JPH04209554A - 半導体記憶装置の行デコーダ回路 - Google Patents

半導体記憶装置の行デコーダ回路

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JPH04209554A
JPH04209554A JP2400849A JP40084990A JPH04209554A JP H04209554 A JPH04209554 A JP H04209554A JP 2400849 A JP2400849 A JP 2400849A JP 40084990 A JP40084990 A JP 40084990A JP H04209554 A JPH04209554 A JP H04209554A
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JP
Japan
Prior art keywords
potential
word line
switch means
row decoder
decoder circuit
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Pending
Application number
JP2400849A
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English (en)
Inventor
Tsukasa Hagura
司 羽倉
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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  • Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
[0001]
【産業上の利用分野】この発明は半導体装置に関し、特
に冗長メモリセルを有する半導体装置の行デコーダ回路
に関するものである。 [0002]
【従来の技術】従来、ダイナミック・ランダム・アクセ
スメモリ(以下DRAMという)では、記憶容量の増加
にともなう歩留りの低下を改善するため、冗長回路が設
けられているものが多い。冗長回路とは、不良のメモリ
セルが発見されたとき、予め用意されているスペアメモ
リセルを用いて不良のメモリセルを置換するための回路
をいう。冗長回路を使用するか否か、また使用するとし
たらどのように使用するかなどは、予めプログラムして
おく必要があり、一般にヒユーズの切断によりプログラ
ムが成されている。 [0003]図2は、従来のDRAMの構成を示すブロ
ック図である。図を参照して、このDRAMは、データ
信号をストアするためのメモリセルを備えたメモリセル
アレイ120と、メモリセルを選択するためのアドレス
信号を受けるアドレスバッファ112と、アドレス信号
をデコードする行デコーダ115および列デコーダ11
6と、メモリセル120に接続されメモリセルにストア
された信号を増幅して読出すセンスアンプ117と、デ
ータ信号を入出力するための入力バッファ113および
出力バッファ114とを含む。 [0004]冗長回路としてのこのDRAMには、メモ
ノセルアレイ120中に設けられたスペアメモリセル1
20Sと、行デコーダ115に設けられたスペア行デコ
ーダ115Sと、予めプログラムを行なうことによりス
ペア行デコーダ115Sを有効化するためのプログラム
回路110とが設けられている。プログラム回路110
の中にはプログラムのためのヒユーズが設けられており
、不良のメモリセルが発見されたとき、このヒユーズが
切断される。ヒユーズが切断されたとき、プログラム回
路110から有効化信号EFが出力され、スペア行デコ
ーダ115Sは信号EFに応答して有効化される。 [00051図3は従来の冗長メモリセルを有した半導
体記憶装置の行デコーダ回路の回路図の一部である。 [0’OO6]図において、ワード線11とビット線1
3の交叉部にメモリセルが設けられる。メモリセルはそ
のゲート電極がワード線に接続され、かつそのドレイン
がビット線13に接続されるn型電界効果トランジスタ
15と、トランジスタ15のソースに接続されるキャパ
シタ17とからなる。ワード線駆動信号RXが入力され
る端子T1と接地電位との間にn型電界効果トランジス
タ9および10が直列に接続される。n型電界効果トラ
ンジスタ9およびトランジスタ10との接続点のノード
Dにワード線11が接続される。トランジスタ10のゲ
ートと接地電位との間にn型電界効果トランジスタl、
2および3が接続され、各々のトランジスタのゲートに
は、行選択信号Xf、XjおよびXkが各々入力される
。ノードAとトランジスタ9のゲートには、インバータ
7とn型電界効果トランジスタ8とが直列に接続される
。トランジスタ8のゲートには電源電位Vccが印加さ
れている。トランジスタ8とインバータ7との間のノー
ドBはn型電界効果トランジスタ6のゲートに接続され
る。ノードAにはn型電界効果トランジスタ5および6
を介して電源電位Vccが印加されている。ノードAと
トランジスタ1との間にヒユーズ4が設けられ、トラン
ジスタ5のゲートとトランジスタ1のゲートとは直接接
続されている。 [00071次にこの回路の動作について説明する。ま
ず最初に冗長回路が用いられなかった場合、第1のモー
ドすなわちヒユーズ4がレーザトリミング(LT)にお
いて、切断されなかった場合について述べる。 (o o o 8]読出しサイクルの始めには、行選択
信号Xi、Xj、Xkは“t、TIレベルであるので、
ノードAの電位は“′H°゛レベルである。次に、行ア
ドレスがアドレスバッファ112に取込まれ、行選択信
号が発生される。行選択信号Xi、Xj、およびXkが
すべて“H“レベルになった場合に、ノードAが°゛L
゛L゛ルベルワード線11が選択される。この時点でイ
ンバータ7の働きでノードBの電位はVccとなる。ノ
ードCの電位は、Vcc−〜7th (〜・”thはト
ランジスタ8の闇値)である。ワード線駆動信号RXが
立上がると、トランジスタ9とのカップリング作用によ
って、ノードCの電位はVcc十〇まで上昇する。なお
一般にワード線駆動信号RXの電位は、電源電位よりブ
ーストされており、Vcc+Vtm (Vtmはメモリ
セルのトランスファゲート15の閾値である)となって
いる。したがって、α=Vtm十Vthである。 [0009]ノードBの電位はVccなので、トランジ
スタ8はOFFする。したがって、ノードCの電位はV
CC+αのままであり、ワード線11には信号RXの電
位がそのまま伝わり、その電位としてVcc+Vthm
以上の電位が印加される。なお、ワード線の電位をこの
ようにブーストするのは、メモリセルの保有電位を大き
くすることができるようにして読出しマージンを大きく
するためである。 [00L 01メモリセルのある行に欠陥が発見され、
レーザトリミングが行われたときの動作、すなわち第2
のモードについて説明する。図3においては、ヒユーズ
4がブローされた場合の動作が対応することになる。 [0011]この場合、読出しサイクルの始めには、通
常は行選択信号Xi、Xj、およびXkは“LITレベ
ルであるので、ノードへの電位は“HITレベルである
。次に行アドレスが取込まれ行選択信号がすべて°゛H
°°H°°レベル、ここでヒユーズ4が切断されている
ので、行選択信号xi、xj、およびXkの電位にかか
わらずノードAの電位は“Hパレベルのままとなる。し
たがって、ノードBおよびノードCは“ILI“レベル
となり、トランジスタ9はOFFするとともに、トラン
ジスタ10はONする。その結果、ワード線11は接地
レベルに常時保たれてワード線]1は選択されず、代わ
りにスペア行デコーダ115Sの働きでスペアセル12
0S内の所望のワード線が選択される。 [0012]
【発明が解決しようとする課題】上記のような従来の半
導体装置の行デコーダ回路は以上のように構成されてい
たので、以下のような問題点があった。ワード線11自
体に欠陥があったような場合には、問題がないが、行デ
コーダ回路内で欠陥があると不具合を生じるのである。 たとえばトランジスタ8を構成する拡散層とノードCを
含むアルミニウム配線とのコンタクト不良があった場合
を想定すれば、この場合にも、LT時にヒユーズ4をブ
ローし、この行デコーダをメモリセルエリアから切離し
、スペア行デコーダに置換する。このときノードCとノ
ードBとはトランジスタ8を介して接続されないのでノ
ードCを含む配線はフローティング状態となる。この状
態でワード線駆動信号RXが立上がるとトランジスタ9
とのカップリング作用でノードBの電位にかかわらずノ
ードCの電位が上昇し、トランジスタ9がONすること
になる。この場合、ヒュース4が切断されているので、
ノードAの電位は常時”圧ルベルであり、トランジスタ
10もONしている。したがって、ワード線駆動信号R
Xの印加端子T1と接地電位とがトランジスタ9および
10を介して導通する。すなわち信号RXの電位がリー
クしてしまい、冗長回路の設置ではその欠陥が救済され
ず、製品の歩留りが低下することになる。 [0013]この発明は上記のような課題を解決するた
めになされたもので、メモリセルの行欠陥がいずれの位
置にあっても製品の歩留りを向上させる半導体記憶装置
の行デコーダ回路を提供することを目的とする。 [0014]
【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体記
憶装置の行デコーダ回路は、メモリセルアレイと冗長メ
モリセルとを有し、冗長メモリセルを使用しない第1の
モードと、メモリセルアレイのメモリセルに接続する複
数のワード線のいずれかの使用を禁止して冗長メモリセ
ルを用いる第2のモードとを有する半導体装置の行デコ
ーダ回路であって、行デコーダ回路はワード線の各々ご
とに設けられ、各々の行デコーダ回路は、その一端には
ワード線駆動信号が与えられ、その他方端の電位は接地
電位であり、その一端と他方端との間の所定箇所に、対
応したワード線が接続されるワード線駆動線と、ワード
線駆動線の一端と所定箇所との間に設けられ、第1の所
定レベル以上の電位が付与されると導通する第1のスイ
ッチ手段と、ワード線駆動線の所定箇所に他方端との間
に設けられ、第2の所定レベル以上の電位が付与される
と導通する第2のスイッチ手段と、第1のモードにおい
て、対応するワード線が選択されたとき、第1のスイッ
チ手段に第1の所定のレベル以上の電位を付与し、かつ
第2のスイッチ手段には第2の所定レベル未満の電位を
付与し、対応するワード線が選択されていないとき、第
1のスイッチ手段に第1の所定レベル未満の電位を付与
し、かつ第2のスイッチ手段に第2の所定レベル以上の
電位を付与し、第2のモードにおいて、対応するワード
線の使用が禁止されたとき、第1のスイッチ手段に第1
の所定のレベル未満の電位を付与し、かつ第2のスイッ
チ手段に第2の所定レベル以上の電位を付与する電位付
与制御手段とを備えたものである。 [0015]
【作用】この発明においては、第2のモードにおいて、
あるワード線を使用が禁止されると、第1のスイッチ手
段に第1の所定レベル未満の電位が付与される。 [0016]
【実施例】図1はこの発明の一実施例による冗長回路を
有した半導体記憶装置の行デコーダ回路の一部を示す図
であって、従来例として示した図3に対応したものであ
る。 [0017]その回路構成は、従来例と共通の部分が多
いので、ここでは、特に従来例と相違している点につい
て主に説明し、他の部分の構成については説明を繰返さ
ない。 [0018]図3と異なる点として、ノードCと接地な
位との間にn型電界効果トランジスタ12が接続されて
いる。トランジスタ12のゲートは、ノードAに接続さ
れる。その他の回路構成については図3と同様である。 [0019]以下、この図を参照して、その動作につい
て説明するが、この説明においても先に述べたように、
トランジスタ8の拡散層とノードCを含むアルミニウム
配線とのコンタクト不良があった場合の動作について説
明する。 [00201この場合、不良の行デコーダ回路はレーザ
トリミング時において、ヒユーズ4がブローされて切断
され、スペアの行デコーダ回路115Sと置換されるの
は従来例と同様である。読出しサイクルの始めには行選
択信号Xi、XJ、およびXkは゛H°°レベルである
ので、ノードAの電位は“′H°゛レベルである。次に
行アドレスがアドレスバッファ112に取込まれ、行デ
コード信号Xi、Xj、およびXkがすべてII H1
1レベルとなり、さらにワード線駆動信号RXが立上が
る。このとき、ヒユーズ4が切断されているので、信号
Xi、Xj、およびXkの電位のレベルにかかわらず、
ノードAの電位は常に゛H゛ルベルに保持されている点
は従来例と同じである。ノードAはトランジスタ12の
ゲートに接続されているので、トランジスタ12はON
してノードCは゛Llルベルに保たれる。したがって、
トランジスタ9は常にOFFとなっているので、ワード
線駆動信号RXが印加された端子T1はトランジスタ9
および10を介して接地電位と導通することはない。結
果としてワード線駆動信号RXの電位のリークは行デコ
ーダ回路の欠陥の位置にかかわらず生じないことになる
。 [00211 【発明の効果]この発明は以上説明したとおり、第2の
モードにおいて、あるワード線の使用が禁止されると、
第1のスイッチ手段に第1の所定のレベル未満の電位が
付与されるので、第1のスイッチ手段がONすることな
く、ワード線駆動信号として付与された電位が接地電位
にリークすることがない。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例による半導体記憶装置の行
デコーダ回路の一部の回路図である。
【図2】一般の冗長回路を有する半導体記憶装置のブロ
ック図である。
【図3】従来の半導体記憶装置の行デコーダ回路の一部
の回路図である。
【符号の説明】
8 n型電界効果トランジスタ 9 n型電界効果トランジスタ 10  n型電界効果トランジスタ 11 ワード線 12  n型電界効果トランジスタ 13 ビット線 120 メモリセルアレイ 115 行デコーダ なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。
【図2】

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】メモリセルアレイと冗長メモリセルとを有
    し、前記冗長メモリセルを使用しない第1のモードと、
    前記メモリセルアレイのメモリセルに接続する複数のワ
    ード線のいずれかの使用を禁止して前記冗長メモリセル
    を用いる第2のモードとを有する半導体装置の行デコー
    ダ回路であって、前記行デコーダ回路は前記ワード線の
    各々ごとに設けられ、各々の行デコーダ回路は、その一
    端にはワード線駆動信号が与えられ、その他方端の電位
    は接地電位であり、前記一端と前記他方端との間の所定
    箇所に、対応したワード線が接続されるワード線駆動線
    と、前記ワード線駆動線の前記一端と前記所定箇所との
    間に設けられ、第1の所定レベル以上の電位が付与され
    ると導通する第1のスイッチ手段と、前記ワード線駆動
    線の前記所定箇所と前記他方端との間に設けられ、第2
    の所定レベル以上の電位が付与されると導通する第2の
    スイッチ手段と、前記第1のモードにおいて、対応する
    ワード線が選択されたとき、前記第1のスイッチ手段に
    前記第1の所定のレベル以上の電位を付与し、かつ前記
    第2のスイッチ手段には前記第2の所定レベル未満の電
    位を付与し、対応するワード線が選択されていないとき
    、前記第1のスイッチ手段に前記第1の所定レベル未満
    の電位を付与し、かつ前記第2のスイッチ手段に前記第
    2の所定レベル以上の電位を付与し、前記第2のモード
    において、対応するワード線の使用が禁止されたとき、
    前記第1のスイッチ手段に前記第1の所定のレベル未満
    の電位を付与し、かつ前記第2のスイッチ手段に前記第
    2の所定のレベル以上の電位を付与する電位付与制御手
    段とを備えた、半導体記憶装置の行デコーダ回路。
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