
ロ−等を行っても両者が剥離することがなく、また、エ
アブロ−の圧力を向上させることもできるので、異物の
ない状態で、良好なホトレジストの露光を行うことがで
きる。
さらにはコーティング層の材質に応じて、適宜選択され
るものであり、ペリクル膜12と枠体14とを確実に接
着することができ、さらにコーティング層を溶解可能な
各種の接着剤を、各部材の材質に応じて適宜選定すれば
よい。 また、複数の接着剤を混合して用いてもよ(、
トルエン等の各種の溶媒と混合して用いられてもよい。
で、コーティング層がフッ素系の樹脂である場合には、
通常光硬化性の接着剤の基材として利用されるウレタン
アクリレート樹脂やイソボロニルアクリレートに、フッ
素樹脂コーティング層を溶解するテトラヒドロフルフリ
ルアクリレートやフェノキシエチルアクリレートを5〜
30%添加した接着剤等が好適に適用される。
て述べる。
くとも一方の面に、スピンコード、デイツプコート、ロ
ールコート等の方法によって第1コーティング層16オ
よび第2コーティング層18を形成する。
膜12との接着部分である上端面に接着剤20を塗布す
る。 この接着剤20は、上記コーティング層を溶解可
能なものであるのは前述のとおりである。
、紫外線照射、加熱等、接着剤20に応じた方法でこれ
を硬化し、ペリクル構造体10とすればよい。
する。
2の一方の面に、スピンコードを用い、まず、アルキル
ナフタレンポリマーからなる第1コーティング層16を
、次いで、フッ素樹脂からなる第2コーテイング418
を形成した。 なお、第1コーティング層16の膜厚は
65nm、第2コーティング層18の膜厚は80no+
であった。
リクル構造体を作製した。
て、下記組成(重量比)ウレタンアクリレート樹脂
51イソボロニルアクリレート 30テ
トラヒドロフルフリル アクリレート 15 モノ(2−アクリロイルオキシエチル)アシッドホスフ
ェート 1 メチルフェニルグリオキシエステル 3ヒドロキノン
モノメチルエーテル 0.01を有する接着剤を用いて
、ペリクル膜12と枠体14(アルマイト処理したアル
ミニウム製)とを接着して、第1図に示される本発明の
ペリクル構造体10を作製した。
いた。 また、接着の際には、ペリクル膜12と枠体1
4との接着部分を密着し、この接着部分を30秒間加圧
した後、紫外線を2000mj/cm”照射することに
より接着材20の硬化行った。
14との接着部分を目視で確認したところ、コーティン
グ層はほとんど溶解除去され、実質的にペリクル膜12
と枠体14とが直接接着されていた。
を、接着剤として、下記組成(重量比) ウレタンアクリレート樹脂 61イソボロニル
アクリレート 35モノ(2−アクリロイルオ
キシエチル)アシッドホスフェート 1 メチルフェニルグリオキシエステル 3ヒドロキシモ
ノメチルエーテル 0.01のものを用いて接着し、高
圧水銀ランプ光によってこの接着剤を硬化して乾燥して
、コーティング層を介してペリクル膜12と枠体14と
が接着されるペリクル構造体とした。 なお、接着剤は
トルエンを1=1 (重量比)で混合して用いた。
これと枠体14とを、前述のペリクル構造体すと同じ接
着剤12を用い、同様にして接着した。
クル膜12と枠体14との接着強度を測定した。
4との間をエアブロ−することによって行った。 結果
は下記のとおりである。
定を4か所行って、その平均である。
リクル膜12と枠体14との接着を行ったペリクル構造
体すは接着強度が1.2kgf/cm”であるのに対し
、ペリクル膜12と枠体14とを実質的に直接接着した
本発明のペリクル構造体aは、コーティング層を全く有
さないペリクル構造体Cと同等で、コーティング層を介
して接着を行ったペリクル構造体すの3倍以上の接着強
度を有する。
、異物除去、露光光反射防止等の機能を有するコーティ
ング層を有するにもかかわらず、ペリクル膜と枠体との
間に十分な接着強度を有し、ペリクル膜面の異物除去の
ためのエアブロ−等を行っても、両者が剥離することが
ない。 また、エアブロ−の圧力を向上させることもで
きるので、異物のない状態で、良好なホトレジストの露
光を行うことができる。
略断面図である。 第2図および第3図は、第1図に示されるペリクル構造
体の作製方法を説明するための概略断面図である。 符号の説明 10・・・ペリクル構造体、 12・・・ペリクル膜、 14・・・枠体、 16・・・第1コーティング層、 18・・・第2コーティング層、 20・・・接着剤 特許出願人 三井石油化学工業株式会社同 ケミ
チック株式会社
Claims (1)
- (1)上下に貫通する開口部を有する枠体と、前記枠体
の開口上端に張設され、少なくとも一方の面にコーティ
ング層を有するペリクル膜とを有し、前記枠体と前記ペ
リクル膜とが前記コーティング層を溶解可能な接着剤に
よって接着されてなることを特徴とするペリクル構造体
。
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| JP33149990A JP3037745B2 (ja) | 1990-11-29 | 1990-11-29 | ペリクル構造体 |
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Family Applications (1)
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