JPH0757260A - 磁気記録媒体の製造装置 - Google Patents
磁気記録媒体の製造装置Info
- Publication number
- JPH0757260A JPH0757260A JP5195865A JP19586593A JPH0757260A JP H0757260 A JPH0757260 A JP H0757260A JP 5195865 A JP5195865 A JP 5195865A JP 19586593 A JP19586593 A JP 19586593A JP H0757260 A JPH0757260 A JP H0757260A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plate
- magnetic recording
- evaporation source
- polymer film
- film substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 蒸着材料の回収効率を上げ、生産性を向上さ
せる磁気記録媒体の製造装置を提供する。 【構成】 走行しつつある高分子フィルム基板１上に、
薄膜型磁気記録層を蒸着する連続真空蒸着装置におい
て、高分子フィルム基板１に対する蒸発原子の入射角を
規定する略板状の遮蔽板４の入射角規定部と蒸発源６の
中心を結ぶ線分より前記高分子フィルム基板１の走行下
流側にわずかに離れ、遮蔽板４に対し下方位置、かつ蒸
発源６に対し上方位置に蒸着材料と同材料からなる可動
の防着板７を設ける。
せる磁気記録媒体の製造装置を提供する。 【構成】 走行しつつある高分子フィルム基板１上に、
薄膜型磁気記録層を蒸着する連続真空蒸着装置におい
て、高分子フィルム基板１に対する蒸発原子の入射角を
規定する略板状の遮蔽板４の入射角規定部と蒸発源６の
中心を結ぶ線分より前記高分子フィルム基板１の走行下
流側にわずかに離れ、遮蔽板４に対し下方位置、かつ蒸
発源６に対し上方位置に蒸着材料と同材料からなる可動
の防着板７を設ける。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、薄膜型磁気記録媒体を
生産性良く製造するための磁気記録媒体の製造装置に関
するものである。
生産性良く製造するための磁気記録媒体の製造装置に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】現在、磁気記録再生装置は小型化、高密
度化の傾向にあり、従来の塗布型媒体の高密度化の限界
を越えるものとして金属薄膜型媒体が注目されている。
金属薄膜型媒体の記録方式としては、垂直記録、面内記
録があり、現在実用化されている面内記録媒体の好適な
製造方法としては斜方蒸着法が知られている。
度化の傾向にあり、従来の塗布型媒体の高密度化の限界
を越えるものとして金属薄膜型媒体が注目されている。
金属薄膜型媒体の記録方式としては、垂直記録、面内記
録があり、現在実用化されている面内記録媒体の好適な
製造方法としては斜方蒸着法が知られている。
【０００３】以下、図面を参照しながら従来例の蒸着装
置の一例について説明する。図２は従来の斜方蒸着を行
う連続真空蒸着装置の概略図を示す。図２において、１
は高分子フィルム基板、２は円筒状キャン、３は初期入
射角を規定する遮蔽板、４は終期入射角を規定する遮蔽
板、５はガス導入ノズル、６は蒸発源である。円筒状キ
ャン２に沿って走行しつつある高分子フィルム基板１上
に、遮蔽板３および４の間の開口部を通過した蒸発源６
からの蒸発原子が堆積される。入射角は、蒸発源６と高
分子フィルム基板の法線との成す角度で定義され、遮蔽
板３によって初期入射角φｉが、遮蔽板４によって終期
入射角φｆが制御できる。磁性層の磁気特性は、入射角
の範囲やノズル５からの酸素の導入により制御される。
置の一例について説明する。図２は従来の斜方蒸着を行
う連続真空蒸着装置の概略図を示す。図２において、１
は高分子フィルム基板、２は円筒状キャン、３は初期入
射角を規定する遮蔽板、４は終期入射角を規定する遮蔽
板、５はガス導入ノズル、６は蒸発源である。円筒状キ
ャン２に沿って走行しつつある高分子フィルム基板１上
に、遮蔽板３および４の間の開口部を通過した蒸発源６
からの蒸発原子が堆積される。入射角は、蒸発源６と高
分子フィルム基板の法線との成す角度で定義され、遮蔽
板３によって初期入射角φｉが、遮蔽板４によって終期
入射角φｆが制御できる。磁性層の磁気特性は、入射角
の範囲やノズル５からの酸素の導入により制御される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の従
来の装置では、最適な磁気特性を有する磁性層を形成す
るために遮蔽板間の開口部の広さは制限され、高分子フ
ィルム基板に達する蒸発原子は全蒸発原子の一部に過ぎ
ず、生産性が良くないという問題点を有している。
来の装置では、最適な磁気特性を有する磁性層を形成す
るために遮蔽板間の開口部の広さは制限され、高分子フ
ィルム基板に達する蒸発原子は全蒸発原子の一部に過ぎ
ず、生産性が良くないという問題点を有している。
【０００５】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、高分子フィルム基板に達しない蒸発原子の回収効率
を上げることができる磁気記録媒体の製造装置を提供す
ることを目的とするものである。
で、高分子フィルム基板に達しない蒸発原子の回収効率
を上げることができる磁気記録媒体の製造装置を提供す
ることを目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の磁気記録媒体の製造装置は、入射角を規定す
る遮蔽板の入射角規定部と蒸発源の中心を結ぶ線分より
前記高分子フィルム基板走行下流側に離れ、前記遮蔽板
に対し下方位置、かつ前記蒸発源に対し上方位置に、ロ
ーラーにより蒸発源まで可動である蒸着材料と同材料か
らなる防着板を配設した構成となっている。
に本発明の磁気記録媒体の製造装置は、入射角を規定す
る遮蔽板の入射角規定部と蒸発源の中心を結ぶ線分より
前記高分子フィルム基板走行下流側に離れ、前記遮蔽板
に対し下方位置、かつ前記蒸発源に対し上方位置に、ロ
ーラーにより蒸発源まで可動である蒸着材料と同材料か
らなる防着板を配設した構成となっている。
【０００７】
【作用】この構成によって、高分子フィルム基板に達し
ない蒸発原子を効率よく回収し、さらに防着板を再蒸発
することにより生産性の向上を図ることが出来る。
ない蒸発原子を効率よく回収し、さらに防着板を再蒸発
することにより生産性の向上を図ることが出来る。
【０００８】
【実施例】以下本発明の実施例について、図面を参照し
ながら説明する。図１に示した本発明の一実施例の磁気
記録媒体の製造装置を用いて、コバルト−酸素（Ｃｏ−
Ｏ）膜を磁性層として成膜する場合について説明する。
図１において、１は高分子フィルム基板、２は直径１ｍ
の円筒状キャン、３は高入射角部遮蔽板、４は低入射角
部遮蔽板、５はガス導入ノズル、６は蒸発源、７は厚さ
０．１ｍｍのコバルト薄板からなる防着板、８ａ、８
ｂ，８ｃはローラー、９は防着板供給ロール、１０は電
子銃、１１ａ、１１ｂはローラーである。高分子フィル
ム基板１はローラー１１ａを通り、高入射角部から低入
射角部方向に回転するキャン２に沿って移動しローラー
１１ｂを通り出ていく。防着板７、ローラー８ａ、８
ｂ，８ｃ、防着板供給ロール９はいずれも蒸発源６の中
央と低入射部遮蔽板４の入射角規定部を結ぶ線分より高
分子フィルム基板１の走行下流側に位置している。ロー
ラー８ａは低入射角部遮蔽板４の入射角規定部より１０
ｃｍ下方、蒸発源６の中央と低入射角部遮蔽板４の入射
角規定部を結ぶ線分より２ｃｍ高分子フィルム基板１の
走行下流側に設置した。
ながら説明する。図１に示した本発明の一実施例の磁気
記録媒体の製造装置を用いて、コバルト−酸素（Ｃｏ−
Ｏ）膜を磁性層として成膜する場合について説明する。
図１において、１は高分子フィルム基板、２は直径１ｍ
の円筒状キャン、３は高入射角部遮蔽板、４は低入射角
部遮蔽板、５はガス導入ノズル、６は蒸発源、７は厚さ
０．１ｍｍのコバルト薄板からなる防着板、８ａ、８
ｂ，８ｃはローラー、９は防着板供給ロール、１０は電
子銃、１１ａ、１１ｂはローラーである。高分子フィル
ム基板１はローラー１１ａを通り、高入射角部から低入
射角部方向に回転するキャン２に沿って移動しローラー
１１ｂを通り出ていく。防着板７、ローラー８ａ、８
ｂ，８ｃ、防着板供給ロール９はいずれも蒸発源６の中
央と低入射部遮蔽板４の入射角規定部を結ぶ線分より高
分子フィルム基板１の走行下流側に位置している。ロー
ラー８ａは低入射角部遮蔽板４の入射角規定部より１０
ｃｍ下方、蒸発源６の中央と低入射角部遮蔽板４の入射
角規定部を結ぶ線分より２ｃｍ高分子フィルム基板１の
走行下流側に設置した。
【０００９】以上のように構成され、つぎにその動作を
説明する。蒸着時に蒸発源６より発生し高分子フィルム
基板１に達しない蒸発原子の大部分が防着板７に堆積す
る。防着板７はローラー８ａ、８ｂ、８ｃに沿って移動
し、蒸発源６まで誘導され再蒸発される。
説明する。蒸着時に蒸発源６より発生し高分子フィルム
基板１に達しない蒸発原子の大部分が防着板７に堆積す
る。防着板７はローラー８ａ、８ｂ、８ｃに沿って移動
し、蒸発源６まで誘導され再蒸発される。
【００１０】本実施例では、蒸発源６にコバルトを仕込
み、電子銃１０からの７０ｋＷの電子ビームによって溶
解し、高分子フィルム基板１の走行速度６０ｍ／ｍｉ
ｎ、ガス導入ノズル５からの導入酸素量毎分１．２リッ
トルで蒸着を行った。このとき装置内の気圧は１．０×
１０ー4Ｔｏｒｒであった。この状態で蒸発源６のコバル
ト液面の高さが一定になるようにコバルト薄板の防着板
を移動、供給したところローラー８ａの周速度は毎分５
ｃｍであった。
み、電子銃１０からの７０ｋＷの電子ビームによって溶
解し、高分子フィルム基板１の走行速度６０ｍ／ｍｉ
ｎ、ガス導入ノズル５からの導入酸素量毎分１．２リッ
トルで蒸着を行った。このとき装置内の気圧は１．０×
１０ー4Ｔｏｒｒであった。この状態で蒸発源６のコバル
ト液面の高さが一定になるようにコバルト薄板の防着板
を移動、供給したところローラー８ａの周速度は毎分５
ｃｍであった。
【００１１】比較例として、防着板７に蒸発原子が堆積
しないようにローラー８ａは低入射角部遮蔽板４の入射
角規定部より１０ｃｍ下方、蒸発源６の中央と低入射角
部遮蔽板４の入射角規定部を結ぶ線分より高分子フィル
ム基板１の走行下流側３０ｃｍの位置に設置して、他は
上記と同様の条件で蒸着した。この状態で蒸発源６のコ
バルト液面の高さが一定になるようにコバルト薄板から
なる防着板を移動、供給したところローラー８ａの周速
度は毎分７ｃｍであり、供給量が多く必要であった。ま
た、低入射角部遮蔽板４に堆積した蒸発原子が多かっ
た。
しないようにローラー８ａは低入射角部遮蔽板４の入射
角規定部より１０ｃｍ下方、蒸発源６の中央と低入射角
部遮蔽板４の入射角規定部を結ぶ線分より高分子フィル
ム基板１の走行下流側３０ｃｍの位置に設置して、他は
上記と同様の条件で蒸着した。この状態で蒸発源６のコ
バルト液面の高さが一定になるようにコバルト薄板から
なる防着板を移動、供給したところローラー８ａの周速
度は毎分７ｃｍであり、供給量が多く必要であった。ま
た、低入射角部遮蔽板４に堆積した蒸発原子が多かっ
た。
【００１２】以上のように、本実施例による可動の防着
板を設けることにより、蒸発原子の回収効率を上げるこ
とができた。
板を設けることにより、蒸発原子の回収効率を上げるこ
とができた。
【００１３】なお本実施例においては蒸発源６の材料と
してコバルトを用いたが、鉄、ニッケル等金属を用いて
も良い。あるいはコバルトークロム、コバルトーニッケ
ル等合金であっても良い。また蒸着時にガスを導入しな
い蒸着法においても本発明が有効であることは言うまで
もない。
してコバルトを用いたが、鉄、ニッケル等金属を用いて
も良い。あるいはコバルトークロム、コバルトーニッケ
ル等合金であっても良い。また蒸着時にガスを導入しな
い蒸着法においても本発明が有効であることは言うまで
もない。
【００１４】
【発明の効果】以上のように本発明は、可動の防着板を
設けることにより、不要な蒸発原子の回収効率を上げる
ことができ、また防着板を再蒸発させることにより生産
性を向上することができる。
設けることにより、不要な蒸発原子の回収効率を上げる
ことができ、また防着板を再蒸発させることにより生産
性を向上することができる。
【図１】本発明の一実施例の磁気記録媒体の製造装置の
構成図
構成図
【図２】従来例の磁気記録媒体の製造装置の構成図
１ 高分子フィルム基板 ２ 円筒状キャン ３ 遮蔽板 ４ 遮蔽板 ５ ガス導入ノズル ６ 蒸発源 ７ 防着板 ８ａ ローラー ８ｂ ローラー ８ｃ ローラー ９ 防着板供給ロール １０ 電子銃 １１ａ ローラー １１ｂ ローラー
Claims (3)
- 【請求項１】走行しつつある高分子フィルム基板上に、
薄膜型磁気記録層を蒸着する連続真空蒸着装置におい
て、前記高分子フィルム基板に対する蒸発原子の入射角
を規定する略板状の遮蔽板の入射角規定部と蒸発源の中
心を結ぶ線分より前記高分子フィルム基板走行下流側に
離れ、前記遮蔽板に対し下方位置、かつ前記蒸発源に対
し上方位置に蒸着材料と同材料からなる防着板を配設し
たことを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。 - 【請求項２】防着板はローラーにより可動であることを
特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体の製造装置。 - 【請求項３】防着板は蒸発源まで誘導され再蒸発される
ことを特徴とする請求項２記載の磁気記録媒体の製造装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5195865A JPH0757260A (ja) | 1993-08-06 | 1993-08-06 | 磁気記録媒体の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5195865A JPH0757260A (ja) | 1993-08-06 | 1993-08-06 | 磁気記録媒体の製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0757260A true JPH0757260A (ja) | 1995-03-03 |
Family
ID=16348280
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5195865A Pending JPH0757260A (ja) | 1993-08-06 | 1993-08-06 | 磁気記録媒体の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0757260A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013137107A1 (ja) * | 2012-03-16 | 2013-09-19 | 日東電工株式会社 | 有機ｅｌ素子の製造方法及び製造装置 |
| WO2023011733A1 (en) * | 2021-08-06 | 2023-02-09 | MAX-PLANCK-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. | Method of operating an evaporation system, deflection device, and evaporation system |
-
1993
- 1993-08-06 JP JP5195865A patent/JPH0757260A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013137107A1 (ja) * | 2012-03-16 | 2013-09-19 | 日東電工株式会社 | 有機ｅｌ素子の製造方法及び製造装置 |
| JP2013196848A (ja) * | 2012-03-16 | 2013-09-30 | Nitto Denko Corp | 有機ｅｌ素子の製造方法及び製造装置 |
| WO2023011733A1 (en) * | 2021-08-06 | 2023-02-09 | MAX-PLANCK-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. | Method of operating an evaporation system, deflection device, and evaporation system |
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