JPH04213331A - SiCl基を含むシラザンポリマー、その製造方法、それから製造され得る窒化ケイ素を含むセラミック原料、およびその製造方法 - Google Patents
SiCl基を含むシラザンポリマー、その製造方法、それから製造され得る窒化ケイ素を含むセラミック原料、およびその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】本発明は、SiCl基を含む新規なシラザ
ンポリマー、その製造方法、窒化ケイ素を含むセラミッ
ク原料へのその変換およびこの原料自体に関する。
ンポリマー、その製造方法、窒化ケイ素を含むセラミッ
ク原料へのその変換およびこの原料自体に関する。
【0002】ポリシラザンを熱分解して窒化ケイ素を含
むセラミック原料とすることは文献に既に開示されてい
る(R.R. Willsら, Ceramic Bu
lletin, 第62巻 (1983), 904−
915)。
むセラミック原料とすることは文献に既に開示されてい
る(R.R. Willsら, Ceramic Bu
lletin, 第62巻 (1983), 904−
915)。
【0003】ポリシラザンは一般に、出発原料としての
クロロシランとアンモニアまたは第一もしくは第二アミ
ンとの反応により製造される(米国特許第4,540,
703号、米国特許第4,543,344号、米国特許
第4,595,775号、米国特許第4,397,82
8号および米国特許第4,482,669号)。
クロロシランとアンモニアまたは第一もしくは第二アミ
ンとの反応により製造される(米国特許第4,540,
703号、米国特許第4,543,344号、米国特許
第4,595,775号、米国特許第4,397,82
8号および米国特許第4,482,669号)。
【0004】本発明は、ポリシラザンのための新規な出
発原料、すなわち塩素を含むシラザンポリマーを提供す
る。
発原料、すなわち塩素を含むシラザンポリマーを提供す
る。
【0005】本発明は、式I
【0006】
【化2】
〔式中mは1〜12の値を有しそして−(Si)は式−
SiHR1 Cl、−SiR2 R3 Cl、−SiR
4 Cl2 、−SiR5 Cl−CH2 CH2−S
iR5 Cl2 または−SiCl2 −CH2 CH
2 −SiR6 Cl2 で表されるシリル基であり、
そしてRはC1 〜C6 −アルキル基またはC2 〜
C6 −アルケニル基でありそして、互いに無関係に、
R1 〜R6 は、H、C1 〜C6 −アルキル基ま
たはC2 〜C6 −アルケニル基である。〕で表され
るα,ω−クロロシラザンを、100℃〜400℃の温
度に加熱することを特徴とする、SiCl基を含むシラ
ザンポリマーの製造方法に関する。Rは好ましくはCH
3 でありそして、互いに無関係に、R1 〜R6 は
好ましくはH、C1 〜C3 −アルキル基またはC2
〜C3 −アルケニル基である。Rは特に好ましくは
CH3 でありそして、互いに無関係に、R1 〜R6
は特に好ましくはH、CH3 またはビニル基である
。
SiHR1 Cl、−SiR2 R3 Cl、−SiR
4 Cl2 、−SiR5 Cl−CH2 CH2−S
iR5 Cl2 または−SiCl2 −CH2 CH
2 −SiR6 Cl2 で表されるシリル基であり、
そしてRはC1 〜C6 −アルキル基またはC2 〜
C6 −アルケニル基でありそして、互いに無関係に、
R1 〜R6 は、H、C1 〜C6 −アルキル基ま
たはC2 〜C6 −アルケニル基である。〕で表され
るα,ω−クロロシラザンを、100℃〜400℃の温
度に加熱することを特徴とする、SiCl基を含むシラ
ザンポリマーの製造方法に関する。Rは好ましくはCH
3 でありそして、互いに無関係に、R1 〜R6 は
好ましくはH、C1 〜C3 −アルキル基またはC2
〜C3 −アルケニル基である。Rは特に好ましくは
CH3 でありそして、互いに無関係に、R1 〜R6
は特に好ましくはH、CH3 またはビニル基である
。
【0007】出発原料は好ましくは150℃〜250℃
の温度に加熱される。反応の間、クロロシランCH3
SiHCl2 およびCH3 SiH2 Clおよび僅
かな水素が揮発性生成物として製造される。クロロシラ
ンは冷トラップ中に集められ得る。これらの揮発性生成
物に加えて、固体の成分も製造される。反応が完了した
時、固体の成分を反応混合物に対して不活性である極性
または無極性の溶剤、例えばペンタン、ヘキサン、トル
エン、ジエチルエーテル、THF等にできる限り溶解す
る。
の温度に加熱される。反応の間、クロロシランCH3
SiHCl2 およびCH3 SiH2 Clおよび僅
かな水素が揮発性生成物として製造される。クロロシラ
ンは冷トラップ中に集められ得る。これらの揮発性生成
物に加えて、固体の成分も製造される。反応が完了した
時、固体の成分を反応混合物に対して不活性である極性
または無極性の溶剤、例えばペンタン、ヘキサン、トル
エン、ジエチルエーテル、THF等にできる限り溶解す
る。
【0008】不溶性成分を濾別しそして透明な濾液から
溶剤を除去すると、SiCl基を含むシラザンポリマー
が残る。シラザンポリマーは一般に次に元素組成を有す
る: ケイ素 35〜55重量% 炭素 15〜35重量% 窒素 10〜25重量% 水素 5〜10重量% 塩素 5〜30重量% 酸素 0〜 5重量% 従って、本発明はさらに、式I
溶剤を除去すると、SiCl基を含むシラザンポリマー
が残る。シラザンポリマーは一般に次に元素組成を有す
る: ケイ素 35〜55重量% 炭素 15〜35重量% 窒素 10〜25重量% 水素 5〜10重量% 塩素 5〜30重量% 酸素 0〜 5重量% 従って、本発明はさらに、式I
【0009】
【化3】
〔式中mは1〜12の値を有しそして−(Si)は式−
SiHR1 Cl、−SiR2 R3 Cl、−SiR
4 Cl2 、−SiR5 Cl−CH2 CH2−S
iR5 Cl2 または−SiCl2 −CH2 CH
2 −SiR6 Cl2 で表されるシリル基であり、
そしてRはC1 〜C6 −アルキル基またはC2 〜
C6 −アルケニル基でありそして、互いに無関係に、
R1 〜R6 は、H、C1 〜C6 −アルキル基ま
たはC2 〜C6 −アルケニル基である。〕で表され
るα,ω−シラザンを、100℃〜400℃の温度に加
熱することにより得られ得る、SiCl基を含むシラザ
ンポリマーに関する。
SiHR1 Cl、−SiR2 R3 Cl、−SiR
4 Cl2 、−SiR5 Cl−CH2 CH2−S
iR5 Cl2 または−SiCl2 −CH2 CH
2 −SiR6 Cl2 で表されるシリル基であり、
そしてRはC1 〜C6 −アルキル基またはC2 〜
C6 −アルケニル基でありそして、互いに無関係に、
R1 〜R6 は、H、C1 〜C6 −アルキル基ま
たはC2 〜C6 −アルケニル基である。〕で表され
るα,ω−シラザンを、100℃〜400℃の温度に加
熱することにより得られ得る、SiCl基を含むシラザ
ンポリマーに関する。
【0010】SiCl基を含む本発明によるシラザンポ
リマー(あるいは以下高分子クロロシラザンと呼称する
)の製造の際の反応時間は加熱速度および反応温度によ
る。一般に3〜7時間の反応時間で充分である。
リマー(あるいは以下高分子クロロシラザンと呼称する
)の製造の際の反応時間は加熱速度および反応温度によ
る。一般に3〜7時間の反応時間で充分である。
【0011】反応を有機溶剤中で行うことも可能である
。適当な溶剤は、反応物に対して不活性でありかつ充分
に高い沸点を有するもの、即ち、例えば飽和脂肪族また
は芳香族炭化水素、例えばn−デカン、デカリン、キシ
レン、トルエン、塩素化炭化水素、例えばクロロベンゼ
ン、あるいはエーテル、例えばジベンジルエーテルまた
はジエチレングリコールジエチルエーテルである。形成
されるNH4 Clが不溶性である溶剤が使用される場
合、NH4 Clは濾過により分離され得る。次に、溶
剤を蒸留により減圧下に除去することによりSiCl基
を含む本発明によるシラザンポリマーが得られる。
。適当な溶剤は、反応物に対して不活性でありかつ充分
に高い沸点を有するもの、即ち、例えば飽和脂肪族また
は芳香族炭化水素、例えばn−デカン、デカリン、キシ
レン、トルエン、塩素化炭化水素、例えばクロロベンゼ
ン、あるいはエーテル、例えばジベンジルエーテルまた
はジエチレングリコールジエチルエーテルである。形成
されるNH4 Clが不溶性である溶剤が使用される場
合、NH4 Clは濾過により分離され得る。次に、溶
剤を蒸留により減圧下に除去することによりSiCl基
を含む本発明によるシラザンポリマーが得られる。
【0012】所望であれば、当該方法は減圧下にまたは
1〜10気圧の範囲の圧力で同様に行われ得る。
1〜10気圧の範囲の圧力で同様に行われ得る。
【0013】当該方法は連続的にも行われ得る。本発明
による高分子クロロシラザンが製造される、α,ω−ク
ロロシラザンは、式[−RSiH−NH−]n 〔式中
nは約3〜12である。〕で表されるオリゴヒドリドオ
ルガニルシラザンとクロロシランR1 HSiCl2
、R2R3 SiCl2 、R4 SiCl3 、Cl
2 R5 SiCH2 CH2 SiR5 Cl2 ま
たはCl3 SiCH2 CH2 SiR6 Cl2
の少なくとも1つとを−20℃〜+50℃で反応する(
ただし、RはC1 〜C6 −アルキル基またはC2
〜C6 −アルケニル基でありそして、互いに無関係に
、R1 〜R6 はH、C1 〜C6 −アルキル基ま
たはC2 〜C6 −アルケニル基である。)ことによ
り得られ得る。
による高分子クロロシラザンが製造される、α,ω−ク
ロロシラザンは、式[−RSiH−NH−]n 〔式中
nは約3〜12である。〕で表されるオリゴヒドリドオ
ルガニルシラザンとクロロシランR1 HSiCl2
、R2R3 SiCl2 、R4 SiCl3 、Cl
2 R5 SiCH2 CH2 SiR5 Cl2 ま
たはCl3 SiCH2 CH2 SiR6 Cl2
の少なくとも1つとを−20℃〜+50℃で反応する(
ただし、RはC1 〜C6 −アルキル基またはC2
〜C6 −アルケニル基でありそして、互いに無関係に
、R1 〜R6 はH、C1 〜C6 −アルキル基ま
たはC2 〜C6 −アルケニル基である。)ことによ
り得られ得る。
【0014】式(I)で表されるα,ω−クロロシラザ
ンのための出発原料として使用されるクロロシランR1
HSiCl2 、R2 R3 SiCl2 およびR
4 SiCl3 は市販されており、そしてエチレン橋
かけクロロシランCl2 R5 SiCH2 CH2
SiR5 Cl2 およびCl3 SiCH2 CH2
SiR6 Cl2 は、R1 HSiCl2 および
エチンのヒドロシリル化またはビニルトリクロロシラン
およびR1 HSiCl2 のヒドロシリル化により得
られ得る。(I)のための出発原料として同様に使用さ
れるオリゴヒドリドオルガニルシラザンは、米国特許第
4,482,669号(特にその中で第4、5、7およ
び8欄を参照のこと)に開示されているように、ジクロ
ロヒドリドオルガニルシランRSiHCl2 (ただし
、Rは上で定義した通りである。)とNH3 とを溶剤
中で反応することにより製造される。この反応は、一般
に、環状オリゴヒドリドオルガニルシラザン[−RSi
H−NH−]n (ただし、nは約3〜約12である。 )の混合物を与える。上記クロロシランとの反応のため
、先ずオリゴヒドリドオルガニルシラザン[−RSiH
−NH−]n を溶剤なしで投入しそしてクロロシラン
を注意深く添加するのが好ましい。反応温度は−20℃
〜+50℃、好ましくは−10℃〜0℃である。当該反
応を、反応物と反応しない溶剤中で行うこともできる。
ンのための出発原料として使用されるクロロシランR1
HSiCl2 、R2 R3 SiCl2 およびR
4 SiCl3 は市販されており、そしてエチレン橋
かけクロロシランCl2 R5 SiCH2 CH2
SiR5 Cl2 およびCl3 SiCH2 CH2
SiR6 Cl2 は、R1 HSiCl2 および
エチンのヒドロシリル化またはビニルトリクロロシラン
およびR1 HSiCl2 のヒドロシリル化により得
られ得る。(I)のための出発原料として同様に使用さ
れるオリゴヒドリドオルガニルシラザンは、米国特許第
4,482,669号(特にその中で第4、5、7およ
び8欄を参照のこと)に開示されているように、ジクロ
ロヒドリドオルガニルシランRSiHCl2 (ただし
、Rは上で定義した通りである。)とNH3 とを溶剤
中で反応することにより製造される。この反応は、一般
に、環状オリゴヒドリドオルガニルシラザン[−RSi
H−NH−]n (ただし、nは約3〜約12である。 )の混合物を与える。上記クロロシランとの反応のため
、先ずオリゴヒドリドオルガニルシラザン[−RSiH
−NH−]n を溶剤なしで投入しそしてクロロシラン
を注意深く添加するのが好ましい。反応温度は−20℃
〜+50℃、好ましくは−10℃〜0℃である。当該反
応を、反応物と反応しない溶剤中で行うこともできる。
【0015】従って、先ずオリゴシラザンを溶剤中にま
たは純物質として投入することができそしてクロロシラ
ンを純粋な形でまたは溶液として添加することができる
。当該反応に適当な溶剤の例は、飽和脂肪族または芳香
族炭化水素、例えばn−ペンタン、シクロヘキサン、ト
ルエンまたは塩素化炭化水素、例えばクロロホルムまた
はクロロベンゼン、あるいはエーテル、例えばジエチル
エーテルまたはTHFである。
たは純物質として投入することができそしてクロロシラ
ンを純粋な形でまたは溶液として添加することができる
。当該反応に適当な溶剤の例は、飽和脂肪族または芳香
族炭化水素、例えばn−ペンタン、シクロヘキサン、ト
ルエンまたは塩素化炭化水素、例えばクロロホルムまた
はクロロベンゼン、あるいはエーテル、例えばジエチル
エーテルまたはTHFである。
【0016】新規な高分子クロロシラザンをアンモニア
と反応する(「アンモノリシス」)とポリシラザンを与
え、ポリシラザンはそれ自体熱分解により窒化ケイ素を
含むセラミック原料に変換され得る。
と反応する(「アンモノリシス」)とポリシラザンを与
え、ポリシラザンはそれ自体熱分解により窒化ケイ素を
含むセラミック原料に変換され得る。
【0017】アンモノリシスは液体NH3 中で行われ
得るが、有利には有機溶剤中で行われる。適当な溶剤は
、シラザンに対して不活性であるもの全てである。好ま
しい溶剤は、副産物として製造される塩化アンモニウム
が低い溶解度を有しかつ容易に分離されるもの、例えば
エーテル、脂肪族および芳香族炭化水素および塩素化炭
化水素である。アンモノリシスの際に、反応物は所望の
順序で反応容器に投入され得るが、先ず溶液状態の高分
子クロロシランを投入しそして気体のアンモニアを通ず
るかまたは液体のアンモニアを添加するのが通常有利で
ある。本発明による高分子クロロシラザンが適当な有機
溶剤中で製造されているならば、アンモノリシスは、N
H4 Clを前もって除去することなく、この溶剤中で
行われ得る。アンモノリシスは、反応が完了することお
よび最終生成物ができるだけ塩素を含んでいないことを
確実にするため、好ましくは過剰のNH3 の中で行わ
れる。 一般に、この目的のために、化学量論量の2倍で充分で
ある。
得るが、有利には有機溶剤中で行われる。適当な溶剤は
、シラザンに対して不活性であるもの全てである。好ま
しい溶剤は、副産物として製造される塩化アンモニウム
が低い溶解度を有しかつ容易に分離されるもの、例えば
エーテル、脂肪族および芳香族炭化水素および塩素化炭
化水素である。アンモノリシスの際に、反応物は所望の
順序で反応容器に投入され得るが、先ず溶液状態の高分
子クロロシランを投入しそして気体のアンモニアを通ず
るかまたは液体のアンモニアを添加するのが通常有利で
ある。本発明による高分子クロロシラザンが適当な有機
溶剤中で製造されているならば、アンモノリシスは、N
H4 Clを前もって除去することなく、この溶剤中で
行われ得る。アンモノリシスは、反応が完了することお
よび最終生成物ができるだけ塩素を含んでいないことを
確実にするため、好ましくは過剰のNH3 の中で行わ
れる。 一般に、この目的のために、化学量論量の2倍で充分で
ある。
【0018】一般に、当該反応は約−50〜+100℃
、好ましくは−20〜+30℃の温度、特に室温で(氷
冷しながら)行われる。しかしながら、当該反応を室温
より高い温度で、例えば使用した溶剤の沸点で、または
室温より低い温度で、例えば液体のNH3 を使用する
場合−33℃で行うこともできる。
、好ましくは−20〜+30℃の温度、特に室温で(氷
冷しながら)行われる。しかしながら、当該反応を室温
より高い温度で、例えば使用した溶剤の沸点で、または
室温より低い温度で、例えば液体のNH3 を使用する
場合−33℃で行うこともできる。
【0019】アンモノリシスが完了した時、過剰のNH
3 を除去しそして生じた塩化アンモニウムを濾別する
。 収量を増加するため、沈澱物を上述の有機溶剤の一つで
洗浄することができる。溶剤を蒸留により減圧下に除去
すると、ポリシラザンが直接白色粉末として得られる。 ポリシラザンは上記有機溶剤に溶解でき従って表面を被
覆するためにおよび繊維の製造のために使用され得る。
3 を除去しそして生じた塩化アンモニウムを濾別する
。 収量を増加するため、沈澱物を上述の有機溶剤の一つで
洗浄することができる。溶剤を蒸留により減圧下に除去
すると、ポリシラザンが直接白色粉末として得られる。 ポリシラザンは上記有機溶剤に溶解でき従って表面を被
覆するためにおよび繊維の製造のために使用され得る。
【0020】ポリシラザンは不活性な窒素またはアルゴ
ン雰囲気中で800〜1,200℃の温度で熱分解され
て、実質的にSi、NおよびCからなりそして微量のH
およびOをも含み得る非晶質の濃密原料を与え得る。 1,200℃より高い、例えば1,200℃〜1,40
0℃の範囲にある、熱分解温度で、特に非晶質、微晶質
の、結晶相としてα−Si3 N4 を含むセラミック
原料が製造される。
ン雰囲気中で800〜1,200℃の温度で熱分解され
て、実質的にSi、NおよびCからなりそして微量のH
およびOをも含み得る非晶質の濃密原料を与え得る。 1,200℃より高い、例えば1,200℃〜1,40
0℃の範囲にある、熱分解温度で、特に非晶質、微晶質
の、結晶相としてα−Si3 N4 を含むセラミック
原料が製造される。
【0021】特別な利点は、当該ポリシラザンが、熱分
解の前に、種々の方法により造形されて三次元成形物と
し得ることである。
解の前に、種々の方法により造形されて三次元成形物と
し得ることである。
【0022】重要な造形方法は、繊維の延伸である。繊
維は、溶剤、例えばトルエン、THFまたはヘキサン中
のポリシラザンの非常に粘性の溶液から延伸され得る。 繊維は有利には直径80〜150μmの紡糸口金により
延伸される。次の延伸はフィラメントを先細にし、その
結果、熱分解後、直径2〜20μm、特に5〜15μm
の非常に強いフィラメントが製造される。次の熱分解に
より製造される繊維は、繊維強化アルミニウム、アルミ
ニウム合金およびセラミック成分中の機械的強化インサ
ートとして使用される。
維は、溶剤、例えばトルエン、THFまたはヘキサン中
のポリシラザンの非常に粘性の溶液から延伸され得る。 繊維は有利には直径80〜150μmの紡糸口金により
延伸される。次の延伸はフィラメントを先細にし、その
結果、熱分解後、直径2〜20μm、特に5〜15μm
の非常に強いフィラメントが製造される。次の熱分解に
より製造される繊維は、繊維強化アルミニウム、アルミ
ニウム合金およびセラミック成分中の機械的強化インサ
ートとして使用される。
【0023】ポリシラザンの処理のさらに重要な可能性
は、金属、特に鋼上の、またはセラミックス、例えばA
l2 O3 、ZrO2 、MgO、SiCまたはSi
3 N4 上の濃密な、非常に付着性の、非晶質または
微晶質のセラミック被膜の製造である。被覆は、有機溶
剤、例えばトルエン、THFまたはヘキサン中のポリシ
ラザン溶液を用いて行われる。非晶質または微晶質層へ
の熱分解変換は、減圧下に800〜1,200℃または
1,200〜1,400℃の、三次元成形物のために上
述したのと同一の温度範囲で行われる。
は、金属、特に鋼上の、またはセラミックス、例えばA
l2 O3 、ZrO2 、MgO、SiCまたはSi
3 N4 上の濃密な、非常に付着性の、非晶質または
微晶質のセラミック被膜の製造である。被覆は、有機溶
剤、例えばトルエン、THFまたはヘキサン中のポリシ
ラザン溶液を用いて行われる。非晶質または微晶質層へ
の熱分解変換は、減圧下に800〜1,200℃または
1,200〜1,400℃の、三次元成形物のために上
述したのと同一の温度範囲で行われる。
【0024】その優れた付着性、高い硬度および表面の
品質のため、セラミック被膜は、機械負荷および化学的
攻撃を受ける機械部品の表面仕上げに特に適している。
品質のため、セラミック被膜は、機械負荷および化学的
攻撃を受ける機械部品の表面仕上げに特に適している。
【0025】上述のポリシラザンはさらに不活性ガスの
代わりにNH3 雰囲気中で70〜90%の同様に良好
なセラミック収率で熱分解され得る。これにより、事実
上炭素のない、無色明澄の(glass−clear)
、無色の原料を生じる。NH3 中で1,000℃ま
たはそれ以上で熱分解する際、炭素含量は0.5重量%
以下である。熱分解温度により、熱分解生成物は、事実
上純粋な非晶質窒化ケイ素(1,200℃以下での熱分
解)または結晶性Si3 N4 (1,200℃より高
い温度、特に1,300℃より高い温度での熱分解)か
らなる。NH3 中での熱分解は、上述の造形方法によ
り製造される全ての成形物上、即ち粉末から造形される
成形物、繊維および被膜で適用され得る。
代わりにNH3 雰囲気中で70〜90%の同様に良好
なセラミック収率で熱分解され得る。これにより、事実
上炭素のない、無色明澄の(glass−clear)
、無色の原料を生じる。NH3 中で1,000℃ま
たはそれ以上で熱分解する際、炭素含量は0.5重量%
以下である。熱分解温度により、熱分解生成物は、事実
上純粋な非晶質窒化ケイ素(1,200℃以下での熱分
解)または結晶性Si3 N4 (1,200℃より高
い温度、特に1,300℃より高い温度での熱分解)か
らなる。NH3 中での熱分解は、上述の造形方法によ
り製造される全ての成形物上、即ち粉末から造形される
成形物、繊維および被膜で適用され得る。
【0026】従って本発明はさらに、その式またはその
製造方法により特徴づけられる上述の高分子クロロシラ
ザンの一つとアンモニアとを−50℃〜+100℃で反
応しそして結果として生じるポリシラザンを不活性な窒
素またはアルゴン雰囲気中でまたはアンモニア雰囲気中
で800〜1,400℃で熱分解することを特徴とする
、窒化ケイ素を含むセラミック原料の製造方法に関する
。
製造方法により特徴づけられる上述の高分子クロロシラ
ザンの一つとアンモニアとを−50℃〜+100℃で反
応しそして結果として生じるポリシラザンを不活性な窒
素またはアルゴン雰囲気中でまたはアンモニア雰囲気中
で800〜1,400℃で熱分解することを特徴とする
、窒化ケイ素を含むセラミック原料の製造方法に関する
。
【0027】しかしながら、高分子クロロシラザンを窒
化ケイ素を含むセラミック原料に変換することは、中間
体として形成されるポリシラザンを単離しない方法で行
われるのが好ましい。この場合、高分子クロロシラザン
を好ましくは気体のアンモニアと反応し、そして結果と
して生じる反応混合物をアンモニア雰囲気中で熱分解す
る。
化ケイ素を含むセラミック原料に変換することは、中間
体として形成されるポリシラザンを単離しない方法で行
われるのが好ましい。この場合、高分子クロロシラザン
を好ましくは気体のアンモニアと反応し、そして結果と
して生じる反応混合物をアンモニア雰囲気中で熱分解す
る。
【0028】従って、本発明はさらに、その式またはそ
の製造方法によって特徴づけられる上述の高分子クロロ
シラザンの一つとアンモニアとを0〜+300℃で反応
しそして反応生成物をNH3 雰囲気中で800〜1,
400℃で熱分解することを特徴とする、窒化ケイ素を
含むセラミック原料の製造方法に関する。
の製造方法によって特徴づけられる上述の高分子クロロ
シラザンの一つとアンモニアとを0〜+300℃で反応
しそして反応生成物をNH3 雰囲気中で800〜1,
400℃で熱分解することを特徴とする、窒化ケイ素を
含むセラミック原料の製造方法に関する。
【0029】実験報告
1.オリゴヒドリドメチルシラザン[−CH3 SiH
−NH−]n の製造。
−NH−]n の製造。
【0030】メチルジクロロシラン100ml(0.9
7モル)を無水THF800ml中に溶解しそしてアン
モニアを3時間通じた(速度:0.5l/分)。反応温
度を10〜15℃の範囲に氷浴で冷却しながら維持した
。反応を完了するため、混合物を室温で1時間攪拌し、
次いで塩化アンモニウムをアルゴン下に分離した。 沈澱物を2回各々の場合350mlのTHFで洗浄し、
そして合わせたTHF溶液を減圧下に蒸発すると、[−
CH3 SiH−NH−]n (ただし、nは3〜12
である。)の透明な、容易に流動するオイルが理論量の
78%に相当する44.5%の収量で得られた。 2.[−CH3 SiH−NH−]n とCH3 Si
HCl2 との反応。
7モル)を無水THF800ml中に溶解しそしてアン
モニアを3時間通じた(速度:0.5l/分)。反応温
度を10〜15℃の範囲に氷浴で冷却しながら維持した
。反応を完了するため、混合物を室温で1時間攪拌し、
次いで塩化アンモニウムをアルゴン下に分離した。 沈澱物を2回各々の場合350mlのTHFで洗浄し、
そして合わせたTHF溶液を減圧下に蒸発すると、[−
CH3 SiH−NH−]n (ただし、nは3〜12
である。)の透明な、容易に流動するオイルが理論量の
78%に相当する44.5%の収量で得られた。 2.[−CH3 SiH−NH−]n とCH3 Si
HCl2 との反応。
【0031】[−CH3 SiH−NH−]n (n=
3〜12)100g(n=1を基準として、1.7モル
)を−5℃に冷却した。次いでCH3 SiHCl2
48.9g(0.425モル)を攪拌しながら徐々に滴
下して添加しそして当該温度でさらに60分間維持した
。
3〜12)100g(n=1を基準として、1.7モル
)を−5℃に冷却した。次いでCH3 SiHCl2
48.9g(0.425モル)を攪拌しながら徐々に滴
下して添加しそして当該温度でさらに60分間維持した
。
【0032】次にTHF200mlを添加しそしてジメ
チルアミンを、反応混合物の温度が0℃を越えることな
く、飽和が達成されるまで通じた。沈澱したジメチルア
ミン塩酸塩を濾別し、濾液から溶剤および揮発性成分を
除去した。
チルアミンを、反応混合物の温度が0℃を越えることな
く、飽和が達成されるまで通じた。沈澱したジメチルア
ミン塩酸塩を濾別し、濾液から溶剤および揮発性成分を
除去した。
【0033】結果として生じる油状生成物を、ガスクロ
マトグラフィーにより分離し、そして個々の画分をマス
スペクトロメトリーにより調べた。
マトグラフィーにより分離し、そして個々の画分をマス
スペクトロメトリーにより調べた。
【0034】とりわけ、次の分子:
【0035】
【化4】
が検出された。
【0036】これらのジメチルアミノ誘導体は、反応性
α,ω−ジクロロシラザン:
α,ω−ジクロロシラザン:
【0037】
【化5】
から製造される。
3.[−CH3 SiH−NH−]n とビニルメチル
ジクロロシランとの反応。
ジクロロシランとの反応。
【0038】[−CH3 SiH−NH−]n (n=
3〜12)100g(n=1を基準として、1.7モル
)を−5℃に冷却した。次いでビニルメチルジクロロシ
ラン70.5g(0.5モル)を攪拌しながら徐々に滴
下して添加し、そして当該温度をさらに60分間維持し
た。
3〜12)100g(n=1を基準として、1.7モル
)を−5℃に冷却した。次いでビニルメチルジクロロシ
ラン70.5g(0.5モル)を攪拌しながら徐々に滴
下して添加し、そして当該温度をさらに60分間維持し
た。
【0039】次にTHF200mlを添加しそいてジメ
チルアミンを、反応混合物の温度が0℃を越えることな
く、飽和が達成されるまで通じた。沈澱したジメチルア
ミン塩酸塩を濾別し、そして濾液から溶剤を除去した。
チルアミンを、反応混合物の温度が0℃を越えることな
く、飽和が達成されるまで通じた。沈澱したジメチルア
ミン塩酸塩を濾別し、そして濾液から溶剤を除去した。
【0040】結果として生じる油状生成物をガスクロマ
トグラフィーにより分離し、そして個々の画分をマスス
ペクトロメトリーにより調べた。
トグラフィーにより分離し、そして個々の画分をマスス
ペクトロメトリーにより調べた。
【0041】とりわけ、次の分子:
【0042】
【化6】
〔ただし変数は次の意味を有する:
1.a=1 b=0 R=ビニル基2.a=2
b=0 R=ビニル基3.a=3 b=0 R=
ビニル基4.a=1 b=1 R=ビニル基5.a
=2 b=1 R=ビニル基6.a=3 b=1
R=H〕 が検出された。
b=0 R=ビニル基3.a=3 b=0 R=
ビニル基4.a=1 b=1 R=ビニル基5.a
=2 b=1 R=ビニル基6.a=3 b=1
R=H〕 が検出された。
【0043】これらのジメチルアミノ誘導体は、対応す
るα,ω−ジクロロシラザンから製造された。
るα,ω−ジクロロシラザンから製造された。
【0044】実施例1
[−CH3 SiH−NH−]n とCH3 SiHC
l2 との反応、および次のSiCl基を含むシラザン
ポリマーの製造。
l2 との反応、および次のSiCl基を含むシラザン
ポリマーの製造。
【0045】[−CH3 SiH−NH−]n (n=
3〜12)100g(n=1を基準として、1.0モル
)を−5℃に冷却した。次いでCH3 SiHCl2
48.9g(0.425モル)を攪拌しながら徐々に滴
下して添加し、そして当該温度をさらに60分間維持し
た。
3〜12)100g(n=1を基準として、1.0モル
)を−5℃に冷却した。次いでCH3 SiHCl2
48.9g(0.425モル)を攪拌しながら徐々に滴
下して添加し、そして当該温度をさらに60分間維持し
た。
【0046】次に当該混合物を4時間にわたって220
℃の油浴温度に加熱した。内部温度は190℃であった
。この温度で2時間後、当該混合物を冷却した。
℃の油浴温度に加熱した。内部温度は190℃であった
。この温度で2時間後、当該混合物を冷却した。
【0047】20℃で、110gの、硬質のもろい物質
が残り、当該物質をTHFに溶解しそして濾過して不溶
性成分を除去した。濾液から溶剤を除去すると、20℃
でガラス状のかつもろいそして約120℃で再現できる
軟化点を有する透明な原料(95g)が残った。 分析データ(重量%): Si 44.7%;C 19.2%,N 17.
9%;H 6.9%;Cl 11.3% 1100℃までのN2 中での熱分解の際のセラミック
収率:68.5% 1100℃までのNH3 中での熱分解の際のセラミッ
ク収率:58.9% 実施例2 [−CH3 SiH−NH−]n とビニルメチルジク
ロロシランとの反応、および次のSiCl基を含むシラ
ザンポリマーの製造。
が残り、当該物質をTHFに溶解しそして濾過して不溶
性成分を除去した。濾液から溶剤を除去すると、20℃
でガラス状のかつもろいそして約120℃で再現できる
軟化点を有する透明な原料(95g)が残った。 分析データ(重量%): Si 44.7%;C 19.2%,N 17.
9%;H 6.9%;Cl 11.3% 1100℃までのN2 中での熱分解の際のセラミック
収率:68.5% 1100℃までのNH3 中での熱分解の際のセラミッ
ク収率:58.9% 実施例2 [−CH3 SiH−NH−]n とビニルメチルジク
ロロシランとの反応、および次のSiCl基を含むシラ
ザンポリマーの製造。
【0048】[−CH3 SiH−NH−]n (n=
3〜12)100g(n=1を基準として、1.7モル
)を−5℃に冷却した。次いでビニルメチルジクロロシ
ラン70.5g(0.5モル)を攪拌しながら徐々に滴
下して添加し、そして当該温度をさらに60分間維持し
た。
3〜12)100g(n=1を基準として、1.7モル
)を−5℃に冷却した。次いでビニルメチルジクロロシ
ラン70.5g(0.5モル)を攪拌しながら徐々に滴
下して添加し、そして当該温度をさらに60分間維持し
た。
【0049】次に当該混合物を4時間にわたって220
℃の油浴温度に加熱した。内部温度は205℃であった
。2時間後、当該混合物を冷却した。
℃の油浴温度に加熱した。内部温度は205℃であった
。2時間後、当該混合物を冷却した。
【0050】20℃で、114gの、非常に粘性のオイ
ルおよび固体成分の混合物が残った。THFを添加し、
そして当該混合物を濾過する。透明な濾液から溶剤を除
去すると、透明な、僅かに黄色がかった、非常に粘性の
、約5ポアズの粘度を有するオイルが残った。 分析データ(重量%): Si 38.2%;C 31.1%,N 16.
2%;H 7.2%;Cl 7.3% 1100℃までのN2 中での熱分解の際のセラミック
収率:54.2% 1100℃までのNH3 中での熱分解の際のセラミッ
ク収率:42.1% 実施例3 実施例1からのSiCl基を含むシラザンポリマーとア
ンモニアとを反応してSi3 N4 を含むセラミック
原料を製造する。
ルおよび固体成分の混合物が残った。THFを添加し、
そして当該混合物を濾過する。透明な濾液から溶剤を除
去すると、透明な、僅かに黄色がかった、非常に粘性の
、約5ポアズの粘度を有するオイルが残った。 分析データ(重量%): Si 38.2%;C 31.1%,N 16.
2%;H 7.2%;Cl 7.3% 1100℃までのN2 中での熱分解の際のセラミック
収率:54.2% 1100℃までのNH3 中での熱分解の際のセラミッ
ク収率:42.1% 実施例3 実施例1からのSiCl基を含むシラザンポリマーとア
ンモニアとを反応してSi3 N4 を含むセラミック
原料を製造する。
【0051】実施例1からの高分子クロロシラザン20
gをTHF200mlに(保護ガス下に)溶解し次いで
内部温度5〜10℃で飽和が達成されるまでアンモニア
と反応すると、その間に、使用したポリシラザンのSi
Cl基全てがNH基により置換された。
gをTHF200mlに(保護ガス下に)溶解し次いで
内部温度5〜10℃で飽和が達成されるまでアンモニア
と反応すると、その間に、使用したポリシラザンのSi
Cl基全てがNH基により置換された。
【0052】沈澱した塩化アンモニウムを濾別し、そし
て透明な、無色の濾液から溶剤および過剰のNH3 を
除去すると、不融性の、しかし可溶性の、次の組成:S
i 47.1重量% C 22.5重量%H
8.1重量% N 21.8重量%を有す
る白色粉末が残った。 1100℃までのN2 中での熱分解の際のセラミック
収量:79.1重量% 1100℃までのNH3 中での熱分解の際のセラミッ
ク収量:74.9重量%
て透明な、無色の濾液から溶剤および過剰のNH3 を
除去すると、不融性の、しかし可溶性の、次の組成:S
i 47.1重量% C 22.5重量%H
8.1重量% N 21.8重量%を有す
る白色粉末が残った。 1100℃までのN2 中での熱分解の際のセラミック
収量:79.1重量% 1100℃までのNH3 中での熱分解の際のセラミッ
ク収量:74.9重量%
Claims (9)
- 【請求項1】 式I 【化1】 〔式中mは1〜12の値を有しそして−(Si)は式−
SiHR1 Cl、−SiR2 R3 Cl、−SiR
4 Cl2 、−SiR5 Cl−CH2 CH2−S
iR5 Cl2 または−SiCl2 −CH2 CH
2 −SiR6 Cl2 で表されるシリル基であり、
そしてRはC1 〜C6 −アルキル基またはC2 〜
C6 −アルケニル基でありそして、互いに無関係に、
R1 〜R6 は、H、C1 〜C6 −アルキル基ま
たはC2 〜C6 −アルケニル基である。〕で表され
るα,ω−クロロシラザンを、100℃〜400℃の温
度に加熱することを特徴とする、SiCl基を含むシラ
ザンポリマーの製造方法。 - 【請求項2】 式[−RSiH−NH−]n 〔式中
nは約3〜約12である。〕で表されるオリゴヒドリド
オルガニルシラザンと、クロロシランR1 HSiCl
2 、R2 R3 SiCl2 、R4 SiCl3
、Cl2 R5 SiCH2 CH2 SiR5 Cl
2 またはCl3 SiCH2 CH2 SiR6 C
l2 の少なくとも1つとを−20℃〜+50℃で反応
する(ただし、RはC1 〜C6 −アルキル基または
C2 〜C6 −アルケニル基でありそして、互いに無
関係に、R1 〜R6 はH、C1 〜C6 −アルキ
ル基またはC2 〜C6 −アルケニル基である。)こ
とにより得られたα,ω−クロロシラザンを100℃〜
400℃の温度に加熱することを特徴とする、SiCl
基を含むシラザンポリマーの製造方法。 - 【請求項3】 RがCH3 でありそして、互いに無
関係に、R1 〜R6 はH、C1 〜C3 −アルキ
ル基またはC2 〜C3 −アルケニル基である、請求
項1または2記載の方法。 - 【請求項4】 RがCH3 でありそして、互いに無
関係に、R1 〜R6 はH、CH3 またはビニル基
である、請求項1または2記載の方法。 - 【請求項5】 請求項1〜4のいずれか1項に記載の
方法により得られ得る、SiCl基を含むシラザンポリ
マー。 - 【請求項6】 請求項5に記載のSiCl基を含むシ
ラザンポリマーとアンモニアとを−50〜+100℃で
反応し、そして結果として生じるポリシラザンを不活性
な窒素またはアルゴン雰囲気中でまたはアンモニア雰囲
気中で800〜1400℃で熱分解することを特徴とす
る、窒化ケイ素を含むセラミック原料の製造方法。 - 【請求項7】 請求項6記載の方法により得られ得る
窒化ケイ素を含むセラミック原料。 - 【請求項8】 請求項5記載のSiCl基を含むシラ
ザンポリマーとアンモニアとを0〜300℃で反応し、
そして反応生成物をNH3 雰囲気中で800〜140
0℃で熱分解することを特徴とする、窒化ケイ素を含む
セラミック原料の製造方法。 - 【請求項9】 請求項8記載の方法により得られ得る
窒化ケイ素を含むセラミック原料。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE40023834 | 1990-01-27 | ||
| DE4002383A DE4002383A1 (de) | 1990-01-27 | 1990-01-27 | Sicl-gruppen enthaltende silazanpolymere, verfahren zu ihrer herstellung, aus ihnen herstellbare, siliciumnitrid enthaltende keramische materialien, sowie deren herstellung |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04213331A true JPH04213331A (ja) | 1992-08-04 |
Family
ID=6398889
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3007723A Withdrawn JPH04213331A (ja) | 1990-01-27 | 1991-01-25 | SiCl基を含むシラザンポリマー、その製造方法、それから製造され得る窒化ケイ素を含むセラミック原料、およびその製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5187252A (ja) |
| EP (1) | EP0439844A3 (ja) |
| JP (1) | JPH04213331A (ja) |
| CA (1) | CA2034954A1 (ja) |
| DE (1) | DE4002383A1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005350304A (ja) * | 2004-06-10 | 2005-12-22 | Az Electronic Materials Kk | 六面体構造を有するシラザン化合物およびその製造法とそれを用いたコーティング組成物 |
| JP2013542277A (ja) * | 2010-09-29 | 2013-11-21 | フラウンフォーファー−ゲゼルシャフト ズール フェルデルンク デル アンゲヴァンデッテン フォルシュング エ ファウ | 不飽和ポリエステルおよびポリシラザンから成る樹脂およびそれにより製造される熱硬化性反応樹脂の成形材 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0662463B1 (en) * | 1993-12-17 | 2001-06-13 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Yttrium-containing composite powder, composite sintered body, and method of manufacturing same |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4397828A (en) * | 1981-11-16 | 1983-08-09 | Massachusetts Institute Of Technology | Stable liquid polymeric precursor to silicon nitride and process |
| US4543344A (en) * | 1983-11-28 | 1985-09-24 | Dow Corning Corporation | Silicon nitride-containing ceramic material prepared by pyrolysis of hydrosilazane polymers from (R3 Si)2 NH and HSiCl3 |
| US4482669A (en) * | 1984-01-19 | 1984-11-13 | Massachusetts Institute Of Technology | Preceramic organosilazane polymers |
| US4595775A (en) * | 1984-04-06 | 1986-06-17 | Petrarch Systems, Inc. | N-methylhydridosilazanes, polymers thereof, methods of making same and silicon nitrides produced therefrom |
| FR2590584B1 (fr) * | 1985-11-28 | 1988-03-04 | Rhone Poulenc Spec Chim | Procede de preparation, en deux etapes, de reticulats d'organopolysilazanes de tenue thermique amelioree pouvant servir notamment comme precurseur ceramique |
| US4742143A (en) * | 1986-11-04 | 1988-05-03 | Dow Corning Corporation | Preceramic polymers derived from cyclic silazanes, and halosilanes and a method for their preparation |
| FR2616436B1 (fr) * | 1987-06-10 | 1989-12-29 | Europ Propulsion | Copolymeres a liaisons si-n et si-si, polycarbosilazanes obtenus par pyrolyse desdits copolymeres et utilisation desdits polycarbosilazanes pour la preparation de carbonitrure de silicium |
| DE3733727A1 (de) * | 1987-10-06 | 1989-04-20 | Hoechst Ag | Polymere hydridochlorsilazane und verfahren zu ihrer herstellung |
| DE3733728A1 (de) * | 1987-10-06 | 1989-04-20 | Hoechst Ag | Polymere hydridosilazane und verfahren zu ihrer herstellung sowie ihre verwendung |
| DE3840777A1 (de) * | 1988-12-03 | 1990-06-07 | Hoechst Ag | Chlorhaltige, silazanpolymere, verfahren zu ihrer herstellung, aus ihnen herstellbare, siliziumnitrid enthaltende keramische materialien, sowie deren herstellung |
-
1990
- 1990-01-27 DE DE4002383A patent/DE4002383A1/de not_active Withdrawn
- 1990-12-31 EP EP19900125843 patent/EP0439844A3/de not_active Withdrawn
-
1991
- 1991-01-24 US US07/645,264 patent/US5187252A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-01-25 CA CA 2034954 patent/CA2034954A1/en not_active Abandoned
- 1991-01-25 JP JP3007723A patent/JPH04213331A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005350304A (ja) * | 2004-06-10 | 2005-12-22 | Az Electronic Materials Kk | 六面体構造を有するシラザン化合物およびその製造法とそれを用いたコーティング組成物 |
| JP2013542277A (ja) * | 2010-09-29 | 2013-11-21 | フラウンフォーファー−ゲゼルシャフト ズール フェルデルンク デル アンゲヴァンデッテン フォルシュング エ ファウ | 不飽和ポリエステルおよびポリシラザンから成る樹脂およびそれにより製造される熱硬化性反応樹脂の成形材 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA2034954A1 (en) | 1991-07-28 |
| EP0439844A3 (en) | 1993-03-10 |
| DE4002383A1 (de) | 1991-08-01 |
| EP0439844A2 (de) | 1991-08-07 |
| US5187252A (en) | 1993-02-16 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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