JPH0421170B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0421170B2 JPH0421170B2 JP56021589A JP2158981A JPH0421170B2 JP H0421170 B2 JPH0421170 B2 JP H0421170B2 JP 56021589 A JP56021589 A JP 56021589A JP 2158981 A JP2158981 A JP 2158981A JP H0421170 B2 JPH0421170 B2 JP H0421170B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transparent conductive
- conductive film
- pattern
- display
- liquid crystal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、液晶表示素子の液晶セル内側となる
ガラス基板面上に形成した絶縁性配向膜を、ラビ
ング法によつて処理する際に、この配向膜に静電
気が生じても、透明導電膜パターン間に沿面放電
が発生せず、従つて配向膜特性も損なわれないよ
うにした液晶表示素子の製造方法に関する。
ガラス基板面上に形成した絶縁性配向膜を、ラビ
ング法によつて処理する際に、この配向膜に静電
気が生じても、透明導電膜パターン間に沿面放電
が発生せず、従つて配向膜特性も損なわれないよ
うにした液晶表示素子の製造方法に関する。
液晶表示素子例えばTN形等では、周知の如
く、液晶セル内側に面するガラス基板面上に、ま
ずIn2O3、SnO2などを蒸着して形成した透明導電
膜よりなる表示用パターンの電極を設け、更にそ
の上に液晶分子（長手方向）配列方向を規定する
配向膜を設ける。この配向膜は絶縁性で、一般に
は一旦膜を形成させたのち、液晶分子配向方向と
すべき特定方向に羊毛布、化織布でラビング処理
することにより所望の配向特性をもつものとす
る。このラビングに際し絶縁性の配向膜には多量
の静電気が発生する。もしこの際この配向膜に接
する透明導電膜パターンが複数部分に分かれてお
り、かつ各部が相互に電気的に接続されておら
ず、いわゆるフローテイング状態にあれば、ラビ
ング処理の際の静電気の発生、それに伴う透明導
電膜帯電もラビング個所の移動につれて部分的に
進行するため、ラビング処理過程で、透明導電膜
よりなるパターンの互いに独立してフロートして
いる部分の間に高電位差が生じ、その間で沿面放
電が発生して配向膜の配向規定力が損なわれてし
まう。これに対して、表示用透明導電膜パターン
は表示を行うためには電圧を印加しなければなら
ないから、液晶セルとして完成後、外部から前記
各パターンに電圧を印加する際に用いるパターン
用端子が群セル周辺に絶縁性配向膜に被覆されず
に露出して配列されているので、これら端子群を
金属板等を圧着して短絡することにより透明導電
膜よりなる表示用パターン全体を等電位とするこ
とができて容易に沿面放電発生を防止できる。し
かし液晶表示素子基板面には、表示用パターンの
他に、上下ガラス基板の位置合わせ用パターンや
品名表示番号等、主として製造工程のみで必要な
パターンが透明導電膜で形成してある。透明導電
膜とは呼ぶが、屈折率等の差などで、液晶セルに
液晶を封入するまでは、透明導電膜パターンは容
易に肉眼で視認され、位置合わせ等にも十分役立
ち、しかも液晶封入後は通常状態ではほとんど見
えなくなるのである。上記主として製造工程のみ
に用いる透明導電膜パターンは従来は、端子引出
し線の設定が必ずしも容易でないこともあつて、
引出端子を設けず静電的フローテイング状態にな
つていた。このため、これら製造用透明導電膜パ
ターン同士あるいは表示用透明導電膜パターンと
の近接個所に沿面放電が生じ、そのための配向特
性損傷部が目立つて不良品となり、製造歩留低下
の原因となるという問題があつた。
く、液晶セル内側に面するガラス基板面上に、ま
ずIn2O3、SnO2などを蒸着して形成した透明導電
膜よりなる表示用パターンの電極を設け、更にそ
の上に液晶分子（長手方向）配列方向を規定する
配向膜を設ける。この配向膜は絶縁性で、一般に
は一旦膜を形成させたのち、液晶分子配向方向と
すべき特定方向に羊毛布、化織布でラビング処理
することにより所望の配向特性をもつものとす
る。このラビングに際し絶縁性の配向膜には多量
の静電気が発生する。もしこの際この配向膜に接
する透明導電膜パターンが複数部分に分かれてお
り、かつ各部が相互に電気的に接続されておら
ず、いわゆるフローテイング状態にあれば、ラビ
ング処理の際の静電気の発生、それに伴う透明導
電膜帯電もラビング個所の移動につれて部分的に
進行するため、ラビング処理過程で、透明導電膜
よりなるパターンの互いに独立してフロートして
いる部分の間に高電位差が生じ、その間で沿面放
電が発生して配向膜の配向規定力が損なわれてし
まう。これに対して、表示用透明導電膜パターン
は表示を行うためには電圧を印加しなければなら
ないから、液晶セルとして完成後、外部から前記
各パターンに電圧を印加する際に用いるパターン
用端子が群セル周辺に絶縁性配向膜に被覆されず
に露出して配列されているので、これら端子群を
金属板等を圧着して短絡することにより透明導電
膜よりなる表示用パターン全体を等電位とするこ
とができて容易に沿面放電発生を防止できる。し
かし液晶表示素子基板面には、表示用パターンの
他に、上下ガラス基板の位置合わせ用パターンや
品名表示番号等、主として製造工程のみで必要な
パターンが透明導電膜で形成してある。透明導電
膜とは呼ぶが、屈折率等の差などで、液晶セルに
液晶を封入するまでは、透明導電膜パターンは容
易に肉眼で視認され、位置合わせ等にも十分役立
ち、しかも液晶封入後は通常状態ではほとんど見
えなくなるのである。上記主として製造工程のみ
に用いる透明導電膜パターンは従来は、端子引出
し線の設定が必ずしも容易でないこともあつて、
引出端子を設けず静電的フローテイング状態にな
つていた。このため、これら製造用透明導電膜パ
ターン同士あるいは表示用透明導電膜パターンと
の近接個所に沿面放電が生じ、そのための配向特
性損傷部が目立つて不良品となり、製造歩留低下
の原因となるという問題があつた。
本発明の目的は、上記の様な問題のない液晶表
示素子の製造方法を提供することにある。
示素子の製造方法を提供することにある。
上記目的を達成するために本発明においては、
表示用パターンだけでなく製造工程専用パターン
を含めて、ガラス基板面に透明導電膜で形成した
全パターンを、これらパターンのほかガラス基板
の表示用部分全面を被覆する絶縁性配向膜の外周
に、この膜に被覆されずに露出して配列された端
子群のいずれかに接続し、これら端子同士を、例
えば金属板製のラビング領域を設定する枠を圧着
して、短絡することによつて、ガラス基板上かつ
絶縁性配向膜の下に形成した透明導電膜製パター
ンの全部分が短絡され同電位になるようにして接
地することとした。この様にすることによりパタ
ーンの短絡はラビング処理工程に本来必須なラビ
ング領域を設定するための導電性マスクで自動的
に行われるので、ガラス基板の利用率低下も工程
数の増加も伴うことなしにラビング法による配向
処理作業中の沿面放電発生が防止され、製造歩留
が向上した。
表示用パターンだけでなく製造工程専用パターン
を含めて、ガラス基板面に透明導電膜で形成した
全パターンを、これらパターンのほかガラス基板
の表示用部分全面を被覆する絶縁性配向膜の外周
に、この膜に被覆されずに露出して配列された端
子群のいずれかに接続し、これら端子同士を、例
えば金属板製のラビング領域を設定する枠を圧着
して、短絡することによつて、ガラス基板上かつ
絶縁性配向膜の下に形成した透明導電膜製パター
ンの全部分が短絡され同電位になるようにして接
地することとした。この様にすることによりパタ
ーンの短絡はラビング処理工程に本来必須なラビ
ング領域を設定するための導電性マスクで自動的
に行われるので、ガラス基板の利用率低下も工程
数の増加も伴うことなしにラビング法による配向
処理作業中の沿面放電発生が防止され、製造歩留
が向上した。
第１図は本発明一実施例の平面図で、図中、１
はガラス基板、２は透明導電膜製表示用パターン
（電極）の端子、２ａは本発明に係る表示用以外
の透明導電膜製パターンの端子、３は配向膜、４
は金属マスク、５は製造工程専用パターン、６は
本発明に係る表示用以外の透明導電膜パターンを
外周に特設した端子２ａへ引出す引出線である。
なお図中ではよくわかるように黒く塗りつぶして
あるが、実際には各パターンは勿論透明である。
なおガラス基板外周を配向膜に被覆されず露出し
たままに残すのは、配向膜を印刷手法によつて所
要（すなわち表示部分として使用者が見る）部分
のみに塗布すればよい。
はガラス基板、２は透明導電膜製表示用パターン
（電極）の端子、２ａは本発明に係る表示用以外
の透明導電膜製パターンの端子、３は配向膜、４
は金属マスク、５は製造工程専用パターン、６は
本発明に係る表示用以外の透明導電膜パターンを
外周に特設した端子２ａへ引出す引出線である。
なお図中ではよくわかるように黒く塗りつぶして
あるが、実際には各パターンは勿論透明である。
なおガラス基板外周を配向膜に被覆されず露出し
たままに残すのは、配向膜を印刷手法によつて所
要（すなわち表示部分として使用者が見る）部分
のみに塗布すればよい。
以上説明したように本発明によれば、ラビング
法による配向処理工程における沿面放電発生が極
めて簡単に防止され、製造歩留が向上する。
法による配向処理工程における沿面放電発生が極
めて簡単に防止され、製造歩留が向上する。
第１図は本発明一実施例の平面図である。
１……ガラス基板、２……表示用パターンの端
子、２ａ……表示用以外の透明導電膜製パターン
の端子、３……配向膜、４……金属マスク、５…
…製造工程専用パターン、６……表示用以外の透
明導電膜パターンを外周に特設した端子２ａへ引
出す引出線。
子、２ａ……表示用以外の透明導電膜製パターン
の端子、３……配向膜、４……金属マスク、５…
…製造工程専用パターン、６……表示用以外の透
明導電膜パターンを外周に特設した端子２ａへ引
出す引出線。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ラビング法によつて配向処理する絶縁性配向
膜を有する液晶表示素子の製造方法において、ガ
ラス基板面に透明導電膜で形成された表示パター
ンに電気的に接続される表示パターン用端子およ
び透明導電膜で形成された製造工程専用パターン
に電気的に接続される製造工程専用パターン端子
の双方を前記ガラス基板周辺部に設け、 前記表示パターン用端子および前記製造工程専
用パターン端子を、ラビング領域を設定する導電
性マスクで短絡した状態でラビング処理すること
を特徴とする液晶表示素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2158981A JPS57136676A (en) | 1981-02-18 | 1981-02-18 | Liquid crystal display element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2158981A JPS57136676A (en) | 1981-02-18 | 1981-02-18 | Liquid crystal display element |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57136676A JPS57136676A (en) | 1982-08-23 |
| JPH0421170B2 true JPH0421170B2 (ja) | 1992-04-08 |
Family
ID=12059222
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2158981A Granted JPS57136676A (en) | 1981-02-18 | 1981-02-18 | Liquid crystal display element |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57136676A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0629920B2 (ja) * | 1982-11-04 | 1994-04-20 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶電気光学装置の製造方法 |
| JPH0644113B2 (ja) * | 1984-08-31 | 1994-06-08 | 日本電気株式会社 | アクテイブマトリクス液晶表示パネルの製造方法 |
| JPS62265689A (ja) * | 1986-05-13 | 1987-11-18 | 松下電器産業株式会社 | アクテイブマトリツクス駆動形装置の製造方法 |
| JPH02150823A (ja) * | 1988-12-02 | 1990-06-11 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置 |
| JP2734183B2 (ja) * | 1990-07-19 | 1998-03-30 | 日本電気株式会社 | 液晶表示素子 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54141155A (en) * | 1978-04-25 | 1979-11-02 | Sharp Corp | Production of liquid crystal cell |
-
1981
- 1981-02-18 JP JP2158981A patent/JPS57136676A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57136676A (en) | 1982-08-23 |
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