JPH0420893B2 - - Google Patents
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- JPH0420893B2 JPH0420893B2 JP57026928A JP2692882A JPH0420893B2 JP H0420893 B2 JPH0420893 B2 JP H0420893B2 JP 57026928 A JP57026928 A JP 57026928A JP 2692882 A JP2692882 A JP 2692882A JP H0420893 B2 JPH0420893 B2 JP H0420893B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、3−ヒドロキシドデカヒドロベンゾ
(e)インデン−7−オンから誘導体からなる新規な
抗アンドロゲン性薬剤に関する。 しかして、本発明の主題は、次の一般式 (ここで、Rは1〜4個の炭素原子を有する線状
又は分岐状アルキル基を表わし、 R1はメチル又はエチル基を表わし、 R2は水素原子、ピリジニルカルボニル基又は
2〜18個の炭素原子を有するアシル基を表わし、 R3は水素原子を表わし、 R4は水素原子又は1〜4個の炭素原子を有す
るアルキル基を表わし、 点線は4(5)及び5a(6)位炭素間に二重結合の存
在の可能性を表わすが、波線は置換基R4が二つ
の可能な位置α又はβのいずれかにあり得ること
を示す) の化合物からなる男性ホルモン過多と関係した疾
患の治療用薬剤にある。 式()は、天然系の化合物のように同時にラ
セミ体化合物及び対掌体系の化合物を包含する。 置換基Rの意味は、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、sec−ブチル、イソ
ブチル、t−ブチル基を包含する。 R2を表わすアシル基には、飽和又は不飽和の
脂肪酸の残基、例えばアセチル、プロピオニル、
ブチリル、イソブチりル、バレリル、ヘキサノイ
ル、ピバロイル、ウンデカノイル、アクリロイル
又はクロトニル基が包含される。また、3−ピリ
ジニル又は4−ピリジニルのようなピリジニルカ
ルボニル基も挙げられる。 R4としては、前述したアルキル基が挙げられ
る。 特に、本発明の主題は、Rがメチル又はエチル
基を表わし、R3及びR4がそれぞれ水素原子を表
わす薬剤としての前記のような式()の化合物
並びに4(5)位の点線が二重結合の存在を示さない
が、5a(6)位の点線が二重結合の存在を示す薬剤
としての式()の化合物、そしてR2が水素原
子又はメトキシメチル、アリル、アセチル若しく
はブチリル基を表わす式()の化合物からなる
抗アンドロゲン剤にある。 特に、本発明の主題は、下記の化合物、特に、 3aβ−メチル−3β−ヒドロキシ−6−エチル−
1,2,3,3a,4,5,8,9,9a,9b−デ
カヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−オ
ン、 3aβ,6−ジエチル−3β−ヒドロキシ−1,
2,3,3a,4,5,8,9,9a,9b−デカヒ
ドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−オン、 3aβ−メチル−3β−アセトキシ−6−エチル−
1,2,3,3a,4,5,8,9,9a,9b−デ
カヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−オ
ン、 3β−(ピリジン−3−イル)カルボニルオキシ
−6−エチル−3aβ−メチル−1,2,3,3a,
4,5,8,9,9a,9b−デカヒドロ−7−H
−ベンゾ(e)インデン−7−H−ベンゾ(e)インデン
−7−オン からなる抗アンドロゲン剤に関する。 また、本発明は、一般式()の化合物、特に
前記の好ましい化合物を活性成分として含有する
製薬組成物に関する。 本発明の式()の化合物は、有益な薬理学的
性質を示す。特に、それらは顕著な抗アンドロゲ
ン活性を付与されており、特に局所投与のときそ
うである。 本発明に従う薬剤は、正常な下垂体機能を害す
ることなく未梢器官のレベルで男性ホルモン(ア
ンドロゲン)の効果を抑制する。したがつて、そ
れらは、青年の場合にはその成長を妨げる恐れな
く、また成人ではある種の薬物去勢効果の恐れな
く用いることができる。それらは、特に、痙瘡、
粗毛症、脂漏、過多毛症のような男性ホルモン過
多と関連した局部疾患の治療に用いることができ
る。 これらは通常の方法で投与できるが、特に局所
投与に適するものであつて、この目的に対しては
溶液、乳液、クリーム、軟膏及びローシヨンとし
て提供できる。別法として、組成物は経口又は直
腸投与することができる。製薬形態は、通常の方
法により製造される。活性成分は、これらの組成
物に通常用いられる補助剤、例えば水性又は非水
性媒体、ラクトース、でん粉、動物又は植物起源
の脂肪物質、パラフイン誘導体、グリコール、各
種の湿潤、分散又は乳化剤、保存剤中に配合する
ことができる。投与を経口又は直腸経路で行なう
ときは、ゼラチンカプセル、錠剤又は坐薬が好ま
しい。 有効薬用量は、治療すべき対象及び患者によつ
て、変るが、例えば、1〜20%、好ましくは2〜
10%の活性成分を含有する軟膏で1日当り1〜5
回の適用であつてよい。 本発明の式()の化合物のうちで知られてい
ない化合物は各種の方法で製造することができ
る。即ち、これらの方法は、 (1) 次式(′A) (ここで、R及びR1は前記の意味を有する。
ただし、R1がメチル基を表わすときはRはメ
チル、エチル、n−プロピル及びn−ブチル基
を表わすことができず、またR1がエチル基を
表わすときはRはメチル基を表わすことができ
ない) の化合物を製造するために、次式(A) (ここで、R1は前記の意味を有し、Aは2〜
18個の炭素原子を有するアシル基を表わす) の化合物を次式(A) R−CH2MgX (A) (ここで、Rは前記の意味を有し、Xはハロゲ
ン原子を表わす) の化合物と反応させ、得られた化合物を所望な
らば塩形成すること; (2) 次式(′B) (ここで、R及びR1は前記の意味を有し、R4
は1〜4個の炭素原子を有するアルキル基を表
わす) の化合物を製造するために、次式(B) (ここで、R及びR1は前記の意味を有する) の化合物をケトン基の保護剤と反応させて次式
(B) (ここで、Bはケタール基、エナミン基又はエ
ノールエーテルのいずれかを表わし、点線はB
がエナミン基又はエノールエーテルであるとき
の二重結合を表わす) の化合物を得、この化合物を酸化剤で処理して
次式(B) の化合物を得、この化合物を強塩基の存在下で
次式 R′4I の化合物で処理して次式(B) の化合物を得、次いでこの化合物に還元剤を作
用させて次式(′B) の化合物を得、この化合物をケトン官能基から
保護基を除去するように処理して所望の式
(′B)の化合物を得ること; (3) 次式(′C) (ここで、R、R1、R3及びR4は前記の意味を
有する。ただし、R4が水素原子を表わす場合
であつて、R3がエチル基を表わすときはR及
びR1はそれぞれメチル基を表わすことができ
ない) の化合物を製造するために、次式 R3−D (ここで、DはMg−Hal基(Halはハロゲン
原子を表わす)又はリチウム原子を表わす) の誘導体を次式(C) (ここで、B、R、R1、R4及び点線は前記の
意味を有する) の誘導体に作用させ、得られた化合物をケトン
官能基から保護基を除去するような方法で処理
すること; (4) 次式(′D) (ここで、R、R1、R3及びR4は前記の意味を
有する) の化合物を製造するために、次式(D) (ここで、R、R1、R3及びR4は前記の意味を
有する) の化合物にヒドロキシル基の保護基の反応性誘
導体を作用させて次式(D) (ここで、A′はヒドロキシル基の保護基を表
わす) の化合物を得、次いでこの化合物を臭素化剤で
処理して次式(D) の化合物を得、この化合物をまず脱臭化水素剤
で処理し、次いでヒドロキシル基から保護基を
除去せしめる試剤を作用させて所期の式(′
D)の化合物を得ること; (5) 次式(′E) (ここで、R、R1、R3及びR4は前記の前記の
意味を有する。ただし、R4が水素原子を表わ
す場合であつて、 (a) R3が水素原子、メチル、エチル、プロパ
ルギル又はイソブテニル基を表わすときは、
R及びR1はメチル基を表わすことができ
ず; (b) R3が水素原子を表わすときであつて、R1
がエチル基を表わすときはRはメチル基を表
わすことができず、逆にR1がメチル基を表
わすときはRはエチル基を表わすことができ
ない) の化合物を製造するために、次式(′E) (ここで、R、R1、R3及びR4は前記の意味を
有する) の化合物に水素化剤を作用させること; (6) 次式(′F) (ここで、R、R1、R3、R4及び点線は前記の
意味を有し、R′2は水素原子を除いてR2の意味
を有する) の化合物〔ただし、R4が水素原子を表わし、
4(5)位の点線が二重結合の存在を示さず、5a
(6)位の点線が二重結合の存在を示し、そして (a) Rがメチル基を表わし、R3が水素原子を
表わし、 (α) R1がメチル基を表わし及びR2がアセチ
ル、ベンゾイル又はt−ブチル基を表わ
し; (β) R1がエチル基を表わし及びR2がt−ブ
チル基を表わし; (b) Rがエチル又はプロピル基を表わし、R1
がメチル基を表わし、R′2がベンゾイル基を
表わし及びR3が水素原子を表わす; 各化合物は除く。また、R4が水素原子を表わ
し、点線が二重結合の存在を示さず、そして (a) R及びR1がそれぞれメチル基を表わし、
R3が水素原子を表わし及びR′2がアセチル又
はベンゾイル基を表わし; (b) R3が水素原子を表わし、R及びR1がそれ
ぞれメチル基を表わし及びR′2がメトキシメ
チル基を表わし; (c) R、R1及びR3がそれぞれメチル基を表わ
し及びR′2がアセチル基を表わす; 各化合物も除く〕を製造するために、次式(
F) (ここで、R、R1、R3及びR4は、置換基R、
R1、R′2、R3、R4並びに点線の意味が前記の限
定を受けることを条件として前記の意味を有す
る) の化合物に次式 R′2−E (ここで、Eは官能基の残基を表わし、R′2は
前記の意味を有する) の官能性誘導体を作用させて所期の式(′F)
の化合物を得るか、或いは 4(5)位の点線が二重結合を表わさない式
(′F)の化合物を製造するために、次式
(′F) (ここで、Bは前記の意味を有し、R、R1、
R3及びR4は前記の限定を受ける) の化合物に次式 R′2−E (ここで、R′2及びEは前記の意味を有する) の官能性誘導体を反応させて次式(′F) 【式】 の化合物を得、次いでこの化合物をケトン官能
基から保護基を除去するように処理して、4(5)
位の点線が二重結合の存在を表わさない式
(′F)の化合物を得ること; からなる。 式(A)の化合物に対する次式(A) RCH2MgX のマグネシウム化合物(好ましくは臭化エチルマ
グネシウム)の縮合は、通常の有機マグネシウム
型の反応条件下で行うことができる。好ましくは
テトラヒドロフラン又はエチルエーテルのような
無水溶媒が用いられる。操作は、好ましくは低温
で、特に−50℃程度の温度で行なわれる。 得られた化合物のけん化は、か性ソーダ、か性
カリ、バリタのような塩基で処理することによつ
て行なわれる。所期生成物は、塩酸、酢酸又は硫
酸のような酸を用いる最終処理によつて単離され
る。 式(A)の化合物のうちで好ましいものは、
Aがアセチル基を表わす化合物である。 式(B)の化合物の7位のケトン基の保護基
のうちの好ましい基は、エチレンケタール、ピロ
リジンエナミン、メトキシ又はエトキシエノール
エーテルである。しかして、式(B)の化合物
に作用せしめるケトン基の保護試剤は、それぞれ
エチレングリコール、ピロリジン、メタノール又
はエタノールである。エチレングリコール又はモ
ノアルコールが用いられるときは、操作は、好ま
しくはp−トルエンスルホン酸のような酸の存在
下で行なわれる。 式(B)の化合物を得るために式(B)の化
合物を処理する酸化剤は、好ましくは重クロム酸
ピリジウムである。クロム硫酸溶液、クロルクロ
ム酸ピリジニウム、ピリジン中の三酸化クロムの
ようなその他の試剤、或いはアルミニウムイソプ
ロポキシド又はアルミニウムt−ブトキシドのよ
うなオツペナウアー酸化剤も同様に用いることが
できる。 式R′4のよう化物を式(B)の化合物に作用
させる際の強塩基は、好ましくはリチウムアミ
ド、特にジイソプロピルアミンとブチルリチウム
とから現場で形成されるリチウムジイソプロピル
アミドである。また、一般にはアミド又は水素化
ナトリウムのような水素化物の如きその他の強塩
基を用いることが可能である。式(B)の化合
物の式(′B)の化合物への還元は、好ましくは
水素化アルミニウムリチウムによつて行われる。
しかし、水素化ほう素ナトリウム、カリウム又は
リチウムのようなその他の水素化物を用いること
ができる。 式(′B)の化合物の保護基の除去は、通常の
方法によつて行なわれる。好ましくは酸加水分解
が用いられる。化合物は、例えばp−トルエンス
ルホン酸によつて処理することができる。また、
塩酸又は酢酸も同様に用いることができる。 式(B)及び(′B)の化合物は、2αと2βの
異性体の混合物の形で又はこれらの異性体化合物
のいずれかの形で現われる。こと混合物は、通常
の方法、例えばクロマトグラフイーにより分離す
ることができる。 異性体の一方が専らそれのみで又は圧到的に得
られるときは、他方の異性体は、一般的には、一
つの単離された異性体を異性化した後に得ること
ができる。このような異性化は、塩基性媒質中
で、例えばメタノールカリ溶液中で加熱すること
によつて行うことができる。混合物は、通常の方
法、好ましくはクロマトグラフイーによつて分離
される。分離又は異性化は、好ましくは式(B)
の化合物に対して行なわれる。 式(C)の化合物に対するマグネシウム化合
物、好ましくは臭化アルキルマグネシウムの付加
は、通常の方法で、例えはテトラヒドロフラン又
はエチルエーテルのような溶媒中で行われる。 ケトン基の保護基の除去は、上記のような通常
の条件で行なわれる。 式(D)の化合物のヒドロキシル基の保護は
通常の方法で行われる。好ましくはエステル化又
は特に、例えば、無水酢酸によるアセチル化があ
げられるが、テトラヒドロピラニルによる保護も
用いることができる。4,5位の二重結合の形成
は、好ましくはN−ブロムスクシンイミドで処理
し、続いてピリジン、コリジン又は炭酸リチウム
−臭化リチウム混合物のような脱臭化水素剤によ
る処理によつて行われる。 ヒドロキシル基からの保護基の除去は、通常の
方法によつて行われる。ヒドロキシル基がアシル
基、例えばアセチル基によるエステル化によつて
保護されているときは、その保護基は前記したよ
うな条件下でけん化することによつて除去され
る。ヒドロキシル基がテトラヒドロピラニル基に
より保護されているときは、その除去は通常の条
件下で酸加水分解することにより行われる。式
(′E)の化合物から式(′E)の化合物への水
素化は、例えば、色金又は酸化白金のような触媒
の存在下に水素を作用させることによつて行なわ
れる。 式(F)の化合物又は式(′F)の化合物に
作用せしめる式R′2−Eの試剤は、ハロゲン化ア
ルキル、アルケニル又はアルキニルであつてよ
く、そしてこれらの基はヘテロ原子で中断されて
いてもよい。そして塩化物又は臭化物が好まし
く、操作は好ましくはトリエチルアミン又は重炭
酸ナトリウム、カリウム若しくはリチウムのよう
な有機又は無機塩基塩又は基性塩の存在下で行な
われる。また、アシル基から形成された混成又は
対称無水物をエステル化すべきヒドロキル基とを
反応させることが可能である。例えば無水酢酸又
は酪酸である。また、式(F)又は(′F)の
化合物に塩化アシルのようなハロゲン化アシルを
作用させることもできる。式(′F)の化合物の
保護基の除去は前述のような条件で行なわれる。 ラセミ体化合物及び対掌体系の化合物の製造
は、対応する元の化合物から出発して同等の方法
で行なわれる。 上記の方法の開始時で用いる化合物は、次のよ
うに製造することができる。 式(A)の化合物は仏国特許第1364556号及び
同1476509号に記載の方法によつて製造すること
ができる。式(B)の化合物は、一方では本願
に記載の方法により製造されるような式(′A)
の化合物を、他方では下記の文献に記載のような
化合物を含む。 J.Chem.Soc.1962、p.1312−13ヨーロツパ特許
第1359675号 Helv.Chim.Acta 1971、54(7)、p.2121−32 J.Org.Chem.1969、34(1)、p.107−12 式(C)の化合物は、一方ではその製造を本
願に記載の式(B)の化合物を、他方では仏国
特許第1553958号に記載のR4=Hの化合物を含
む。 式(D)の化合物は、一方ではその製造を本
願で示す式(′C)の化合物を、他方ではベルギ
ー国特許第663197号に記載の既知の化合物よりな
る。式(′E)の化合物は、式(D)の化合物
に含まれる。 式(F)の化合物は前記の通りである。 式(′F)の化合物は、前記の式(B)の化
合物の製造と類似の方法で製造される。4(5)位の
点線が二重結合を表わさない式(F)の化合物
から出発して、同じ方法が用いられる。 式()の化合物のうちで知られているもの
は、下記の文献に記載の方法により製造すること
ができる。 (a) 二重結合が5a(6)位に存在し、R3が水素原子
を表わす化合物で、 (α) Rがメチル基を表わすもの: 仏国特許第1359675号 J.Org.Chem.1969、34(5)、p.1457−8 Ann.
669、p.153−9(1963) J.Org.Chem.1969、、34(1)、p.107−12 独特許出願DLS1811693号 (β) Rが各種のメチルアルキルを表わすも
の:仏国特許第1359675号 Helv.Chim.Acta 1971、54(7)、p.2121−32 (b) 二重結合が5a(6)位に存在し、R3が水素以外
のものを表わす化合物。 ベルキー特許第663197号 (c) R3が水素原子を表わし、R1がメチル基を表
わす飽和化合物。 ベルギー特許第663197号 J.Chem.Soc.1949、p.1855−65 J.Chem.Soc.1962、p.1312−13 米国特許第3956316号 米国特許第3644429号 (d) R3が水素原子を表わし、R1がエチルを表わ
す飽和化合物。 ベルギー特許第767347号 (e) R3が水素以外のものを表わし、R1がメチル
基を表わす化合物。 ベルギー特許第663197号 米国特許第3496199号 本願明細書に適用される化合物の命名は、次式 【式】 の7−H−ベンゾ(e)インデンから導かれる。 下記の例は、本発明を例示するもので、これを
何ら制限しない。 例 1 2α,3aβ,6−トリメチル−3β−ヒドロキシ−
1,2,3,3a,4,5,8,9,9a,9b−
デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−
オン 工程A:3a,6−ジメチル−3β−ヒドロキシ−
7,7−エチレンジオキシ−1,2,3,3a,
4,6,8,9,9a,9b−デカヒドロ−7−
H−ベンゾ(e)インデン−7−オン 200c.c.のベンゼン中5.5gの3a,6−ジメチル−
3β−ヒドロキシ−1,2,3,3a,4,5,8,
9,9a,9b−デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)イ
ンデン−7−オン、5.5c.c.のエチレングリコール、
9c.c.のオルトぎ酸エチル及び200mgのp−トルエ
ンスルホン酸の混合物を炭素気流下に3時間加熱
還流させた。無水炭酸ナトリウムを加え、過
し、か性ソーダ溶液で洗い、乾燥するまで蒸発さ
せた。溶離剤としてアセトン−ヘキサン混合物
(1−9)を用いてシリカカラムでクロマトグラ
フイーした。3.22gの所期生成物を得た。 工程B:3aβ,6−ジメチル−7,7−エチレン
ジオキシ−1,2,3,3a,4,6,8,9,
9a,9b−デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)イン
デン−3,7−ジオン 上記工程で得た1.9gの生成物を、19.5c.c.の塩
化メチレンとジメチルホルムアルデヒドとの混合
物に溶解した6.37gの重クロム酸ピリジニウムに
より周囲温度で2時間酸化した。生成物を水に溶
解し、エーテルで抽出し、ヘキサンで再結晶させ
た。1.235gのエピマー混合物を得た。 MP=95℃。 NMR:0.85ppm(3aのメチル) 工程C:2α,3aβ,6−トリメチル−7,7−エ
チレンジオキシ−1,2,3,3a,4,6,
8,9,9a,9b−デカヒドロ−7−H−ベン
ゾ(e)インデン−3,7−ジオン 着色指示薬としてのビピリジル結晶の存在下に
2c.c.のテトラヒドロフラン中0.17c.c.のジイソプロ
ピルアミン及び0.78c.c.の1.6Mブチルリチウムヘ
キサン溶液から出発して窒素下に0℃でリチウム
ジイソプロピルアミド溶液を製造した。10分後に
この赤色溶液に、27.6mgの工程Bで得た生成物を
1c.c.のテトラヒドロフランに溶解したものを0℃
で加え、全体を周囲に戻した。20分後に0.4c.c.の
よう化メチルを加えると、色は黄色に変つた。沈
殿が急に現われた。これを水に注ぎ、エーテルで
抽出し、294mgの所期生成物を得た。MP=110
℃。ヘキサン−エーテル混合物で再結晶した後、
225mgの所期生成物を得た。MP=136℃。 NMR:0.87ppm(3aのメチル) 工程B:2α,3aβ,6−トリメチル−3β−ヒドロ
キシ−7,7−エチレンジオキシ−1,2,
3,3a,4,6,8,9,9a,9b−デカヒド
ロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−オン 130mgの上記工程で得た生成物を室温でエーテ
ル中32mgの水素化アルミニウムリチウムと反応さ
せた。10分後に15%か性ソーダ水溶液により加水
分解を行ない、全体を過し、液を蒸発させ、
所期生成物を油状物として得た。 NMR:0.72ppm(3aのメチル) 工程E:2α,3aβ,6−トリメチル−3β−ヒドロ
キシ−1,2,3,3a,4,5,8,9,9a,
9b−デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン
−7−オン 上記工程で得た生成物を含水アセトン中で数mg
のp−トルエンスルホン酸の存在下に還流させ
た。これを冷却し、エーテルで抽出し、溶離剤と
してアセトン−ヘキサン混合物(2−8)を用い
てシリカでクロマトグラフイーした。含水メタノ
ール中で再結晶した後、60mgの所期生成物を得
た。 MP=139℃、旋光能〔α〕25 D=−51°(c=1%、
クロロホルム)。 NMR:0.90ppm(3aのメチル) 分析:C16H24O2 計算:C%77.37 H%9.74 実測: 77.1 9.6 例 2 2β,3aβ,6−トリメチル−3β−ヒドロキシ−
1,2,3,3a,4,5,8,9,9a,9b−
デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−
オン 工程A:2β,3aβ,6−トリメチル−7,7−エ
チレンジオキシ−1,2,3,3a,4,6,
8,9,9a,9b−デカヒドロ−7−H−ベン
ゾ(e)インデン−3,7−ジオン 240mgの例1の工程Cで得た生成物を2.6c.c.の
2Nメタノールカリ中で90分間加熱還流した。全
体を乾燥するまで蒸発させ、水で溶解し、エーテ
ルで抽出する。2αと2βの生成物の混合物(1−
1)を得、これを溶離剤として酢酸エチル−ヘキ
サン混合物(1−9)を用いてシリカカラムでク
ロマトグラフイーした。110mgの所期生成物を得
た(油状物)。 NMR:0.8ppm(3aのメチル) 工程B:2β,3aβ,6−トリメチル−3β−ヒドロ
キシ−7,7−エチレンジオキシ−1,2,
3,3a,4,6,8,9,9a,9b−デカヒド
ロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−オン 110mgの上記工程で得た生成物から出発して例
1の工程Dに示すようにして実施した。 工程C:2β,3aβ,6−トリメチル−3β−ヒドロ
キシ−1,2,3,3a,4,5,8,9,9a,
9b−デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン
−7−オン 上記工程で得た生成物より出発して、例1の工
程Eに示すようにして実施した。70mgの所期生成
物を得、これをエタン−ヘキサン混合物で再結晶
した後、純生成物を得た。MP=81℃、旋光能
〔α〕25 D=−32°(c=1%、クロロホルム)。 分析:C16H24O2 計算:C%77.37 H%9.74 実測: 77.2 9.8 例 3 3aβ,6−ジエチル−3β−ヒドロキシ−1,
2,3,3a,4,5,8,9,9a,9b−デカ
ヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−オン 500mgの1β−アセトキシ−4−(2′−カルボキシ
エチル)−5−ヒドロキシ−7a−エチル−3a,
4β,7,7a−テトラヒドロインダンのδ−ラク
トンを3.8c.c.の無水テトラヒドロフランに溶解し、
次いで−60℃で3.36c.c.の新たに作つた臭化n−プ
ロピルマグネシウムのエーテル溶液(0.8M)を
ゆつくりと加えた。 −60℃で1時間後に過剰のマグネシウムを水で
分解した。テトラヒドロフランを蒸発させ、塩化
アンモニウム飽和溶液を加え、結果物をエーテル
で抽出し、乾燥した。エーテルを蒸発させた後、
得られた残留物を3.7c.c.の2Nメタノールカリ中で
1時間加熱還流した。結果物を酢酸で中和し、乾
燥するまで蒸発させ、水で溶解し、塩化メチレン
で抽出した。470mgの粗生成物を得、これをアセ
トン−ヘキサン混合物で再結晶した。100mgの純
生成物を得た。MP=131.5℃。旋光能〔α〕25 D=
−58°(c=1%、メタノール)。 分析:C17H26O2 計算:C %77.82 H %9.99 実測: 78.0 10.0 例 4 3aβ−エチル−6−プロピル−3β−ヒドロキシ
−1,2,3,3a,4,5,8,9,9a,9b
−デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7
−オン 500mgの1β−アセトキシ−4−(2′−カルボキシ
エチル)−5−ヒドロキシ−7a−エチル−3a,
4β,7,7a−テトラヒドロインダンのδ−ラク
トンから出発し、臭化n−ブチルマグネシウムを
用いて例3に示すように実施した。220mgの所期
の粗生成物を得、これをアセトンで再結晶した。
105mgの純生成物を得た。MP=127℃。旋光能
〔α〕25 D=−55°(c=1%、メタノール)。 分析:C18H28O2 計算:C %78.21 H %10.21 実測: 78.4 10.1 例 5 3aβ−エチル−6−メチル−3β−アセトキシ−
1,2,3,3a,4,5,8,9,9a,9b−
デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−
オン ピリジン中で3aβ−エチル−6−メチル−3β−
ヒドロキシ−1,2,3,3a,4,5,8,9,
9a,9b−デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデ
ン−7−オンに無水酢酸を作用させた。結果物を
含水メタノールで再結晶し、所期生成物を得た。
MP=99℃。 例 6 3aβ−エチル−6−メチル−3β−ヒドロキシ−
1,2,3,3a,8,9,9a,9b−オクタヒ
ドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−オン 工程A:3aβ−エチル−5−ブロム−6−メチル
−3β−アセトキシ−1,2,3,3a,4,5,
8,9,9a,9b−デカヒドロ−7−H−ベン
ゾ(e)インデン−7−オン 210mgの例5で製造した生成物、0.72c.c.の無水
酢酸及び10mgのp−トルエンスルホン酸の混合物
を16時間接触せしめた。0.3c.c.の酢酸と0.43c.c.の
水を加えた。2時間後にこの混合物を5℃に冷却
し、130mgのN−ブロムスクシンイミドを加え、
2時間かきまぜた。0.72c.c.の水を加え、結晶を
過した。190mgの所期生成物を得た。MP=120
℃。 工程B:3aβ−エチル−6−メチル−3β−ヒドロ
キシ−1,2,3,3a,8,9,9a,9b−オ
クタヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−
オン 190mgの上記工程で得た生成物、95mgの臭化リ
チウム及び47mgの炭酸リチウムの混合物を含有す
る4.5c.c.のジメチルホルムアミドを窒素気流下に
実質上乾燥するまで30分間蒸留した。結果物を冷
却し、5c.c.の水と0.1c.c.の酢酸を加え、混合物を
水に注ぎ、塩化メチレンで抽出した。けん化後、
128mgの所期生成物を得、これをシリカでクロマ
トグラフイーし(アセトン−ヘキサン混合物(15
−85)で溶出し)、アセトン−ヘキサン混合物で
再結晶した。MP=155℃。 旋光能〔α〕25 D=−207°(1%、クロロホルム)。 分析:C16H22O2・0.5C3H6O(アセトン) 計算:C %76.32 H %9.15 実測: 76.65 9.3 例 7 6−エチル−3aβ−メチル−7−オキソ−1,
2,3,3a,4,5,8,9,9a,9b−デカ
ヒドロ−1H−ベンゾ(e)インデン−3−イルブ
タノエート 0.75gの3aβ−メチル−6−エチル−3β−ヒド
ロキシ−1,2,3,3a,4,5,8,9,9a,
9b−デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−
7−オンを1.5c.c.の無水酪酸と1.05c.c.の乾燥トリ
エチルアミンに溶解した。30mgの4−ジメチルア
ミノピリジンを加えた。周囲温度で2時間かきま
ぜ続けた。この混合物を重炭酸ナトリウム飽和溶
液中に入れ、2時間かきまぜた。生成物を塩化メ
チレンで抽出した。結果物を水洗し、乾燥し、溶
媒を蒸発させた。0.96gの油状物を回収し、これ
をシリカでクロマトグラフイーした(ベンゼン−
酢酸エチル混合物(9−1)で溶離した)。所期
生成物を得た。 分析:C20H30O3 計算:C %75.43 H %9.49 実測: 75.6 9.50 NMRスペクトル:CDCl3、ppm 0.9ppm(t):CH3 −CH2基のメチルH 0.97ppm:3aのメチルのH 0.97ppm(t):CH3 −CH2基のメチルのH 4.68ppm(t):3位のプロトン(J=8Hz) 例 8 3aβ−メチル−6−プロピル−3β−アセトキシ
−1,2,3,3a,4,5,8,9,9a,9b
−デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7
−オン 1.35gの1β−アセトキシ−4−(2′−カルボキ
シエチル)−5−ヒドロキシ−7aβ−メチル−
3aα,4β,7,7a−テトラヒドロインダンのγ−
ラクトンを10c.c.のテトラヒドロフランに溶解し
た。9.6c.c.の新たに調製した臭化n−ブチルマグ
ネシウムのエーテル溶液(0.8M)を−60℃で30
分間にわたり加えた。−60℃で1時間後に過剰の
マグネシウム化合物を15c.c.の水で分解した。溶媒
を蒸発させ、塩化アンモニウム飽和溶液を加え、
次いでエーテルで抽出し、乾燥した。エーテルを
蒸発させた後、1.43gの所期生成物を得た。 例 9 3aβ,6−メチル−3β−アセトキシ−1,2,
3,3a,8,9,9a,9b−オクタヒドロ−7
−H−ベンゾ(e)インデン−7−オン 工程B:3aβ,6−ジメチル−5−ブロム−3β−
アセトキシ−1,2,3,3a,4,5,8,
9,9a,9b−デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)
インデン−7−オン 23.4gの3aβ,6−ジメチル−3β−ヒドロキシ
−1,2,3,3a,4,5,8,9,9a,9b−
デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−オ
ンを100c.c.の無水酢酸中で1gのp−トルエンス
ルホン酸とともにかきまぜた。次いでこれを約20
℃で16時間放置した。次いで40c.c.の酢酸と60c.c.の
水を加えた。2時間後に温度を+5℃に低下さ
せ、温度を15℃を越えないようにして17.8gのN
−ブロムスクシンイミドを導入した。半時間かき
まぜ続け、次いで100c.c.の水を加えた。結果物を
乾燥し、40%含水エタノールで洗い、次いでエタ
ノールで洗つた。40℃で乾燥し、26.3gの所期生
成物を得た。 塩化メチレンとイソプロピルエーテルとの混合
物中で再結晶を行なう。MP=140℃。〔α〕25 D=+
226°±3°(c=1%、クロロホルム)。 分析:C17H23O3Br 計算:C %57.47 H %6.52 実測: 57.8 6.7 工程B:3aβ,6−ジメチル−3β−アセトキシ−
1,2,3,3a,8,9,9a,9b−オクタヒ
ドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−オン 2gの臭化リチウム、1gの炭酸リチウム及び
90c.c.のジメチルホルムアミドを混合した。10c.c.を
乾燥蒸留し、4gの工程Aで得た生成物を加え
た。半時間の間に50c.c.を蒸留し、冷却後100c.c.の
水、次いで2c.c.の酢酸を加えた。結果物を水に注
ぎ、塩化メチレンで3回抽出し、水洗し、乾燥
し、蒸留乾固した。シリカでクロマトグラフイー
した(溶媒:塩化メチレン−5%イソプロピルエ
ーテル)。生成物を石油エーテルで再結晶し、
2.32gの所期生成物を得た。MP=75℃。 〔α〕25 D=−143°±1.5°(c=1%、クロロホル
ム)。 分析:C17H22O3 計算:C %74.42 H %8.08 実測: 74.5 8.2 例 10 3aβ,6−ジメチル−3β−ヒドロキシ−1,
2,3,3a,8,9,9a,9b−オクタヒドロ
−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−オン 15.2gの例11で製造した生成物に152c.c.のエタ
ノールと55c.c.の2Nか性ソーダ水溶液を加えた。
これを20℃で2時間放置し、次いで600c.c.の水を
ゆつくりと加え、結晶生成物を乾燥し、水洗し、
乾燥し、11.6gの生成物を得た。これを塩化メチ
レンに溶解し、活性炭で処理し、次いでイソプロ
ピルエーテルを加えてから約30℃で減圧下に濃縮
し、次いで乾燥し、イソプロピルエーテルで洗
い、乾燥し、11.3gの所期生成物を得た。MP=
156℃。 〔α〕25 D=−188°±2°(c=1%、クロロホルム
) 分析:C15H20O2 計算:C %77.55 H %8.68 実測: 77.5 8.7 例 11 3β−アセトキシ−6−エチル−3aβ−メチル−
1,2,3,3a,4,5,8,9,9a,9b−
デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−
オン 6gの3−ヒドロキシ−6−エチル−3a−メ
チル−1,2,3,3a,4,5,8,9,9a,
9b−デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−
7−オンを24c.c.のピリジンに溶解し、次いで12c.c.
の純無水酢酸を素早く加えた。この溶液を周囲温
度で15時間接触させた。その溶液を240c.c.の水に
あけ、生じた沈殿を過し、次いで水洗した。乾
燥した後、6.8gの結晶を得た。結晶をヘキサン
で再結晶した。6.5gの純生成物を得た。MP=90
℃。 分析:C18H28O3 計算:C %74.44 H %9.02 実測: 74.4 9.1 NMRスペクトル:(CDCl3)ppm 0.91(t):6位の末端メチルのH(J=8Hz) 0.97:3a位のメチルのH 2.06:CH 3CO 4.65(t):3α位のプロトン(J=8Hz) 例 12 3β−プロピオニルオキシ−6−エチル−3aβ−
メチル−1,2,3,3a,4,5,8,9,
9a,9b−デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)イン
デン−7−オン 操作は例11と同じであるが、1gの3−ヒドロ
キシ化合物と2c.c.の無水プロピオン酸とから出発
した。生成物をエーテルで抽出し、重炭酸ナトリ
ウム飽和水溶液で洗い、水洗し、次いで乾燥し、
ベンゼン−酢酸エチル混合物(9−1)を溶離剤
として用いてシリカでクロマトグラフイーした。
1.08gの所期生成物を得た。MP=50℃。 〔α〕D=−28°±2°(c=0.4%、エタノール) 分析:C19H28O3 計算:C %74.96 H %9.27 実測: 75.0 9.2 例 13 3β−バレリルオキシ−6−エチル−3aβ−メチ
ル−1,2,3,3a,4,5,8,9,9a,
9b−デカヒドロ−7H−ベンゾ(e)インデン−7
−オン 操作は例12と同じであつたが、0.5gの3−ヒ
ドロキシ化合物と1c.c.の無水吉草酸とから出発し
た。0.59gの所期生成物を得た。 〔α〕D=−18°±2°(c=0.5%、エタノール) 分析:C21H32O3 計算:C %75.86 H %9.70 実測: 76.0 9.9 例 14 3β−ヘキサノイルオキシ−6−エチル−3aβ−
メチル−1,2,3,3a,4,5,8,9,
9a,9b−デカヒドロ−7H−ベンゾ(e)インデン
−7−オン 操作は例12と同じであつたが、1gの3−ヒド
ロキシ化合物と2c.c.の無水カプロン酸から出発し
た。生成物を酢酸エチルで抽出した。0.7gの所
期生成物を得た。 〔α〕D=−15.5°(c=0.5%、エタノール) 分析:C22H34O3 計算:C %76.25 H %9.89 実測: 76.3 9.9 例 15 3β−(ピリジン−3−イル)カルボニルオキシ
−6−エチル−3aβ−メチル−1,2,3,
3a,4,5,8,9,9a,9b−デカヒドロ−
7H−ベンゾ(e)インデン−7−オン 15c.c.の無水ピリジンに不活性ガス下でかきまぜ
ながら1.95gのニコチン酸クロリド塩酸塩を加え
た。次いで2.48gの3−ヒドロキシ−6−エチル
−3aβ−メチル−1,2,3,3a,4,5,8,
9,9a,9b−デカヒドロ−7H−ベンゾ(e)インデ
ン−7−オンを加え、90〜95℃に2時間30分加熱
した。冷却後、結果物を氷と水の混合物に注ぎ、
沈殿を過し、水洗し、乾燥した。液を酢酸エ
チルで抽出した。有機相を水洗し、乾燥し、溶媒
を蒸発させ、その残留物を先に得た生成物に加え
た。クロロホルム−メタノール混合物(98−2)
を溶離剤として用いてシリカカラムでクロマトグ
ラフイーし、2.75gの所期生成物を得た。MP=
134℃。 〔α〕D=+46.5±2°(c=0.75%、エタノール) 分析:C22H27NO3 計算:C %74.75 H %7.70 N%3.96 実測: 74.9 7.8 3.9 例 16 下記の組成を有する皮膚に適用するための軟膏
を調製した。 例3の化合物…… 50mg 補助剤…… 1gとするに十分な量 (補助剤:鉱物油、プロピレングリコール、ペト
ロラクタム(石油から得た半固体炭化水素、
USP XXを参照)) 例 17 下記の組成を有するゲルを製造した。 例3の化合物…… 50mg 補助剤…… 1gとするに十分な量 (補助剤:アルコール、カルボポール、プロピレ
ングリコール、ジイソプロパノールアミン) 例 18 下記の組成を有するゼラチンカプセルを調製し
た。 例3の化合物…… 50mg 補助剤…… 400mgとするに十分な量 (補助剤:ステアリン酸マグネシウム、ラクトー
ス、でん粉) 本発明の化合物の薬理学的研究 下記の試験で、化合物Aと称する化合物は、ベ
ルギー特許第663197号に記載された3aβ,6−ジ
メチル−3β−ヒドロキシ−1,2,3,3a,4,
5,8,9,9a,9b−デカヒドロ−7−H−ベ
ンゾ(e)インデン−7−オンであり、 化合物Bは、仏国特許第1359675号に記載され
た3aβ−メチル−6−エチル−3β−ヒドロキシ−
1,2,3,3a,4,5,8,9,9a,9b−デ
カヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−オン
であり、 化合物Cは、J.Org.Chem.1969、34(1)、107−
12に記載された3aβ−エチル−6−メチル−3β−
ヒドロキシ−1,2,3,3a,4,5,8,9,
9a,9b−デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデ
ン−7−オンである。 化合物A、B及びCは、式()の化合物であ
る。 (1) アンドロゲン受容器との相互作用の測定 24時間前に去勢しておいた成長ラツト(200
g)の前立腺をT.S.緩衝液(Tris 10mM、サ
ツカロース0.25M、PH=7.4)中で(5mlの緩
衝液中1gの前立腺の割合で)0〜4℃でホモ
ジナイズした。このホモジネートを超遠心機で
105000Gで60分間遠心した。得られた上澄層を
シトゾルと呼ぶ。 125μのシトゾル試料を5nMの(3H)テス
トステロンの存在下にそして漸増濃度の放射能
のない被検化合物の不存在(Bo)又は存在下
(B)で0℃において30分間又は24時間インキユベ
ートした。インキユベートした後、そのインキ
ユベート物の100μをマイクロタイター板内
で100μの炭素−デキストラン懸濁液
(NoritA炭素:1.25%、デキストランT80:
0.625%)とともに0〜4℃で10分間かきまぜ、
次いで0〜4℃で800Gで10分間遠心した。 100μの表面層の試料中に含まれる放射能
を液体シンチレーシヨンにより測定した。B/
Bo比の値を放射能のない添加化合物の濃度の
関数として図示した。(3H)テストステロンの
固定を50%減少させるのに必要な被検化合物が
濃度(CI50)を図から求めた。 次の比: CI50テストステロン/CI50化合物×100 からアンドロゲン受容器に対する被検化合物の
相対的親和性の値が得られる。これまでの研究
により、インキユベーシヨン時間が増加すると
きに相対的親和性が減少するような化合物は潜
在的な抗ホルモン物質であることが示されてい
る(特に、TIPS、1980年8月号、p.324及び
Advances in pharm.and therap.Vol.1、
Receptors、p.259(1979)を参照)。 結 果 【表】 (2) ハムスターの肋椎器官に対するビボでの研究 (a) 7日前に去勢しておいた体重100〜110gの
雄のゴールデンハムスターにテストステロン
プロピオネートを5%のベンジルアルコール
を含むごま油溶液として1頭当り1日125μ
gの割合で皮下注射することにより与えた。
さらに、動物の一部は、エタノールに溶解し
た被検化合物による右側肋椎器官への局所適
用による処理を受けた。左側肋椎器官にはエ
タノールのみを与えた。処理は7日間続け
た。最後の処理から45分後に肋椎器官及び前
立腺を切除して秤量した。 下記の結果を得た(重量mgで表わす。)。 【表】 化合物Bは右側肋椎器官への局部適用により
この器官の重量増加を61%抑止した。他方、
化合物Bは、処理しなかつた器官に対しても
また前立腺に対してもテストステロンプロピ
オネートの効果に拮抗しなかつたが、これは
この化合物が全身的効果を有しないことを示
している。 (b) 例7及び11の化合物を5mg/日の薬量でも
つて抗アンドロゲン活性を試験するために上
記と同じ研究を雌のハムスターで行なつた。 下記の結果が得られた(重量mgで表わす)。 【表】 【表】 右側肋椎器官に局所適用された例7の化合物
は、この器官の重量増加を90%抑止した。例
13の化合物は95.6%抑止した。 (c) 例11〜15の化合物を1mg/日の薬量でもつ
て抗アンドロゲン活性を試験するために上記
と同じ研究を雌のハムスターで行なつた。 下記の結果が得られた(重量mgで表わす)。 【表】 (3) 急性毒性 体重18〜20gの5頭の雄のマウスに、カルボ
キシメチルセルローズ(0.25%)及びツイーン
(0.2%)の水溶液に溶解した化合物Bの薬量を
減少させて(1000−600−400mg/Kg)腹腔内又
は経口で投与した。処理の7日間死亡率を観察
した。死亡率がない最高薬量(MD)を決定し
た。 結 果 腹腔内:MD=400mg/Kg 経 口:MD=1000mg/Kg
(e)インデン−7−オンから誘導体からなる新規な
抗アンドロゲン性薬剤に関する。 しかして、本発明の主題は、次の一般式 (ここで、Rは1〜4個の炭素原子を有する線状
又は分岐状アルキル基を表わし、 R1はメチル又はエチル基を表わし、 R2は水素原子、ピリジニルカルボニル基又は
2〜18個の炭素原子を有するアシル基を表わし、 R3は水素原子を表わし、 R4は水素原子又は1〜4個の炭素原子を有す
るアルキル基を表わし、 点線は4(5)及び5a(6)位炭素間に二重結合の存
在の可能性を表わすが、波線は置換基R4が二つ
の可能な位置α又はβのいずれかにあり得ること
を示す) の化合物からなる男性ホルモン過多と関係した疾
患の治療用薬剤にある。 式()は、天然系の化合物のように同時にラ
セミ体化合物及び対掌体系の化合物を包含する。 置換基Rの意味は、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、sec−ブチル、イソ
ブチル、t−ブチル基を包含する。 R2を表わすアシル基には、飽和又は不飽和の
脂肪酸の残基、例えばアセチル、プロピオニル、
ブチリル、イソブチりル、バレリル、ヘキサノイ
ル、ピバロイル、ウンデカノイル、アクリロイル
又はクロトニル基が包含される。また、3−ピリ
ジニル又は4−ピリジニルのようなピリジニルカ
ルボニル基も挙げられる。 R4としては、前述したアルキル基が挙げられ
る。 特に、本発明の主題は、Rがメチル又はエチル
基を表わし、R3及びR4がそれぞれ水素原子を表
わす薬剤としての前記のような式()の化合物
並びに4(5)位の点線が二重結合の存在を示さない
が、5a(6)位の点線が二重結合の存在を示す薬剤
としての式()の化合物、そしてR2が水素原
子又はメトキシメチル、アリル、アセチル若しく
はブチリル基を表わす式()の化合物からなる
抗アンドロゲン剤にある。 特に、本発明の主題は、下記の化合物、特に、 3aβ−メチル−3β−ヒドロキシ−6−エチル−
1,2,3,3a,4,5,8,9,9a,9b−デ
カヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−オ
ン、 3aβ,6−ジエチル−3β−ヒドロキシ−1,
2,3,3a,4,5,8,9,9a,9b−デカヒ
ドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−オン、 3aβ−メチル−3β−アセトキシ−6−エチル−
1,2,3,3a,4,5,8,9,9a,9b−デ
カヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−オ
ン、 3β−(ピリジン−3−イル)カルボニルオキシ
−6−エチル−3aβ−メチル−1,2,3,3a,
4,5,8,9,9a,9b−デカヒドロ−7−H
−ベンゾ(e)インデン−7−H−ベンゾ(e)インデン
−7−オン からなる抗アンドロゲン剤に関する。 また、本発明は、一般式()の化合物、特に
前記の好ましい化合物を活性成分として含有する
製薬組成物に関する。 本発明の式()の化合物は、有益な薬理学的
性質を示す。特に、それらは顕著な抗アンドロゲ
ン活性を付与されており、特に局所投与のときそ
うである。 本発明に従う薬剤は、正常な下垂体機能を害す
ることなく未梢器官のレベルで男性ホルモン(ア
ンドロゲン)の効果を抑制する。したがつて、そ
れらは、青年の場合にはその成長を妨げる恐れな
く、また成人ではある種の薬物去勢効果の恐れな
く用いることができる。それらは、特に、痙瘡、
粗毛症、脂漏、過多毛症のような男性ホルモン過
多と関連した局部疾患の治療に用いることができ
る。 これらは通常の方法で投与できるが、特に局所
投与に適するものであつて、この目的に対しては
溶液、乳液、クリーム、軟膏及びローシヨンとし
て提供できる。別法として、組成物は経口又は直
腸投与することができる。製薬形態は、通常の方
法により製造される。活性成分は、これらの組成
物に通常用いられる補助剤、例えば水性又は非水
性媒体、ラクトース、でん粉、動物又は植物起源
の脂肪物質、パラフイン誘導体、グリコール、各
種の湿潤、分散又は乳化剤、保存剤中に配合する
ことができる。投与を経口又は直腸経路で行なう
ときは、ゼラチンカプセル、錠剤又は坐薬が好ま
しい。 有効薬用量は、治療すべき対象及び患者によつ
て、変るが、例えば、1〜20%、好ましくは2〜
10%の活性成分を含有する軟膏で1日当り1〜5
回の適用であつてよい。 本発明の式()の化合物のうちで知られてい
ない化合物は各種の方法で製造することができ
る。即ち、これらの方法は、 (1) 次式(′A) (ここで、R及びR1は前記の意味を有する。
ただし、R1がメチル基を表わすときはRはメ
チル、エチル、n−プロピル及びn−ブチル基
を表わすことができず、またR1がエチル基を
表わすときはRはメチル基を表わすことができ
ない) の化合物を製造するために、次式(A) (ここで、R1は前記の意味を有し、Aは2〜
18個の炭素原子を有するアシル基を表わす) の化合物を次式(A) R−CH2MgX (A) (ここで、Rは前記の意味を有し、Xはハロゲ
ン原子を表わす) の化合物と反応させ、得られた化合物を所望な
らば塩形成すること; (2) 次式(′B) (ここで、R及びR1は前記の意味を有し、R4
は1〜4個の炭素原子を有するアルキル基を表
わす) の化合物を製造するために、次式(B) (ここで、R及びR1は前記の意味を有する) の化合物をケトン基の保護剤と反応させて次式
(B) (ここで、Bはケタール基、エナミン基又はエ
ノールエーテルのいずれかを表わし、点線はB
がエナミン基又はエノールエーテルであるとき
の二重結合を表わす) の化合物を得、この化合物を酸化剤で処理して
次式(B) の化合物を得、この化合物を強塩基の存在下で
次式 R′4I の化合物で処理して次式(B) の化合物を得、次いでこの化合物に還元剤を作
用させて次式(′B) の化合物を得、この化合物をケトン官能基から
保護基を除去するように処理して所望の式
(′B)の化合物を得ること; (3) 次式(′C) (ここで、R、R1、R3及びR4は前記の意味を
有する。ただし、R4が水素原子を表わす場合
であつて、R3がエチル基を表わすときはR及
びR1はそれぞれメチル基を表わすことができ
ない) の化合物を製造するために、次式 R3−D (ここで、DはMg−Hal基(Halはハロゲン
原子を表わす)又はリチウム原子を表わす) の誘導体を次式(C) (ここで、B、R、R1、R4及び点線は前記の
意味を有する) の誘導体に作用させ、得られた化合物をケトン
官能基から保護基を除去するような方法で処理
すること; (4) 次式(′D) (ここで、R、R1、R3及びR4は前記の意味を
有する) の化合物を製造するために、次式(D) (ここで、R、R1、R3及びR4は前記の意味を
有する) の化合物にヒドロキシル基の保護基の反応性誘
導体を作用させて次式(D) (ここで、A′はヒドロキシル基の保護基を表
わす) の化合物を得、次いでこの化合物を臭素化剤で
処理して次式(D) の化合物を得、この化合物をまず脱臭化水素剤
で処理し、次いでヒドロキシル基から保護基を
除去せしめる試剤を作用させて所期の式(′
D)の化合物を得ること; (5) 次式(′E) (ここで、R、R1、R3及びR4は前記の前記の
意味を有する。ただし、R4が水素原子を表わ
す場合であつて、 (a) R3が水素原子、メチル、エチル、プロパ
ルギル又はイソブテニル基を表わすときは、
R及びR1はメチル基を表わすことができ
ず; (b) R3が水素原子を表わすときであつて、R1
がエチル基を表わすときはRはメチル基を表
わすことができず、逆にR1がメチル基を表
わすときはRはエチル基を表わすことができ
ない) の化合物を製造するために、次式(′E) (ここで、R、R1、R3及びR4は前記の意味を
有する) の化合物に水素化剤を作用させること; (6) 次式(′F) (ここで、R、R1、R3、R4及び点線は前記の
意味を有し、R′2は水素原子を除いてR2の意味
を有する) の化合物〔ただし、R4が水素原子を表わし、
4(5)位の点線が二重結合の存在を示さず、5a
(6)位の点線が二重結合の存在を示し、そして (a) Rがメチル基を表わし、R3が水素原子を
表わし、 (α) R1がメチル基を表わし及びR2がアセチ
ル、ベンゾイル又はt−ブチル基を表わ
し; (β) R1がエチル基を表わし及びR2がt−ブ
チル基を表わし; (b) Rがエチル又はプロピル基を表わし、R1
がメチル基を表わし、R′2がベンゾイル基を
表わし及びR3が水素原子を表わす; 各化合物は除く。また、R4が水素原子を表わ
し、点線が二重結合の存在を示さず、そして (a) R及びR1がそれぞれメチル基を表わし、
R3が水素原子を表わし及びR′2がアセチル又
はベンゾイル基を表わし; (b) R3が水素原子を表わし、R及びR1がそれ
ぞれメチル基を表わし及びR′2がメトキシメ
チル基を表わし; (c) R、R1及びR3がそれぞれメチル基を表わ
し及びR′2がアセチル基を表わす; 各化合物も除く〕を製造するために、次式(
F) (ここで、R、R1、R3及びR4は、置換基R、
R1、R′2、R3、R4並びに点線の意味が前記の限
定を受けることを条件として前記の意味を有す
る) の化合物に次式 R′2−E (ここで、Eは官能基の残基を表わし、R′2は
前記の意味を有する) の官能性誘導体を作用させて所期の式(′F)
の化合物を得るか、或いは 4(5)位の点線が二重結合を表わさない式
(′F)の化合物を製造するために、次式
(′F) (ここで、Bは前記の意味を有し、R、R1、
R3及びR4は前記の限定を受ける) の化合物に次式 R′2−E (ここで、R′2及びEは前記の意味を有する) の官能性誘導体を反応させて次式(′F) 【式】 の化合物を得、次いでこの化合物をケトン官能
基から保護基を除去するように処理して、4(5)
位の点線が二重結合の存在を表わさない式
(′F)の化合物を得ること; からなる。 式(A)の化合物に対する次式(A) RCH2MgX のマグネシウム化合物(好ましくは臭化エチルマ
グネシウム)の縮合は、通常の有機マグネシウム
型の反応条件下で行うことができる。好ましくは
テトラヒドロフラン又はエチルエーテルのような
無水溶媒が用いられる。操作は、好ましくは低温
で、特に−50℃程度の温度で行なわれる。 得られた化合物のけん化は、か性ソーダ、か性
カリ、バリタのような塩基で処理することによつ
て行なわれる。所期生成物は、塩酸、酢酸又は硫
酸のような酸を用いる最終処理によつて単離され
る。 式(A)の化合物のうちで好ましいものは、
Aがアセチル基を表わす化合物である。 式(B)の化合物の7位のケトン基の保護基
のうちの好ましい基は、エチレンケタール、ピロ
リジンエナミン、メトキシ又はエトキシエノール
エーテルである。しかして、式(B)の化合物
に作用せしめるケトン基の保護試剤は、それぞれ
エチレングリコール、ピロリジン、メタノール又
はエタノールである。エチレングリコール又はモ
ノアルコールが用いられるときは、操作は、好ま
しくはp−トルエンスルホン酸のような酸の存在
下で行なわれる。 式(B)の化合物を得るために式(B)の化
合物を処理する酸化剤は、好ましくは重クロム酸
ピリジウムである。クロム硫酸溶液、クロルクロ
ム酸ピリジニウム、ピリジン中の三酸化クロムの
ようなその他の試剤、或いはアルミニウムイソプ
ロポキシド又はアルミニウムt−ブトキシドのよ
うなオツペナウアー酸化剤も同様に用いることが
できる。 式R′4のよう化物を式(B)の化合物に作用
させる際の強塩基は、好ましくはリチウムアミ
ド、特にジイソプロピルアミンとブチルリチウム
とから現場で形成されるリチウムジイソプロピル
アミドである。また、一般にはアミド又は水素化
ナトリウムのような水素化物の如きその他の強塩
基を用いることが可能である。式(B)の化合
物の式(′B)の化合物への還元は、好ましくは
水素化アルミニウムリチウムによつて行われる。
しかし、水素化ほう素ナトリウム、カリウム又は
リチウムのようなその他の水素化物を用いること
ができる。 式(′B)の化合物の保護基の除去は、通常の
方法によつて行なわれる。好ましくは酸加水分解
が用いられる。化合物は、例えばp−トルエンス
ルホン酸によつて処理することができる。また、
塩酸又は酢酸も同様に用いることができる。 式(B)及び(′B)の化合物は、2αと2βの
異性体の混合物の形で又はこれらの異性体化合物
のいずれかの形で現われる。こと混合物は、通常
の方法、例えばクロマトグラフイーにより分離す
ることができる。 異性体の一方が専らそれのみで又は圧到的に得
られるときは、他方の異性体は、一般的には、一
つの単離された異性体を異性化した後に得ること
ができる。このような異性化は、塩基性媒質中
で、例えばメタノールカリ溶液中で加熱すること
によつて行うことができる。混合物は、通常の方
法、好ましくはクロマトグラフイーによつて分離
される。分離又は異性化は、好ましくは式(B)
の化合物に対して行なわれる。 式(C)の化合物に対するマグネシウム化合
物、好ましくは臭化アルキルマグネシウムの付加
は、通常の方法で、例えはテトラヒドロフラン又
はエチルエーテルのような溶媒中で行われる。 ケトン基の保護基の除去は、上記のような通常
の条件で行なわれる。 式(D)の化合物のヒドロキシル基の保護は
通常の方法で行われる。好ましくはエステル化又
は特に、例えば、無水酢酸によるアセチル化があ
げられるが、テトラヒドロピラニルによる保護も
用いることができる。4,5位の二重結合の形成
は、好ましくはN−ブロムスクシンイミドで処理
し、続いてピリジン、コリジン又は炭酸リチウム
−臭化リチウム混合物のような脱臭化水素剤によ
る処理によつて行われる。 ヒドロキシル基からの保護基の除去は、通常の
方法によつて行われる。ヒドロキシル基がアシル
基、例えばアセチル基によるエステル化によつて
保護されているときは、その保護基は前記したよ
うな条件下でけん化することによつて除去され
る。ヒドロキシル基がテトラヒドロピラニル基に
より保護されているときは、その除去は通常の条
件下で酸加水分解することにより行われる。式
(′E)の化合物から式(′E)の化合物への水
素化は、例えば、色金又は酸化白金のような触媒
の存在下に水素を作用させることによつて行なわ
れる。 式(F)の化合物又は式(′F)の化合物に
作用せしめる式R′2−Eの試剤は、ハロゲン化ア
ルキル、アルケニル又はアルキニルであつてよ
く、そしてこれらの基はヘテロ原子で中断されて
いてもよい。そして塩化物又は臭化物が好まし
く、操作は好ましくはトリエチルアミン又は重炭
酸ナトリウム、カリウム若しくはリチウムのよう
な有機又は無機塩基塩又は基性塩の存在下で行な
われる。また、アシル基から形成された混成又は
対称無水物をエステル化すべきヒドロキル基とを
反応させることが可能である。例えば無水酢酸又
は酪酸である。また、式(F)又は(′F)の
化合物に塩化アシルのようなハロゲン化アシルを
作用させることもできる。式(′F)の化合物の
保護基の除去は前述のような条件で行なわれる。 ラセミ体化合物及び対掌体系の化合物の製造
は、対応する元の化合物から出発して同等の方法
で行なわれる。 上記の方法の開始時で用いる化合物は、次のよ
うに製造することができる。 式(A)の化合物は仏国特許第1364556号及び
同1476509号に記載の方法によつて製造すること
ができる。式(B)の化合物は、一方では本願
に記載の方法により製造されるような式(′A)
の化合物を、他方では下記の文献に記載のような
化合物を含む。 J.Chem.Soc.1962、p.1312−13ヨーロツパ特許
第1359675号 Helv.Chim.Acta 1971、54(7)、p.2121−32 J.Org.Chem.1969、34(1)、p.107−12 式(C)の化合物は、一方ではその製造を本
願に記載の式(B)の化合物を、他方では仏国
特許第1553958号に記載のR4=Hの化合物を含
む。 式(D)の化合物は、一方ではその製造を本
願で示す式(′C)の化合物を、他方ではベルギ
ー国特許第663197号に記載の既知の化合物よりな
る。式(′E)の化合物は、式(D)の化合物
に含まれる。 式(F)の化合物は前記の通りである。 式(′F)の化合物は、前記の式(B)の化
合物の製造と類似の方法で製造される。4(5)位の
点線が二重結合を表わさない式(F)の化合物
から出発して、同じ方法が用いられる。 式()の化合物のうちで知られているもの
は、下記の文献に記載の方法により製造すること
ができる。 (a) 二重結合が5a(6)位に存在し、R3が水素原子
を表わす化合物で、 (α) Rがメチル基を表わすもの: 仏国特許第1359675号 J.Org.Chem.1969、34(5)、p.1457−8 Ann.
669、p.153−9(1963) J.Org.Chem.1969、、34(1)、p.107−12 独特許出願DLS1811693号 (β) Rが各種のメチルアルキルを表わすも
の:仏国特許第1359675号 Helv.Chim.Acta 1971、54(7)、p.2121−32 (b) 二重結合が5a(6)位に存在し、R3が水素以外
のものを表わす化合物。 ベルキー特許第663197号 (c) R3が水素原子を表わし、R1がメチル基を表
わす飽和化合物。 ベルギー特許第663197号 J.Chem.Soc.1949、p.1855−65 J.Chem.Soc.1962、p.1312−13 米国特許第3956316号 米国特許第3644429号 (d) R3が水素原子を表わし、R1がエチルを表わ
す飽和化合物。 ベルギー特許第767347号 (e) R3が水素以外のものを表わし、R1がメチル
基を表わす化合物。 ベルギー特許第663197号 米国特許第3496199号 本願明細書に適用される化合物の命名は、次式 【式】 の7−H−ベンゾ(e)インデンから導かれる。 下記の例は、本発明を例示するもので、これを
何ら制限しない。 例 1 2α,3aβ,6−トリメチル−3β−ヒドロキシ−
1,2,3,3a,4,5,8,9,9a,9b−
デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−
オン 工程A:3a,6−ジメチル−3β−ヒドロキシ−
7,7−エチレンジオキシ−1,2,3,3a,
4,6,8,9,9a,9b−デカヒドロ−7−
H−ベンゾ(e)インデン−7−オン 200c.c.のベンゼン中5.5gの3a,6−ジメチル−
3β−ヒドロキシ−1,2,3,3a,4,5,8,
9,9a,9b−デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)イ
ンデン−7−オン、5.5c.c.のエチレングリコール、
9c.c.のオルトぎ酸エチル及び200mgのp−トルエ
ンスルホン酸の混合物を炭素気流下に3時間加熱
還流させた。無水炭酸ナトリウムを加え、過
し、か性ソーダ溶液で洗い、乾燥するまで蒸発さ
せた。溶離剤としてアセトン−ヘキサン混合物
(1−9)を用いてシリカカラムでクロマトグラ
フイーした。3.22gの所期生成物を得た。 工程B:3aβ,6−ジメチル−7,7−エチレン
ジオキシ−1,2,3,3a,4,6,8,9,
9a,9b−デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)イン
デン−3,7−ジオン 上記工程で得た1.9gの生成物を、19.5c.c.の塩
化メチレンとジメチルホルムアルデヒドとの混合
物に溶解した6.37gの重クロム酸ピリジニウムに
より周囲温度で2時間酸化した。生成物を水に溶
解し、エーテルで抽出し、ヘキサンで再結晶させ
た。1.235gのエピマー混合物を得た。 MP=95℃。 NMR:0.85ppm(3aのメチル) 工程C:2α,3aβ,6−トリメチル−7,7−エ
チレンジオキシ−1,2,3,3a,4,6,
8,9,9a,9b−デカヒドロ−7−H−ベン
ゾ(e)インデン−3,7−ジオン 着色指示薬としてのビピリジル結晶の存在下に
2c.c.のテトラヒドロフラン中0.17c.c.のジイソプロ
ピルアミン及び0.78c.c.の1.6Mブチルリチウムヘ
キサン溶液から出発して窒素下に0℃でリチウム
ジイソプロピルアミド溶液を製造した。10分後に
この赤色溶液に、27.6mgの工程Bで得た生成物を
1c.c.のテトラヒドロフランに溶解したものを0℃
で加え、全体を周囲に戻した。20分後に0.4c.c.の
よう化メチルを加えると、色は黄色に変つた。沈
殿が急に現われた。これを水に注ぎ、エーテルで
抽出し、294mgの所期生成物を得た。MP=110
℃。ヘキサン−エーテル混合物で再結晶した後、
225mgの所期生成物を得た。MP=136℃。 NMR:0.87ppm(3aのメチル) 工程B:2α,3aβ,6−トリメチル−3β−ヒドロ
キシ−7,7−エチレンジオキシ−1,2,
3,3a,4,6,8,9,9a,9b−デカヒド
ロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−オン 130mgの上記工程で得た生成物を室温でエーテ
ル中32mgの水素化アルミニウムリチウムと反応さ
せた。10分後に15%か性ソーダ水溶液により加水
分解を行ない、全体を過し、液を蒸発させ、
所期生成物を油状物として得た。 NMR:0.72ppm(3aのメチル) 工程E:2α,3aβ,6−トリメチル−3β−ヒドロ
キシ−1,2,3,3a,4,5,8,9,9a,
9b−デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン
−7−オン 上記工程で得た生成物を含水アセトン中で数mg
のp−トルエンスルホン酸の存在下に還流させ
た。これを冷却し、エーテルで抽出し、溶離剤と
してアセトン−ヘキサン混合物(2−8)を用い
てシリカでクロマトグラフイーした。含水メタノ
ール中で再結晶した後、60mgの所期生成物を得
た。 MP=139℃、旋光能〔α〕25 D=−51°(c=1%、
クロロホルム)。 NMR:0.90ppm(3aのメチル) 分析:C16H24O2 計算:C%77.37 H%9.74 実測: 77.1 9.6 例 2 2β,3aβ,6−トリメチル−3β−ヒドロキシ−
1,2,3,3a,4,5,8,9,9a,9b−
デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−
オン 工程A:2β,3aβ,6−トリメチル−7,7−エ
チレンジオキシ−1,2,3,3a,4,6,
8,9,9a,9b−デカヒドロ−7−H−ベン
ゾ(e)インデン−3,7−ジオン 240mgの例1の工程Cで得た生成物を2.6c.c.の
2Nメタノールカリ中で90分間加熱還流した。全
体を乾燥するまで蒸発させ、水で溶解し、エーテ
ルで抽出する。2αと2βの生成物の混合物(1−
1)を得、これを溶離剤として酢酸エチル−ヘキ
サン混合物(1−9)を用いてシリカカラムでク
ロマトグラフイーした。110mgの所期生成物を得
た(油状物)。 NMR:0.8ppm(3aのメチル) 工程B:2β,3aβ,6−トリメチル−3β−ヒドロ
キシ−7,7−エチレンジオキシ−1,2,
3,3a,4,6,8,9,9a,9b−デカヒド
ロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−オン 110mgの上記工程で得た生成物から出発して例
1の工程Dに示すようにして実施した。 工程C:2β,3aβ,6−トリメチル−3β−ヒドロ
キシ−1,2,3,3a,4,5,8,9,9a,
9b−デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン
−7−オン 上記工程で得た生成物より出発して、例1の工
程Eに示すようにして実施した。70mgの所期生成
物を得、これをエタン−ヘキサン混合物で再結晶
した後、純生成物を得た。MP=81℃、旋光能
〔α〕25 D=−32°(c=1%、クロロホルム)。 分析:C16H24O2 計算:C%77.37 H%9.74 実測: 77.2 9.8 例 3 3aβ,6−ジエチル−3β−ヒドロキシ−1,
2,3,3a,4,5,8,9,9a,9b−デカ
ヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−オン 500mgの1β−アセトキシ−4−(2′−カルボキシ
エチル)−5−ヒドロキシ−7a−エチル−3a,
4β,7,7a−テトラヒドロインダンのδ−ラク
トンを3.8c.c.の無水テトラヒドロフランに溶解し、
次いで−60℃で3.36c.c.の新たに作つた臭化n−プ
ロピルマグネシウムのエーテル溶液(0.8M)を
ゆつくりと加えた。 −60℃で1時間後に過剰のマグネシウムを水で
分解した。テトラヒドロフランを蒸発させ、塩化
アンモニウム飽和溶液を加え、結果物をエーテル
で抽出し、乾燥した。エーテルを蒸発させた後、
得られた残留物を3.7c.c.の2Nメタノールカリ中で
1時間加熱還流した。結果物を酢酸で中和し、乾
燥するまで蒸発させ、水で溶解し、塩化メチレン
で抽出した。470mgの粗生成物を得、これをアセ
トン−ヘキサン混合物で再結晶した。100mgの純
生成物を得た。MP=131.5℃。旋光能〔α〕25 D=
−58°(c=1%、メタノール)。 分析:C17H26O2 計算:C %77.82 H %9.99 実測: 78.0 10.0 例 4 3aβ−エチル−6−プロピル−3β−ヒドロキシ
−1,2,3,3a,4,5,8,9,9a,9b
−デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7
−オン 500mgの1β−アセトキシ−4−(2′−カルボキシ
エチル)−5−ヒドロキシ−7a−エチル−3a,
4β,7,7a−テトラヒドロインダンのδ−ラク
トンから出発し、臭化n−ブチルマグネシウムを
用いて例3に示すように実施した。220mgの所期
の粗生成物を得、これをアセトンで再結晶した。
105mgの純生成物を得た。MP=127℃。旋光能
〔α〕25 D=−55°(c=1%、メタノール)。 分析:C18H28O2 計算:C %78.21 H %10.21 実測: 78.4 10.1 例 5 3aβ−エチル−6−メチル−3β−アセトキシ−
1,2,3,3a,4,5,8,9,9a,9b−
デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−
オン ピリジン中で3aβ−エチル−6−メチル−3β−
ヒドロキシ−1,2,3,3a,4,5,8,9,
9a,9b−デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデ
ン−7−オンに無水酢酸を作用させた。結果物を
含水メタノールで再結晶し、所期生成物を得た。
MP=99℃。 例 6 3aβ−エチル−6−メチル−3β−ヒドロキシ−
1,2,3,3a,8,9,9a,9b−オクタヒ
ドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−オン 工程A:3aβ−エチル−5−ブロム−6−メチル
−3β−アセトキシ−1,2,3,3a,4,5,
8,9,9a,9b−デカヒドロ−7−H−ベン
ゾ(e)インデン−7−オン 210mgの例5で製造した生成物、0.72c.c.の無水
酢酸及び10mgのp−トルエンスルホン酸の混合物
を16時間接触せしめた。0.3c.c.の酢酸と0.43c.c.の
水を加えた。2時間後にこの混合物を5℃に冷却
し、130mgのN−ブロムスクシンイミドを加え、
2時間かきまぜた。0.72c.c.の水を加え、結晶を
過した。190mgの所期生成物を得た。MP=120
℃。 工程B:3aβ−エチル−6−メチル−3β−ヒドロ
キシ−1,2,3,3a,8,9,9a,9b−オ
クタヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−
オン 190mgの上記工程で得た生成物、95mgの臭化リ
チウム及び47mgの炭酸リチウムの混合物を含有す
る4.5c.c.のジメチルホルムアミドを窒素気流下に
実質上乾燥するまで30分間蒸留した。結果物を冷
却し、5c.c.の水と0.1c.c.の酢酸を加え、混合物を
水に注ぎ、塩化メチレンで抽出した。けん化後、
128mgの所期生成物を得、これをシリカでクロマ
トグラフイーし(アセトン−ヘキサン混合物(15
−85)で溶出し)、アセトン−ヘキサン混合物で
再結晶した。MP=155℃。 旋光能〔α〕25 D=−207°(1%、クロロホルム)。 分析:C16H22O2・0.5C3H6O(アセトン) 計算:C %76.32 H %9.15 実測: 76.65 9.3 例 7 6−エチル−3aβ−メチル−7−オキソ−1,
2,3,3a,4,5,8,9,9a,9b−デカ
ヒドロ−1H−ベンゾ(e)インデン−3−イルブ
タノエート 0.75gの3aβ−メチル−6−エチル−3β−ヒド
ロキシ−1,2,3,3a,4,5,8,9,9a,
9b−デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−
7−オンを1.5c.c.の無水酪酸と1.05c.c.の乾燥トリ
エチルアミンに溶解した。30mgの4−ジメチルア
ミノピリジンを加えた。周囲温度で2時間かきま
ぜ続けた。この混合物を重炭酸ナトリウム飽和溶
液中に入れ、2時間かきまぜた。生成物を塩化メ
チレンで抽出した。結果物を水洗し、乾燥し、溶
媒を蒸発させた。0.96gの油状物を回収し、これ
をシリカでクロマトグラフイーした(ベンゼン−
酢酸エチル混合物(9−1)で溶離した)。所期
生成物を得た。 分析:C20H30O3 計算:C %75.43 H %9.49 実測: 75.6 9.50 NMRスペクトル:CDCl3、ppm 0.9ppm(t):CH3 −CH2基のメチルH 0.97ppm:3aのメチルのH 0.97ppm(t):CH3 −CH2基のメチルのH 4.68ppm(t):3位のプロトン(J=8Hz) 例 8 3aβ−メチル−6−プロピル−3β−アセトキシ
−1,2,3,3a,4,5,8,9,9a,9b
−デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7
−オン 1.35gの1β−アセトキシ−4−(2′−カルボキ
シエチル)−5−ヒドロキシ−7aβ−メチル−
3aα,4β,7,7a−テトラヒドロインダンのγ−
ラクトンを10c.c.のテトラヒドロフランに溶解し
た。9.6c.c.の新たに調製した臭化n−ブチルマグ
ネシウムのエーテル溶液(0.8M)を−60℃で30
分間にわたり加えた。−60℃で1時間後に過剰の
マグネシウム化合物を15c.c.の水で分解した。溶媒
を蒸発させ、塩化アンモニウム飽和溶液を加え、
次いでエーテルで抽出し、乾燥した。エーテルを
蒸発させた後、1.43gの所期生成物を得た。 例 9 3aβ,6−メチル−3β−アセトキシ−1,2,
3,3a,8,9,9a,9b−オクタヒドロ−7
−H−ベンゾ(e)インデン−7−オン 工程B:3aβ,6−ジメチル−5−ブロム−3β−
アセトキシ−1,2,3,3a,4,5,8,
9,9a,9b−デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)
インデン−7−オン 23.4gの3aβ,6−ジメチル−3β−ヒドロキシ
−1,2,3,3a,4,5,8,9,9a,9b−
デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−オ
ンを100c.c.の無水酢酸中で1gのp−トルエンス
ルホン酸とともにかきまぜた。次いでこれを約20
℃で16時間放置した。次いで40c.c.の酢酸と60c.c.の
水を加えた。2時間後に温度を+5℃に低下さ
せ、温度を15℃を越えないようにして17.8gのN
−ブロムスクシンイミドを導入した。半時間かき
まぜ続け、次いで100c.c.の水を加えた。結果物を
乾燥し、40%含水エタノールで洗い、次いでエタ
ノールで洗つた。40℃で乾燥し、26.3gの所期生
成物を得た。 塩化メチレンとイソプロピルエーテルとの混合
物中で再結晶を行なう。MP=140℃。〔α〕25 D=+
226°±3°(c=1%、クロロホルム)。 分析:C17H23O3Br 計算:C %57.47 H %6.52 実測: 57.8 6.7 工程B:3aβ,6−ジメチル−3β−アセトキシ−
1,2,3,3a,8,9,9a,9b−オクタヒ
ドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−オン 2gの臭化リチウム、1gの炭酸リチウム及び
90c.c.のジメチルホルムアミドを混合した。10c.c.を
乾燥蒸留し、4gの工程Aで得た生成物を加え
た。半時間の間に50c.c.を蒸留し、冷却後100c.c.の
水、次いで2c.c.の酢酸を加えた。結果物を水に注
ぎ、塩化メチレンで3回抽出し、水洗し、乾燥
し、蒸留乾固した。シリカでクロマトグラフイー
した(溶媒:塩化メチレン−5%イソプロピルエ
ーテル)。生成物を石油エーテルで再結晶し、
2.32gの所期生成物を得た。MP=75℃。 〔α〕25 D=−143°±1.5°(c=1%、クロロホル
ム)。 分析:C17H22O3 計算:C %74.42 H %8.08 実測: 74.5 8.2 例 10 3aβ,6−ジメチル−3β−ヒドロキシ−1,
2,3,3a,8,9,9a,9b−オクタヒドロ
−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−オン 15.2gの例11で製造した生成物に152c.c.のエタ
ノールと55c.c.の2Nか性ソーダ水溶液を加えた。
これを20℃で2時間放置し、次いで600c.c.の水を
ゆつくりと加え、結晶生成物を乾燥し、水洗し、
乾燥し、11.6gの生成物を得た。これを塩化メチ
レンに溶解し、活性炭で処理し、次いでイソプロ
ピルエーテルを加えてから約30℃で減圧下に濃縮
し、次いで乾燥し、イソプロピルエーテルで洗
い、乾燥し、11.3gの所期生成物を得た。MP=
156℃。 〔α〕25 D=−188°±2°(c=1%、クロロホルム
) 分析:C15H20O2 計算:C %77.55 H %8.68 実測: 77.5 8.7 例 11 3β−アセトキシ−6−エチル−3aβ−メチル−
1,2,3,3a,4,5,8,9,9a,9b−
デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−
オン 6gの3−ヒドロキシ−6−エチル−3a−メ
チル−1,2,3,3a,4,5,8,9,9a,
9b−デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−
7−オンを24c.c.のピリジンに溶解し、次いで12c.c.
の純無水酢酸を素早く加えた。この溶液を周囲温
度で15時間接触させた。その溶液を240c.c.の水に
あけ、生じた沈殿を過し、次いで水洗した。乾
燥した後、6.8gの結晶を得た。結晶をヘキサン
で再結晶した。6.5gの純生成物を得た。MP=90
℃。 分析:C18H28O3 計算:C %74.44 H %9.02 実測: 74.4 9.1 NMRスペクトル:(CDCl3)ppm 0.91(t):6位の末端メチルのH(J=8Hz) 0.97:3a位のメチルのH 2.06:CH 3CO 4.65(t):3α位のプロトン(J=8Hz) 例 12 3β−プロピオニルオキシ−6−エチル−3aβ−
メチル−1,2,3,3a,4,5,8,9,
9a,9b−デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)イン
デン−7−オン 操作は例11と同じであるが、1gの3−ヒドロ
キシ化合物と2c.c.の無水プロピオン酸とから出発
した。生成物をエーテルで抽出し、重炭酸ナトリ
ウム飽和水溶液で洗い、水洗し、次いで乾燥し、
ベンゼン−酢酸エチル混合物(9−1)を溶離剤
として用いてシリカでクロマトグラフイーした。
1.08gの所期生成物を得た。MP=50℃。 〔α〕D=−28°±2°(c=0.4%、エタノール) 分析:C19H28O3 計算:C %74.96 H %9.27 実測: 75.0 9.2 例 13 3β−バレリルオキシ−6−エチル−3aβ−メチ
ル−1,2,3,3a,4,5,8,9,9a,
9b−デカヒドロ−7H−ベンゾ(e)インデン−7
−オン 操作は例12と同じであつたが、0.5gの3−ヒ
ドロキシ化合物と1c.c.の無水吉草酸とから出発し
た。0.59gの所期生成物を得た。 〔α〕D=−18°±2°(c=0.5%、エタノール) 分析:C21H32O3 計算:C %75.86 H %9.70 実測: 76.0 9.9 例 14 3β−ヘキサノイルオキシ−6−エチル−3aβ−
メチル−1,2,3,3a,4,5,8,9,
9a,9b−デカヒドロ−7H−ベンゾ(e)インデン
−7−オン 操作は例12と同じであつたが、1gの3−ヒド
ロキシ化合物と2c.c.の無水カプロン酸から出発し
た。生成物を酢酸エチルで抽出した。0.7gの所
期生成物を得た。 〔α〕D=−15.5°(c=0.5%、エタノール) 分析:C22H34O3 計算:C %76.25 H %9.89 実測: 76.3 9.9 例 15 3β−(ピリジン−3−イル)カルボニルオキシ
−6−エチル−3aβ−メチル−1,2,3,
3a,4,5,8,9,9a,9b−デカヒドロ−
7H−ベンゾ(e)インデン−7−オン 15c.c.の無水ピリジンに不活性ガス下でかきまぜ
ながら1.95gのニコチン酸クロリド塩酸塩を加え
た。次いで2.48gの3−ヒドロキシ−6−エチル
−3aβ−メチル−1,2,3,3a,4,5,8,
9,9a,9b−デカヒドロ−7H−ベンゾ(e)インデ
ン−7−オンを加え、90〜95℃に2時間30分加熱
した。冷却後、結果物を氷と水の混合物に注ぎ、
沈殿を過し、水洗し、乾燥した。液を酢酸エ
チルで抽出した。有機相を水洗し、乾燥し、溶媒
を蒸発させ、その残留物を先に得た生成物に加え
た。クロロホルム−メタノール混合物(98−2)
を溶離剤として用いてシリカカラムでクロマトグ
ラフイーし、2.75gの所期生成物を得た。MP=
134℃。 〔α〕D=+46.5±2°(c=0.75%、エタノール) 分析:C22H27NO3 計算:C %74.75 H %7.70 N%3.96 実測: 74.9 7.8 3.9 例 16 下記の組成を有する皮膚に適用するための軟膏
を調製した。 例3の化合物…… 50mg 補助剤…… 1gとするに十分な量 (補助剤:鉱物油、プロピレングリコール、ペト
ロラクタム(石油から得た半固体炭化水素、
USP XXを参照)) 例 17 下記の組成を有するゲルを製造した。 例3の化合物…… 50mg 補助剤…… 1gとするに十分な量 (補助剤:アルコール、カルボポール、プロピレ
ングリコール、ジイソプロパノールアミン) 例 18 下記の組成を有するゼラチンカプセルを調製し
た。 例3の化合物…… 50mg 補助剤…… 400mgとするに十分な量 (補助剤:ステアリン酸マグネシウム、ラクトー
ス、でん粉) 本発明の化合物の薬理学的研究 下記の試験で、化合物Aと称する化合物は、ベ
ルギー特許第663197号に記載された3aβ,6−ジ
メチル−3β−ヒドロキシ−1,2,3,3a,4,
5,8,9,9a,9b−デカヒドロ−7−H−ベ
ンゾ(e)インデン−7−オンであり、 化合物Bは、仏国特許第1359675号に記載され
た3aβ−メチル−6−エチル−3β−ヒドロキシ−
1,2,3,3a,4,5,8,9,9a,9b−デ
カヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−オン
であり、 化合物Cは、J.Org.Chem.1969、34(1)、107−
12に記載された3aβ−エチル−6−メチル−3β−
ヒドロキシ−1,2,3,3a,4,5,8,9,
9a,9b−デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデ
ン−7−オンである。 化合物A、B及びCは、式()の化合物であ
る。 (1) アンドロゲン受容器との相互作用の測定 24時間前に去勢しておいた成長ラツト(200
g)の前立腺をT.S.緩衝液(Tris 10mM、サ
ツカロース0.25M、PH=7.4)中で(5mlの緩
衝液中1gの前立腺の割合で)0〜4℃でホモ
ジナイズした。このホモジネートを超遠心機で
105000Gで60分間遠心した。得られた上澄層を
シトゾルと呼ぶ。 125μのシトゾル試料を5nMの(3H)テス
トステロンの存在下にそして漸増濃度の放射能
のない被検化合物の不存在(Bo)又は存在下
(B)で0℃において30分間又は24時間インキユベ
ートした。インキユベートした後、そのインキ
ユベート物の100μをマイクロタイター板内
で100μの炭素−デキストラン懸濁液
(NoritA炭素:1.25%、デキストランT80:
0.625%)とともに0〜4℃で10分間かきまぜ、
次いで0〜4℃で800Gで10分間遠心した。 100μの表面層の試料中に含まれる放射能
を液体シンチレーシヨンにより測定した。B/
Bo比の値を放射能のない添加化合物の濃度の
関数として図示した。(3H)テストステロンの
固定を50%減少させるのに必要な被検化合物が
濃度(CI50)を図から求めた。 次の比: CI50テストステロン/CI50化合物×100 からアンドロゲン受容器に対する被検化合物の
相対的親和性の値が得られる。これまでの研究
により、インキユベーシヨン時間が増加すると
きに相対的親和性が減少するような化合物は潜
在的な抗ホルモン物質であることが示されてい
る(特に、TIPS、1980年8月号、p.324及び
Advances in pharm.and therap.Vol.1、
Receptors、p.259(1979)を参照)。 結 果 【表】 (2) ハムスターの肋椎器官に対するビボでの研究 (a) 7日前に去勢しておいた体重100〜110gの
雄のゴールデンハムスターにテストステロン
プロピオネートを5%のベンジルアルコール
を含むごま油溶液として1頭当り1日125μ
gの割合で皮下注射することにより与えた。
さらに、動物の一部は、エタノールに溶解し
た被検化合物による右側肋椎器官への局所適
用による処理を受けた。左側肋椎器官にはエ
タノールのみを与えた。処理は7日間続け
た。最後の処理から45分後に肋椎器官及び前
立腺を切除して秤量した。 下記の結果を得た(重量mgで表わす。)。 【表】 化合物Bは右側肋椎器官への局部適用により
この器官の重量増加を61%抑止した。他方、
化合物Bは、処理しなかつた器官に対しても
また前立腺に対してもテストステロンプロピ
オネートの効果に拮抗しなかつたが、これは
この化合物が全身的効果を有しないことを示
している。 (b) 例7及び11の化合物を5mg/日の薬量でも
つて抗アンドロゲン活性を試験するために上
記と同じ研究を雌のハムスターで行なつた。 下記の結果が得られた(重量mgで表わす)。 【表】 【表】 右側肋椎器官に局所適用された例7の化合物
は、この器官の重量増加を90%抑止した。例
13の化合物は95.6%抑止した。 (c) 例11〜15の化合物を1mg/日の薬量でもつ
て抗アンドロゲン活性を試験するために上記
と同じ研究を雌のハムスターで行なつた。 下記の結果が得られた(重量mgで表わす)。 【表】 (3) 急性毒性 体重18〜20gの5頭の雄のマウスに、カルボ
キシメチルセルローズ(0.25%)及びツイーン
(0.2%)の水溶液に溶解した化合物Bの薬量を
減少させて(1000−600−400mg/Kg)腹腔内又
は経口で投与した。処理の7日間死亡率を観察
した。死亡率がない最高薬量(MD)を決定し
た。 結 果 腹腔内:MD=400mg/Kg 経 口:MD=1000mg/Kg
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 次の一般式 (ここで、Rは1〜4個の炭素原子を有する線状
又は分岐状アルキル基を表わし、 R1はメチル又はエチル基を表わし、 R2は水素原子、ピリジニルカルボニル基又は
2〜18個の炭素原子を有するアシル基を表わし、 R3は水素原子を表わし、 R4は水素原子又は1〜4個の炭素原子を有す
るアルキル基をわし、 点線は4(5)及び5a(6)位炭素間に二重結合の存
在の可能性を表わすが、波線は置換基R4が二つ
の可能な位置α又はβのいずれかにあり得ること
を示す) の化合物の少なくとも1種を活性成分として含有
する男性ホルモン過多と関係した疾患の治療用薬
剤。 2 Rがメチル又はエチル基を表わし、R3及び
R4がそれぞれ水素原子を表わす特許請求の範囲
第1項記載の薬剤。 3 4(5)位の点線が二重結合の存在を示さない
が、5a(6)位の点線が二重結合の存在を示す特許
請求の範囲第1又は2項記載の薬剤。 4 R2が水素原子又はアセチル若しくはブチリ
ル基を表わす特許請求の範囲第1〜3項のいずれ
かに記載の薬剤。 5 活性成分が、3aβ−メチル−3β−ヒドロキシ
−6−エチル−1,2,3,3a,4,5,8,
9,9a,9b−デカヒドロ−7−H−ベンゾ(e)イ
ンデン−7−オン、 3aβ,6−ジエチル−3β−ヒドロキシ−1,
2,3,3a,4,5,8,9,9a,9b−デカヒ
ドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−オン、 3aβ−メチル−3β−アセトキシ−6−エチル−
1,2,3,3a,4,5,8,9,9a,9b−デ
カヒドロ−7−H−ベンゾ(e)インデン−7−オ
ン、及び 3β−(ピリジン−3−イル)カルボニルオキシ
−6−エチル−3aβ−メチル−1,2,3,3a,
4,5,8,9,9a,9b−デカヒドロ−7−H
−ベンゾ(e)インデン−7−H−ベンゾ(e)インデン
−7−オン から選ばれる特許請求の範囲第1項記載の薬剤。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8103520A FR2500441A1 (fr) | 1981-02-23 | 1981-02-23 | Nouveaux medicaments derives de la 3-hydroxy dodecahydro benz (e) inden-7-one, produits derives de la 3-hydroxy dodecahydro benz (e) inden-7-one et leur procede de preparation |
Related Child Applications (1)
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Family Applications (2)
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| JP2028621A Granted JPH02243646A (ja) | 1981-02-23 | 1990-02-09 | 3―ヒドロキシドデカヒドロベンゾ(e)インデン―7―オンから誘導される化合物及びこれらの製造法 |
Family Applications After (1)
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|---|---|---|---|
| JP2028621A Granted JPH02243646A (ja) | 1981-02-23 | 1990-02-09 | 3―ヒドロキシドデカヒドロベンゾ(e)インデン―7―オンから誘導される化合物及びこれらの製造法 |
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