JPS6115968A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
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- JPS6115968A JPS6115968A JP13539184A JP13539184A JPS6115968A JP S6115968 A JPS6115968 A JP S6115968A JP 13539184 A JP13539184 A JP 13539184A JP 13539184 A JP13539184 A JP 13539184A JP S6115968 A JPS6115968 A JP S6115968A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- substrate
- holding jig
- axis
- heating source
- Prior art date
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- Pending
Links
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 41
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- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 18
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- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、真空蒸着装置に関する。特に、真空蒸着装置
内の基板保持具の改善に関する。
内の基板保持具の改善に関する。
第３図は、従来例の真空蒸着装置における真空容器の断
面図を示す図である。
面図を示す図である。
真空容器３１と台座３２の接触部に０リング３３を挟み
込み、排気口３８より空気を外部に排気することにより
、真空容器３１内は真空状態に保持される。
込み、排気口３８より空気を外部に排気することにより
、真空容器３１内は真空状態に保持される。
真空容器３１の中には基板保持具３４が取り付けられ、
基板保持具３４の下面に、着膜される基板３５が取り付
けられる。加熱源３６には蒸着しようとする蒸着源金属
３７が載置される。 ′このような真
空装置では、基板３５の両面に真空蒸着するためには、
一方の面に真空蒸着した後に、真空容器３１を大気に戻
してから真空容器３１を開蓋し、基板保持具３４が保持
している基板３５を裏返し、再び真空状態に戻した後に
真空蒸着を行う必要がある。
基板保持具３４の下面に、着膜される基板３５が取り付
けられる。加熱源３６には蒸着しようとする蒸着源金属
３７が載置される。 ′このような真
空装置では、基板３５の両面に真空蒸着するためには、
一方の面に真空蒸着した後に、真空容器３１を大気に戻
してから真空容器３１を開蓋し、基板保持具３４が保持
している基板３５を裏返し、再び真空状態に戻した後に
真空蒸着を行う必要がある。
真空条件としては、１０−’ （Ｔｏｒｒ）以下の真空
にする必要がある。また、真空蒸着に先立って、加熱源
３６、蒸着源金属３７、真空容器３１、基板保持具３４
等のアウトガスを行う必要がある。さらに、真空蒸着後
には、真空内で加熱源３６、蒸着源金属３７、基板保持
具３４および基板３５を冷却する必要がある。
にする必要がある。また、真空蒸着に先立って、加熱源
３６、蒸着源金属３７、真空容器３１、基板保持具３４
等のアウトガスを行う必要がある。さらに、真空蒸着後
には、真空内で加熱源３６、蒸着源金属３７、基板保持
具３４および基板３５を冷却する必要がある。
このために、真空蒸着に約３０分かかるのに対して、排
気から真空蒸着まで約２時間かかり、蒸着完了から取り
出しまで１．５時間かかる。
気から真空蒸着まで約２時間かかり、蒸着完了から取り
出しまで１．５時間かかる。
このように、従来の真空蒸着装置は、生産性が悪い欠点
があった。
があった。
本発明は、この欠点を解決し、真空容器内を大気に戻す
ことなく連続した真空蒸着が可能な真空蒸着装置を提供
することを目的とする。
ことなく連続した真空蒸着が可能な真空蒸着装置を提供
することを目的とする。
本発明の真空蒸着装置は、真空領域を形成する真空容器
と、この真空容器の内部で基板を保持する基板保持具と
、この真空容器の内部で金属を加熱して蒸発させる加熱
源とを備えた真空蒸着装置において、上記加熱源の上方
に配置されたほぼ水平な軸を備え、この軸に上記基板保
持具が取り付けられ、この軸を上記真空容器の外部から
回転させる手段を備えたことを特徴とする。
と、この真空容器の内部で基板を保持する基板保持具と
、この真空容器の内部で金属を加熱して蒸発させる加熱
源とを備えた真空蒸着装置において、上記加熱源の上方
に配置されたほぼ水平な軸を備え、この軸に上記基板保
持具が取り付けられ、この軸を上記真空容器の外部から
回転させる手段を備えたことを特徴とする。
□ 本発明の真空蒸着装置は、真空容器を大気に戻すこ
となしに基板を反転させることが可能である。
となしに基板を反転させることが可能である。
これにより、基板の両面に連続して真空蒸着することが
できる。
できる。
Ｃ実施例〕
第１図と第２図とは、本発明実施例真空蒸着装置を示す
図である。第１図は真空容器部分の断面図であり、第２
図は蓋を取った状態の上面図である。
図である。第１図は真空容器部分の断面図であり、第２
図は蓋を取った状態の上面図である。
台座２の円筒部の上面には、０リング３を埋め込むため
の溝が設けられている。蓋Ｉは、Ｏリング３を挟んで台
座２の上に載置される。排気口１０から空気を排気する
ことにより、蓋１および台座２で囲まれた部分を真空に
することができる。
の溝が設けられている。蓋Ｉは、Ｏリング３を挟んで台
座２の上に載置される。排気口１０から空気を排気する
ことにより、蓋１および台座２で囲まれた部分を真空に
することができる。
台座２０円筒部側面には、回転導入機構８が取り付けら
れ、真空容器外部から、基板保持具４に回転を伝達する
ことができる。台座２の円筒部側面の回転導入機構８と
反対側には、回転支持台９が設けられており、基板保持
具４を回転させるための軸１１は、回転導入機構８に連
結され、回転支持台９によりほぼ水平に支えられている
。
れ、真空容器外部から、基板保持具４に回転を伝達する
ことができる。台座２の円筒部側面の回転導入機構８と
反対側には、回転支持台９が設けられており、基板保持
具４を回転させるための軸１１は、回転導入機構８に連
結され、回転支持台９によりほぼ水平に支えられている
。
基板保持具４と蓋１との距離および基板保持具４と加熱
源６との距離は、基板保持具４示回転可能な長さに設定
されている。
源６との距離は、基板保持具４示回転可能な長さに設定
されている。
基板保持具４には、基板５の裏面を露出するための穴（
例えば矩形の穴）を有し、基板保持具４を回転させるこ
とにより、基板５の両面を加熱源６に向けることができ
る。また、加熱源６の上には蒸着する蒸着源金属７が載
置される。
例えば矩形の穴）を有し、基板保持具４を回転させるこ
とにより、基板５の両面を加熱源６に向けることができ
る。また、加熱源６の上には蒸着する蒸着源金属７が載
置される。
このような構造により、真空容器内を真空状態に保持し
たままで、基板保持具４を自由に回転させることができ
る。
たままで、基板保持具４を自由に回転させることができ
る。
以上説明したように、本発明の真空蒸着装置により、連
続して基板の両面に蒸着することが可能になる。このた
め、従来例の装置では基板の片面に約４時間、基板両面
では８時間かかっていた真空蒸着が、本発明の真空蒸着
装置では、基板両面の真空蒸着が約４．５時間で完了す
る。これにより、約７８％の生産性を向上させる効果が
ある。
続して基板の両面に蒸着することが可能になる。このた
め、従来例の装置では基板の片面に約４時間、基板両面
では８時間かかっていた真空蒸着が、本発明の真空蒸着
装置では、基板両面の真空蒸着が約４．５時間で完了す
る。これにより、約７８％の生産性を向上させる効果が
ある。
また、基板の片面だけに真空蒸着する場合には、基板保
持具の両面に基板を取りつけることにより、同等の生産
性向上が可能である。
持具の両面に基板を取りつけることにより、同等の生産
性向上が可能である。
第１図は本発明実施例真空蒸着装置の真空容器部分の断
面図。 第２図は本発明実施例真空蒸着装置の蓋を取った状態の
上面図。 第３図は従来例真空蒸着装置の真空容器の断面図。 １・・・蓋、２・・・台座、３・・・Ｏリング、４・・
・基板保持具、５・・・基板、６・・・加熱源、７・・
・蒸着源金属、８・・・回転導入機構、９・・・回転支
持台、１ｏ・・・排気口、１１・・・軸、３１・・・真
空容器、３２・・・台座、３３・・・０リング、３４・
・・基板保持具、３５・・・基板、３６・・・加熱源、
３７・・・蒸着源金属、３８・・・排気口。
面図。 第２図は本発明実施例真空蒸着装置の蓋を取った状態の
上面図。 第３図は従来例真空蒸着装置の真空容器の断面図。 １・・・蓋、２・・・台座、３・・・Ｏリング、４・・
・基板保持具、５・・・基板、６・・・加熱源、７・・
・蒸着源金属、８・・・回転導入機構、９・・・回転支
持台、１ｏ・・・排気口、１１・・・軸、３１・・・真
空容器、３２・・・台座、３３・・・０リング、３４・
・・基板保持具、３５・・・基板、３６・・・加熱源、
３７・・・蒸着源金属、３８・・・排気口。
Claims (1)
- （１）真空領域を形成する真空容器と、 この真空容器の内部で基板を保持する基板保持具と、 この真空容器の内部で金属を加熱して蒸発させる加熱源
と を備えた真空蒸着装置において、 上記加熱源の上方に配置されたほぼ水平な軸を備え、 この軸に上記基板保持具が取り付けられ、 この軸を上記真空容器の外部から回転させる手段を備え
た ことを特徴とする真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13539184A JPS6115968A (ja) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13539184A JPS6115968A (ja) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | 真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6115968A true JPS6115968A (ja) | 1986-01-24 |
Family
ID=15150610
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13539184A Pending JPS6115968A (ja) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6115968A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4724076A (en) * | 1985-08-02 | 1988-02-09 | Sasakura Engineering Co., Ltd. | Centrifugal separator for separating sludge in waste water |
| CN100500931C (zh) | 2004-04-30 | 2009-06-17 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 真空镀膜装置 |
-
1984
- 1984-06-29 JP JP13539184A patent/JPS6115968A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4724076A (en) * | 1985-08-02 | 1988-02-09 | Sasakura Engineering Co., Ltd. | Centrifugal separator for separating sludge in waste water |
| CN100500931C (zh) | 2004-04-30 | 2009-06-17 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 真空镀膜装置 |
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