JPH04204738A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

感光性樹脂組成物

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JPH04204738A
JPH04204738A JP33728090A JP33728090A JPH04204738A JP H04204738 A JPH04204738 A JP H04204738A JP 33728090 A JP33728090 A JP 33728090A JP 33728090 A JP33728090 A JP 33728090A JP H04204738 A JPH04204738 A JP H04204738A
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mol
photosensitive resin
resin composition
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Masato Mishina
三科 誠人
Masahiko Yugawa
昌彦 湯川
Toyohiko Abe
豊彦 阿部
Nobuaki Komasa
向當 宣昭
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は、電気・電子デバイス、特に半導体装置などに
用いるに好適な新規なボン型感光性樹脂組成物に関する
[従来の技術] ポリイミド樹脂は、機械的強度か高く、優れた電気絶縁
性を示す上、耐熱性に優れるという特徴を有している。
特に近年、その優れた電気特性と耐熱性が認められ、最
も信頼性の要求される半導体装置への応用も盛んになっ
てきている。
ポリイミド樹脂の半導体装置への使用に関しては、例え
ばジャンクションコート膜、防湿膜、バッファーコート
膜、α線遮蔽膜、層間絶縁膜等が公知である(機能材料
、1983年7月号、9頁)。
これらの用途に利用する場合、上下の導体層の導通部や
外部リード線との接続のため、ポリイミド樹脂膜にスル
ホール孔など微細加工を施す工程が必要になり、このた
めには一般にフォトレジストを使用するポリイミド樹脂
膜の化学エツチング処理が行なわれている。
しかし、上記工程におけるポリイミド樹脂膜のパターン
化には、フォトレジストの塗布や剥離等の工程が含まれ
るため、工程が全体どして非常に煩維となる。従って工
程の簡略化を図るため、直接光で微細加工可能なポリイ
ミド樹脂の開発が望まれていた。
[発明が解決しようとする課題] ポリイミド樹脂に感光性を付与する方法としては、例え
ば特開昭54−116216号公報および、特開昭54
−116217号公報に記載されている架橋性基を可溶
性前駆体に化学的に結合する方法や、特開昭54−14
5794号公報および、特開昭57−168942号公
報に記載されている架橋性単量体を混合する方法等があ
る。
上記の方法は、露光部が光により架橋不溶化し未露光部
のみを現像液で溶解する、いわゆるネガ型である。この
方法においては、ポリイミド樹脂前駆体が溶媒可溶性で
あることを利用し、該前駆体に感光性を付与して光加工
を行い、その後加熱処理によりイミド閉環を行うという
方法である。
しかし、一般にネガ型の場合には、その現像液により露
光部の膨潤が起こり、高解像度の微細加工を行うのが難
しいというネガ型固有の欠点がある。
これに対し、ポリイミド樹脂に感光性を付与する他の方
法として、米国特許4093461号公報、特開昭63
−13032号公報及び特開昭64−60630号公報
に記載されているポリイミド樹脂前駆体、又は有機溶媒
可溶性のポリイミド樹脂にオルトキノンジアジド化合物
等の感光性物質を混合する方法がある。上記の方法は露
光部が光分解により易溶化し、露光部のみを現像液で溶
解するいわゆるポジ型である。
特開昭63〜13032号公報及び特開昭64−606
30号公報に記載の方法は、ポリイミド樹脂自身に感光
性はないが、特定の分子構造を有する有機溶媒可溶性の
ポリイミド樹脂に感光性物質を混合し、露光部の感光性
物質が感光してアルカリ可溶性になることを利用して、
同時にポリイミド樹脂をアルカリに溶解させるという方
法である。
しかし、この方法においてはポリイミド樹脂自身が有機
溶媒に可溶性である必要があり、そのためには、用いら
れるポリイミド樹脂が特定の分子構造を有するものに限
定されるという大きな制約があった。
又、米国特許4093461号公報に記載されている方
法は、ポリイミド樹脂の前駆体であるポリアミック酸に
感光性物質を混合するものである。
ポリアミック酸は有機溶媒に対する溶解性は大きいため
、この場合には用いられるポリイミド樹脂自身の分子構
造の制約はない。
しかし、ポリアミック酸は現像液であるアルカリに溶解
するため、未露光部の溶解を抑止することが離しく、又
ポリアミック酸がアルカリにより加水分解を受けやすい
等、未露光部のアルカリに対する耐性が充分でな(、パ
ターン形成上大きな問題であった。
このように、従来よりポリイミド樹脂に感光性を付与し
ようという試みはなされていたが、いずれも充分なもの
ではなかった。
[課題を解決するための手段] 本発明者は、上記問題点を解決すべく鋭意努力検討した
結果、本発明を見出すに至った。
即ち、本発明は、 (1)ポリイミド樹脂前駆体が、下記一般式CI)及び
一般式(II)で表される繰り返し単位の共重合体より
構成され、 (式中R0、R2は互いに同一であっても異なっていて
もよい有機ジアミンを構成する2価の有機基であり、R
2、R4は互いに同一であっても異なっていてもよいテ
トラカルボン酸及びその誘導体を構成する4価の有機基
であり、X1% X2は互いに同一であっても異なって
いてもよい炭素数1〜8のアルキル基である) 一形式CI)で表される繰り返し単位の構成比aが、2
0モル%≦a≦100モル%であり、一般式(IF)で
表される繰り返し単位の構成比すが、80モル%≧b≧
0モル%であり、その還元粘度が0.05〜3.0 d
lh (温度30℃のN−メチルピロリドン中、濃度0
.5 g#/)であるポリイミド樹脂前駆体100重量
部当たり、オルトキノンジアジド化合物1〜100重量
部を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物 (2)一般式(I)及び一般式(II)中のR8及びR
4は、芳香環に直接結合しない4個のカルボニル基より
なるテトラカルボン酸及びその誘導体を構成する4価の
有機基であることを特徴とする請求項第1項に記載の感
光性樹脂組成物 (3)一般式CI)及び−形式CIII中のR2及びR
4がシクロブタン残基であることを特徴とする請求項第
1項に記載の感光性樹脂組成物 (4)ポリイミド樹脂前駆体が、一般式〔■〕で表され
る繰り返し単位からなるポリイミド樹脂前駆体、及び一
般式(III)で表される繰り返し単位からなるポリイ
ミド樹脂前駆体の混合物より構成され、 〔以下、余白〕 (式中R6、R7は互いに同一であっても異なっていて
もよい有機ジアミンを構成する2価の有機基であり、R
,、Rsは互いに同一であっても異なっていてもよいテ
トラカルボン酸及びその誘導体を構成する4価の有機基
であり、Xl、X4は互いに同一であっても異なってい
てもよい炭素数1〜8のアルキル基である) 一般式CIII)で表される繰り返し単位の構成比Cが
、20モル%≦C≦100モル%であり、−形式(IV
)で表される繰り返し単位の構成比dが、80モル%≧
d≧0モル%であり、その還元粘度が0.05〜3.0
 dl/g (温度30℃のN−メチルピロリドン中、
濃度0.5 g/dl)であるポリイミド樹脂前駆体1
00重量部当たり、オルトキノンジアジド化合物1〜1
0(1重量部を含有することを特徴とする感光性樹脂組
成物 (5)−形式(III)及び−形式(IV)中のR,R
,は芳香環に直接結合しない4側力/lボニル基よりな
るテトラカルボン酸及びその誘導体を構成する4価の有
機基であることを特徴とする請求項第4項に記載の感光
性樹脂組成物、及び (6)−形式〔■〕及び−形式(IV)中の、Re  
R。
がシクロブタン残基であることを特徴とする請求項第4
項に記載の感光性樹脂組成物 に関するものである。
即ち、本発明はポリイミド樹脂前駆体と、オルトキノン
ジアジド化合物からなるポジ型感光特性を有する組成物
に関するものであり、本発明の組成物はアルカリ水溶液
によるエツチングが容易であり、所定パターンを有する
マスクを用いて露光、現像後、熱処理を施すことにより
、微細形状且つ寸法精度の高いレリーフパターンを有す
るポリイミド樹脂塗膜を得ることができる。
本発明に用いるポリイミド樹脂l¥ij駆体は、現像液
であるアルカリに対する親和性の高いポリアミック酸成
分と、アルカリに対する親和性の低いポリアミック酸エ
ステル成分を適度の割合で有することが特徴であり、露
光後アルカリ現像する際に霧光部の溶解性が高く、未露
光部の膜べりが少なく、微細形状且つ寸法精度の高いレ
リーフパターンを容易に得ることができる。
更に、極めて透明性に優れるポリイミド樹脂前駆体を構
成成分とし、極めて高感度、高解像度のポジ型感光特性
を得ることも可能である。
本発明に使用されるポリイミド樹脂前駆体を得る方法は
、特に限定されない。
通常は、有機テトラカルボン酸二無水物と有機ジアミン
を反応、重合させることが一般的である。本発明のポリ
イミド樹脂前駆体の1成分であるポリアミック酸をえる
ためには、有機テトラカルボン酸二無水物と有機ジアミ
ンを直接反応させればよい。又ポリアミック酸エステル
を得るにはテトラカルボン酸二無水物とアルコールを反
応させ、ジカルボン酸ジエステルとした後、塩化チオニ
ル等の塩素化剤を用いてカルボン酸を塩素化し、有機テ
トラカルボン酸ジエステルジクロ+7ドとした後、有機
ジアミンと反応させればよい。
更に、ポリアミック酸とポリアミック酸エステルの共重
合体を得るにはテトラカルボン酸二無水物及びテトラカ
ルボン酸ジエステルジクロリドと有機ジアミンと反応さ
せればよい。又、あらかじめ重合したポリアミック酸を
部分的にエステル化したり、或いはポリアミック酸エス
テルを部分的に加水分解したりする、いわゆる高分子反
応を用いて得ることもできる。
一般式CI)のR3及び一般式〔II〕中のR3、更に
一般式(III)のR6及び−形式(IV)中のR7は
互いに同一であっても異なっていてもよく、こね、らを
構成するジアミンは、一般にポリイミド樹脂を合成する
際に用いられるジアミンであって、生成するポリイミド
樹脂の特性に応じて種々選択することができ、特に限定
されない。又、これらは単独であっても複数であっても
構わない。
敢えてその具体例を挙げれば、P−フエニレンジアミン
、m−フェニレンジアミン、4,4゛−ジアミノジフェ
ニルメタン、4.4′−ジアミノジフェニルエーテル、
4.4−ジアミノベンゾフェノン、4.4’ −ジアミ
ノジフェニルスルホン、4.4°−ジアミノジフェニル
プロパン、1.4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベン
ゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシベンゼン)
、ビス(4−アミノ3,5−ジエチルフェニル)メタン
、ビス(4−アミノ−3,5−ジイソプロピルフェニル
)メタン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル]スルホン、ビス[t−(3−アミノフェノキシ)フ
ェニル]スルホン、2,2−ビス[4−(4−アミノフ
ェノキシ)フェニル1プロパン、2,2−ビス[4−(
3−アミノフェノキシ)フェニル1プロパン、2゜2−
ビス[4(4−アミノフェノキシ)フェニル1ヘギサフ
ルオロプロパン、2,2−ビス[4−(3−アミノフェ
ノキシ)フェニル]へキサフルオロプロパン等の芳香族
ジアミンがあり、 更に、生成するポリイミド樹脂の熱膨張係数を低くする
ためには、ベンジジン、3,3゛−ジメトキシ−4,4
゛−ジアミノジフェニル、3.3′−ジメチル−4,4
°−ジアミノビフェニル 、4.4’−ジアミノ−p−
ターフェニル、9,10−ビス(4−アミノフェニル)
アントラセン等の多環芳香族ジアミンも挙げられ、更に
は CH,CH。
等のジアミノシロキサンが挙げられる。
その他目的に応じ、脂環式ジアミン、脂肪族ジアミンを
使用してもよい。
一般式CI)中のR2及び一般式〔II〕中のR4、更
に一般式(II[)中のR8及び−形式(IV)中のR
1は互いに同一であっても異なっていてもよく、これら
を構成するテトラカルボン酸二無水物及びその誘導体は
、特に限定されない。
又、これらは単独であっても複数であってもよい。
敢えてその具体例を挙げれば、ピロメリット酸二無水物
、1.4.5.8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水
物、3.3’ 、 4.4’−ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸二無水物、3.3’ 、 4.4’−ビフェニ
ルテトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボ
キシフェニル)エーテルニ無水物、2,2−ビス(3,
4−ジカルボキシフェニル)へキサフルオロブロバンニ
無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホ
ン二無水物の様な芳香族テトラカルボン酸無水物などを
挙げることができる。
又、シクロブタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸
二無水物、3,4−ジカルボキシ−1,2,3,4−テ
トラヒドロ−1−ナフタレンコハク酸二無水物、2.3
.5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、ビ
シクロ(2,2,2)オクト−7−ニンー2.3.5.
6−テトラカルボン酸二無水物、テトラヒドロフラン−
2,3,4,5−テトラカルボン酸二無水物の様な脂環
式テトラカルボン酸無水物などを挙げることができる。
又、ブタンテトラカルボン酸二無水物の様な脂肪族テト
ラカルボン酸二無水物を挙げることもできる。
特に高感度、高解像度のポジ型感光性を得るためには、
酸無水物として4個のカルボニル基は芳香環に直結しな
い酸無水物を用いることが有効である。その具体例とし
ては、上記の脂環式テトラカルボン酸二無水物、脂肪族
テトラカルボン酸二無水物が挙げられるが、特にシクロ
ブタンテトラカルボン酸二無水物が好ましい。
有機テトラカルボン酸ジエステルジクロリドを得る方法
は特に限定されないが、通常はテトラカルボン酸二無水
物とアルコールを反応させ、ジカルボン酸ジエステルと
した後、塩化チオニル等の塩素化剤を用いてカルボン酸
を塩素化する方法が一般的である。この際、上記テトラ
カルボン酸二無水物と反応させるアルコールは、−形成
CI)中のXl、X8、更に一般式(III)中のX、
及びX4を構成するアルコールであって、炭素数1〜8
の脂肪族系アルコールであれば特に限定されない。
敢えてその具体例を挙げれば、メタノール、エタノール
、1−プロパツール、2−プロパツール、2−メチル−
1−プロパツール、2−メチル−2−ブロノくノール、
1−ブタノール、2−ブタノール、3−メチル−1−ブ
タノール、1−ペンタノール、1−ヘキサノール、l−
ヘプタツール、1−オクタツール等が挙げられる。
これらテトラカルボン酸二無水物とアルコールを反応さ
せ、ジカルボン酸ジエステルとした後、塩化チオニル等
の塩素化剤を用いて、テトラカルボン酸ジエステルクロ
リドとする方法は、−船釣に用いられる酸クロリドを得
る方法に準じて行えばよい。
これらテトラカルボン酸ジエステルジクロリドとジアミ
ンの反応方法は、特に限定されない。
一般には両者を均一に溶解する有機溶媒中での溶液重合
、或いは有機溶媒/水系ての界面重縮合等の方法がある
比較的操作が簡単な溶液重縮合法の場合には、N−メチ
ルピロリドン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルム
アミド等の極性溶媒中でテトラカルボン酸ジエステルジ
クロリドとジアミンを反応させ、この際炭酸ソーダ等を
縮合反応によって発生する塩酸の除去剤として用いるの
が一般的である。
この際の反応温度は、−20〜100℃、好ましくは0
〜20℃である。
反応終了後、大量の水或いは貧溶媒中に投入し、沈澱回
収することによりポリイミド樹脂前駆体を得ることがで
きる。
本発明の感光性樹脂組成物が優れた感光特性を有するた
めには、得られたポリイミド樹脂前駆体が、現像液であ
るアルカリに対し適度の親和性を有することが重要であ
る。
この目的のために、−形成(II)及び/又は−形成(
IV)で表されるポリアミック酸構造を有する繰り返し
単位を適度に有することが重要である。これらのポリア
ミック酸構造を有する繰り返し単位は、ポリアミック酸
エステル構造の分子内に共重合の形で含まれていてもよ
く、又ポリアミック酸エステル構造の分子と、ポリアミ
ック酸構造の分子の混合物の形で含まれていても構わな
い。
ポリアミック酸構造を有する繰り返し単位が分子内に共
重合の形で含まれている場合には、−形成〔■)で表さ
れるポリアミック酸構造を有する繰り返し単位の構成比
すは80モル%≧b≧0モル%の任意の値を選択できる
。又、ポリアミック酸構造を有する繰り返し単位が混合
物の形で含まれている場合には、−形成(IV)で表さ
れるポリアミック酸構造を有する繰り返し単位の構成比
dは、80モル%≧d≧Oモル%の任意の値を選択でき
る。
通常はb=o及び/又はd=0でも充分な感光性を示す
が、b及び/又はdが大きいほどアルカリ親和性は高(
なり、露光部の溶解性は高(なる。又、b及び/又はd
が大き過ぎると逆に未霧光部のアルカリ耐性が低くなる
。従って、−形成〔■〕で表される繰り返し単位の構成
比す及び/又は−形成(IV)で表される繰り返し単位
の構成比dは、50モル%≧b≧0モル%、50モル%
≧d≧0モル%とするのが好ましい。
又、本発明のポリイミド樹脂前駆体の還元粘度(温度3
0℃のN−メチルピロリドン中、濃度0.5g/d!り
は、0.05〜3.0 d//g、特に0.1〜2.0
とするのが好ましい。
還元粘度が0.05以下であると、得られる組成物より
形成される膜の機械的強度が低下し、還元粘度が3.0
以上であると、得られる組成物の粘度が著しく増加する
ため、その使用に際し作業性が極端に低下する。
又、本発明のポジ型感光性ポリイミド組成物を構成する
オルトキノンジアジド化合物としては、分子内にオルト
キノンジアジド基を含有する化合物であればよく、特に
限定されない。
例えば、オルトベンゾキノンジアジド化合物、オルトナ
フトキノンジアジド化合物、オルトキノリンキノンジア
ジド化合物などが挙げられ、これらは、いわゆるフェノ
ールノボラック系ポジ型感光性樹脂組成物で用いられる
もので、中でもオルトナフトキノンジアジド化合物を用
いるのが一般的である。上記オルトキノンジアジド化合
物は、通常、オルトキノンジアジドスルホン酸エステル
として用いられる。
これらのオルトキノンジアジドスルホン酸エステルは、
通常オルトキノンジアジドスルホン酸クロライドと、フ
ェノール性水酸基を有する化合物との縮合反応によって
得られる。
上記オルトキノンジアジドスルホン酸クロライドを構成
するオルトキノンジアジドスルホン酸成分としては、例
えば、1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スル
ホン酸、1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−ス
ルホン酸などを挙げることかできる。
又、上記フェノール性水酸基を有する化合物としては、
例えば、2.4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2.3
.4−) IJヒドロキシベンゾフェノン、2,2゜、
 4.4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2.3
.4゜4゛−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2.2
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、4.4′
−ジピドロキシジフェニルスルホンなどを挙げることが
できる。
通常、これら化合物のフェノール性水酸基の一部或いは
全部を、上記オルトキノンジアジドスルホン酸基で置換
、反応した2置換体、3置換体、4置換体を単独、或い
はそれらの混合物として用いるのが一般的である。
上記オルトキノンジアジド化合物の配合量は、上記有機
溶媒可溶性ポリイミド100重量部に対して1〜100
重量部である。配合量か1重量部より少ないと、得られ
る組成物の露光時の感度が低(なり、パターン形成がで
きない。
又、100重量部より多いと、得られる組成物より形成
される膜の機械的性質、電気的特性などが低下する。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、電気・電子デバイ
スなどに用いられる場合、有機溶媒に溶解された溶液と
して用いられる。
この有機溶媒は、ポリイミド樹脂前駆体及びオルトギノ
ンジアジド化合物を均一に溶解するものであれば、特に
限定されない。
その具体例としては、例えば、N、N−ジメチルホルム
アミド、N、N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピ
ロリドン、N−ビニルピロリドン、ジメチルスルホオキ
シド、m−クレゾール、γ−ブチルラクトンなどが挙げ
られる。
その他、目的に応じ本組成物の溶解性を阻害しない限り
は、他の有機溶媒を混合して使用してもよい。
ポリイミド樹脂前駆体及びオルトキノンジアジド化合物
を溶解せさる方法は、特に限定されない。ポリイミド樹
脂前駆体を反応、重合した溶液にオルトキノンジアジド
化合物を溶解させてもよく、貧溶媒を使用して沈殿回収
したポリイミド樹脂前駆体を、前記オルトキノンジアジ
ド化合物と共に、前記有機溶媒に溶解させてもよい。
上記のポジ型感光性樹脂組成物の有機溶媒溶液の濃度は
、ポリイミド樹脂前駆体及びオルトキノンジアジド化合
物が有機溶媒に均一に溶解している限りは、特に限定さ
れない。加工面の容易さから、1〜50重量%の範囲か
一般的である。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、ガラス板あるいは
シリコンウェハー上に回転塗布した後、50〜80℃で
予備乾燥して膜を形成することができる。
この際、3−アミノプロピルトリエトキシシランなどの
シラン系のカップリング剤を処理した基板を用いること
により、更に優れた接着性を得ることができる。
上述の膜Fに所定のパターンを有するマスクを装着し、
光を照射し次いでアルカリ現像液で現像することにより
、露光部が洗い出されて端面のシャープなレリーフパタ
ーンが得られる。この際使用される現像液はアルカリ水
溶液であり、苛性カリ、苛性ソーダなどのアルカリ金属
水酸化物の水溶液、テトラメチルアンモニウムヒドロキ
サイド、テトラエチルアンモニウムヒドロキサイド、コ
リンなどの水酸化四級アンモニウムの水溶液、エタノー
ルアミン、プロピルアミン、エチレンジアミンなどのア
ミン水溶液を例として準げろことができる。
本組成物は露光部の溶解性が高く、上記現像は室温で容
易に行うことができる。
更に、得られたレリーフパターンを有する基板に熱処理
を施すことによりポリイミド樹脂前駆体をポリイミドに
転化させることができる。この際の熱処理温度は、20
0〜・4DO℃、更に好ましくは250〜350℃であ
る かくして耐熱性、耐薬品性、電気特性に優れ、良好なレ
リーフパターンを有するポリイミド樹脂塗膜を得ること
ができる。
[発明の効果] 本発明はアルカリ水溶液によるエツチングが容易で、露
光、現像後、熱処理を施すことにより、微細なレリーフ
パターンを有するポリイミド樹脂塗膜を容易に得ること
ができるポジ型感光特性を有する樹脂組成物に関するも
のである。
本発明に用いるポリイミド樹脂前駆体は、ポリイミド樹
脂の分子構造を特定のものに制約する必要はなく、現像
液に対する耐性も高い。
又、ポリアミック酸構造を有する蘇り返し単位を適度に
含有することにより、アルカリ現像性を調節することも
でき、更に極めて透明性に優れるポリイミド前駆体を構
成成分とし、極めて高感度、高解像度のポジ型感光特性
を得ることが可能である。
〔実施例〕
以下に実施例を挙げ本発明を更に詳細に説明するが、こ
れらに限定されるものではない。
製造例−1 4,4°−ジアミノフェニルエーテル(以下、DDEと
略記する)4.OOgとピロメリット酸ジメチルエステ
ルジクロリド6.38gをN−メチルピロリドン(以下
NMPと略記する)95gに溶解し、炭酸ナトリウム8
.6g添加して、室温で6時間反応さた。
反応終了後この溶液をIfの水中に投入し、沈澱をろ別
乾燥して黄色粉末8.06gを得た。得られたポリアミ
ック酸エステルの還元粘度ηse/c (0,51ii
/dlNMP溶液、30 ’C) i;!0.24 d
i/gテあった。この樹脂粉末3gをNMP  17g
に再溶解し虚仮分15重量%の溶液を調製した。
製造例−2 DDE  6.01gとシクロブタンテトラカルボン酸
ジメチルエステルジクロリド8.91gをNMP135
gに溶解し、炭酸ナトリウム7.5gを添加して、室温
で6時間反応させた。
反応終了後この溶液を1.51の水中に投入し、沈澱を
ろ過乾燥して白色粉末12.59gを得た。
得られたポリアミック酸エステルの還元粘度η5.7c
は0.27 dl/gであった。
この樹脂粉末 3gをNMP  171Jに再溶解し固
形分15重葉%の溶液を調製した。
製造例−8 DDE  4.00g、ピロメリット酸二無水物4゜2
3gをNMP47gに溶解し、室温で6時間反応させた
。得られたポリアミック酸の還元粘度η、9□。は0.
87 dl/gであった。
製造例−4 DDE  4.0g、シクロブタンテトラカルボン酸二
無水物 3.80gをNMP44gに溶解し、室温で6
時間反応させた。得られたポリアミック酸の還元粘度η
、□。は0.44cf//gであった。
製造例−5 DDE  4.OOg、ピロメリット酸ジメチルエステ
ルジクロリド 5.74g及びピロメリット酸二無水物
0.44[をNMP  91gに溶解し、炭酸ナトリウ
ム7.7gを添加して室温で6時間反応させた。反応終
了後、この溶液を11の水中に投入し、沈澱をろ別乾燥
して黄色粉末7.81gを得た。得られたポリアミック
酸エステルの還元粘度η、、7cは0.28dl/gで
あった。
この樹脂粉末3gをNMP  17gに再溶解し、固形
分15重量%の溶液を調製した。
実施例−1 製造例1で得られたポリアミック酸エステル溶液18g
と製造例−3で得られたポリアミック酸溶液2gを混合
し、固形分15重量%のポリアミック酸ニスチル、ポリ
アミック酸混合溶液を調製した。この溶液に2.3.4
.4’−テ[・ラヒドロキシベンゾフェノンの1,2〜
ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸の3モル
置換化合物0.90gを加え室温で3時間攪拌後1.0
μmのフィルターによりろ過した。
シランカップリング剤として3−グリシドキシプロビル
トリメトキシシランの0.1%メタノール溶液をガラス
板上に300Orpmでスピンコード後、80℃で10
分間処理した基板上に、上記溶液を210Orpmでス
ピンコード後、70”Cの循環乾燥炉で80分間乾燥し
て膜厚1.1μmの塗膜を得た。
この塗膜にテストマスクを介して、UVP社製紫外線照
射装置UVL−21により紫外線を5分間照射した。こ
の露光面での紫外線強度は350nmで1.6 mW/
 c m ’(mオーク製作新製、紫外線照射計UV−
MO1により測定)であった。
露光後、およそ20°CのNMD−3(東京応化■製)
に5分間浸漬して現像を行い、純水で洗浄してポジ型の
レリーフを得た。尚、現像後の膜厚は0.9μmであっ
た。
この基板を循環乾燥炉で300℃で30分加熱処理を行
ったところ、パターンの乱れなどは全(見られず、膜[
0,8μmの良好なレリーフパターンが得られた。又こ
の塗膜の赤外吸収スペクトルを測定した結果、1780
  cm−’  、800 cm−’にイミド基のピー
クが確認された。
実施例 2 製造例−2で得られたポリアミック酸エステル溶液18
gと製造例−4で得られたポリアミック酸溶液21i!
を混合し、固形分を15重量%のポリアミック酸エステ
ル、ポリアミック酸混合溶液を調製し、実施例−1と同
様のオルトナフトキノンジアジド化合物 0790gを
加えて室温で3時間攪拌後1,0μmのフィルターによ
りろ過した。
この溶液を実施例−1と同様のカップリング処理をした
ガラス基板に2300rpmでスピンコードし、70’
Cの循環乾燥炉で30分間乾燥して1゜2μm厚の塗膜
を得た。この塗膜に紫外光照射時間を2分間、現像時間
を7分間とした他は実施例−1と同様に操作し、良好な
ポジ型のレリーフを得た。尚、現像後のM厚は1.DI
Jmであった。
この基板を循環乾燥炉で31)O”Cで30分加熱処理
を行ったところ、パターンの乱れ等は全く見られず、膜
厚0.9μmの良好なレリーフパターンが得られた。 
又、この塗膜の赤外吸収スペクトルを測定した結果、1
780cm−’、790e+n日にイミド基のピークが
確認された。
実施例 3 製造例−5で得られたポリアミック酸エステル溶液20
gに、実施例−1と同様のオルトナフトキノンジアジド
化合物 0.90gを加えて室温で3時間攪拌後1.0
μmのフィルターによりろ過した。
この溶液を実施例−1と同様のカップリング処理をした
ガラス基板に2300rpmでスピンコードシ、70℃
の循環乾燥炉で30分間乾燥して1.1μm厚の塗膜を
得た。この塗膜に紫外光照射時間を5分間、現像時間を
5分間とした他は実施例−1と同様に操作し、良好なポ
ジ型のレリーフを得た。尚、現像後の膜厚は1.0μm
であった。
この基板を循環乾燥炉で300℃で30分加熱処理を行
ったところ、パターンの乱れ等は全く見られず、膜厚0
.9μmの良好なレリーフパターンが得られた。又、こ
の塗膜の赤外吸収スペクトルを測定した結果、1780
eF ’、 800cm−’にイミド基のピークが確認
された。
実施例 4 製造例−1で得られたポリアミック酸エステル溶液2D
flに実施例−1と同様のオルトナフトキノンジアジド
化合物 0.9()gを加えて室温で3時間攪拌後1.
0μmのフィルターによりろ過した。この溶液を実施例
−1と同様のシランカップリング処理をしたガラス基板
に200Orpmでスピンコードし、70℃の循環乾燥
炉で30分間乾燥して 1.0μm厚の塗膜を得た。こ
の塗膜に紫外光照射時間を5分間、現像時間を6分間と
した他は実施例−1と同様に操作し、良好なポジ型のレ
リーフを得た。尚、現像後のM厚は0.9gmであった
。この基板を循環乾燥炉で300℃で30分加熱処理を
行ったところ、パターンの乱れ等は全く見られず、膜厚
0.8μmの良好なレリーフパターンが得られた。又、
この塗膜の赤外吸収スペクトルを測定した結果、178
0cm−’、  800cm−’にイミド基のピークが
確認された。
比較例 1 製造例−3で得られたポリアミック酸溶液20gに、実
施例−1と同様のオルトナフトキノンジアジド化合物 
0−90gを加えて室温で3時間攪拌後1.0μmのフ
ィルターによりろ過した。この溶液を実施例1と同様の
カップリング処理をしたガラス基板に280Orpmで
スピンコードし、70℃の循環乾燥炉で30分間乾燥し
て1.0μm厚の塗膜を得た。この塗膜に紫外光照射時
間を5分間とし、実施例−1と同様の操作を行ったが、
現像時間4分後から塗膜全体が溶解し始め、良好なポジ
型のレリーフは得られなかった。
尚、現像後塗膜は膨潤が激しく、膜厚は測定できなかっ
た。
比較例 2 製造例−6で得られたポリアミック酸溶液20gに、実
施例−1と同様のオルトナフトキノンジアジド化合物0
.90gを加えて室温で3時間攪拌後1.0μmのフィ
ルターによりろ過した。この溶液を実施例−1と同様の
カップリング処理をしたガラス基板に350Orpmで
スピンコードし、70℃の循環乾燥炉で30分間乾燥し
て 1.2μm厚の塗膜を得た。この塗膜に紫外光照射
時間を2分間とし、実施例1と同様の操作を行ったが、
現像時間5分後から塗膜全体が溶解し始め、良好なポジ
型のレリーフは得られなかった。
尚、現像後塗膜は膨潤が激しく、g!厚は測定できなか
った。
特許出願人  日産化学工業株式会社

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ポリイミド樹脂前駆体が、下記一般式〔 I 〕及
    び一般式〔II〕で表される繰り返し単位の共重合体より
    構成され、 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 (式中R_1、R_2は互いに同一であっても異なって
    いてもよい有機ジアミンを構成する2価の有機基であり
    、R_2、R_4は互いに同一であっても異なっていて
    もよいテトラカルボン酸及びその誘導体を構成する4価
    の有機基であり、X_1、X_2は互いに同一であって
    も異なっていてもよい炭素数1〜8のアルキル基である
    ) 一般式〔 I 〕で表される繰り返し単位の構成比aが、
    20モル%≦a≦100モル%であり、一般式〔II〕で
    表される繰り返し単位の構成比bが、80モル%≧b≧
    0モル%であり、その還元粘度が0.05〜3.0dl
    /g(温度30℃のN−メチルピロリドン中、濃度0.
    5g/dl)であるポリイミド樹脂前駆体100重量部
    当たり、オルトキノンジアジド化合物1〜100重量部
    を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
  2. (2)一般式〔 I 〕及び一般式〔II〕中のR_2及び
    R_4は、芳香環に直接結合しない4個のカルボニル基
    よりなるテトラカルボン酸及びその誘導体を構成する4
    価の有機基であることを特徴とする請求項第1項に記載
    の感光性樹脂組成物。
  3. (3)一般式〔 I 〕及び一般式〔II〕中のR_2及び
    R_4がシクロブタン残基であることを特徴とする請求
    項第1項に記載の感光性樹脂組成物。
  4. (4)ポリイミド樹脂前駆体が、一般式〔III〕で表さ
    れる繰り返し単位からなるポリイミド樹脂前駆体、及び
    一般式〔IV〕で表される繰り返し単位からなるポリイミ
    ド樹脂前駆体の混合物より構成され、 ▲数式、化学式、表等があります▼〔III〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔IV〕 (式中R_5、R_7は互いに同一であっても異なって
    いてもよい有機ジアミンを構成する2価の有機基であり
    、R_■、R_■は互いに同一であっても異なっていて
    もよいテトラカルボン酸及びその誘導体を構成する4価
    の有機基であり、X_3、X_4は互いに同一であって
    も異なっていてもよい炭素数1〜8のアルキル基である
    ) 一般式〔III〕で表される繰り返し単位の構成比cが、
    20モル%≦c≦100モル%であり、一般式〔IV〕で
    表される繰り返し単位の構成比dが、80モル%≧d≧
    0モル%であり、その還元粘度が0.05〜3.0dl
    /g(温度30℃のN−メチルピロリドン中、濃度0.
    5g/dl)であるポリイミド樹脂前駆体100重量部
    当たり、オルトキノンジアジド化合物1〜100重量部
    を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
  5. (5)一般式〔III〕及び一般式〔IV〕中のR_■、R
    _6は芳香環に直接結合しない4個カルボニル基よりな
    るテトラカルボン酸及びその誘導体を構成する4価の有
    機基であることを特徴とする請求項第4項に記載の感光
    性樹脂組成物。
  6. (6)一般式〔III〕及び一般式〔IV〕中の、R_6、
    R_8がシクロブタン残基であることを特徴とする請求
    項第4項に記載の感光性樹脂組成物。
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