JPH04203869A - 微細凍結粒子による洗浄装置 - Google Patents
微細凍結粒子による洗浄装置Info
- Publication number
- JPH04203869A JPH04203869A JP33752890A JP33752890A JPH04203869A JP H04203869 A JPH04203869 A JP H04203869A JP 33752890 A JP33752890 A JP 33752890A JP 33752890 A JP33752890 A JP 33752890A JP H04203869 A JPH04203869 A JP H04203869A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- frozen
- liquid
- fine
- frozen particles
- cleaning device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は、微細凍結粒子を基板などに向けて噴射する
ことによって、基板上の付着汚染物を除去するための微
細凍結粒子による洗浄装置に関するものである。
ことによって、基板上の付着汚染物を除去するための微
細凍結粒子による洗浄装置に関するものである。
［従来の技術］
第２図は従来の微細凍結粒子による洗浄装置を示し、図
において、微細凍結粒子を生成する製氷部（１）は、冷
却用の液体窒素等の冷媒体（２）の供給手段、純水を微
噴霧するスプレーノズル（３）を備えている。（４）は
純水に一定の圧力を与えるための加圧タンク、（５）は
微細凍結粒子である。微細凍結粒子を基板に向けて噴射
する噴射ガン（６）と、半導体ウェハ等の被洗浄物であ
る基板（７）が、微細凍結粒子（５）を噴射して基板（
７）の洗浄を行う洗浄部（８）に収納される。
において、微細凍結粒子を生成する製氷部（１）は、冷
却用の液体窒素等の冷媒体（２）の供給手段、純水を微
噴霧するスプレーノズル（３）を備えている。（４）は
純水に一定の圧力を与えるための加圧タンク、（５）は
微細凍結粒子である。微細凍結粒子を基板に向けて噴射
する噴射ガン（６）と、半導体ウェハ等の被洗浄物であ
る基板（７）が、微細凍結粒子（５）を噴射して基板（
７）の洗浄を行う洗浄部（８）に収納される。
以上の構成により、断熱材で覆われた製氷部（１）内に
、液体窒素等の冷媒体（２）を注入し、製氷部（１）内
の冷却を行う（約−１５０’ｃ）。次にスプレーノズル
（３）より超純水等の被凍結液を微噴霧する。この場合
の純水の供給量を一定にするために、加圧タンク（４）
によって純水に一定の圧力（約５ ｋｇ／ｃｍ’）を与
えている。被凍結液の微噴霧された微細液滴は冷媒体（
２）との熱交換によって微細凍結粒子（５）となる。噴
射ガン（６）は気体の噴流によるイジェクタ一方式によ
って、微細凍結粒子（５）を基板（７）に向けて噴射す
る。洗浄部（８）では排気を行っており、基板（ア）か
ら除去された汚染物は洗浄部（８）外へ排除される。
、液体窒素等の冷媒体（２）を注入し、製氷部（１）内
の冷却を行う（約−１５０’ｃ）。次にスプレーノズル
（３）より超純水等の被凍結液を微噴霧する。この場合
の純水の供給量を一定にするために、加圧タンク（４）
によって純水に一定の圧力（約５ ｋｇ／ｃｍ’）を与
えている。被凍結液の微噴霧された微細液滴は冷媒体（
２）との熱交換によって微細凍結粒子（５）となる。噴
射ガン（６）は気体の噴流によるイジェクタ一方式によ
って、微細凍結粒子（５）を基板（７）に向けて噴射す
る。洗浄部（８）では排気を行っており、基板（ア）か
ら除去された汚染物は洗浄部（８）外へ排除される。
［発明が解決しようとする課題：
従来の微細凍結粒子による洗浄装置は、微細凍結粒子を
生成する手段として、被凍結液の微細液滴と冷媒体との
熱交換によってのみ行っていた。
生成する手段として、被凍結液の微細液滴と冷媒体との
熱交換によってのみ行っていた。
この方法では微細凍結粒子の生成効率か非常に悪く、多
量の冷媒体を必要とするという問題点があった。
量の冷媒体を必要とするという問題点があった。
また、被洗浄物の洗浄は、微細凍結粒子を噴射し、被洗
浄物表面に衝突させることによって行っているか、表面
の材質、形状によっては、その衝撃力によってダメージ
か生じる恐れがあった。これは微細凍結粒子の硬度、質
量、噴射速度および噴射角度に大きく依存している。
浄物表面に衝突させることによって行っているか、表面
の材質、形状によっては、その衝撃力によってダメージ
か生じる恐れがあった。これは微細凍結粒子の硬度、質
量、噴射速度および噴射角度に大きく依存している。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、微細凍結粒子の生成効率を高めて冷媒体の使
用量を低減し、かつ、洗浄時の被洗浄物のダメージを少
なくてきる微細凍結粒子による洗浄装置を得ることを目
的とする。
たもので、微細凍結粒子の生成効率を高めて冷媒体の使
用量を低減し、かつ、洗浄時の被洗浄物のダメージを少
なくてきる微細凍結粒子による洗浄装置を得ることを目
的とする。
「課題を解決するための手段」
この発明に係る微細凍結粒子による洗浄装置は、純水等
の被凍結液中にカスを溶存させる混合器、被凍結液を高
圧に加圧し、冷却する高圧タンク、被凍結液を微細液滴
化して中空の微細凍結粒子を生成する製氷部、この微細
凍結粒子を被洗浄物へ噴射して洗浄を行う洗浄部とから
なっている。
の被凍結液中にカスを溶存させる混合器、被凍結液を高
圧に加圧し、冷却する高圧タンク、被凍結液を微細液滴
化して中空の微細凍結粒子を生成する製氷部、この微細
凍結粒子を被洗浄物へ噴射して洗浄を行う洗浄部とから
なっている。
［作 用］
この発明においては、微細凍結粒子の生成には、被凍結
液中にカスを溶存させ、かつ高圧に加圧した状態から被
凍結液を微細液滴化して中空の微細凍結粒子を作るので
、被凍結液中の溶存カスは高圧から常圧へ移行する際に
膨張して中空の微細液滴を作るとともに、液滴の冷却を
行う。
液中にカスを溶存させ、かつ高圧に加圧した状態から被
凍結液を微細液滴化して中空の微細凍結粒子を作るので
、被凍結液中の溶存カスは高圧から常圧へ移行する際に
膨張して中空の微細液滴を作るとともに、液滴の冷却を
行う。
［実施例］
第１図はこの発明の一実施例を示し、図において、（９
）は被凍結液中にガスを溶存させるための混合器、（１
０）は被凍結液を高圧に加圧し、冷却を行う高圧タンク
である。
）は被凍結液中にガスを溶存させるための混合器、（１
０）は被凍結液を高圧に加圧し、冷却を行う高圧タンク
である。
その他、第２図におけると同一符号は同一部分であり、
説明を省略する。
説明を省略する。
次に動作について説明する。純水等の被凍結液は混合器
（９）中てＣＯ２，Ｏ，等のカスのバブリングによりカ
スが溶解される。次に被凍結液は高圧タンク（１０）に
よって数１０００Ｋｇ／ｃｍ”程度に加圧され、かつ冷
却される。この場合の冷却は、加圧によって生じる被凍
結液の昇温を押えるためである。
（９）中てＣＯ２，Ｏ，等のカスのバブリングによりカ
スが溶解される。次に被凍結液は高圧タンク（１０）に
よって数１０００Ｋｇ／ｃｍ”程度に加圧され、かつ冷
却される。この場合の冷却は、加圧によって生じる被凍
結液の昇温を押えるためである。
次に被凍結液はスプレーノズル（３）より製氷部（１）
内へ微噴霧される。この際、微細化した被凍結液（微細
液滴）中の溶存ガスは高圧状態から常圧状態への変動に
よって膨張し、冷却する。この溶存ガスによる冷却と液
体窒素等の冷媒体（２）による冷却により、微細液滴は
効果的に冷却され、中空構造の微細凍結粒子（５）とな
る。以降、微細凍結粒子（５）が基板（７）へ噴射され
洗浄を行う工程は従来技術と同様であるので説明を省略
する。
内へ微噴霧される。この際、微細化した被凍結液（微細
液滴）中の溶存ガスは高圧状態から常圧状態への変動に
よって膨張し、冷却する。この溶存ガスによる冷却と液
体窒素等の冷媒体（２）による冷却により、微細液滴は
効果的に冷却され、中空構造の微細凍結粒子（５）とな
る。以降、微細凍結粒子（５）が基板（７）へ噴射され
洗浄を行う工程は従来技術と同様であるので説明を省略
する。
［発明の効果］
以上のように、この発明によれば、被凍結中にガスを溶
解する混合器と、被凍結液を高圧に加圧し、かつ冷却す
る高圧タンクを設けたので、中空の微細凍結粒子を効率
よく生成され、また、冷媒体の使用量を少なくてきる効
果かある。また、微細凍結粒子か中空構造となるため、
質量か小さくなり、洗浄時の被洗浄物へのタメ−７を低
減する効果かある。
解する混合器と、被凍結液を高圧に加圧し、かつ冷却す
る高圧タンクを設けたので、中空の微細凍結粒子を効率
よく生成され、また、冷媒体の使用量を少なくてきる効
果かある。また、微細凍結粒子か中空構造となるため、
質量か小さくなり、洗浄時の被洗浄物へのタメ−７を低
減する効果かある。
第１図はこの発明の一実施例の正断面図、第２図は従来
の微細凍結粒子による洗浄装置の正断面図である。 （１）・・製氷部、（５）・・微細凍結粒子、（７）・
・基板（被洗浄物） 、（８） ・・洗浄部、（９）
・・混合器、（ｌＯ）・・高圧タンク。 なお、各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 代 理 人 大 岩 増 雄罠２図
の微細凍結粒子による洗浄装置の正断面図である。 （１）・・製氷部、（５）・・微細凍結粒子、（７）・
・基板（被洗浄物） 、（８） ・・洗浄部、（９）
・・混合器、（ｌＯ）・・高圧タンク。 なお、各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 代 理 人 大 岩 増 雄罠２図
Claims (1)
- 被凍結液中にガスを混入する混合器と、前記被凍結液を
高圧に加圧し、かつ冷却する高圧タンクと、前記被凍結
液を微細液滴化し、凍結させて微細凍結粒子を生成する
製氷部と、前記微細凍結粒子を被洗浄物に向けて噴射し
て前記被洗浄物の洗浄を行う洗浄部とを備えてなる微細
凍結粒子による洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33752890A JPH04203869A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 微細凍結粒子による洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33752890A JPH04203869A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 微細凍結粒子による洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04203869A true JPH04203869A (ja) | 1992-07-24 |
Family
ID=18309499
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33752890A Pending JPH04203869A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 微細凍結粒子による洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04203869A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2906688A1 (fr) * | 2006-10-09 | 2008-04-11 | Lavisse Isabelle Desjardins | Procede d'obtention d'un produit subissant a la fois une gazeification et une surgelation |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP33752890A patent/JPH04203869A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2906688A1 (fr) * | 2006-10-09 | 2008-04-11 | Lavisse Isabelle Desjardins | Procede d'obtention d'un produit subissant a la fois une gazeification et une surgelation |
| WO2008043909A3 (fr) * | 2006-10-09 | 2008-06-12 | Isabelle Desjardins-Lavisse | Procédé d'obtention d'un produit subissant consécutivement un gazéification et une surgélation cryogénique |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5147466A (en) | Method of cleaning a surface by blasting the fine frozen particles against the surface | |
| US5928434A (en) | Method of mitigating electrostatic charge during cleaning of electronic circuit boards | |
| US6449873B1 (en) | Apparatus and method for dry cleaning of substrates using clusters | |
| JP2007073615A (ja) | 洗浄ノズル及びそれを用いた洗浄方法 | |
| KR20020022222A (ko) | 표면 세정용 에어로졸 생성 시스템 | |
| CN115283369B (zh) | 一种二氧化碳状态控制系统及方法 | |
| US20060281649A1 (en) | Cleaning material manufacturing method, cleaning material manufacturing apparatus and cleaning system | |
| JP2006191022A (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
| JPH11297653A (ja) | 表面洗浄方法及び装置 | |
| US5114748A (en) | Method of preparing or rubbing a substrate to be used in a lcd device by spraying it with uniformly sized droplets or frozen water | |
| JP3201549B2 (ja) | 洗浄方法および洗浄装置 | |
| JPS63156661A (ja) | ウエ−ハ研磨装置 | |
| JP2004223639A (ja) | 薄膜構造物加工装置 | |
| JP2004181334A (ja) | 洗浄材製造方法及びその製造装置並びにこれを使用する洗浄システム | |
| JPH06132273A (ja) | ウエハ洗浄装置 | |
| KR20010003102A (ko) | 표면세정방법 및 장치 | |
| JP2664298B2 (ja) | 洗浄装置および洗浄方法 | |
| JPH038326A (ja) | 固体表面洗浄装置 | |
| JPH0586274B2 (ja) | ||
| JPH11300293A (ja) | 表面洗浄装置 | |
| JPH11165139A (ja) | 表面洗浄方法及び装置 | |
| JP2006041065A (ja) | 固体噴霧洗浄方法 | |
| JPH038328A (ja) | 基板表面の洗浄装置 | |
| JPH0536662A (ja) | 半導体ウエハ洗浄方法及び装置 | |
| JP2004089823A (ja) | 基板表面の洗浄方法及び洗浄装置 |