JPH04204514A - 光ビームの走査装置 - Google Patents
光ビームの走査装置Info
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- JPH04204514A JPH04204514A JP32996090A JP32996090A JPH04204514A JP H04204514 A JPH04204514 A JP H04204514A JP 32996090 A JP32996090 A JP 32996090A JP 32996090 A JP32996090 A JP 32996090A JP H04204514 A JPH04204514 A JP H04204514A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 34
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 40
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 11
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 206010041662 Splinter Diseases 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
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- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はレーザ光を走査させて形状、寸法等の精密計測
を行なう際に用いる光ビームの走査装置に関する。
を行なう際に用いる光ビームの走査装置に関する。
近年の精密加工技術の進歩により、ミクロンメートルオ
ーダの微細なパターンが形成されるようになり、形状、
寸法等の精密計測の必要性が高まってきている。この種
の計測においては、測定の空間分解能を高めるために、
微小なスポ7)径に集光したレーザ光を微小な走査ステ
ップ(例えば0.01μm)で一定範囲を走査する光ビ
ーム(レーザ光)の走査装置が必要である。走査装置を
構成するには光ビームの走査を制御する走査素子が必要
であるが、従来量も良く用いられる走査素子は、音響光
学偏向素子、ガルバノミラ−、ポリゴンミラー等である
。光ビームを1次元的に走査する場合は、1個の走査素
子と各種のレンズと組み合せた構成の走査装置が用いら
れている。更に、光ビームを2次元的に走査する場合は
、2個の走査素子と各種のレンズを組み合せた構成の走
査装置が用いられている。例えば、2個の音響光学偏向
素子を組み合せた走査装置は「レーザ研究」第15巻第
8号P636に報告され、1個の音響光学偏向素子と1
個のガルバノミラ−を組み合せた走査装置はレーザテン
ク社の製品ILMII型として実用化されている。
ーダの微細なパターンが形成されるようになり、形状、
寸法等の精密計測の必要性が高まってきている。この種
の計測においては、測定の空間分解能を高めるために、
微小なスポ7)径に集光したレーザ光を微小な走査ステ
ップ(例えば0.01μm)で一定範囲を走査する光ビ
ーム(レーザ光)の走査装置が必要である。走査装置を
構成するには光ビームの走査を制御する走査素子が必要
であるが、従来量も良く用いられる走査素子は、音響光
学偏向素子、ガルバノミラ−、ポリゴンミラー等である
。光ビームを1次元的に走査する場合は、1個の走査素
子と各種のレンズと組み合せた構成の走査装置が用いら
れている。更に、光ビームを2次元的に走査する場合は
、2個の走査素子と各種のレンズを組み合せた構成の走
査装置が用いられている。例えば、2個の音響光学偏向
素子を組み合せた走査装置は「レーザ研究」第15巻第
8号P636に報告され、1個の音響光学偏向素子と1
個のガルバノミラ−を組み合せた走査装置はレーザテン
ク社の製品ILMII型として実用化されている。
従来の2次元的、]次元的な光ビーム走査装置では、走
査の方向及び走査の範囲は予め設定されている。例えば
2次元走査においては、2つの走査素子の走査方向は互
いに直交(X、Y軸)するように配置し、一般にはラス
ター走査を行なわせている。また、1次元走査において
も、走査素子の走査方向(Y軸)は、初期の設定された
方向だけしか行なえず、走査方向を変換することができ
ない。2次元走査においては、Y軸、Y軸の走査方向を
変換するには、Y軸、Y軸を同時に駆動すれば可能であ
るが、このとき同時に駆動するための駆動信号が複雑に
なり、実際には任意の方向への走査方向の変換は困難で
ある。更には、走査すべき範囲についても、走査特性が
−様な範囲しか走査できない。本発明は上述の課題を解
消して、簡単な機構で走査方向が自由に変換できる光ビ
ームの走査装置を提供するものである。
査の方向及び走査の範囲は予め設定されている。例えば
2次元走査においては、2つの走査素子の走査方向は互
いに直交(X、Y軸)するように配置し、一般にはラス
ター走査を行なわせている。また、1次元走査において
も、走査素子の走査方向(Y軸)は、初期の設定された
方向だけしか行なえず、走査方向を変換することができ
ない。2次元走査においては、Y軸、Y軸の走査方向を
変換するには、Y軸、Y軸を同時に駆動すれば可能であ
るが、このとき同時に駆動するための駆動信号が複雑に
なり、実際には任意の方向への走査方向の変換は困難で
ある。更には、走査すべき範囲についても、走査特性が
−様な範囲しか走査できない。本発明は上述の課題を解
消して、簡単な機構で走査方向が自由に変換できる光ビ
ームの走査装置を提供するものである。
上記の目的を達するために本発明は以下に示す手段から
成る。
成る。
レーザ光源から対物レンズに至るまでの光路中に、走査
範囲、走査分解能の異なる第1と第2の少なくとも2種
類の走査素子を含む走査光学系と、入射面と出射面の間
に反射面を有する構成の走査方向変換素子を設けると共
に、前記第1と第2の走査素子を駆動する走査制御部と
、前記走査方向変換素子を回転する回転制御部を′設げ
、前記走査制御部により、前記第1の走査素子は走査方
向変換素子の入射面内の第1の領域を走査せしめ、前記
第2の走査素子は走査方向変換素子あ入射面内で、前記
第1の領域の内部にあり、走査範囲の狭い第2の領域を
走査せしめ、前記第1の領域あるいは第2の領域を走査
される光ビームを前記走査方向変換素子に入射せしめ、
前記回転制御部により、前記走査方向変換素子の反射面
を光軸に垂直な面内で回転せしめ、出射面から出射する
光ビームの走査方向を変換するものである。
範囲、走査分解能の異なる第1と第2の少なくとも2種
類の走査素子を含む走査光学系と、入射面と出射面の間
に反射面を有する構成の走査方向変換素子を設けると共
に、前記第1と第2の走査素子を駆動する走査制御部と
、前記走査方向変換素子を回転する回転制御部を′設げ
、前記走査制御部により、前記第1の走査素子は走査方
向変換素子の入射面内の第1の領域を走査せしめ、前記
第2の走査素子は走査方向変換素子あ入射面内で、前記
第1の領域の内部にあり、走査範囲の狭い第2の領域を
走査せしめ、前記第1の領域あるいは第2の領域を走査
される光ビームを前記走査方向変換素子に入射せしめ、
前記回転制御部により、前記走査方向変換素子の反射面
を光軸に垂直な面内で回転せしめ、出射面から出射する
光ビームの走査方向を変換するものである。
このとき走査方向変換素子は、頂角が60°の正三角形
プリズムと頂角が30°及び60°の直角プリズムを互
いに重ね合せた構成となし、正三角形プリズムの一方の
面を光軸に対して垂直に設定して入射面となし、直角プ
リズムの一方の面を光軸に対して垂直に設定して出射面
となすと共に、他方の面を光軸に対して平行に設定して
反射面とするものである。
プリズムと頂角が30°及び60°の直角プリズムを互
いに重ね合せた構成となし、正三角形プリズムの一方の
面を光軸に対して垂直に設定して入射面となし、直角プ
リズムの一方の面を光軸に対して垂直に設定して出射面
となすと共に、他方の面を光軸に対して平行に設定して
反射面とするものである。
レーザ光源から対物レンズに至るまでの光路中に走査範
囲、走査分解能の異なる2種類の光ビーム走査素子を設
ける。第1の走査素子は走査角度が大きく、走査分解能
が比較的に粗い走査特性を有し、比較的広い範囲を粗い
ステップで2次元又は1次元的に走査する。この走査は
プリスキャン的動作であり、被測定物の大まかな形状等
を測定するもので、精密に測定すべき部分の測定位置を
決定するものである。第2の走査素子は走査角度が小さ
く、走査分解能の高い走査特性を有し、上記の′悌1の
走査素子による走査範囲よりも狭い範囲を2次元又は1
次元的に走査する。この走査は精密な走査であり、粗い
走査により決定された測定位置において、精密な走査を
行ない、寸法、形状等を測定する。このとき、第1と第
2の走査素子は互いに一方だけを動作させるもので、ど
ちらか一方の走査素子が走査動作を行なっているときは
、他方の走査素子の走査動作を停止させておく。
囲、走査分解能の異なる2種類の光ビーム走査素子を設
ける。第1の走査素子は走査角度が大きく、走査分解能
が比較的に粗い走査特性を有し、比較的広い範囲を粗い
ステップで2次元又は1次元的に走査する。この走査は
プリスキャン的動作であり、被測定物の大まかな形状等
を測定するもので、精密に測定すべき部分の測定位置を
決定するものである。第2の走査素子は走査角度が小さ
く、走査分解能の高い走査特性を有し、上記の′悌1の
走査素子による走査範囲よりも狭い範囲を2次元又は1
次元的に走査する。この走査は精密な走査であり、粗い
走査により決定された測定位置において、精密な走査を
行ない、寸法、形状等を測定する。このとき、第1と第
2の走査素子は互いに一方だけを動作させるもので、ど
ちらか一方の走査素子が走査動作を行なっているときは
、他方の走査素子の走査動作を停止させておく。
このとき、第1と第2の走査素子によって走査される光
ビームの方向は予め設定された方向(X軸又はX軸)で
あるため、走査方向変換素子により走査方向を自由に変
換する。走査方向変換素子は、1個の正三角形プリズム
と1個の直角プリズムを重ね合せた構造で、正三角形プ
リズムの一つの面に入射した光ビームを直角プリズムの
底面で反射させ、プリズム内部で7字型の反射経路をと
らせ、同じく直角プリズムの他の面から出射させる。こ
のとき前記の1直角プリズム底面を光軸に垂直な面内で
回転させると、回転角の2倍の角度だけ走査方向を変換
することができ、X軸、X軸以外の任意の軸方向へ光ビ
ームを走査することが可能で、一般にX、X軸以外の軸
方向へも形成されている部材上で直交した方向への光ビ
ームの走査が可能となる。
ビームの方向は予め設定された方向(X軸又はX軸)で
あるため、走査方向変換素子により走査方向を自由に変
換する。走査方向変換素子は、1個の正三角形プリズム
と1個の直角プリズムを重ね合せた構造で、正三角形プ
リズムの一つの面に入射した光ビームを直角プリズムの
底面で反射させ、プリズム内部で7字型の反射経路をと
らせ、同じく直角プリズムの他の面から出射させる。こ
のとき前記の1直角プリズム底面を光軸に垂直な面内で
回転させると、回転角の2倍の角度だけ走査方向を変換
することができ、X軸、X軸以外の任意の軸方向へ光ビ
ームを走査することが可能で、一般にX、X軸以外の軸
方向へも形成されている部材上で直交した方向への光ビ
ームの走査が可能となる。
以下に本発明の実施例を図面を用いて説明する。
第1図は本発明の詳細な説明するためのブロック図であ
る。10はレーザ光源で、例えばHe−Neレーザ管、
あるいは半導体レーザから成り、レーザ光100を放射
する。11及び12は第1の走査素子で、例えばガルバ
ノミラ−から成り、走査角度が大きく、走査分解能があ
まり高くない走査特性を有する。第1の走査素子の一方
の11はX軸方向、第1の走査素子の他方の12はX軸
方向へ走査を行ない、合わせてX−Y面を2次元的にラ
スター走査を行なう。16は第2の走査素子で、例えば
音響光学偏向素子から成り、走査角度は小さく、走査分
解能が高い走査特性を有し、例えば、X軸方向に走査を
行なう。この第2の走査素子16による走査は、第1の
走査素子11.12による走査領域の内側にあり、狭い
範囲を走査する。
る。10はレーザ光源で、例えばHe−Neレーザ管、
あるいは半導体レーザから成り、レーザ光100を放射
する。11及び12は第1の走査素子で、例えばガルバ
ノミラ−から成り、走査角度が大きく、走査分解能があ
まり高くない走査特性を有する。第1の走査素子の一方
の11はX軸方向、第1の走査素子の他方の12はX軸
方向へ走査を行ない、合わせてX−Y面を2次元的にラ
スター走査を行なう。16は第2の走査素子で、例えば
音響光学偏向素子から成り、走査角度は小さく、走査分
解能が高い走査特性を有し、例えば、X軸方向に走査を
行なう。この第2の走査素子16による走査は、第1の
走査素子11.12による走査領域の内側にあり、狭い
範囲を走査する。
なお走査素子の並び方は第1図以外の並び方でもよく、
走査素子の数についても第1の走査素子が1個、第2の
走査素子が2個でもよい。105はビームスプリッタ−
で、第1と第2の走査素子によって走査される光ビーム
の大部分を透過させる。
走査素子の数についても第1の走査素子が1個、第2の
走査素子が2個でもよい。105はビームスプリッタ−
で、第1と第2の走査素子によって走査される光ビーム
の大部分を透過させる。
110は走査光学系で、第1と第2の走査素子11.1
2.16とビームスプリッタ−105及び図示していな
いが他の多くのレンズ類から構成され、レーザ光100
のビーム形状の変換及び走査の幅を設定ずろ。14は走
査制御部で、第1の走査素子11.12を駆動する第1
の走査制御部120及び第2の走査素子16を駆動する
第2の走査制御部160から構成される。このとき、第
1の走査制御部120からは2チヤンネルの駆動信号1
22.124を出力する。信号122は電圧が連続的に
変化するランプ波信号で第1の走査素子11の走査角度
を連続的に変化させる。信号124は電圧がステップ状
に変化するステップ電圧信号で、信号122の周期に同
期させて電圧を変化させ、第1の走査素子12の走査角
度をステップ的に変化させる。第2の走査制御部130
からは1チヤンネルの駆動信号162が出力される。
2.16とビームスプリッタ−105及び図示していな
いが他の多くのレンズ類から構成され、レーザ光100
のビーム形状の変換及び走査の幅を設定ずろ。14は走
査制御部で、第1の走査素子11.12を駆動する第1
の走査制御部120及び第2の走査素子16を駆動する
第2の走査制御部160から構成される。このとき、第
1の走査制御部120からは2チヤンネルの駆動信号1
22.124を出力する。信号122は電圧が連続的に
変化するランプ波信号で第1の走査素子11の走査角度
を連続的に変化させる。信号124は電圧がステップ状
に変化するステップ電圧信号で、信号122の周期に同
期させて電圧を変化させ、第1の走査素子12の走査角
度をステップ的に変化させる。第2の走査制御部130
からは1チヤンネルの駆動信号162が出力される。
信号162は信号122と同じくランプ波電圧信号で、
第2の走査素子13の走査角度を連続的に変化させろ。
第2の走査素子13の走査角度を連続的に変化させろ。
以上の走査駆動信号において、第1の走査制御部120
が走査動作を行なっているときは第2の走査制御部16
0は走査動作を停止させておくというように、互いにい
ずれか一方のみを走査状態にする。
が走査動作を行なっているときは第2の走査制御部16
0は走査動作を停止させておくというように、互いにい
ずれか一方のみを走査状態にする。
15は走査方向変換素子で、その形状、動作については
後で詳しく述べるが、回転制御部16から発せられる制
御信号162により、走査方向変換素子15を光軸10
7を中心としてその回りに一楚角度だけ回転させる。走
査光学系110により2次元又は1次元的に走査される
光ビームが走査方向変換素子15の入射面150に入射
すると、出射面152から出射する光ビームの走査方向
は、走査方向変換素子15の回転する角度の2倍の角度
だけ回転させられる。この走査方向が変換された光ビー
ムは対物レンズ17に入射し、微少なスポット径に集光
されて、被測定物18の面上で任意の方向に走査される
。被測定物18で反射された光ビームは対物レンズ17
、走査方向変換素子15を透過し、ビームスプリッタ−
105で反射されて受光器170で検出される。受光器
170で検出された反射光の光強度は光電変換され、デ
ータ処理部18[]にて形状、寸法等の各種の計測のだ
めの演算処理が行なわれる。
後で詳しく述べるが、回転制御部16から発せられる制
御信号162により、走査方向変換素子15を光軸10
7を中心としてその回りに一楚角度だけ回転させる。走
査光学系110により2次元又は1次元的に走査される
光ビームが走査方向変換素子15の入射面150に入射
すると、出射面152から出射する光ビームの走査方向
は、走査方向変換素子15の回転する角度の2倍の角度
だけ回転させられる。この走査方向が変換された光ビー
ムは対物レンズ17に入射し、微少なスポット径に集光
されて、被測定物18の面上で任意の方向に走査される
。被測定物18で反射された光ビームは対物レンズ17
、走査方向変換素子15を透過し、ビームスプリッタ−
105で反射されて受光器170で検出される。受光器
170で検出された反射光の光強度は光電変換され、デ
ータ処理部18[]にて形状、寸法等の各種の計測のだ
めの演算処理が行なわれる。
第2図に走査方向変換素子15の具体的な構成例を示す
。
。
20は頂角60°の正三角形プリズム、21は頂角30
”、60”の直角プリズムで、以上の2つのプリズム2
0,21を図のように重ね合せて走査方向変換素子15
を構成する。正三角形プリズム20の而200は光ビー
ムの入射面で、光ビームの進行方向Z(光軸)に対して
垂直面に設定する。直角三角形21の面210は光ビー
ムの出射面で、入射面200と同じく、光軸に対して垂
直面に設定する。入射面200と出射面210を光軸に
対して垂直に設定するのは、入射する光ビームが発散光
あるいは収束光の場合に、非点収差によるビーム形状の
変形を防止するためである。直角プリズム21の底面2
20は反射面で、光軸に平行な面である。入射面200
に入射した光ビーム230は入射面を透過し、正三角形
プリズム20の他方の面240で反射し、反射面220
で反射され、再び直角プリズム21の他方の面250で
反射されて、出射面210から入射光260と平行な光
路で出射光260として出射する。このとき入射から出
射までは図示の如きV形の経路となる。入射光230に
対する出射光260のY軸方向への光軸高さは、入射光
23[]の反射面220からの光軸高さ方向の位置によ
って定まり、入射光のY軸方向への光軸高さ位置の変化
の2倍の変化で、出射光260の光軸高さ位置が変化す
る。このとき、X軸方向に入射光260の入射位置が変
化しても、出射光260のX軸方向及びY軸方向への出
射位置は変化しない。
”、60”の直角プリズムで、以上の2つのプリズム2
0,21を図のように重ね合せて走査方向変換素子15
を構成する。正三角形プリズム20の而200は光ビー
ムの入射面で、光ビームの進行方向Z(光軸)に対して
垂直面に設定する。直角三角形21の面210は光ビー
ムの出射面で、入射面200と同じく、光軸に対して垂
直面に設定する。入射面200と出射面210を光軸に
対して垂直に設定するのは、入射する光ビームが発散光
あるいは収束光の場合に、非点収差によるビーム形状の
変形を防止するためである。直角プリズム21の底面2
20は反射面で、光軸に平行な面である。入射面200
に入射した光ビーム230は入射面を透過し、正三角形
プリズム20の他方の面240で反射し、反射面220
で反射され、再び直角プリズム21の他方の面250で
反射されて、出射面210から入射光260と平行な光
路で出射光260として出射する。このとき入射から出
射までは図示の如きV形の経路となる。入射光230に
対する出射光260のY軸方向への光軸高さは、入射光
23[]の反射面220からの光軸高さ方向の位置によ
って定まり、入射光のY軸方向への光軸高さ位置の変化
の2倍の変化で、出射光260の光軸高さ位置が変化す
る。このとき、X軸方向に入射光260の入射位置が変
化しても、出射光260のX軸方向及びY軸方向への出
射位置は変化しない。
第3図(イ)、(ロ)に走査方向変換素子15の入射面
内での走査ビームの走査領域を示す。6oは正三角形プ
リズム20の入射面200を入射方向から見たときの図
で正方形の断面形状を有する。第3図(イ)の領域61
は第1の走査素子11.12によって走査される2次元
領域で第1の領域と呼ぶ。
内での走査ビームの走査領域を示す。6oは正三角形プ
リズム20の入射面200を入射方向から見たときの図
で正方形の断面形状を有する。第3図(イ)の領域61
は第1の走査素子11.12によって走査される2次元
領域で第1の領域と呼ぶ。
この第1の領域61は前述の如く、広い範囲で、粗い走
査である。第3図(ロ)の領域62は第2の走査素子1
6によって走査される1次元領域で、第2の領域と呼ぶ
。第2の領域32は第1の領域61の内部にあり、より
狭い範囲を精密に走査する。
査である。第3図(ロ)の領域62は第2の走査素子1
6によって走査される1次元領域で、第2の領域と呼ぶ
。第2の領域32は第1の領域61の内部にあり、より
狭い範囲を精密に走査する。
以上水したように、第1及び第2の領域61.62では
走査ビームはX軸あるいはY軸方向のみに走査され、そ
れ以外の軸方向への走査は行なわれない。
走査ビームはX軸あるいはY軸方向のみに走査され、そ
れ以外の軸方向への走査は行なわれない。
次に、走査方向変換素子15による走査方向変換動作に
ついて説明する。
ついて説明する。
第4図(イ)は入射面200の面上での走査方向を説明
する図で、αは入射面上で右向きにX軸方向への走査、
βは入射面上で下向きにY軸方向への走査を表わすもの
である。第4図(O)の(a)〜(h)は直角プリズム
21の反射面220を回転させたときの反射面220の
位置及び出射する光ビームの走査方向を示す図で、入射
面側から見たときの図である。第2図に示した走査方向
変換素子15において、反射面220はX軸方向の面内
にあり、この走査方向変換素子15の全体を光軸のまわ
りの垂直な面内で回転させることによって、反射面22
0を回転させる。このとき反射面200は常に光軸に対
して平行に保つ。
する図で、αは入射面上で右向きにX軸方向への走査、
βは入射面上で下向きにY軸方向への走査を表わすもの
である。第4図(O)の(a)〜(h)は直角プリズム
21の反射面220を回転させたときの反射面220の
位置及び出射する光ビームの走査方向を示す図で、入射
面側から見たときの図である。第2図に示した走査方向
変換素子15において、反射面220はX軸方向の面内
にあり、この走査方向変換素子15の全体を光軸のまわ
りの垂直な面内で回転させることによって、反射面22
0を回転させる。このとき反射面200は常に光軸に対
して平行に保つ。
第4図(ロ)の(a)は回転角度θが0°で基準状態、
(b)はθ=45°、(C)はθ=90°、(d)はθ
−135°、(e)はθ−180°、(f)はθ−22
5°、(glはθ−270°、(h)はθ−315°の
状態で、次の(a)状態で1回転となる。
(b)はθ=45°、(C)はθ=90°、(d)はθ
−135°、(e)はθ−180°、(f)はθ−22
5°、(glはθ−270°、(h)はθ−315°の
状態で、次の(a)状態で1回転となる。
(a)の状態ではX軸方向に走査される走査ビームαは
その状態で出射し、Y軸方向に走査される走査ビームβ
は同じY軸方向であるが走査の方向が反転して出射する
。この走査方向を!で表わすことにする。
その状態で出射し、Y軸方向に走査される走査ビームβ
は同じY軸方向であるが走査の方向が反転して出射する
。この走査方向を!で表わすことにする。
(b)の状態では入射する走査ビームαは走査方向が9
0°回転させられてY軸方向に走査される。
0°回転させられてY軸方向に走査される。
この走査方向をβで表わしている。また入射する走査ビ
ームβも走査方向が90°回転させられてX軸方向に走
査されるが、このときはX軸の方向が反転させられてい
る。この走査方向なdで表わす。他の角度状態でも図に
示した走査方向に変換される。以上のことから反射面2
20の回転角の2倍の角度で走査方向が変換されること
が分る。
ームβも走査方向が90°回転させられてX軸方向に走
査されるが、このときはX軸の方向が反転させられてい
る。この走査方向なdで表わす。他の角度状態でも図に
示した走査方向に変換される。以上のことから反射面2
20の回転角の2倍の角度で走査方向が変換されること
が分る。
本発明による走査方向の変換は、例えばαとdというよ
うな同じ方向に対する向きの変換ではなく、α方向から
β方向へというような方位の変化を生じる変換である。
うな同じ方向に対する向きの変換ではなく、α方向から
β方向へというような方位の変化を生じる変換である。
以上説明した走査方向の変換動作は、従来知られている
像回転プリズム(ダブプリズム)でも実現可能である。
像回転プリズム(ダブプリズム)でも実現可能である。
ダブプリズムは入射面及び出射面が垂直面から45°傾
いた斜面であるため、発散光あるいは収束光が入射した
場合は、非点収差によってビーム形状が楕円になるとい
う欠点を有しているが、走査光学系の構成によっては、
平行光を入射させる場合も考えられ、この場合はダブプ
リズムを用いてもよいことになる。
いた斜面であるため、発散光あるいは収束光が入射した
場合は、非点収差によってビーム形状が楕円になるとい
う欠点を有しているが、走査光学系の構成によっては、
平行光を入射させる場合も考えられ、この場合はダブプ
リズムを用いてもよいことになる。
第5図(イ)、(ロ)、(ハ)に走査方向が変換された
ときの走査ビームの例を示す。第4図の説明で明らかな
如く、走査方向の向き(例えばαとdの関係)を考慮し
なげれば±90°の方向の回転を起こさせるには、反射
面220を±45°だけ回転させればよいことになる。
ときの走査ビームの例を示す。第4図の説明で明らかな
如く、走査方向の向き(例えばαとdの関係)を考慮し
なげれば±90°の方向の回転を起こさせるには、反射
面220を±45°だけ回転させればよいことになる。
第5図(イ)において、線50はX軸方向に走査される
基準となる走査ビームを示す。線51はX軸に対して4
5°の傾きを有する走査ビームで、反射面220を22
.5°だげ正方向(順方向)に回転させたときに得られ
る。線52はX軸に対して一45°の傾きを有する走査
ビームで、反射面220を22.5°だげ負方向(逆方
向)に回転させたときに得られる。このようにして、走
査したい方向に対して、その半分の角度だけ反射面22
0を順方向、あるいは逆方向に回転すればよい。
基準となる走査ビームを示す。線51はX軸に対して4
5°の傾きを有する走査ビームで、反射面220を22
.5°だげ正方向(順方向)に回転させたときに得られ
る。線52はX軸に対して一45°の傾きを有する走査
ビームで、反射面220を22.5°だげ負方向(逆方
向)に回転させたときに得られる。このようにして、走
査したい方向に対して、その半分の角度だけ反射面22
0を順方向、あるいは逆方向に回転すればよい。
第5図(ロ)は第1の走査素子11.12によって走査
される走査ビームの走査方向を変換する場合の例である
。
される走査ビームの走査方向を変換する場合の例である
。
2次元領域500は前述の第1の領域に対応する走査範
囲で、反射面220の角度が0°の場合に入射面200
に入射した第1の走査領域が出射面210を透過して得
られる。領域500内部の線56はX軸方向に、線54
は同じくX軸方向にラスター走査される走査ビームで、
反射面220の回転角度がOoの場合である。
囲で、反射面220の角度が0°の場合に入射面200
に入射した第1の走査領域が出射面210を透過して得
られる。領域500内部の線56はX軸方向に、線54
は同じくX軸方向にラスター走査される走査ビームで、
反射面220の回転角度がOoの場合である。
線55は線53に示した走査方向が変換された場合、線
56は線54に示した走査方向が変換された場合である
。いずれの場合も領域50口のX軸の中央位置を中心と
して方向が変換される。
56は線54に示した走査方向が変換された場合である
。いずれの場合も領域50口のX軸の中央位置を中心と
して方向が変換される。
第5図(ハ)は第1の走査素子11.12による走査動
作を停止させて第2の走査素子16を動作させる場合で
、線57はX軸方向への走査ビームで、反射面220の
回転角がOoの場合である。線58は反射面を回転させ
て、走査方向が変換された走査ビームである。このよう
にして、反射面220を回転することにより、任意の方
向への走査ビームの走査が可能になる。
作を停止させて第2の走査素子16を動作させる場合で
、線57はX軸方向への走査ビームで、反射面220の
回転角がOoの場合である。線58は反射面を回転させ
て、走査方向が変換された走査ビームである。このよう
にして、反射面220を回転することにより、任意の方
向への走査ビームの走査が可能になる。
第6図に本発明の光ビームの走査装置を用いたときの、
測定への応用の実施例を示す。
測定への応用の実施例を示す。
第6図に示した図は磁気ヘッドの概観図で、上方から見
た図である。61はスライダーと呼ばれる部分、62は
トラック部と呼ばれる部分、66はノーズと呼ばれる部
分で、コイルを巻き付ける。
た図である。61はスライダーと呼ばれる部分、62は
トラック部と呼ばれる部分、66はノーズと呼ばれる部
分で、コイルを巻き付ける。
トラック部62にはギャップ64が形成されている。以
上の磁気ヘッドにおいて、ギャップ64の幅(X方向へ
約0.5μm)及びトラック部62の幅(X方向へ約1
5μm)の寸法計測が重要である。
上の磁気ヘッドにおいて、ギャップ64の幅(X方向へ
約0.5μm)及びトラック部62の幅(X方向へ約1
5μm)の寸法計測が重要である。
ここで点線600で囲まれた2次元領域は第1の走査素
子11.12による走査範囲で、例えば1mm四方の広
い領域を粗(走査し、ギャップ64の位置を決定する。
子11.12による走査範囲で、例えば1mm四方の広
い領域を粗(走査し、ギャップ64の位置を決定する。
測定すべき位置が決定されると、第2の走査素子13を
駆動して線65に示す走査範囲(X方向)を精密に走査
してギャップ64の寸法を測定する。次にトラック部6
2の幅を測定するときは、X軸方向へ若干走査位置をシ
フトさせ、次に走査方向変換素子15を45゜だげ回転
させて線66に示すX軸方向の走査を行なわせる。この
走査はX軸方向の走査65と同一の走査精度を有する。
駆動して線65に示す走査範囲(X方向)を精密に走査
してギャップ64の寸法を測定する。次にトラック部6
2の幅を測定するときは、X軸方向へ若干走査位置をシ
フトさせ、次に走査方向変換素子15を45゜だげ回転
させて線66に示すX軸方向の走査を行なわせる。この
走査はX軸方向の走査65と同一の走査精度を有する。
第7図に本発明の光ビームの走査装置を構成する走査光
学系の一実施例を示す。
学系の一実施例を示す。
71及び74は焦点距離がf、のシリンドリカルレンズ
、72及び76は焦点距離がf2の凸レンズ、75は焦
点距離がf3.76は焦点距離がf4.77は焦点距離
がf5の凸レンズ、78は焦点距離がf。の対物レンズ
である。第2の走査素子16は音響光学素子(以下にA
Oと略記する)から成り、X軸方向へ第2の領域の走査
を行なう。
、72及び76は焦点距離がf2の凸レンズ、75は焦
点距離がf3.76は焦点距離がf4.77は焦点距離
がf5の凸レンズ、78は焦点距離がf。の対物レンズ
である。第2の走査素子16は音響光学素子(以下にA
Oと略記する)から成り、X軸方向へ第2の領域の走査
を行なう。
Mlの走査素子11及び12はガルバノミラ−から成り
、12のGMYはY軸方向へ、11のGMXはX軸方向
へ第1の領域の走査を行なう。
、12のGMYはY軸方向へ、11のGMXはX軸方向
へ第1の領域の走査を行なう。
レーザ光源10から放射された断面が円形状を有するレ
ーザ光線100はシリンドリカルレンズ71と凸レンズ
72により、紙面に平行な面内で扇形状を持つシート状
ビームに変換される。このシート状ビームは凸レンズ7
2を出射すると、紙面に平行な面内での平行光としてA
O13に入射される。このとぎ紙面に垂直な面内では、
凸レンズ72を出射後は収束光であり、AO13の中央
部で焦点を結ぶ。AO13を出射したビームは、紙面に
平行な面内では凸レンズ76で収束光に変換され、GM
Y12で反射された後に、シリンドリカルレンズ74を
透過し、その焦点位置700で集光される。このとき紙
面に垂直な面については、AO13を出射した発散光は
、凸レンズ73で平行光に変換され、GMY12で反射
した後に、シリンドリカルレンズ74で屈折され、その
焦点位置700で集光される。シリンドリカルレンズ7
4の後方焦点位#70oの後の光路では、光ビームは再
び円形状の断面を有する。なお、GMY12はシリンド
リカルレンズ74の前方焦点位置に配し、凸レンズ76
の焦点位置とシリンドリカルレンズ74の焦点位置は同
じ点700になる如く配置する。また、シリンドリカル
レンズ71と74は屈折面が互いに90°異なるように
配置する。AO13に対してシート状ビームを用いるの
は、AO13の内部で超音波と光波の相互作用を十分に
行なわせ、A016による回折効率を高めるためである
。
ーザ光線100はシリンドリカルレンズ71と凸レンズ
72により、紙面に平行な面内で扇形状を持つシート状
ビームに変換される。このシート状ビームは凸レンズ7
2を出射すると、紙面に平行な面内での平行光としてA
O13に入射される。このとぎ紙面に垂直な面内では、
凸レンズ72を出射後は収束光であり、AO13の中央
部で焦点を結ぶ。AO13を出射したビームは、紙面に
平行な面内では凸レンズ76で収束光に変換され、GM
Y12で反射された後に、シリンドリカルレンズ74を
透過し、その焦点位置700で集光される。このとき紙
面に垂直な面については、AO13を出射した発散光は
、凸レンズ73で平行光に変換され、GMY12で反射
した後に、シリンドリカルレンズ74で屈折され、その
焦点位置700で集光される。シリンドリカルレンズ7
4の後方焦点位#70oの後の光路では、光ビームは再
び円形状の断面を有する。なお、GMY12はシリンド
リカルレンズ74の前方焦点位置に配し、凸レンズ76
の焦点位置とシリンドリカルレンズ74の焦点位置は同
じ点700になる如く配置する。また、シリンドリカル
レンズ71と74は屈折面が互いに90°異なるように
配置する。AO13に対してシート状ビームを用いるの
は、AO13の内部で超音波と光波の相互作用を十分に
行なわせ、A016による回折効率を高めるためである
。
点700において断面が円形状のビームに変換されたレ
ーザ光は凸レンズ75により平行光に変換され、GMX
llで反射され、凸レンズ76で再び収束光に変換され
、ビームスプリッタ−105を透過し、発散光として走
査方向変換素子15の入射面150に入射する。このと
き、走査方向変換素子15は前述の如く反射面220が
回転される。走査方向変換素子15の出射面152を透
過したレーザ光は凸レンズ77に入射し、凸レンズ77
により再び平行光に変換され、凸レンズ78に入射する
。そして対物レンズ78により微小なスポット径に集光
されて被測定物180に照射され、物体面上を走査する
。被測定物180からの反射光は対物し/ズ78、凸レ
ンズ77、走査方向変換素子15を透過し、ビームスプ
リンター105で反射されて受光器170で検出される
。
ーザ光は凸レンズ75により平行光に変換され、GMX
llで反射され、凸レンズ76で再び収束光に変換され
、ビームスプリッタ−105を透過し、発散光として走
査方向変換素子15の入射面150に入射する。このと
き、走査方向変換素子15は前述の如く反射面220が
回転される。走査方向変換素子15の出射面152を透
過したレーザ光は凸レンズ77に入射し、凸レンズ77
により再び平行光に変換され、凸レンズ78に入射する
。そして対物レンズ78により微小なスポット径に集光
されて被測定物180に照射され、物体面上を走査する
。被測定物180からの反射光は対物し/ズ78、凸レ
ンズ77、走査方向変換素子15を透過し、ビームスプ
リンター105で反射されて受光器170で検出される
。
とのとき走査される範囲は、各走査素子の走査角度及び
使用しているレンズの焦点距離によって決定されろ。A
、013によって走査される角度をθaとしたとき、被
測定物面上で走査される走査範囲DAo は、 DAo−f2・f4・fo・θ−/(f3 ・f5 )
となる。また、GMXllによって走査される角度をθ
χとすれば、被測定物面上で走査される走査範囲Dgx
は、 Dgx−f4・fo・θgx/f5となる。
使用しているレンズの焦点距離によって決定されろ。A
、013によって走査される角度をθaとしたとき、被
測定物面上で走査される走査範囲DAo は、 DAo−f2・f4・fo・θ−/(f3 ・f5 )
となる。また、GMXllによって走査される角度をθ
χとすれば、被測定物面上で走査される走査範囲Dgx
は、 Dgx−f4・fo・θgx/f5となる。
さらに、GMY12によって走査される角度をθyとす
れば、被測定物面上で走査される走査範囲Dgyは Dgy−2f1・f4・fo・θgy/ (f3・f、
)となる。
れば、被測定物面上で走査される走査範囲Dgyは Dgy−2f1・f4・fo・θgy/ (f3・f、
)となる。
本発明によれば、走査角度、走査ステップ分解能の異な
る2種類の走査素子を組み合せてノ・イブリッド型の構
成とし、広い範囲と狭い範囲の走査を同一の光路中に設
けた光学系を用いて、電気信号の切り替えだけで自由に
切り替えろことが可能である。このとき、広い範囲の走
査では物体の概略の形状を測定し、精密に測定すべき部
分の位置を決定する。狭い範囲の走査では精密な走査を
行なわせて、測定すべき部分の形状、寸法を精密に測定
する。
る2種類の走査素子を組み合せてノ・イブリッド型の構
成とし、広い範囲と狭い範囲の走査を同一の光路中に設
けた光学系を用いて、電気信号の切り替えだけで自由に
切り替えろことが可能である。このとき、広い範囲の走
査では物体の概略の形状を測定し、精密に測定すべき部
分の位置を決定する。狭い範囲の走査では精密な走査を
行なわせて、測定すべき部分の形状、寸法を精密に測定
する。
更には、走査ビームの走査方向を自由に変換することが
可能で、互いに直交しているX軸、Y軸以外の任意の軸
方向にも光ビームの走査が行なわれ、任意の軸方向へ形
成されている物体形状の計測が簡素な装置で可能になる
。
可能で、互いに直交しているX軸、Y軸以外の任意の軸
方向にも光ビームの走査が行なわれ、任意の軸方向へ形
成されている物体形状の計測が簡素な装置で可能になる
。
第1図は本発明の詳細な説明するブロック図、第2図は
本発明による走査方向変換素子の具体的な構成を示す図
、第3図は走査方向変換素子の入射面での走査範囲を説
明する図、第4図は走査方向変換素子の回転によって生
じる走査方向の変換を説明する図、第5図は走査方向の
変換例を示す図、第6図は走査方向の変換を実際の測定
に応用するときの応用例を示す図、第7図は走査光学系
の具体的な構成を示す図である。 10・・・・・レーザ光源、 11.12・・・・・・第1の光ビーム走査素子、13
・・・・第2の光ビーム走査素子、14・・・・・・走
査制御部、 15・・・・・・走査方向変換素子、 16・・・・・・回転制御部、 17・・・・・・対物レンズ、 20・・・・・・正三角形プリズム、 21・・・・・・直角プリズム。
本発明による走査方向変換素子の具体的な構成を示す図
、第3図は走査方向変換素子の入射面での走査範囲を説
明する図、第4図は走査方向変換素子の回転によって生
じる走査方向の変換を説明する図、第5図は走査方向の
変換例を示す図、第6図は走査方向の変換を実際の測定
に応用するときの応用例を示す図、第7図は走査光学系
の具体的な構成を示す図である。 10・・・・・レーザ光源、 11.12・・・・・・第1の光ビーム走査素子、13
・・・・第2の光ビーム走査素子、14・・・・・・走
査制御部、 15・・・・・・走査方向変換素子、 16・・・・・・回転制御部、 17・・・・・・対物レンズ、 20・・・・・・正三角形プリズム、 21・・・・・・直角プリズム。
Claims (2)
- (1)レーザ光源から対物レンズに至るまでの光路中に
、光軸を共通にして、走査範囲、走査分解能の異なる第
1および第2の走査素子と、光ビームの入射面と出射面
の間に反射面を有する構成の走査方向変換素子を設ける
と共に、前記第1と第2の走査素子を駆動する走査制御
部と前記走査方向変換素子を回転する回転制御部を設け
、前記走査制御部により前記第1の走査素子は前記走査
方向変換素子の入射面内の第1の領域を走査せしめ、前
記第2の走査素子は前記走査方向変換素子の入射面内で
前記第1の領域の一部又は一部を共有する第2の領域を
走査せしめ、前記回転制御部により、前記走査方向変換
素子の反射面を前記光軸に垂直な面内で回転せしめ、前
記第1および第2の走査素子を通り、走査方向変換素子
の入射面に入射した光ビームの走査方向を変換して走査
方向変換素子の出射面から出射せしめることを特徴とす
る光ビームの走査装置。 - (2)走査方向変換素子が、正三角形プリズムを、一つ
の頂角が30゜の直角プリズムの90゜の頂角の対面に
重ね合わせて成り、前記直角プリズムの60゜の頂角の
対面を反射面、30゜の頂角の対面を出射面、該出射面
と平行となる正三角形プリズムの面を入射面とし、該入
射面を光軸に直交して設置されていることを特徴とする
請求項1記載の光ビームの走査装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2329960A JP2992075B2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 光ビームの走査装置 |
| US07/668,824 US5166820A (en) | 1990-03-13 | 1991-03-13 | Light beam scanning apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2329960A JP2992075B2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 光ビームの走査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04204514A true JPH04204514A (ja) | 1992-07-24 |
| JP2992075B2 JP2992075B2 (ja) | 1999-12-20 |
Family
ID=18227194
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2329960A Expired - Lifetime JP2992075B2 (ja) | 1990-03-13 | 1990-11-30 | 光ビームの走査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2992075B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018109540A (ja) * | 2016-12-28 | 2018-07-12 | 株式会社キーエンス | 光走査高さ測定装置 |
| JP2018130739A (ja) * | 2017-02-15 | 2018-08-23 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置 |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP2329960A patent/JP2992075B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018109540A (ja) * | 2016-12-28 | 2018-07-12 | 株式会社キーエンス | 光走査高さ測定装置 |
| JP2018130739A (ja) * | 2017-02-15 | 2018-08-23 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置 |
| KR20180094481A (ko) * | 2017-02-15 | 2018-08-23 | 가부시기가이샤 디스코 | 레이저 가공 장치 |
| TWI744460B (zh) * | 2017-02-15 | 2021-11-01 | 日商迪思科股份有限公司 | 雷射加工裝置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2992075B2 (ja) | 1999-12-20 |
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