JPH04210271A - 回転塗布装置 - Google Patents
回転塗布装置Info
- Publication number
- JPH04210271A JPH04210271A JP2400992A JP40099290A JPH04210271A JP H04210271 A JPH04210271 A JP H04210271A JP 2400992 A JP2400992 A JP 2400992A JP 40099290 A JP40099290 A JP 40099290A JP H04210271 A JPH04210271 A JP H04210271A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating material
- coating
- coated
- cup
- solvent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
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Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
[0001]
【産業上の利用分野】本発明は半導体ウェハやマスク基
板等の平板上への薄膜形用成物質の回転塗布装置に関す
る。 (0002]近年、半導体装置、 LCD(液晶)表示
器、光学ディスク等のパターンの高密度化にともない、
より欠陥の少ない薄膜の形成が要求されている。本発明
はこの要求に対処した回転塗布装置として利用できる。 [0003]
板等の平板上への薄膜形用成物質の回転塗布装置に関す
る。 (0002]近年、半導体装置、 LCD(液晶)表示
器、光学ディスク等のパターンの高密度化にともない、
より欠陥の少ない薄膜の形成が要求されている。本発明
はこの要求に対処した回転塗布装置として利用できる。 [0003]
【従来の技術】図3は従来例による回転塗布装置の断面
図である。図において、1は被塗布物、2は被塗布物を
真空吸引等で保持して回転するスピンチャック、3は塗
布材料の飛散防止用のカップ、4は落下した余分の塗布
材料(塗布液)の排液トレインパイプ、5は塗布中に発
生したミストを排気する排気パイプである。 [0004]従来の回転塗布装置では、カップ3へ塗布
材料が飛散し、衝突する部分に傾斜をつけて塗布材料が
被塗布物表面に跳ね返らないようにして、塗布材料の飛
散による汚染を防止していた。しかし、使用回数を重ね
ていくうちに、カップ自体が固着した塗布材料で汚れて
くるため1発塵が増加していた。
図である。図において、1は被塗布物、2は被塗布物を
真空吸引等で保持して回転するスピンチャック、3は塗
布材料の飛散防止用のカップ、4は落下した余分の塗布
材料(塗布液)の排液トレインパイプ、5は塗布中に発
生したミストを排気する排気パイプである。 [0004]従来の回転塗布装置では、カップ3へ塗布
材料が飛散し、衝突する部分に傾斜をつけて塗布材料が
被塗布物表面に跳ね返らないようにして、塗布材料の飛
散による汚染を防止していた。しかし、使用回数を重ね
ていくうちに、カップ自体が固着した塗布材料で汚れて
くるため1発塵が増加していた。
【o OO5]
【発明が解決しようとする課題】従来例のように、カッ
プ形状を工夫して塗布材料の飛散による汚染を防止した
装置でも、長期間連続使用すると発塵により、被塗布物
を汚染するという欠点があった。 [00061本発明は被塗布物上の汚染を防止し、長期
間安定して塗布できる装置の提供を目的とする。 [00071
プ形状を工夫して塗布材料の飛散による汚染を防止した
装置でも、長期間連続使用すると発塵により、被塗布物
を汚染するという欠点があった。 [00061本発明は被塗布物上の汚染を防止し、長期
間安定して塗布できる装置の提供を目的とする。 [00071
【課題を解決するための手段]上記課題の解決は9回転
する被塗布物上に塗布材料を滴下して塗布する回転塗布
装置であって、該被塗布物の周囲に設けられた該塗布材
料の飛散防止用のカップと、該カップの内側面に敷きつ
めた多孔買物質と、該多孔質物質に該塗布材料の溶剤を
供給する手段とを有する回転塗布装置により達成される
。 [0008] 【作用】図1は本発明の原理説明図である。図において
、6は多孔質物質、7は塗布材料の溶剤供給パイプであ
る。 [0009]多孔質物質6は溶剤に侵されない物質から
なり、溶剤供給パイプ7から常時供給される溶剤により
湿潤しているようにする。本発明では9回転により飛散
される塗布材料は常に湿潤な多孔質物質に吸収され、跳
ね返ったりしてミスト化し、カップ内を汚すことはない
。 [0010]したがって、長期間連袂使用した場合でも
、カップ内が常に清浄に保たれているため、被塗布物も
塗布材料の跳ね返りにより汚染されることはない。 [00111
する被塗布物上に塗布材料を滴下して塗布する回転塗布
装置であって、該被塗布物の周囲に設けられた該塗布材
料の飛散防止用のカップと、該カップの内側面に敷きつ
めた多孔買物質と、該多孔質物質に該塗布材料の溶剤を
供給する手段とを有する回転塗布装置により達成される
。 [0008] 【作用】図1は本発明の原理説明図である。図において
、6は多孔質物質、7は塗布材料の溶剤供給パイプであ
る。 [0009]多孔質物質6は溶剤に侵されない物質から
なり、溶剤供給パイプ7から常時供給される溶剤により
湿潤しているようにする。本発明では9回転により飛散
される塗布材料は常に湿潤な多孔質物質に吸収され、跳
ね返ったりしてミスト化し、カップ内を汚すことはない
。 [0010]したがって、長期間連袂使用した場合でも
、カップ内が常に清浄に保たれているため、被塗布物も
塗布材料の跳ね返りにより汚染されることはない。 [00111
【実施例]図2は本発明の一実施例による回転塗布装置
の断面図である。この図は、従来例で説明した塗布材料
が衝突する部分に傾斜をつけて塗布材料が被塗布物表面
に跳ね返らないようにしたカップに本発明を適用した例
である。 【o 012)多孔質物質6は厚さ3flのテフロンか
らなる不織布で、カップ3の内側面に貼り付けられ、塗
布材料として9例えばフォトレジストを用いた場合、溶
剤供給パイプ7から溶剤として乳酸エチルを供給して、
絶えず多孔質物質6を湿潤させる。 [0013]また。塗布材料として1例えばスピンオン
グラス(SOG)を用いた場合、溶剤供給パイプ7から
溶剤としてエタノールを供給して、絶えず多孔質物質6
を湿潤させる。 [0014]このような装置を用いてフォトレジス■・
の塗布を長期間行い多数試料を観測した結果、塗布した
レジスト膜上には塗布材料の跳ね返りによる汚染は全く
認められなかった。 [0015] 【発明の効果】被塗布物上の汚染を防止し、長期間安定
して塗布できる装置が得られた。この結果、半導体装置
等の微細パターンの形成に貢献することができた。
の断面図である。この図は、従来例で説明した塗布材料
が衝突する部分に傾斜をつけて塗布材料が被塗布物表面
に跳ね返らないようにしたカップに本発明を適用した例
である。 【o 012)多孔質物質6は厚さ3flのテフロンか
らなる不織布で、カップ3の内側面に貼り付けられ、塗
布材料として9例えばフォトレジストを用いた場合、溶
剤供給パイプ7から溶剤として乳酸エチルを供給して、
絶えず多孔質物質6を湿潤させる。 [0013]また。塗布材料として1例えばスピンオン
グラス(SOG)を用いた場合、溶剤供給パイプ7から
溶剤としてエタノールを供給して、絶えず多孔質物質6
を湿潤させる。 [0014]このような装置を用いてフォトレジス■・
の塗布を長期間行い多数試料を観測した結果、塗布した
レジスト膜上には塗布材料の跳ね返りによる汚染は全く
認められなかった。 [0015] 【発明の効果】被塗布物上の汚染を防止し、長期間安定
して塗布できる装置が得られた。この結果、半導体装置
等の微細パターンの形成に貢献することができた。
【図1】 原理説明図
【図2】 一実施例による回転塗布装置の断面図
【図3
1 従来例による回転塗布装置の断面図【符号の説明】 1 被塗布物 2 スピンチャック 3 カップ 4 落下した余分の塗布液(塗布材料)の排液ドレイン
パイプ 5 塗布中に発生したミストを排気する排気バイブロ
多孔質物質 7 塗布材料の溶剤供給パイプ
1 従来例による回転塗布装置の断面図【符号の説明】 1 被塗布物 2 スピンチャック 3 カップ 4 落下した余分の塗布液(塗布材料)の排液ドレイン
パイプ 5 塗布中に発生したミストを排気する排気バイブロ
多孔質物質 7 塗布材料の溶剤供給パイプ
【図1】
Claims (1)
- 【請求項1】回転する被塗布物上に塗布材料を滴下して
塗布する回転塗布装置であって、該被塗布物の周囲に設
けられた該塗布材料の飛散防止用のカップと、該カップ
の内側面に敷きつめた多孔質物質と、該孔質物質物質に
該塗布材料の溶剤を供給する手段とを有することを特徴
とする回転塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2400992A JPH04210271A (ja) | 1990-12-10 | 1990-12-10 | 回転塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2400992A JPH04210271A (ja) | 1990-12-10 | 1990-12-10 | 回転塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04210271A true JPH04210271A (ja) | 1992-07-31 |
Family
ID=18510855
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2400992A Withdrawn JPH04210271A (ja) | 1990-12-10 | 1990-12-10 | 回転塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04210271A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009545444A (ja) * | 2006-08-28 | 2009-12-24 | トランジションズ オプティカル, インコーポレイテッド | 光学制御器を有するスピンコーター |
| JP2013140302A (ja) * | 2012-01-06 | 2013-07-18 | Hoya Corp | 眼鏡レンズ用塗布液塗布装置 |
-
1990
- 1990-12-10 JP JP2400992A patent/JPH04210271A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009545444A (ja) * | 2006-08-28 | 2009-12-24 | トランジションズ オプティカル, インコーポレイテッド | 光学制御器を有するスピンコーター |
| JP2014087792A (ja) * | 2006-08-28 | 2014-05-15 | Transitions Optical Inc | 光学制御器を有するスピンコーター |
| JP2013140302A (ja) * | 2012-01-06 | 2013-07-18 | Hoya Corp | 眼鏡レンズ用塗布液塗布装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980312 |