JPH04212717A - 真空蒸着方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は真空蒸着方法および装置
に関し、特に連続して移送される可撓性帯状支持体上に
金属薄膜を真空蒸着法にて形成するための真空蒸着方法
及び装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、高分子成形物等の基材上に単金属
、合金等の金属薄膜を形成し、磁気記録媒体、薄膜集積
回路、エネルギー変換装置等を作成する各種の薄膜形成
方法が知られているが、連続して移送される可撓性帯状
支持体（以下、ウエブと言う）上に金属薄膜を生産性良
く形成する形成方法としては、真空蒸着方法が有効であ
る。例えば、従来の磁気記録媒体の製造方法としては、
非磁性支持体上に粉末磁性材料を有機バインダー等と共
に塗布、乾燥せしめて磁性層を形成する塗布型製造方法
が広く使用されてきた。

【０００３】しかしながら、近年に至り、磁気記録媒体
の記憶容量を高めることが強く要望されており、磁気記
録媒体の磁気エネルギーを高め、磁性層を薄層化するこ
とが必要となってきている。そこで、上記の如き粉末磁
性材料を有機バインダー中に分散せしめた磁性塗布液を
非磁性支持体上に塗布、乾燥させる塗布型の磁気記録媒
体に対して、抗磁力Ｈｃ　や残留磁束密度Ｂｒ　が大き
く磁性層の厚みを極めて薄くすることができる、非磁性
支持体上に強磁性金属材料からなる金属薄膜を直接被着
形成した強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体が使用され始
めている。

【０００４】そして、この様な強磁性金属薄膜型の磁気
記録媒体を製造する方法としては、電解メッキや無電解
メッキ等の湿式方法、更に真空蒸着法、スパッタリング
法、イオンプレーテング法、ＣＶＤ法等の乾式方法など
があるが、連続して移送されるウエブ上に磁性層を形成
する方法としては、成膜速度や生産性の点から真空蒸着
法が最も適している。

【０００５】図４に従来の真空蒸着装置２０の概略を示
す。真空容器３２の内部は排気装置３３によって１０−
４Ｔｏｏｒ〜１０−６Ｔｏｒｒの範囲内の圧力に必要に
応じて保持されており、円筒状の冷却キャン２４の周側
面に沿って、送り出しロール２２から送り出され巻取り
ロール２３に巻き取られるポリエチレンテレフタレート
等の高分子材料から成るウエブ３０が、前記冷却キャン
２４の回転と同期して矢印Ａ方向へ移動搬送されるよう
に構成されている。

【０００６】前記冷却キャン２４の下方には蒸発源２１
が配設されており、るつぼ２７内の蒸着材料２８を電子
ビーム３１で加熱、溶融して蒸発蒸気流２９を発生させ
ている。そして、この蒸発蒸気流２９は前記ウエブ３０
に差し向けられ該ウエブ３０上に薄膜を形成する。前記
電子ビーム３１は、所定幅を有する前記ウエブ３０上に
連続的に蒸着を行うため、通常、図５に示すようにウエ
ブ幅方向に走査しながら前記蒸着材料２８を加熱してい
る。そこで、前記るつぼ２７は少なくともウエブ幅方向
に平行な容器幅を有している。

【０００７】ところで、前記蒸発源２１は、一般に前記
冷却キャン２４の中心軸２６と一致しない位置に配設し
て、成膜結晶構造が前記ウエブ３０上に斜めに形成でき
るようにしている。更に、この様な真空蒸着装置２０に
よって強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体を製造しようと
する場合には、強磁性金属材料を加熱、溶融して得られ
た前記蒸発蒸気流２９の一部成分をマスク２５で遮断す
ることにより、前記ウエブ３０上に成膜される磁性層の
抗磁力Ｈｃや角型比ＳＱといった磁気特性が向上するこ
とが知られている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
如き蒸発源によって得られる蒸着材料の蒸発蒸気流は、
溶融した蒸着材料の液面の法線である鉛直方向に最も密
度が高くｃｏｓｎ　αで表される密度分布を有している
ので、所定の入射角度で前記蒸発蒸気流をウエブ３０上
に差し向けようとすると、前記蒸発源が前記冷却キャン
２４の中心軸２６と一致しない位置に配設される従来の
蒸着装置では、前記蒸発蒸気流の指向性の中心軸（蒸発
蒸気流の単位立体角当たりの蒸気流密度が最大である方
向）が前記ウエブ３０上から外れてしまい、前記蒸発蒸
気流のごく一部がウエブ上に蒸着されるにすぎず、更に
その一部成分をマスクで遮断されてしまう。

【０００９】このため、上記の如き連続して移送される
ウエブ上に蒸着材料を蒸着する従来の真空蒸着方法では
、ウエブ上に蒸着される蒸着材料の蒸着効率が著しく低
いという問題を有しており、いくつかの解決策が提案さ
れているが、大幅な蒸着効率向上は望めなかった。従っ
て、例えばＣｏ、Ｃｏ合金等の比較的高価な非鉄金属を
蒸着材料として使用する場合の材料費のコストダウンや
生産速度の向上を図ることに支障を来たし、生産性が良
くないという問題があった。

【００１０】一方、二層の磁性層やその他の蒸着膜層を
一つの蒸着工程により形成しようとすると、従来におい
ては冷却キャンを複数設置する必要があった。この理由
は、上述のように一つのキャンを用いて所定の入射角度
で前記蒸発蒸気流をウエブ３０上に差し向けようとする
場合において、その条件にあった位置はそれほど広範囲
になく、この範囲に複数のるつぼを設置して良好な２層
以上の蒸着を達成することはきわめて困難であり、冷却
キャンを複数設けるざるを得なかった。したがって、２
層以上の蒸着を行うには比較的大きなスペースを必要と
していた。

【００１１】そこで、本発明の目的は上記課題を解決す
ることにあり、蒸着材料の蒸着効率を大幅に向上させる
ことが可能で生産性がよく、かつ２層以上の蒸着を行う
場合でも装置の大型化を回避でき、装置の小型化をも可
能にする真空蒸着方法及び装置を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明に係る上記目的は
、予め溶融した蒸着材料から成る溶湯を下方へ連続的に
流すと共に、流動中の該溶湯の所定位置に電子ビームを
照射し、該流動溶湯表面の法線方向に蒸発させた蒸発蒸
気流によって、連続して移送される可撓性帯状支持体上
に前記蒸着材料を蒸着することを特徴とする真空蒸着方
法により達成される。

【００１３】又、他の手段によれば、本発明に係る上記
目的は、蒸着材料を溶融する加熱手段を備えて下方へ連
続的に溶湯を流出する第一のるつぼと、該第一のるつぼ
から流出した溶湯を所定の傾斜角度を以て一定方向に流
動させるガイド部材と、該ガイド部材に沿って流れ落ち
る溶湯を受容する第二のるつぼと、電子ビーム発生手段
とから成る蒸発源を有する真空蒸着装置であって、前記
ガイド部材に沿って流れる溶湯の所定位置に電子ビーム
を照射し、該流動溶湯表面の法線方向に蒸発させた蒸発
蒸気流によって、連続して移送される可撓性帯状支持体
上に前記蒸着材料を蒸着することを特徴とする真空蒸着
装置により達成される。

【００１４】また、本発明に係る上記目的は、予め溶融
した蒸着材料から成る溶湯を斜め下方へ連続的に流した
溶湯表面に電子ビームを照射して、該溶湯表面の法線方
向に発生させた蒸発蒸気流と、水平の溶湯表面に電子ビ
ームを照射してほぼ鉛直方向に発生させた蒸発蒸気流と
を、連続して移送される可撓性帯状支持体上の別々の箇
所に同時に照射することにより、複数の蒸着層を一度に
形成することを特徴とする真空蒸着方法によっても達成
される。

【００１５】さらに、本発明に係る上記目的は、蒸着材
料を溶融する加熱手段を備えて下方へ連続的に溶湯を流
出する第一のるつぼと、該第一のるつぼから流出した溶
湯を冷却キャン上で連続移送される可撓性帯状支持体に
対面するように傾斜したガイド部材と、水平な溶湯を前
記可撓性帯状支持体に対面させることの出来る他のるつ
ぼと、複数の電子ビーム発生手段とを備えており、前記
ガイド部材上の傾斜した溶湯表面から発生させた蒸発蒸
気流と、前記他のるつぼの溶湯表面から発生させた蒸発
蒸気流とを、前記可撓性帯状支持体上の別々の箇所に同
時に照射して、複数の蒸着層を一度に形成するように構
成したことを特徴とする真空蒸着装置によるり達成する
ことができる。

【００１６】

【実施態様】以下、添付図面に基づいて本発明の実施態
様を詳細に説明する。図１は本発明を実施するための一
実施態様に基づく真空蒸着装置の要部拡大断面図である
。

【００１７】真空容器内において、ウエブ３０が円筒状
の冷却キャン２４の周側面に沿って走行案内されており
、該冷却キャン２４の下方に本発明に基づく蒸着源１が
配設されている。前記蒸着源１は、例えばＦｅ，Ｃｏ，
Ｎｉ等の強磁性金属から成る蒸着材料を溶融する予備加
熱手段を備えた第一のるつぼ２と、該第一のるつぼ２か
ら連続して流出する蒸着材料の溶湯８を所定の傾斜角度
を以て一定方向に流動させるガイド部材４と、該ガイド
部材４に沿って流れ落ちる溶湯８を受容する第二のるつ
ぼ５と、図示しない電子ビーム発生手段とから構成され
ている。

【００１８】前記第一のるつぼ２は、容器幅方向に延び
る回転軸線を中心に揺動可能に構成されている耐熱容器
である。そこで、前記第一のるつぼ２の近傍に設けられ
た電子源フィラメント３から照射された電子ビーム６に
よって加熱、溶融された蒸着材料の溶湯８は、該第一の
るつぼ２を適宜揺動させて傾けることによって、下方に
揺動される前記第一のるつぼ２の容器上縁部に容器幅方
向に沿って設けられている切り欠き部よりほぼ容器幅全
体に亘って均一に連続して流出される。尚、前記電子ビ
ーム６は、前記溶湯８を予備加熱して流動可能に溶融す
るだけであり、該溶湯８を蒸発させ膜形成に寄与するほ
どの蒸気流は実質的に生じさせない程度のビーム強度に
とどめるものである。

【００１９】前記ガイド部材４は、少なくともその法線
が前記ウエブ３０の幅方向と直交し、前記冷却キャン２
４の周側面に対向する傾斜底面を有する幅広溝を有して
おり、前記第一のるつぼ２から流出した溶湯８を所定の
傾斜角度を以て流動させる。また、該ガイド部材４は、
その傾斜角度を任意に変更可能に構成されている。前記
第二のるつぼ５は、前記ガイド部材４の下端部から帯状
に連続して流れ落ちる前記溶湯８を受容する耐熱容器で
あり、前記溶湯８の流動幅に対して十分な容器幅を有し
ている。

【００２０】また、前記第一のるつぼ２、ガイド部材４
及び第二のるつぼ５は、それぞれＭｇＯ，Ａｌ２　Ｏ　
３，ＣａＯ，ＺｒＯ　等を含んだ耐火物から出来ている
。そこで、上記の如き蒸発源１により前記ウエブ３０上
に所望の金属薄膜を形成する際には、前記ガイド部材４
の幅広溝内を帯状に連続して流動している前記溶湯８の
所定位置に電子ビーム７を溝幅方向に走査しながら照射
する。ここで、該電子ビーム７は１０ｋＶ以上の加速電
圧を有することが望ましい。すると、前記電子ビーム７
を照射された前記溶湯８の表面から蒸発蒸気流９が発生
し、該ガイド部材４の対向位置に走行案内されているウ
エブ３０上に金属薄膜を形成する。

【００２１】この時、前記蒸発蒸気流９は、前記溶湯８
の液表面の法線方向に最も密度が高い密度分布を有する
ように蒸発するので、所定の傾斜角度を以て流動させら
れている前記溶湯８の表面から蒸発する前記蒸発蒸気流
９の指向性の中心軸は、前記ガイド部材４の傾斜角度と
同じ角度だけ鉛直方向から傾くことになる。即ち、前記
ガイド部材４の傾斜角度を適宜変更することにより、前
記蒸発蒸気流９の指向性の中心軸を任意に傾けることが
できる。

【００２２】従って、前記蒸発蒸気流９の指向性の中心
軸を前記ウエブ３０に対して所望の入射角度に差し向け
ることができ、ウエブ３０に対して所定の入射角度を有
する前記蒸発蒸気流９の成膜に与かる部分を拡大するこ
とができるので、前記ウエブ３０上に蒸着される蒸着材
料の蒸着効率を高めることができる。また、前記蒸発蒸
気流９の指向性の中心軸を任意に傾けることができるの
で、特に強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体を製造しよう
とする場合には、成膜される磁性層の抗磁力Ｈｃや角型
比ＳＱといった磁気特性が最適となる様に、前記ウエブ
３０への蒸発蒸気流の入射角を任意に設定することが容
易となり、磁気特性の良好な磁気記録媒体を得ることが
できる。

【００２３】図２は、本発明を実施するための他の実施
態様に基づく蒸発源を有する真空蒸着装置の要部拡大断
面図である。蒸発源１４は、予備加熱手段を備えた第一
のるつぼ１５と、該第一のるつぼ１５から連続して流出
する蒸着材料の溶湯８を所定の傾斜角度を以て一定方向
に流動させるガイド部材１６と、該ガイド部材１６に沿
って流れ落ちる溶湯８を受容する第二のるつぼ１７と、
図示しない電子ビーム発生手段とから構成されている。 前記第一のるつぼ１５は、少なくとも前記ウエブ３０の
幅方向に平行で前記ウエブ３０の幅にほぼ等しい容器幅
を有する耐熱容器である。そして、その前記ウエブ３０
に対峙する側の側壁には、容器幅方向に沿ってスリット
開口１９が設けられている。

【００２４】そこで、前記第一のるつぼ１５の近傍に設
けられた電子源フィラメント３から照射された電子ビー
ム６によって加熱、溶融された蒸着材料の溶湯８は、前
記スリット開口１９よりほぼ容器幅全体に亘って均一に
連続して流出され、該スリット開口１９に連続して配設
されたガイド部材１６の幅広溝に沿って流れ落ちる。該
ガイド部材１６の幅広溝は、少なくともその法線が前記
ウエブ３０の幅方向と直交し、前記冷却キャン２４の周
側面に対向する傾斜底面を有しており、前記スリット開
口１９から流出した溶湯８を所定の傾斜角度を以て流動
させる。また、前記ガイド部材１６の幅広溝は、前記第
一のるつぼ１５の容器幅及び前記ウエブ３０の幅とほぼ
等しい溝幅を有しており、該幅広溝内を流動する前記溶
湯８は、前記ウエブ３０の幅とほぼ等しい幅を有する帯
状に連続して流れ落ち、第二のるつぼ１７に受容される
。又、該ガイド部材１６の傾斜角度は、任意に変更可能
に構成されている。

【００２５】そこで、本実施態様の蒸発源１４によれば
、前記実施態様に示した第一のるつぼ２の様に容器を適
宜揺動させなくとも、前記溶湯８を一定量ずつ流動させ
ることができる。また、前記蒸発源１と同様に、前記ガ
イド部材１６の傾斜角度を適宜設定することにより、該
ガイド部材１６の幅広溝内を帯状に連続して流動してい
る前記溶湯８の所定位置に電子ビーム７を溝幅方向に走
査しながら照射して蒸発させる前記蒸発蒸気流９の指向
性の中心軸を任意に傾けることができる。

【００２６】従って、前記ウエブ３０上に蒸着される蒸
着材料の蒸着効率を高めることができ、特に強磁性金属
薄膜型の磁気記録媒体を製造しようとする場合には、磁
気特性の良好な磁気記録媒体を得ることができる。

【００２７】更に、本発明の真空蒸着方法によれば、前
記蒸発蒸気流９の指向性の中心軸を水平方向に向けるこ
とも可能である。蒸着装置の構造、例えば、冷却キャン
やウエブの搬送系等の配置関係、更には他の設備との兼
ね合いにより、るつぼの位置がほぼ上下に並べなければ
ならないような場合も生じる。このような場合、図３に
示す蒸発源１０の様に、少なくとも前記ウエブ３０の幅
方向に平行で前記ウエブ３０の幅にほぼ等しい容器幅を
有すると共に、該容器幅方向に延びる回転軸線を中心に
揺動可能に構成されている耐熱容器である第一のるつぼ
１１を適宜揺動させて傾ける。そして、該第一のるつぼ
１１の近傍に設けられた電子源フィラメント３から照射
された電子ビーム６によって加熱、溶融された蒸着材料
の溶湯８を、下方に揺動される前記第一のるつぼ１１の
容器上縁部に容器幅方向に沿って設けられている切り欠
き部よりほぼ容器幅全体に亘って均一に連続して自然落
下させ、第二のるつぼ１２に受容する。そこで、帯状に
落下している前記溶湯８の所定位置に電子ビーム７を水
平方向に走査しながら照射すれば、指向性の中心軸が水
平方向に向いた蒸発蒸気流９を得ることができる。

【００２８】前記実施態様においては蒸発源が一つの場
合について述べたが、本発明はこのような形態に限定さ
れるものではなく、例えば図６および図７に示すように
することもできる。なお、図６および図７における図中
の符号については、同じ構成要素については同符合を付
して説明を適宜省略する。

【００２９】図６に示した装置は、下層である第１蒸着
層４０を形成する蒸発源は図２に示した蒸発源と同じ構
造である。すなわち、予め溶融した蒸着材料から成る溶
湯８を斜め下方へ連続的に流した溶湯表面に、図中の左
斜め上方から電子ビーム７を照射して、該溶湯表面の法
線方向に発生させた蒸発蒸気流９により前記第１蒸着層
４０を形成する。また、第二のるつぼ１７とほぼ並んだ
位置に設置した第三のるつぼ２７により、上層である第
２蒸着層５０を形成する。すなわち、前記第三のるつぼ
２７内における蒸着材料２８の水平の溶湯表面に電子ビ
ーム３１を照射してほぼ鉛直方向に発生させた蒸発蒸気
流２９により、前記第２蒸着層５０を形成する。なお、
前記蒸発蒸気流９と前記蒸発蒸気流２９とを隔てるため
に、中央のマスク２５が適宜設けられている。

【００３０】このように一つの冷却キャン２４上を連続
して移送されるウェブ３０に二つ以上の蒸発蒸気流を適
宜離れた箇所で同時に照射して、複数の蒸着層を一度に
形成することができる。これは、従来において例えば前
記第二のるつぼ１７と第三のるつぼ２７と併設した構造
を用いて、前記第１蒸着層４０と前記第２蒸着層５０と
を同時に形成しようとした場合に、効率のよい入射角度
で前記各蒸発蒸気流をウエブ３０上に差し向けようとす
る場合に、両蒸着層を効率良く形成できる条件を満足で
きるるつぼ設置位置は狭くほとんど重なってしまい、る
つぼ設置の自由度も殆どない。しかし、本発明によれば
、図６に示すごとく蒸発蒸気流の照射角度を自由度は飛
躍的に向上し、複数のるつぼを設置して良好な２層以上
の蒸着を達成することができ、従来のように冷却キャン
を複数設ける必要がなく、蒸着材料の蒸着効率を低下さ
せずに、かつ２層以上の蒸着を行うことができ、装置の
大型化を回避することができる。なお、本実施態様の場
合、前記第１蒸着層４０と前記第２蒸着層５０との蒸着
金属材料はことなったものを用いることができる。

【００３１】図７に示した装置の場合には、図６に示し
た装置と相異する点は一か所だけであり、その他は全く
同じである。すなわち、図６における前記第三のるつぼ
２７を無くして前記第二のるつぼ１７を兼用する構造で
ある。この装置は各蒸着層の蒸着材料が同じ場合に向い
ており、図６に示した装置に比べても前記第三のるつぼ
２７を省略できることから、装置の小型化の面ではさら
に前進させることができる。

【００３２】図６及び図７に示した装置においては、二
つの蒸発蒸気流を発生させる構成としたが、この形態に
限るものではなく、本発明は三つ以上の蒸発蒸気流を発
生させることができる。この場合、例えば図６に示した
左側の蒸発源と同様な蒸発源を前記第三のるつぼ２７の
右側に設置することで、第３蒸着層を形成することがで
きる。又、例えば図７に示した左側の蒸発源と同様な蒸
発源を右側に設置することで、第１と第２蒸着層の蒸着
材料と違った第３及び第４蒸着層を形成することができ
る。

【００３３】尚、上記各実施態様においては、蒸着材料
を加熱、溶融するための予備加熱手段として電子ビーム
加熱を用いたが、本発明はこれに限定するものではなく
、例えば抵抗加熱、誘導加熱等の他の加熱手段を用いる
こともできる。又、本発明の真空蒸着方法は強磁性金属
薄膜を得るものに限らず電導膜やＳｉ薄膜といった種々
の薄膜を得ることができる。更に、上記の如き各るつぼ
及びガイド部材の形状は上記実施態様の形状に限るもの
ではなく、種々の形状を採りうることは勿論である。

【００３４】

【発明の効果】本発明によれば、予め溶融した蒸着材料
から成る溶湯を下方へ連続的に流すと共に、流動中の該
溶湯の所定位置に電子ビームを照射し、該流動溶湯表面
の法線方向に蒸発させた蒸発蒸気流によって、連続して
移送される可撓性帯状支持体上に前記蒸着材料を蒸着す
る。

【００３５】そこで、前記溶湯の流動方向を適宜傾斜さ
せることにより、該流動溶湯表面の法線方向に蒸発する
蒸発蒸気流の指向性の中心軸を前記可撓性帯状支持体に
対して所定の入射角度で差し向けることができ、前記可
撓性帯状支持体に対して所定の入射角度を有する前記蒸
発蒸気流の成膜に与かる部分を拡大することができるの
で、前記可撓性帯状支持体上に蒸着される蒸着材料の蒸
着効率を高めることができる。また、前記蒸発蒸気流の
指向性の中心軸を任意の方向に傾けることができるので
、例えば強磁性金属薄膜型の磁性層を前記可撓性帯状支
持体上に蒸着する際などには、該磁性層の磁気特性が最
適となるように蒸発蒸気流の入射角を任意に設定するこ
とが容易となり、磁気特性の良好な磁気記録媒体を得る
ことができる。従って、前記可撓性帯状支持体上に蒸着
される蒸着材料の蒸着効率が高まることにより該蒸着材
料の無駄が減ると共に、該可撓性帯状支持体の移送速度
を速めることができるので、生産性が良好で、且つ良質
の薄膜が得られる良好な真空蒸着方法及び装置を提供す
ることができる。

【００３６】また、本発明によれば、蒸発蒸気流の向き
を所望に設定できるので、一つの冷却キャン上を連続し
て移送される前記可撓性帯状支持体に二つ以上の蒸発蒸
気流を適宜離れた箇所で同時に照射でき、複数の蒸着層
を一度に形成することができる。したがって、従来にお
いては効率のよい入射角度で複数の蒸発蒸気流を前記可
撓性帯状支持体に差し向けようとする場合に、各蒸着層
を効率良く形成できる条件を満足できるるつぼ設置位置
は狭くるつぼ設置の自由度が殆どなかったのに対し、本
発明によれば、蒸発蒸気流の照射角度を自由度は飛躍的
に向上し、一つの冷却キャンに対して、複数のるつぼを
設置して良好な複数層の蒸着を達成することができ、蒸
着材料の蒸着効率を低下させずに、かつ２層以上の蒸着
を行うことができて装置の大型化を回避することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を実施するための一実施態様に基づく真
空蒸着装置の要部拡大断面図である。

【図２】本発明を実施するための他の実施態様に基づく
真空蒸着装置の要部拡大断面図である。

【図３】本発明を実施するための他の実施態様に基づく
真空蒸着装置の要部拡大断面図である。

【図４】従来の真空蒸着装置の概要を示す概略図である
。

【図５】図４に示した蒸発源の拡大斜視図である。

【図６】本発明における蒸発源が二つある場合の実施態
様に基づく真空蒸着装置の要部拡大断面図である。

【図７】本発明における蒸発源が二つある場合の他の実
施態様に基づく真空蒸着装置の要部拡大断面図である。

【符号の説明】

１　　　　　　　　蒸発源 ２　　　　　　　　第一のるつぼ ３　　　　　　　　電子源フィラメント４　　　　　　
　　ガイド部材 ５　　　　　　　　第二のるつぼ ６，７　　　　電子ビーム ８　　　　　　　　溶湯 ９　　　　　　　　蒸発蒸気流 １０　　　　　　　　蒸発源 １１　　　　　　　　第一のるつぼ １２　　　　　　　　第二のるつぼ １４　　　　　　　　蒸発源 １５　　　　　　　　第一のるつぼ １６　　　　　　　　ガイド部材 １７　　　　　　　　第二のるつぼ １９　　　　　　　　スリット開口 ２０　　　　　　　　真空蒸着装置 ２１　　　　　　　　蒸発源 ２２　　　　　　　　送り出しロール ２３　　　　　　　　巻取りロール ２４　　　　　　　　冷却キャン ２５　　　　　　　　マスク ２６　　　　　　　　中心軸 ２７　　　　　　　　るつぼ（第３のるつぼ）２８　　
　　　　　　蒸着材料 ２９　　　　　　　　蒸発蒸気流 ３０　　　　　　　　ウエブ ３１　　　　　　　　電子ビーム ３２　　　　　　　　真空容器 ３３　　　　　　　　排気装置 ４０　　　　　　　　第１蒸着層 ５０　　　　　　　　第２蒸着層

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　予め溶融した蒸着材料から成る溶湯を
   下方へ連続的に流すと共に、流動中の該溶湯の所定位置
   に電子ビームを照射し、該流動溶湯表面の法線方向に蒸
   発させた蒸発蒸気流によって、連続して移送される可撓
   性帯状支持体上に前記蒸着材料を蒸着することを特徴と
   する真空蒸着方法。
2. 【請求項２】　　蒸着材料を溶融する加熱手段を備えて
   下方へ連続的に溶湯を流出する第一のるつぼと、該第一
   のるつぼから流出した溶湯を冷却キャンに対面するよう
   に所定の傾斜角度を以て一定方向に流動させるガイド部
   材と、該ガイド部材に沿って流れ落ちる溶湯を受容する
   第二のるつぼと、電子ビーム発生手段とから成る蒸発源
   を有する真空蒸着装置であって、前記ガイド部材に沿っ
   て流れる溶湯の所定位置に電子ビームを照射し、該流動
   溶湯表面の法線方向に蒸発させた蒸発蒸気流によって、
   連続して移送される可撓性帯状支持体上に前記蒸着材料
   を蒸着することを特徴とする真空蒸着装置。
3. 【請求項３】　　予め溶融した蒸着材料から成る溶湯を
   斜め下方へ連続的に流した溶湯表面に電子ビームを照射
   して、該溶湯表面の法線方向に発生させた蒸発蒸気流と
   、水平の溶湯表面に電子ビームを照射してほぼ鉛直方向
   に発生させた蒸発蒸気流とを、連続して移送される可撓
   性帯状支持体上の別々の箇所に同時に照射することによ
   り、複数の蒸着層を一度に形成することを特徴とする真
   空蒸着方法。
4. 【請求項４】　　蒸着材料を溶融する加熱手段を備えて
   下方へ連続的に溶湯を流出する第一のるつぼと、該第一
   のるつぼから流出した溶湯を冷却キャン上で連続移送さ
   れる可撓性帯状支持体に対面するように傾斜したガイド
   部材と、水平な溶湯を前記可撓性帯状支持体に対面させ
   ることの出来る他のるつぼと、複数の電子ビーム発生手
   段とを備えており、前記ガイド部材上の傾斜した溶湯表
   面から発生させた蒸発蒸気流と、前記他のるつぼの溶湯
   表面から発生させた蒸発蒸気流とを、前記可撓性帯状支
   持体上の別々の箇所に同時に照射して、複数の蒸着層を
   一度に形成するように構成したことを特徴とする真空蒸
   着装置。
5. 【請求項５】　　前記他のるつぼが前記第一のるつぼか
   ら流出した溶湯を受ける第二のるつぼであることを特徴
   とする請求項４の真空蒸着装置。