JPH0121534B2 - - Google Patents
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- JPH0121534B2 JPH0121534B2 JP14865881A JP14865881A JPH0121534B2 JP H0121534 B2 JPH0121534 B2 JP H0121534B2 JP 14865881 A JP14865881 A JP 14865881A JP 14865881 A JP14865881 A JP 14865881A JP H0121534 B2 JPH0121534 B2 JP H0121534B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
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- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は蒸着による磁気記録媒体の製造方法に
関し、特に走行する基板上に磁性層を形成するこ
とを目的とするものである。
関し、特に走行する基板上に磁性層を形成するこ
とを目的とするものである。
一般的に現在提示されている磁気記録媒体とし
ては、塗布型、磁性薄膜型が知られている中でも
塗布型は、磁性体であるγ−Fe2O3やFeを、適当
なバインダーと混合して基板上に塗布した後、磁
場配向や乾燥、カレンダー工程を経て磁気記録媒
体としての特性を得ているもので、この塗布型が
現在では主流を占めている。この塗布型の未来指
向として、高抗磁力化、磁性粉の高密度化、磁性
層の薄型等が示されている。しかし上述のように
磁性粉をバインダーを介して基板上に塗布する方
法では、基本的に磁性粉の充填率におのずから限
界があり高密度化、薄型の防げとなつているのが
現状である。
ては、塗布型、磁性薄膜型が知られている中でも
塗布型は、磁性体であるγ−Fe2O3やFeを、適当
なバインダーと混合して基板上に塗布した後、磁
場配向や乾燥、カレンダー工程を経て磁気記録媒
体としての特性を得ているもので、この塗布型が
現在では主流を占めている。この塗布型の未来指
向として、高抗磁力化、磁性粉の高密度化、磁性
層の薄型等が示されている。しかし上述のように
磁性粉をバインダーを介して基板上に塗布する方
法では、基本的に磁性粉の充填率におのずから限
界があり高密度化、薄型の防げとなつているのが
現状である。
そこで高密度、薄膜化を目的として、電気メツ
キによる方法や真空中による、スパツタ法、イオ
ンプレイテイング法、蒸着法等が提案されてき
た。これらの方法によると、磁性材料を基板上に
直接薄膜として形成できるので前記の塗布型にな
い特長のある磁気記録媒体が提供できる。しかし
ながらこれらの方法は一枚の磁気シートを作る場
合には条件管理も十分であり、優れた磁気的、物
理的特性が得られるものであるが、量産という点
からは未だ解決されていない問題点も多く、また
特に磁気テープ様の長尺物において優れた物理的
特性を得る方法は知られていなかつた。
キによる方法や真空中による、スパツタ法、イオ
ンプレイテイング法、蒸着法等が提案されてき
た。これらの方法によると、磁性材料を基板上に
直接薄膜として形成できるので前記の塗布型にな
い特長のある磁気記録媒体が提供できる。しかし
ながらこれらの方法は一枚の磁気シートを作る場
合には条件管理も十分であり、優れた磁気的、物
理的特性が得られるものであるが、量産という点
からは未だ解決されていない問題点も多く、また
特に磁気テープ様の長尺物において優れた物理的
特性を得る方法は知られていなかつた。
本発明は基板を走行させ、その表面に連続的に
蒸着を行なう製造方法であり、特に蒸着をガス雰
囲気中で行なうにあたつて同一ガスにより磁性層
と非磁性層の２層構造を極めて簡単に行なうもの
である。以下本発明の一実施例を図面にもとづい
て説明する。
蒸着を行なう製造方法であり、特に蒸着をガス雰
囲気中で行なうにあたつて同一ガスにより磁性層
と非磁性層の２層構造を極めて簡単に行なうもの
である。以下本発明の一実施例を図面にもとづい
て説明する。
第１図は本実施例における製造装置の一例を示
す正面図である。本装置は基板走行系の少なくと
も一部を真空蒸着雰囲気におくこと、およびガス
の供給ノズルを２本有することが特徴である。ま
ず１は、排気管２を経て真空排気装置３に配管さ
れ10-3Torr以下となつた真空槽である。この真
空槽中には長尺状の基板（ここではテープ基体）
４の走行系が内蔵されており、基板走行系は、基
板巻出軸５（逆走行においては巻取軸）とフリー
ローラ６，７蒸着円筒８及び巻取軸９（逆走行に
おいては巻出軸）から成つている。なお上記蒸着
円筒８は第１図中には示していない熱媒系により
一定温度に保たれている。基板走行系に対し蒸着
系は、蒸発熱源９、ルツボ１０およびルツボ中の
磁性材料蒸着源１１から成る。本実施例において
は磁性材料としてコバルト（Co）を使用した。
熱源９により加熱されたコバルトは溶解した後原
子状となつて蒸発を開始するが、この蒸発原子は
固定マスク１２に制限されて第１図に示す斜線部
分１３の範囲でのみ、蒸着円筒８上の基板４に到
達する。ここで固定マスク１２の位置は図示の場
合のみに限定されるものではなく固定マスクの位
置により蒸着された磁性薄膜の磁気特性を変化さ
せることができるものであり、必要に応じて適当
な位置に設けられるものである。固定マスク１２
の上部に２本のガス供給ノズル１４，１５を設け
る。本実施例で非磁性層を得るにあたり、酸化零
囲気を得るためガスは酸素やオゾンが有効であつ
た。ガス供給ノズル１４からは、ガスが蒸発原子
１３内で拡散する状態となるような矢印Ａの方向
に吹き出され、磁性層の所望の磁気特性を得るた
めのガス零囲気用が形成される。他方のガス供給
ノズル１５は蒸着円筒８の回転方向（矢印Ｃ）に
対する蒸発原子の到達範囲の終り、すなわち入射
角の低い部分で局部的な方向（矢印Ｂ方向）に向
けてガスを供給する。すなわち該部分では磁性体
に酸素を与えて酸化物として非磁性を得るもので
ある。なお１６は基板走行系のうちの基板の送り
出し、巻取り部分と、蒸着室とに分ける分離壁で
ある。
す正面図である。本装置は基板走行系の少なくと
も一部を真空蒸着雰囲気におくこと、およびガス
の供給ノズルを２本有することが特徴である。ま
ず１は、排気管２を経て真空排気装置３に配管さ
れ10-3Torr以下となつた真空槽である。この真
空槽中には長尺状の基板（ここではテープ基体）
４の走行系が内蔵されており、基板走行系は、基
板巻出軸５（逆走行においては巻取軸）とフリー
ローラ６，７蒸着円筒８及び巻取軸９（逆走行に
おいては巻出軸）から成つている。なお上記蒸着
円筒８は第１図中には示していない熱媒系により
一定温度に保たれている。基板走行系に対し蒸着
系は、蒸発熱源９、ルツボ１０およびルツボ中の
磁性材料蒸着源１１から成る。本実施例において
は磁性材料としてコバルト（Co）を使用した。
熱源９により加熱されたコバルトは溶解した後原
子状となつて蒸発を開始するが、この蒸発原子は
固定マスク１２に制限されて第１図に示す斜線部
分１３の範囲でのみ、蒸着円筒８上の基板４に到
達する。ここで固定マスク１２の位置は図示の場
合のみに限定されるものではなく固定マスクの位
置により蒸着された磁性薄膜の磁気特性を変化さ
せることができるものであり、必要に応じて適当
な位置に設けられるものである。固定マスク１２
の上部に２本のガス供給ノズル１４，１５を設け
る。本実施例で非磁性層を得るにあたり、酸化零
囲気を得るためガスは酸素やオゾンが有効であつ
た。ガス供給ノズル１４からは、ガスが蒸発原子
１３内で拡散する状態となるような矢印Ａの方向
に吹き出され、磁性層の所望の磁気特性を得るた
めのガス零囲気用が形成される。他方のガス供給
ノズル１５は蒸着円筒８の回転方向（矢印Ｃ）に
対する蒸発原子の到達範囲の終り、すなわち入射
角の低い部分で局部的な方向（矢印Ｂ方向）に向
けてガスを供給する。すなわち該部分では磁性体
に酸素を与えて酸化物として非磁性を得るもので
ある。なお１６は基板走行系のうちの基板の送り
出し、巻取り部分と、蒸着室とに分ける分離壁で
ある。
上記の構成の製造装置を用いれば、基板４が巻
出軸５、蒸着円筒８、巻取軸９の順に導びかれて
走行している時、蒸着円筒８上で一定温度に保た
れた状態で、対向する蒸着源１１からこの基板４
の表面にコバルト原子が到達し、蒸着薄膜が形成
される。ここでガス供給ノズル１４により矢印Ａ
方向に吹き出された酸素により第２図に示すよう
に基板上にはコバルトの磁性層１７が形成され
る。さらに同一工程において、次なるガス供給ノ
ズル１５により矢印Ｂ方向に吹き出された酸素に
よつつ、前記磁性層１７の上部に非磁性層１８が
得られる。すなわち基板上に磁性層１７と非磁性
層１８を順次設けた磁気記録媒体が得られるもの
である。
出軸５、蒸着円筒８、巻取軸９の順に導びかれて
走行している時、蒸着円筒８上で一定温度に保た
れた状態で、対向する蒸着源１１からこの基板４
の表面にコバルト原子が到達し、蒸着薄膜が形成
される。ここでガス供給ノズル１４により矢印Ａ
方向に吹き出された酸素により第２図に示すよう
に基板上にはコバルトの磁性層１７が形成され
る。さらに同一工程において、次なるガス供給ノ
ズル１５により矢印Ｂ方向に吹き出された酸素に
よつつ、前記磁性層１７の上部に非磁性層１８が
得られる。すなわち基板上に磁性層１７と非磁性
層１８を順次設けた磁気記録媒体が得られるもの
である。
第３図は磁化特性等の諸特性を向上させるため
に多層構造とした磁気記録媒体を示す。この場合
は上記で形成した第２図の磁気記録媒体を再びこ
の製造装置中で走行させ蒸着させることによつて
第３層としての磁性層１７′、第４層としての非
磁性層１８′を得ることができ、さらにもう一度
この製造装置中でガス供給ノズル１５からの酸素
供給を停めて走行および蒸着を行なえば第５層の
磁性層１７″を得ることができる。また上記の多
層構造の磁気記録媒体を連続的に得るには、上記
の製造装置を３基直列に並べ、第１基で磁性層１
７と非磁性層１８を形成し、これをそのまま第２
基に導入して磁性層１７′と非磁性層１８′を形成
し、さらに第３基では磁性層１７″のみを形成す
ればよい。なおさらに多層構造の場合も上記同様
の繰り返しで実現可能である。また上記実施例で
は蒸着源にコバルトCoを用いたが他の金属、２
種以上の金属の組み合わせでもよいことは明らか
である。
に多層構造とした磁気記録媒体を示す。この場合
は上記で形成した第２図の磁気記録媒体を再びこ
の製造装置中で走行させ蒸着させることによつて
第３層としての磁性層１７′、第４層としての非
磁性層１８′を得ることができ、さらにもう一度
この製造装置中でガス供給ノズル１５からの酸素
供給を停めて走行および蒸着を行なえば第５層の
磁性層１７″を得ることができる。また上記の多
層構造の磁気記録媒体を連続的に得るには、上記
の製造装置を３基直列に並べ、第１基で磁性層１
７と非磁性層１８を形成し、これをそのまま第２
基に導入して磁性層１７′と非磁性層１８′を形成
し、さらに第３基では磁性層１７″のみを形成す
ればよい。なおさらに多層構造の場合も上記同様
の繰り返しで実現可能である。また上記実施例で
は蒸着源にコバルトCoを用いたが他の金属、２
種以上の金属の組み合わせでもよいことは明らか
である。
上記の実施例からも明らかなように本発明は、
走行する基板に対してガス中蒸着とし、第１のノ
ズルからのガスによつて磁性層を蒸着形成し、第
２のノズルからの前記と同一のガスによつて非磁
性層を蒸着形成することを特徴とするものである
から、同一蒸着系内でさらに同一のガスを用いて
磁性層と非磁性層を得ることができ、製造工程が
極めて単純化され、また蒸着条件等も管理し易く
なり、均質な製品を多量に製造することが可能で
ある。また磁性層、非磁性層の金属材料が同一で
あることは蒸着効率を向上させ、コストの低下も
実現できる。さらに多層構造の磁気記録媒体も全
く同様の工程の繰り返しにより実現可能であり、
磁気特性の向上に大きな効果があるものである。
以上のように本発明によれば高密度記録の可能な
蒸着薄膜による磁気記録媒体を多量にかつ安価
に、非常に均質性を保つて製造できる、優れた磁
気記録媒体の製造方法を提供できるものである。
走行する基板に対してガス中蒸着とし、第１のノ
ズルからのガスによつて磁性層を蒸着形成し、第
２のノズルからの前記と同一のガスによつて非磁
性層を蒸着形成することを特徴とするものである
から、同一蒸着系内でさらに同一のガスを用いて
磁性層と非磁性層を得ることができ、製造工程が
極めて単純化され、また蒸着条件等も管理し易く
なり、均質な製品を多量に製造することが可能で
ある。また磁性層、非磁性層の金属材料が同一で
あることは蒸着効率を向上させ、コストの低下も
実現できる。さらに多層構造の磁気記録媒体も全
く同様の工程の繰り返しにより実現可能であり、
磁気特性の向上に大きな効果があるものである。
以上のように本発明によれば高密度記録の可能な
蒸着薄膜による磁気記録媒体を多量にかつ安価
に、非常に均質性を保つて製造できる、優れた磁
気記録媒体の製造方法を提供できるものである。
第１図は本発明の一実施例を実現し得る製造装
置の例を示す正面図、第２図は本発明による磁気
記録媒体の断面図、第３図は多層構造の磁気記録
媒体の断面図である。 １……真空槽、４……基板、５……巻出軸、８
……蒸着円筒、９……巻取軸、１１……蒸着源、
１４，１５……ガス供給ノズル、１７……磁性
層、１８……非磁性層。
置の例を示す正面図、第２図は本発明による磁気
記録媒体の断面図、第３図は多層構造の磁気記録
媒体の断面図である。 １……真空槽、４……基板、５……巻出軸、８
……蒸着円筒、９……巻取軸、１１……蒸着源、
１４，１５……ガス供給ノズル、１７……磁性
層、１８……非磁性層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ テープ状の基板を走行させる機構の一部を
10-3Torr以下の真空中に置いてこの真空中に前
記基板を走行状態で導入し、この真空中で基板表
面を蒸着雰囲気にするとともに、第１の管により
供給されたガスにより上記蒸着雰囲気をガス中蒸
着条件下になして基板上に磁性層を形成し、第２
の管により供給された上記と同一のガスにより蒸
着雰囲気の端部で非磁性層を形成することを特徴
とする磁気記録媒体の製造方法。 ２ 第１および第２の管から供給されるガスが酸
素またはオゾンであることを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載の磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56148658A JPS5850629A (ja) | 1981-09-18 | 1981-09-18 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56148658A JPS5850629A (ja) | 1981-09-18 | 1981-09-18 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5850629A JPS5850629A (ja) | 1983-03-25 |
| JPH0121534B2 true JPH0121534B2 (ja) | 1989-04-21 |
Family
ID=15457724
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56148658A Granted JPS5850629A (ja) | 1981-09-18 | 1981-09-18 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5850629A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1990002215A1 (en) * | 1988-08-19 | 1990-03-08 | Regents Of The University Of Minnesota | Preparation of superconductive ceramic oxides using ozone |
| US9885110B2 (en) * | 2014-08-06 | 2018-02-06 | United Technologies Corporation | Pressure modulated coating |
-
1981
- 1981-09-18 JP JP56148658A patent/JPS5850629A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5850629A (ja) | 1983-03-25 |
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