JPH04210209A - フッ化窒素の除害装置 - Google Patents
フッ化窒素の除害装置Info
- Publication number
- JPH04210209A JPH04210209A JP2410813A JP41081390A JPH04210209A JP H04210209 A JPH04210209 A JP H04210209A JP 2410813 A JP2410813 A JP 2410813A JP 41081390 A JP41081390 A JP 41081390A JP H04210209 A JPH04210209 A JP H04210209A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
［０００１１
【産業上の利用分野］本発明は、フッ化窒素の除害技術
に関する。 ［０００２］ 【従来技術】フッ化窒素（ＮＦ３）は、ＬＳＩのドライ
エツチング剤あるいはフッ化剤として注目されており、
特（こ、ドライエツチング剤としては、ＣＦ ４などの
パーフロロカーボン系のエツチング剤にくらベエッチン
グの際に生じるＬＳＩ基板の汚染が極めて少ないなどの
利点を有している。 ［０００３］一方、ＮＦ３は大気中で極めて安定であり
、水にも僅かしか溶解せずＴＬＶｌｏｐｐｍの毒性ガス
であり、これを使用する場合にはその残ガス等の排気の
際に除害が必要となる。 ［０００４］そこで従来、ＮＦ３の除害方法として、Ｎ
Ｆ３を含むガスをケイ素、ホウ素、タングステン、モリ
ブデン、バナジウム、セレン、テルル、ゲルマニウム及
びこれらの非酸化物の中から選ばれる少なくとも１種と
高温状態で反応させるようにしたものが提案されている
（特公昭６３−４８５７０号）。 ［０００５］
に関する。 ［０００２］ 【従来技術】フッ化窒素（ＮＦ３）は、ＬＳＩのドライ
エツチング剤あるいはフッ化剤として注目されており、
特（こ、ドライエツチング剤としては、ＣＦ ４などの
パーフロロカーボン系のエツチング剤にくらベエッチン
グの際に生じるＬＳＩ基板の汚染が極めて少ないなどの
利点を有している。 ［０００３］一方、ＮＦ３は大気中で極めて安定であり
、水にも僅かしか溶解せずＴＬＶｌｏｐｐｍの毒性ガス
であり、これを使用する場合にはその残ガス等の排気の
際に除害が必要となる。 ［０００４］そこで従来、ＮＦ３の除害方法として、Ｎ
Ｆ３を含むガスをケイ素、ホウ素、タングステン、モリ
ブデン、バナジウム、セレン、テルル、ゲルマニウム及
びこれらの非酸化物の中から選ばれる少なくとも１種と
高温状態で反応させるようにしたものが提案されている
（特公昭６３−４８５７０号）。 ［０００５］
【解決しようとする課題】ところが、前記従来のもので
は、ケイ素等の処理剤を２００〜８００℃に高温状態に
加熱してその活性を高めてＮ Ｆ ３と反応させている
が、処理剤を充填している充填槽に酸素が侵入すると、
処理剤が酸素と反応して処理剤の表面に酸化膜を形成し
、ＮＦ３との反応を規制することになり、処理剤の耐久
性を低下させるという問題があった。 ［０００６１本発明はこのような点に着目してなされた
もので、長期にわたって良好な除害能力を発揮すること
のできる除害装置を提供することを目的とする。 ［０００７］
は、ケイ素等の処理剤を２００〜８００℃に高温状態に
加熱してその活性を高めてＮ Ｆ ３と反応させている
が、処理剤を充填している充填槽に酸素が侵入すると、
処理剤が酸素と反応して処理剤の表面に酸化膜を形成し
、ＮＦ３との反応を規制することになり、処理剤の耐久
性を低下させるという問題があった。 ［０００６１本発明はこのような点に着目してなされた
もので、長期にわたって良好な除害能力を発揮すること
のできる除害装置を提供することを目的とする。 ［０００７］
【課題を解決するための手段】と述の目的を達成するた
めに本発明は、フッ化窒素をケイ素と反応させて除害す
るように形成したフッ化窒素の除害装置において、フッ
化窒素の流通路に装着コれているケイ素充填槽の前後に
粒状脱酸素剤を充填してなる酸素除去槽を配置したこと
を特徴としている。 ［０００８］
めに本発明は、フッ化窒素をケイ素と反応させて除害す
るように形成したフッ化窒素の除害装置において、フッ
化窒素の流通路に装着コれているケイ素充填槽の前後に
粒状脱酸素剤を充填してなる酸素除去槽を配置したこと
を特徴としている。 ［０００８］
【作用】本発明では、フッ化窒素の流通路に装着されて
いるケイ素充填槽の前後に粒状脱酸素剤を充填してなる
酸素除去槽を配置しているので、ケイ素充填槽（処理剤
槽）に侵入しようとする酸素は酸素除去槽て脱酸素剤で
除去されることになるから、酸素がケイ素充填槽に侵入
することがなくなり、ケイ素の表面での酸化膜の形成を
抑制することができることになる。 ［０００９］
いるケイ素充填槽の前後に粒状脱酸素剤を充填してなる
酸素除去槽を配置しているので、ケイ素充填槽（処理剤
槽）に侵入しようとする酸素は酸素除去槽て脱酸素剤で
除去されることになるから、酸素がケイ素充填槽に侵入
することがなくなり、ケイ素の表面での酸化膜の形成を
抑制することができることになる。 ［０００９］
【実施例】図面はＮ Ｆ ３の除害装置を示す概念図で
あり、ＮＦ Ｊの流通路（１）に粒状金属シリコン（２
）を充填してなる処理剤槽（３）を配置し、この処理剤
槽（３）へのＮＦ３ガス出入り目部分にそれぞれ酸素除
去槽（４）を配置し、処理剤槽（３）を外部ヒータ（５
）で昇温可能に構成しである。 ［００１０１酸素除去槽（４）内には、酸化マンガンを
活性炭や酸化鉄等の担体に担持させて構成した脱酸素剤
（６）が充填しである。 （００１１１（実験例） 直径１９．８ｍｍ、長さ０．５ｍのニッケル製金属パイ
プで処理剤充填槽（３）を形成し、この処理剤充填槽（
３）の前後に活性炭に酸化マンガンを担持させた脱酸素
剤（６）を充填してなる酸素除去槽（４）を配置し、処
理剤充填槽（３）に粒状金属シリコン（２）を０．２５
Ｋｇ充填し、この処理剤充填槽（３）を外部ヒータ（５
）で５００℃まで昇温させた後、１００％のＮＦ３を０
． ７リツトル／ｍｉｎで供給した。出口ガスの組成は
ＮＦ３が２ ｐｐｍで、残りはＮ２とＳｉＦ４であった
。 ［００１２］また、経過時間と排出されるＮＦ３濃度と
の関係は次表の通りであった。 ［００１３］
あり、ＮＦ Ｊの流通路（１）に粒状金属シリコン（２
）を充填してなる処理剤槽（３）を配置し、この処理剤
槽（３）へのＮＦ３ガス出入り目部分にそれぞれ酸素除
去槽（４）を配置し、処理剤槽（３）を外部ヒータ（５
）で昇温可能に構成しである。 ［００１０１酸素除去槽（４）内には、酸化マンガンを
活性炭や酸化鉄等の担体に担持させて構成した脱酸素剤
（６）が充填しである。 （００１１１（実験例） 直径１９．８ｍｍ、長さ０．５ｍのニッケル製金属パイ
プで処理剤充填槽（３）を形成し、この処理剤充填槽（
３）の前後に活性炭に酸化マンガンを担持させた脱酸素
剤（６）を充填してなる酸素除去槽（４）を配置し、処
理剤充填槽（３）に粒状金属シリコン（２）を０．２５
Ｋｇ充填し、この処理剤充填槽（３）を外部ヒータ（５
）で５００℃まで昇温させた後、１００％のＮＦ３を０
． ７リツトル／ｍｉｎで供給した。出口ガスの組成は
ＮＦ３が２ ｐｐｍで、残りはＮ２とＳｉＦ４であった
。 ［００１２］また、経過時間と排出されるＮＦ３濃度と
の関係は次表の通りであった。 ［００１３］
【表１】
（００１４］ （比較例）
前述の処理装置から酸素除去槽（４）を取り外した状態
、前記実施例と同様の条件で処理剤充填槽（３）にＮＦ
３を供給した。この場合の出口ガスの組成はＮＦ３が８
ｐｐｍ、で残りはＳｉＦ４であった。この場合の経過
時間と排出されるＮＦ３濃度との関係は表１の右欄に示
される通りであった。 ［００１５］
、前記実施例と同様の条件で処理剤充填槽（３）にＮＦ
３を供給した。この場合の出口ガスの組成はＮＦ３が８
ｐｐｍ、で残りはＳｉＦ４であった。この場合の経過
時間と排出されるＮＦ３濃度との関係は表１の右欄に示
される通りであった。 ［００１５］
【発明の効果】本発明では、フッ化窒素の排出路に装着
されているケイ素充填槽の前後に粒状脱酸素剤を充填し
てなる酸素除去槽を配置しているので、ケイ素充填槽（
処理剤槽）に侵入しようとする酸素は酸素除去槽で脱酸
素剤で除去されることになるから、酸素がケイ素充填槽
に浸入することがなくなり、ケイ素の表面での酸化膜の
形成を抑制することができ、処理剤の耐久性をたかめて
、高い処理能力を長期にわたって維持させることができ
る。
されているケイ素充填槽の前後に粒状脱酸素剤を充填し
てなる酸素除去槽を配置しているので、ケイ素充填槽（
処理剤槽）に侵入しようとする酸素は酸素除去槽で脱酸
素剤で除去されることになるから、酸素がケイ素充填槽
に浸入することがなくなり、ケイ素の表面での酸化膜の
形成を抑制することができ、処理剤の耐久性をたかめて
、高い処理能力を長期にわたって維持させることができ
る。
【図１１ＮＦ３の除害装置を示す概念図である。
【符号の説明】
１・・・Ｎ Ｆ １１の流通路、２・・・金属シリコン
、３・・・処理剤槽、４・・・酸素除去槽、５・・・外
部ヒータ、６・・・脱酸素剤。
、３・・・処理剤槽、４・・・酸素除去槽、５・・・外
部ヒータ、６・・・脱酸素剤。
Claims (1)
- 【請求項１】フッ化窒素をケイ素と反応させて除害する
ように形成したフッ化窒素の除害装置において、フッ化
窒素の流通路に装着されているケイ素充填槽の前後に粒
状脱酸素剤を充填してなる酸素除去槽を配置したことを
特徴とするフッ化窒素の除害装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2410813A JPH0714456B2 (ja) | 1990-12-14 | 1990-12-14 | フッ化窒素の除害装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2410813A JPH0714456B2 (ja) | 1990-12-14 | 1990-12-14 | フッ化窒素の除害装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04210209A true JPH04210209A (ja) | 1992-07-31 |
| JPH0714456B2 JPH0714456B2 (ja) | 1995-02-22 |
Family
ID=18519912
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2410813A Expired - Lifetime JPH0714456B2 (ja) | 1990-12-14 | 1990-12-14 | フッ化窒素の除害装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0714456B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010058063A (ja) * | 2008-09-04 | 2010-03-18 | Chubu Electric Power Co Inc | フッ化物ガスの分解処理方法、分解処理剤及び分解処理装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110203886B (zh) * | 2019-06-20 | 2020-10-23 | 中国科学院上海应用物理研究所 | 一种以三氟化氮为氟化剂的熔盐脱氧方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6348570A (ja) * | 1986-08-18 | 1988-03-01 | Canon Inc | カラ−トナ−画像用定着ロ−ラ− |
| JPS6348569A (ja) * | 1986-08-19 | 1988-03-01 | Fujitsu Ltd | 静電記録方法 |
-
1990
- 1990-12-14 JP JP2410813A patent/JPH0714456B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6348570A (ja) * | 1986-08-18 | 1988-03-01 | Canon Inc | カラ−トナ−画像用定着ロ−ラ− |
| JPS6348569A (ja) * | 1986-08-19 | 1988-03-01 | Fujitsu Ltd | 静電記録方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010058063A (ja) * | 2008-09-04 | 2010-03-18 | Chubu Electric Power Co Inc | フッ化物ガスの分解処理方法、分解処理剤及び分解処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0714456B2 (ja) | 1995-02-22 |
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