JPH0421556U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0421556U JPH0421556U JP6092490U JP6092490U JPH0421556U JP H0421556 U JPH0421556 U JP H0421556U JP 6092490 U JP6092490 U JP 6092490U JP 6092490 U JP6092490 U JP 6092490U JP H0421556 U JPH0421556 U JP H0421556U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sputtering
- holder
- cryostat
- sputtered
- sputtering device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 3
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 1
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 claims 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図から第３図は、本考案の実施例に係るス
パツタ装置の使用態様を示す断面図、第４図イは
、従来のスパツタ装置を用いて成膜を施した被ス
パツタ物質の表面を表すＳＥＭ写真、第４図ロは
、本考案のスパツタ装置を用いて成膜を施した被
スパツタ物質の表面を表わすＳＥＭ写真である。 １……真空容器、２……スパツタ物質、３……
ターゲツト電極、４……ホルダー（被スパツタ物
質保持台）、７……断熱材、８……液体窒素冷却
形クライオスタツト、９……被スパツタ物質。
パツタ装置の使用態様を示す断面図、第４図イは
、従来のスパツタ装置を用いて成膜を施した被ス
パツタ物質の表面を表すＳＥＭ写真、第４図ロは
、本考案のスパツタ装置を用いて成膜を施した被
スパツタ物質の表面を表わすＳＥＭ写真である。 １……真空容器、２……スパツタ物質、３……
ターゲツト電極、４……ホルダー（被スパツタ物
質保持台）、７……断熱材、８……液体窒素冷却
形クライオスタツト、９……被スパツタ物質。
補正 平２．１１．５
図面の簡単な説明を次のように補正する。
明細書の第１０頁第１９行目から第１１頁第４
行目に「第４図イは、……である。」とあるを「
第４図イは、従来のスパツタ装置を用いて成膜を
施した被スパツタ物質の表面の粒子構造を表わす
ＳＥＭ写真、第４図ロは、本考案のスパツタ装置
を用いて成膜を施した表面の粒子構造を表わすＳ
ＥＭ写真である。」と補正する。
行目に「第４図イは、……である。」とあるを「
第４図イは、従来のスパツタ装置を用いて成膜を
施した被スパツタ物質の表面の粒子構造を表わす
ＳＥＭ写真、第４図ロは、本考案のスパツタ装置
を用いて成膜を施した表面の粒子構造を表わすＳ
ＥＭ写真である。」と補正する。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 １ 真空容器内に、ホルダーにより保持された被
スパツタ物質と、ターゲツトたるスパツタ物質と
を配置させたスパツタ装置において、 前記ホルダーと前記被スパツタ物質との間に予
め液体窒素等の極低温液体冷媒によつて冷却され
たクライオスタツト（低温保持部材）を介在させ
てなることを特徴とするスパツタ装置。 ２ 第１請求項において、前記極低温液体冷却形
のクライオスタツトは、メタルブロツクよりなる
スパツタ装置。 ３ 第１請求項又は第２請求項において、前記極
低温液体冷却形のクライオスタツトとホルダーと
の間には、断熱材が配置されるスパツタ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6092490U JPH0421556U (ja) | 1990-06-08 | 1990-06-08 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6092490U JPH0421556U (ja) | 1990-06-08 | 1990-06-08 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0421556U true JPH0421556U (ja) | 1992-02-24 |
Family
ID=31588718
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6092490U Pending JPH0421556U (ja) | 1990-06-08 | 1990-06-08 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0421556U (ja) |
-
1990
- 1990-06-08 JP JP6092490U patent/JPH0421556U/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0421556U (ja) | ||
| JPS6032361U (ja) | 真空蒸着装置に於けるるつぼ交換装置 | |
| JPS619760U (ja) | 電子顕微鏡等における試料冷却装置 | |
| JPS60161166U (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JPS6254982A (ja) | クライオスタツト | |
| JPS61166528U (ja) | ||
| JPH0269969U (ja) | ||
| JPH0388366U (ja) | ||
| JPS6362306A (ja) | クライオスタツト | |
| FUCHS et al. | The material-science space experiment BEALUCA | |
| JPS6127333U (ja) | スパツタ用ウエ−ハホルダ | |
| JPS6025985U (ja) | エネルギ−分散型ｘ線検出装置 | |
| JPH042590U (ja) | ||
| JPS6115968A (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JPH01110256U (ja) | ||
| JPS61173147U (ja) | ||
| JPS6123256U (ja) | 電子顕微鏡等の試料冷却装置 | |
| JPH0330258U (ja) | ||
| JPH0313292A (ja) | 半田付け部品の冷却方法 | |
| JPS62132330A (ja) | 光半導体素子のダイボンド方法 | |
| JPS6120556U (ja) | マスク治具 | |
| JPH031588U (ja) | ||
| JPS62101234U (ja) | ||
| JPS61156232U (ja) | ||
| JPS63127974U (ja) |