JPH04218039A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は印刷製版用感光材料に関
し、明朝ゴシック再現性に優れ、目伸ばし性の良好な感
光材料に関する。
し、明朝ゴシック再現性に優れ、目伸ばし性の良好な感
光材料に関する。
【0002】
【発明の背景】ハロゲン化銀写真感光材料を用いる写真
用製版過程には連続階調の原稿を網点画像に変換する工
程、即ち連続階調の濃度変化を該濃度に比例する面積を
有する網点の集合体に変換する工程及び該工程で得られ
た網点画像をより鮮鋭度の良好な網点画像に変換する工
程すなわち返し工程などが含まれている。
用製版過程には連続階調の原稿を網点画像に変換する工
程、即ち連続階調の濃度変化を該濃度に比例する面積を
有する網点の集合体に変換する工程及び該工程で得られ
た網点画像をより鮮鋭度の良好な網点画像に変換する工
程すなわち返し工程などが含まれている。
【0003】これらの工程に使用される感光材料は良好
な網点品質を得る必要から高コントラストを有すること
が不可欠とされている。
な網点品質を得る必要から高コントラストを有すること
が不可欠とされている。
【0004】このような特性を得る方法として従来から
比較的微粒子で粒子径分布が狭く、かつ塩化銀含有率の
高い塩臭化銀乳剤よりなる感光材料を亜硫酸イオン濃度
が非常に小さいアルカリハイドロキノン現像液で処理す
る方法、いわゆるリス現像法が知られている。
比較的微粒子で粒子径分布が狭く、かつ塩化銀含有率の
高い塩臭化銀乳剤よりなる感光材料を亜硫酸イオン濃度
が非常に小さいアルカリハイドロキノン現像液で処理す
る方法、いわゆるリス現像法が知られている。
【0005】しかし、この方法を用いると現像液中の亜
硫酸イオン濃度が小さいため保恒性が極めて悪く、かつ
ハイドロキノン単体主薬を用いるために現像速度が遅く
迅速処理ができないという欠点を有していた。
硫酸イオン濃度が小さいため保恒性が極めて悪く、かつ
ハイドロキノン単体主薬を用いるために現像速度が遅く
迅速処理ができないという欠点を有していた。
【0006】従って、保恒性が良好で迅速処理可能な超
加成性現像主薬を含有し、比較的高濃度の亜硫酸塩を含
有するいわゆるPQ型或いはMQ型の現像液による処理
によって高いコントラストが得られる新規な感光材料の
開発が望まれ、この新規な感光材料に関するものとして
特公昭59−17825号、同59−17818号、同
59−17819号、同59−17820号、同59−
17821号、同59−17826号、同59−178
22号の各広報にはテトラゾリウム化合物を含有するハ
ロゲン化銀写真感光材料が開示されている。
加成性現像主薬を含有し、比較的高濃度の亜硫酸塩を含
有するいわゆるPQ型或いはMQ型の現像液による処理
によって高いコントラストが得られる新規な感光材料の
開発が望まれ、この新規な感光材料に関するものとして
特公昭59−17825号、同59−17818号、同
59−17819号、同59−17820号、同59−
17821号、同59−17826号、同59−178
22号の各広報にはテトラゾリウム化合物を含有するハ
ロゲン化銀写真感光材料が開示されている。
【0007】これらのテトラゾリウム化合物を含有する
感光材料を超加成性現像液で処理し、高いコントラスト
を有する銀画像を得る方法は、従来のリス現像の技術に
対し極めて画期的技術ということができる。一方、別の
原理に基ずく、迅速に、かつ高コントラストの画像を得
る方法として、例えば米国特許2419975号、同4
224401号、特開昭51−16623号、同51−
20921号等にみられるように、ヒドラジン化合物を
含有するハロゲン化銀写真感光材料が開示されている。
感光材料を超加成性現像液で処理し、高いコントラスト
を有する銀画像を得る方法は、従来のリス現像の技術に
対し極めて画期的技術ということができる。一方、別の
原理に基ずく、迅速に、かつ高コントラストの画像を得
る方法として、例えば米国特許2419975号、同4
224401号、特開昭51−16623号、同51−
20921号等にみられるように、ヒドラジン化合物を
含有するハロゲン化銀写真感光材料が開示されている。
【0008】しかし、このような硬調な感光材料は、反
面線画撮影を行った際、文字の再現性が劣るという欠点
を有している。即ち、例えば7級の明朝体とゴシック体
が混在する原稿を写真製版用カメラで露光する際に明朝
体の細線が潰れないように露光をひかえると、黒く潰れ
るはずの地の濃度が低下してピンホールが増加したり、
ゴシック体の線幅が所望の太さまで太らずに細く仕上が
る。反対にゴシック体の線幅に合わせるべく露光量を調
節すると、明朝体の細線は潰れてしまう。このため印刷
製版業界では明朝体とゴシック体をわけて撮影し、後工
程で合成するという方法が用いられているが、この方法
は作業量や材料が2倍必要となる。
面線画撮影を行った際、文字の再現性が劣るという欠点
を有している。即ち、例えば7級の明朝体とゴシック体
が混在する原稿を写真製版用カメラで露光する際に明朝
体の細線が潰れないように露光をひかえると、黒く潰れ
るはずの地の濃度が低下してピンホールが増加したり、
ゴシック体の線幅が所望の太さまで太らずに細く仕上が
る。反対にゴシック体の線幅に合わせるべく露光量を調
節すると、明朝体の細線は潰れてしまう。このため印刷
製版業界では明朝体とゴシック体をわけて撮影し、後工
程で合成するという方法が用いられているが、この方法
は作業量や材料が2倍必要となる。
【0009】また目伸ばしと呼ばれている網点に変換さ
れている原稿の拡大、縮小の作業においても、硬調な感
光材料を用いると網点のレンジが詰まるという問題があ
る。そのため目伸ばし作業を行う際には、通常リーフイ
ルターとよばれているフイルターを用いて露光作業を行
っている。しかし、露光の度に毎回フイルターを着脱す
ることや、フイルターの劣化度により、仕上がり品質が
変動し、問題になっている。
れている原稿の拡大、縮小の作業においても、硬調な感
光材料を用いると網点のレンジが詰まるという問題があ
る。そのため目伸ばし作業を行う際には、通常リーフイ
ルターとよばれているフイルターを用いて露光作業を行
っている。しかし、露光の度に毎回フイルターを着脱す
ることや、フイルターの劣化度により、仕上がり品質が
変動し、問題になっている。
【0010】
【発明の目的】上記のような問題に対し、本発明の目的
は、線画のキレを劣化させずに、明朝体及びゴシック体
の再現性を改良するとともに、フイルターを用いずに同
等の目伸ばしを得ることができる印刷製版用ハロゲン化
銀写真感光材料を提供することである。
は、線画のキレを劣化させずに、明朝体及びゴシック体
の再現性を改良するとともに、フイルターを用いずに同
等の目伸ばしを得ることができる印刷製版用ハロゲン化
銀写真感光材料を提供することである。
【0011】
【発明の構成】本発明の上記目的は、支持体の同じ側に
、少なくとも2層以上の塗設層を有するハロゲン化銀写
真感光材料において、該乳剤層が400〜500nmの
領域に分光増感されており、かつ350〜500nmに
吸収ピークを有する染料を感光層と同じ側で支持体から
遠い非感光層に添加し、かつ下記一般式〔I〕または〔
II〕または〔III〕の化合物を感光性層に含有する
ことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料により達成
される。
、少なくとも2層以上の塗設層を有するハロゲン化銀写
真感光材料において、該乳剤層が400〜500nmの
領域に分光増感されており、かつ350〜500nmに
吸収ピークを有する染料を感光層と同じ側で支持体から
遠い非感光層に添加し、かつ下記一般式〔I〕または〔
II〕または〔III〕の化合物を感光性層に含有する
ことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料により達成
される。
【0012】
【化2】
【0013】〔式中、R31は1価の有機残基を表し、
R32は水素原子または1価の有機残基を表し、Q1及
びQ2は水素原子、アルキルスルホニル基(置換基を有
するものも含む)、アリールスルホニル基(置換基を有
するものも含む)を表し、X1は酸素原子またはイオウ
原子を表す。X1が酸素原子であり、かつR32が水素
原子である化合物が更に好ましい。〕尚、本発明におい
ては染料を、感度がLogEで−0.05〜−0.3低
下する量を含有させることが望ましい。
R32は水素原子または1価の有機残基を表し、Q1及
びQ2は水素原子、アルキルスルホニル基(置換基を有
するものも含む)、アリールスルホニル基(置換基を有
するものも含む)を表し、X1は酸素原子またはイオウ
原子を表す。X1が酸素原子であり、かつR32が水素
原子である化合物が更に好ましい。〕尚、本発明におい
ては染料を、感度がLogEで−0.05〜−0.3低
下する量を含有させることが望ましい。
【0014】以下、本発明の詳細について具体的に説明
する。 前記一般式〔I〕において、R1、R2ない
しR3が表す置換基の好ましい例としてアルキル基(例
えばメチル、エチル、シクロプロピル、プロピル、イソ
プロピル、シクロブチル、ブチル、イソブチル、ペンチ
ル、シクロヘキシル等)、アミノ基、アシルアミノ基(
例えばアセチルアミノ)、ヒドロキシル基、アルコキシ
基(例えぱメトキシ、エトキシ、プロポキシ、プトキシ
、ペントキシ等)、アシルオキシ基(例えばアセチルオ
キシ)、ハロゲン原子(例えばフッ素、塩素、臭素等)
、カルバモイル基、アシルチオ基(例えばアセチルチオ
)、アルコキシカルボニル基(例えばエトキシカルボニ
ル)、カルボキシル基、アシル基(例えばアセチル)、
シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、スルホオキシ基、
アミノスルホキシ基のような基が挙げられる。
する。 前記一般式〔I〕において、R1、R2ない
しR3が表す置換基の好ましい例としてアルキル基(例
えばメチル、エチル、シクロプロピル、プロピル、イソ
プロピル、シクロブチル、ブチル、イソブチル、ペンチ
ル、シクロヘキシル等)、アミノ基、アシルアミノ基(
例えばアセチルアミノ)、ヒドロキシル基、アルコキシ
基(例えぱメトキシ、エトキシ、プロポキシ、プトキシ
、ペントキシ等)、アシルオキシ基(例えばアセチルオ
キシ)、ハロゲン原子(例えばフッ素、塩素、臭素等)
、カルバモイル基、アシルチオ基(例えばアセチルチオ
)、アルコキシカルボニル基(例えばエトキシカルボニ
ル)、カルボキシル基、アシル基(例えばアセチル)、
シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、スルホオキシ基、
アミノスルホキシ基のような基が挙げられる。
【0015】前記X−で示されるアニオンとしては、例
えば塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン等の
ハロゲンイオン、硝酸、硫酸、過塩素酸等の無機酸の酸
根、スルホン酸、カルボン酸等の有機酸の酸根、アニオ
ン系の活性剤、具体的にはp−トルエンスルホン酸アニ
オン等の低級アルキルベンゼンスルホン酸アニオン、p
−ドデシルベンゼンスルホン酸アニオン等の高級アルキ
ルベンゼンスルホン酸アニオン、ラウリルスルフェート
アニオン等の高級アルキル硫酸エステルアニオン、テト
ラフェニルボロン等の硼酸系アニオン、ジ−2−エチル
ヘキシルスルホサクシネートアニオン等のジアルキルス
ルホサクシネートアニオン、セチルポリエテノキシサル
フェートアニオン等のポリエーテルアルコール硫酸エス
テルアニオン、ステアリン酸アニオン等の高級脂肪族ア
ニオン、ポリアクリル酸アニオン等のポリマーに酸根の
ついたもの等を挙げることができる。
えば塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン等の
ハロゲンイオン、硝酸、硫酸、過塩素酸等の無機酸の酸
根、スルホン酸、カルボン酸等の有機酸の酸根、アニオ
ン系の活性剤、具体的にはp−トルエンスルホン酸アニ
オン等の低級アルキルベンゼンスルホン酸アニオン、p
−ドデシルベンゼンスルホン酸アニオン等の高級アルキ
ルベンゼンスルホン酸アニオン、ラウリルスルフェート
アニオン等の高級アルキル硫酸エステルアニオン、テト
ラフェニルボロン等の硼酸系アニオン、ジ−2−エチル
ヘキシルスルホサクシネートアニオン等のジアルキルス
ルホサクシネートアニオン、セチルポリエテノキシサル
フェートアニオン等のポリエーテルアルコール硫酸エス
テルアニオン、ステアリン酸アニオン等の高級脂肪族ア
ニオン、ポリアクリル酸アニオン等のポリマーに酸根の
ついたもの等を挙げることができる。
【0016】以下、本発明に用いられる一般式〔I〕で
表される化合物の具体例を挙げるが、本発明の化合物は
これに限定されるものではない。
表される化合物の具体例を挙げるが、本発明の化合物は
これに限定されるものではない。
【0017】
【化3】
【0018】
【化4】
【0019】
【化5】
【0020】
【化6】
【0021】
【化7】
【0022】本発明に用いられるテトラゾリウム化合物
は、例えばケミカル・レビュー(Chemical R
eviews)第55巻、第335頁〜483頁に記載
の方法に従って容易に合成することができる。
は、例えばケミカル・レビュー(Chemical R
eviews)第55巻、第335頁〜483頁に記載
の方法に従って容易に合成することができる。
【0023】本発明の一般式〔I〕で表されるテトラゾ
リウム化合物は、本発明のハロゲン化銀写真感光材料中
に含有されるハロゲン化銀1モル当り約1mg以上10
gまで、好ましくは約10mg以上約2gまでの範囲で
用いられるのが好ましい。
リウム化合物は、本発明のハロゲン化銀写真感光材料中
に含有されるハロゲン化銀1モル当り約1mg以上10
gまで、好ましくは約10mg以上約2gまでの範囲で
用いられるのが好ましい。
【0024】次に一般式〔II〕について説明する
【0
025】
025】
【化8】
【0026】R21で表わされる脂肪族基は、好ましく
は、炭素数6以上のものであって、特に炭素数8〜50
の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。ここで分
岐アルキル基はその中に1つまたはそれ以上のヘラロ原
子を含んだ飽和のヘテロ環を形成するように環化されて
もよい。またこのアルキル基はアリール基、アルコキシ
基、スルホキシ基、等の置換基を有してもよい。
は、炭素数6以上のものであって、特に炭素数8〜50
の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。ここで分
岐アルキル基はその中に1つまたはそれ以上のヘラロ原
子を含んだ飽和のヘテロ環を形成するように環化されて
もよい。またこのアルキル基はアリール基、アルコキシ
基、スルホキシ基、等の置換基を有してもよい。
【0027】R21で表される芳香族基は単環または2
環アリール基または不飽和ヘテロ環基である。ここで不
飽和ヘテロ環基は単環または2環のアリール基と縮合し
てヘテロアリール基を形成してもよい。
環アリール基または不飽和ヘテロ環基である。ここで不
飽和ヘテロ環基は単環または2環のアリール基と縮合し
てヘテロアリール基を形成してもよい。
【0028】例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジ
ン環、ピリミジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、
キノリン環、イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、
チアゾール環、ベンゾチアゾール環等があるがなかでも
ベンゼン環を含むものが好ましい。
ン環、ピリミジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、
キノリン環、イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、
チアゾール環、ベンゾチアゾール環等があるがなかでも
ベンゼン環を含むものが好ましい。
【0029】R21として特に好ましいものはアリール
基である。
基である。
【0030】R21のアリール基または不飽和ヘテロ環
基は置換されていてもよく、代表的な置換基としては直
鎖、分岐または環状のアルキル基(好ましくはアルキル
部分の炭素数が1〜20の単環または2環のもの)、ア
ルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20のもの)、置換
アミノ基(好ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置
換されたアミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素
数2〜30を持つもの)、スルホンアミド基(好ましく
は炭素数1〜30を持つもの)、ウレイド基(好ましく
は炭素数1〜30を持つもの)などがある。
基は置換されていてもよく、代表的な置換基としては直
鎖、分岐または環状のアルキル基(好ましくはアルキル
部分の炭素数が1〜20の単環または2環のもの)、ア
ルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20のもの)、置換
アミノ基(好ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置
換されたアミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素
数2〜30を持つもの)、スルホンアミド基(好ましく
は炭素数1〜30を持つもの)、ウレイド基(好ましく
は炭素数1〜30を持つもの)などがある。
【0031】一般式〔II〕のR22で表される基のう
ち置換されてもよいアルコキシ基としては炭素数1〜2
0のものであって、ハロゲン原子、アリール基などで置
換されていてもよい。
ち置換されてもよいアルコキシ基としては炭素数1〜2
0のものであって、ハロゲン原子、アリール基などで置
換されていてもよい。
【0032】一般式〔II〕においてR22で表される
基のうち置換されてもよいアリールオキシ基またはヘテ
ロ環オキシ基としては単環のものが好ましく、また置換
基としてはハロゲン原子アルキル基、アルコキシ基、シ
アノ基などがある。
基のうち置換されてもよいアリールオキシ基またはヘテ
ロ環オキシ基としては単環のものが好ましく、また置換
基としてはハロゲン原子アルキル基、アルコキシ基、シ
アノ基などがある。
【0033】R22で表される基のうちで好ましいもの
は、置換されてもよいアルコキシ基またはアミノ基であ
る。
は、置換されてもよいアルコキシ基またはアミノ基であ
る。
【0034】アミノ基の場合には−N(A1)(A2)
基でA1およびA2は置換されてもよいアルキル基、ア
ルコシ基または−O−、−S−、−N−基結合を含む環
状構造であってもよい。但しR22がヒドラジノ基であ
ることはない。
基でA1およびA2は置換されてもよいアルキル基、ア
ルコシ基または−O−、−S−、−N−基結合を含む環
状構造であってもよい。但しR22がヒドラジノ基であ
ることはない。
【0035】一般式〔II〕のR21またはR22はそ
の中にカプラー等の不動性写真用添加剤において常用さ
れているバラスト基が組み込まれているものでもよい。 バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、フニノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。
の中にカプラー等の不動性写真用添加剤において常用さ
れているバラスト基が組み込まれているものでもよい。 バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、フニノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。
【0036】一般式〔II〕のR21またはR22はそ
の中にハロゲン化銀粒子表面に対する吸着を強める基が
組み込まれているものでもよい。かかる吸着基としては
、チオ尿素基、複素環チオアミド基、メルカプト複素環
基、トリアゾール基などの米国特許第4,355,10
5号に記載された基があげられる。一般式〔II〕で表
される化合物のうち下記一般式〔II−a〕で表される
化合物は特に好ましい。
の中にハロゲン化銀粒子表面に対する吸着を強める基が
組み込まれているものでもよい。かかる吸着基としては
、チオ尿素基、複素環チオアミド基、メルカプト複素環
基、トリアゾール基などの米国特許第4,355,10
5号に記載された基があげられる。一般式〔II〕で表
される化合物のうち下記一般式〔II−a〕で表される
化合物は特に好ましい。
【0037】
【化9】
【0038】上記一般式〔II−a〕中、R23および
R24は水素原子、置換されてもよいアルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、ブチル基、ドデシル基、2−ヒ
ドロキシプロピル基、2−シアノエチル基、2−クロロ
エチル基)、置換されてもよいフェニル基、ナフチル基
、シクロヘキシル基、ピリジル基、ピロリジル基(例え
ばフェニル基、p−メチルフェニル基、ナフチル基、α
−ヒドロキシナフチル基、シクロヘキシル基、p−メチ
ルシクロヘキシル基、ピリジル基、4−プロピル−2−
ピリジル基、ピロリジル基、4−メチル−2−ピロリジ
ル基)を表し、R25は水素原子または置換されてもよ
いベンジル基、アルコキシ基及びアルキル基(例えばベ
ンジル基、p−メチルベンジル基、メトキシ基、エトキ
シ基、エチル基、ブチル基)を表し、R26及びR27
は2価の芳香族基(例えばフェニレン基またはナフチレ
ン基) を表し、Yはイオウ原子または酸素原子を表し
、Lは2価の結合基(例えば−SO2CH2CH2NH
−SO2NH、−OCH2SO2NH、−O−、−CH
=N−)を表し、R28は−NR′R″または−OR2
9を表し、R′,R″及びR29は水素原子、置換され
てもよいアルキル基(例えばメチル基、エチル基、ドデ
シル基)、フェニル基(例えばフェニル基、p−メチル
フェニル基、p−メトキシフェニル基)、ナフチル基(
例えばα−ナフチル基、β−ナフチル基)又は、複素環
基(例えば、ピリジン、チオフエン、フランの様な不飽
和複素環基、または、テトラヒドロフラン、スルホラン
の様な飽和複素環基)を表し、R′とR″は窒素原子と
共に環(例えば、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン
等)を形成しても良い。
R24は水素原子、置換されてもよいアルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、ブチル基、ドデシル基、2−ヒ
ドロキシプロピル基、2−シアノエチル基、2−クロロ
エチル基)、置換されてもよいフェニル基、ナフチル基
、シクロヘキシル基、ピリジル基、ピロリジル基(例え
ばフェニル基、p−メチルフェニル基、ナフチル基、α
−ヒドロキシナフチル基、シクロヘキシル基、p−メチ
ルシクロヘキシル基、ピリジル基、4−プロピル−2−
ピリジル基、ピロリジル基、4−メチル−2−ピロリジ
ル基)を表し、R25は水素原子または置換されてもよ
いベンジル基、アルコキシ基及びアルキル基(例えばベ
ンジル基、p−メチルベンジル基、メトキシ基、エトキ
シ基、エチル基、ブチル基)を表し、R26及びR27
は2価の芳香族基(例えばフェニレン基またはナフチレ
ン基) を表し、Yはイオウ原子または酸素原子を表し
、Lは2価の結合基(例えば−SO2CH2CH2NH
−SO2NH、−OCH2SO2NH、−O−、−CH
=N−)を表し、R28は−NR′R″または−OR2
9を表し、R′,R″及びR29は水素原子、置換され
てもよいアルキル基(例えばメチル基、エチル基、ドデ
シル基)、フェニル基(例えばフェニル基、p−メチル
フェニル基、p−メトキシフェニル基)、ナフチル基(
例えばα−ナフチル基、β−ナフチル基)又は、複素環
基(例えば、ピリジン、チオフエン、フランの様な不飽
和複素環基、または、テトラヒドロフラン、スルホラン
の様な飽和複素環基)を表し、R′とR″は窒素原子と
共に環(例えば、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン
等)を形成しても良い。
【0039】m,nは0または1を表す。R28がOR
29を表すときYはイオウ原子を表すのが好ましい。
29を表すときYはイオウ原子を表すのが好ましい。
【0040】上記一般式〔II〕及び〔II−a〕で表
される代表的な化合物を以下に示す。
される代表的な化合物を以下に示す。
【0041】
【化10】
【0042】
【化11】
【0043】
【化12】
【0044】
【化13】
【0045】
【化14】
【0046】
【化15】
【0047】
【化16】
【0048】
【化17】
【0049】
【化18】
【0050】
【化19】
【0051】
【化20】
【0052】
【化21】
【0053】
【化22】
【0054】
【化23】
【0055】
【化24】
【0056】
【化25】
【0057】化合物4‐ニトロフェニルヒドラジン15
3gと500mlのジエチルオキザレートを混合し、1
時間還流する。反応を進めながらエタノールを除去して
いき、最後に冷却し結晶を析出させる。濾過し石油エー
テルで数回洗浄し、再結晶する。次に得られた結晶(A
)のうち50gを1000mlのメタノールで加温溶解
し、pd/C(パラジウム・炭素)触媒下に50Psi
のか加圧したH2雰囲気で還元し、化合物(B)を得る
。
3gと500mlのジエチルオキザレートを混合し、1
時間還流する。反応を進めながらエタノールを除去して
いき、最後に冷却し結晶を析出させる。濾過し石油エー
テルで数回洗浄し、再結晶する。次に得られた結晶(A
)のうち50gを1000mlのメタノールで加温溶解
し、pd/C(パラジウム・炭素)触媒下に50Psi
のか加圧したH2雰囲気で還元し、化合物(B)を得る
。
【0058】この化合物(B)22gをアセトニトリル
200mlとピリジン16gの溶液に溶かし室温で化合
物(C)24gのアセトニトリル溶液を滴下した。不溶
物を濾別後、濾液を濃縮し再結晶精製して化合物(D)
31gを得た。
200mlとピリジン16gの溶液に溶かし室温で化合
物(C)24gのアセトニトリル溶液を滴下した。不溶
物を濾別後、濾液を濃縮し再結晶精製して化合物(D)
31gを得た。
【0059】化合物(D)30gを上記と同様に水添を
して化合物(E)20gを得た。
して化合物(E)20gを得た。
【0060】化合物(E)10gをアセトニトリル10
0mlに溶解しエチルイソチオシアネート3.0gを加
え、1時間還流した。溶媒を留去後再結晶精製して化合
物(F)7.0gを得た。化合物(F)5.0gをメタ
ノール50mlに溶解してメチルアミン(40%水溶液
8ml)を加え攪拌した。メタノールを若干濃縮後、析
出した固体をとり出し再結晶精製して化合物II−45
を得た。
0mlに溶解しエチルイソチオシアネート3.0gを加
え、1時間還流した。溶媒を留去後再結晶精製して化合
物(F)7.0gを得た。化合物(F)5.0gをメタ
ノール50mlに溶解してメチルアミン(40%水溶液
8ml)を加え攪拌した。メタノールを若干濃縮後、析
出した固体をとり出し再結晶精製して化合物II−45
を得た。
【0061】
【化26】
【0062】
【化27】
【0063】化合物(B)22gをピリジン200ml
に溶解し攪拌する中へ、p‐ニトロベンゼンスルホニル
クロライド22gを加えた。反応混合物を水あけ、後析
出する固体をとり出し化合物(C)を得た。この化合物
(C)を合成スキームに従って化合物II−45と同様
の反応により化合物II−47を得た。
に溶解し攪拌する中へ、p‐ニトロベンゼンスルホニル
クロライド22gを加えた。反応混合物を水あけ、後析
出する固体をとり出し化合物(C)を得た。この化合物
(C)を合成スキームに従って化合物II−45と同様
の反応により化合物II−47を得た。
【0064】次に一般式〔III〕について説明する。
【0065】
【化28】
【0066】式中、R31は1価の有機残基を表し、R
32は水素原子または1価の有機残基を表し、Q1及び
Q2は水素原子、アルキルスルホニル基 (置換基を有
するものも含む)、アリールスルホニル基 (置換基を
有するものも含む) を表し、X1は酸素原子またはイ
オウ原子を表す。一般式〔I〕で表される化合物のうち
、X1が酸素原子であり、かつR32が水素原子である
化合物が更に好ましい。
32は水素原子または1価の有機残基を表し、Q1及び
Q2は水素原子、アルキルスルホニル基 (置換基を有
するものも含む)、アリールスルホニル基 (置換基を
有するものも含む) を表し、X1は酸素原子またはイ
オウ原子を表す。一般式〔I〕で表される化合物のうち
、X1が酸素原子であり、かつR32が水素原子である
化合物が更に好ましい。
【0067】上記R31及びR32の1価の有機残基と
しては、芳香族残基、複素環残基及び脂肪族残基が包含
される。
しては、芳香族残基、複素環残基及び脂肪族残基が包含
される。
【0068】芳香族残基としては、フェニル基、ナフチ
ル基及びこれらに置換基 (例えばアルキル基、アルコ
キシ基、アシルヒドラジノ基、ジアルキルアミノ基、ア
ルコキシカルボニル基、シアノ基、カルボキシ基、ニト
ロ基、アルキルチオ基、ヒドロキシ基、スルホニル基、
カルバモイル基、ハロゲン原子、アシルアミノ基、スル
ホンアミド基、チオウレア基など) のついたものを含
む。 置換基のついたものの具体例として、例えば、4−メチ
ルフェニル基、4−エチルフェニル基、4−オキシエチ
ルフェニル基、4−ドデシルフェニル基、4−カルボキ
シフェニル基、4−ジエチルアミノフェニル基、4−オ
クチルアミノフェニル基、4−ベンジルアミノフェニル
基、4−アセトアミド−2−メチルフェニル基、4−(
3−エチルチオウレイド)フェニル基、4−[2−(2
,4−ジ−tert−ブチルフェノキシ)ブチルアミド
]フェニル基、4−[2−(2,4−ジ−tert−ブ
チルフェノキシ)ブチルアミド]フェニル基などを挙げ
ることができる。
ル基及びこれらに置換基 (例えばアルキル基、アルコ
キシ基、アシルヒドラジノ基、ジアルキルアミノ基、ア
ルコキシカルボニル基、シアノ基、カルボキシ基、ニト
ロ基、アルキルチオ基、ヒドロキシ基、スルホニル基、
カルバモイル基、ハロゲン原子、アシルアミノ基、スル
ホンアミド基、チオウレア基など) のついたものを含
む。 置換基のついたものの具体例として、例えば、4−メチ
ルフェニル基、4−エチルフェニル基、4−オキシエチ
ルフェニル基、4−ドデシルフェニル基、4−カルボキ
シフェニル基、4−ジエチルアミノフェニル基、4−オ
クチルアミノフェニル基、4−ベンジルアミノフェニル
基、4−アセトアミド−2−メチルフェニル基、4−(
3−エチルチオウレイド)フェニル基、4−[2−(2
,4−ジ−tert−ブチルフェノキシ)ブチルアミド
]フェニル基、4−[2−(2,4−ジ−tert−ブ
チルフェノキシ)ブチルアミド]フェニル基などを挙げ
ることができる。
【0069】複素環残基としては、酸素、窒素、硫黄、
またはセレン原子のうち少なくとも一つを有する五員も
しくは六員の単環または縮合環で、これらに置換基がつ
いてもよい。具体的には例えば、ピロリン環、ピリジン
環、キノリン環、インドール環、オキサゾール環、ベン
ゾオキサゾール環、ナフトオキサゾール環、イミダゾー
ル環、ベンゾイミダゾール環、チアゾリン環、チアゾー
ル環、ベンゾチアゾール環、ナフトチアゾール環、セレ
ナゾール環、ベンゾセレナゾール環、ナフトセレナゾー
ル環などの残基を挙げることが出来る。
またはセレン原子のうち少なくとも一つを有する五員も
しくは六員の単環または縮合環で、これらに置換基がつ
いてもよい。具体的には例えば、ピロリン環、ピリジン
環、キノリン環、インドール環、オキサゾール環、ベン
ゾオキサゾール環、ナフトオキサゾール環、イミダゾー
ル環、ベンゾイミダゾール環、チアゾリン環、チアゾー
ル環、ベンゾチアゾール環、ナフトチアゾール環、セレ
ナゾール環、ベンゾセレナゾール環、ナフトセレナゾー
ル環などの残基を挙げることが出来る。
【0070】これらの複素環は、メチル基、エチル基等
炭素数1〜4のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等
炭素数1〜4のアルコキシ基、フェニル基等の炭素数6
〜18のアリール基や、クロル、ブロム等のハロゲン原
子、アルコキシカルボニル基、シアノ基、アミノ基等で
置換されていてもよい。
炭素数1〜4のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等
炭素数1〜4のアルコキシ基、フェニル基等の炭素数6
〜18のアリール基や、クロル、ブロム等のハロゲン原
子、アルコキシカルボニル基、シアノ基、アミノ基等で
置換されていてもよい。
【0071】脂肪族残基としては、直鎖及び分岐のアル
キル基、シクロアルキル基及びこれらに置換基のついた
もの、並びにアルケニル基及びアルキニル基を含む。
キル基、シクロアルキル基及びこれらに置換基のついた
もの、並びにアルケニル基及びアルキニル基を含む。
【0072】直鎖及び分岐のアルキル基としては、例え
ば炭素数1〜18、好ましくは1〜8のアルキル基であ
って、具体的には例えばメチル基、エチル基、イソブチ
ル基、1−オクチル基等である。
ば炭素数1〜18、好ましくは1〜8のアルキル基であ
って、具体的には例えばメチル基、エチル基、イソブチ
ル基、1−オクチル基等である。
【0073】シクロアルキル基としては、例えば炭素数
3〜10のもので、具体的には例えばシクロプロピル基
、シクロヘキシル基、アダマンチル基等である。アルキ
ル基やシクロアルキル基に対する置換基としてはアルコ
キシ基 (例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、ブトキシ基等)、アルコキシカルボニル基、カルバ
モイル基、ヒドロキシ基、アルキルチオ基、アミド基、
アシロキシ基、シアノ基、スルホニル基、ハロゲン原子
(例えば塩素、臭素、弗素、沃素など)、アリール基
(例えばフェニル基、ハロゲン置換フェニル基、アル
キル置換フェニル基) 等であり、置換されたものの具
体例としては例えば3−メトキシプロピル基、エトキシ
カルボニルメチル基、4−クロロシクロヘキシル基、ベ
ンジル基、p−メチルベンジル基、p−クロロベンジル
基などを挙げることができる。また、アルケニル基とし
ては例えばアリル (allyl) 基、アルキニル基
としては例えばプロパルギル基を挙げることができる。
3〜10のもので、具体的には例えばシクロプロピル基
、シクロヘキシル基、アダマンチル基等である。アルキ
ル基やシクロアルキル基に対する置換基としてはアルコ
キシ基 (例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、ブトキシ基等)、アルコキシカルボニル基、カルバ
モイル基、ヒドロキシ基、アルキルチオ基、アミド基、
アシロキシ基、シアノ基、スルホニル基、ハロゲン原子
(例えば塩素、臭素、弗素、沃素など)、アリール基
(例えばフェニル基、ハロゲン置換フェニル基、アル
キル置換フェニル基) 等であり、置換されたものの具
体例としては例えば3−メトキシプロピル基、エトキシ
カルボニルメチル基、4−クロロシクロヘキシル基、ベ
ンジル基、p−メチルベンジル基、p−クロロベンジル
基などを挙げることができる。また、アルケニル基とし
ては例えばアリル (allyl) 基、アルキニル基
としては例えばプロパルギル基を挙げることができる。
【0074】本発明のヒドラジン化合物の好ましい具体
例を以下に示すが、本発明は何等これによって限定され
るものではない。
例を以下に示すが、本発明は何等これによって限定され
るものではない。
【0075】III−1 1−ホルミル−2−{4−
[2−(2,4−ジ−tert−ブチルフェノキシ)ブ
チルアミド]フェニル}ヒドラジンIII−2 1−
ホルミル−2−(4−ジエチルアミノフェニル)ヒドラ
ジンIII−3 1−ホルミル−2−(p−トリル)
ヒドラジンIII−4 1−ホルミル−2−(4−エ
チルフェニル)ヒドラジンIII−5 1−ホルミル
−2−(4−アセトアミド−2−メチルフェニル)ヒド
ラジンIII−6 1−ホルミル−2−(4−オキシ
エチルフェニル)ヒドラジンIII−7 1−ホルミ
ル−2−(4−N,N−ジヒドロキシエチルアミノフェ
ニル)ヒドラジンIII−8 1−ホルミル−2−[
4−(3−エチルチオウレイド)フェニル)ヒドラジン
III−9 1−チオホルミル−2−{4−[2−(
2,4−ジ−tert−ブチルフェノキシ)ブチルアミ
ド]フェニル}ヒドラジンIII−10 II−ホル
ミル−2−(4−ベンジルアミノフェニル)ヒドラジン
III−11 1−ホルミル−2−(4−オクチルア
ミノフェニル)ヒドラジンIII−12 1−ホルミ
ル−2−(4−ドデシルフェニル)ヒドラジンIII−
13 1−アセチル−2−{4−2−2,4−ジ−t
ert−ブチルフェノキシ)ブチルアミド]フェニル}
ヒドラジンIII−14 4−カルボキシフェニルヒ
ドラジンIII−15 1−アセチル−1−(4−メ
チルフェニルスルホニル)−2−フェニルヒドラジンI
II−16 1−エトキシカルボニル−1−(4−メ
チルフェニルスルホニル)−2−フェニルヒドラジンI
II−17 1−ホルミル−2−(4−ヒドロキシフ
ェニル)−2−(4−メチルフェニルスルホニル)−ヒ
ドラジンIII−18 1−(4−アセトキシフェニ
ル)−2−ホルミル−1−(4−メチルフェニルスルホ
ニル)−ヒドラジンIII−19 1−ホルミル−2
−(4−ヘキサノキシフェニル)−2−(4−メチルフ
ェニルスルホニル)−ヒドラジンIII−20 1−
ホルミル−2−〔4−(テトラヒドロ−2H−ピラン−
2−イルオキシ)−フェニル〕−2−(4−メチルフェ
ニルスルホニル)−ヒドラジンIII−21 1−ホ
ルミル−2−〔4−(3−ヘキシルウレイドフェニル)
〕−2−(4−メチルフェニルスルホニル)−ヒドラジ
ンIII−22 1−ホルミル−2−(4−メチルフ
ェニルスルホ ニル)−2−〔4−(フェノキシチオカ
ルボニ ルアミノ)−フェニル〕−ヒドラジンIII−
23 1−(4−エトキシチオカルボニルアミノフェ
ニル)−2−ホルミル−1−(4−メチルフェニルスル
ホニル)−ヒドラジンIII−24 1−ホルミル−
2−(4−メチルフェニルスルホニル)−2−〔4−(
3−メチル−3−フェニル−2−チオウレイド)−フェ
ニル〕−ヒドラジンIII−25 1−{{4−{3
−〔4−(2,4−ビス−t−アミルフェノキシ)−ブ
チル〕−ウレイド}−フェニル}}−2−ホルミル−1
−(4−メチルフェニルスルホニル)−ヒドラジン
[2−(2,4−ジ−tert−ブチルフェノキシ)ブ
チルアミド]フェニル}ヒドラジンIII−2 1−
ホルミル−2−(4−ジエチルアミノフェニル)ヒドラ
ジンIII−3 1−ホルミル−2−(p−トリル)
ヒドラジンIII−4 1−ホルミル−2−(4−エ
チルフェニル)ヒドラジンIII−5 1−ホルミル
−2−(4−アセトアミド−2−メチルフェニル)ヒド
ラジンIII−6 1−ホルミル−2−(4−オキシ
エチルフェニル)ヒドラジンIII−7 1−ホルミ
ル−2−(4−N,N−ジヒドロキシエチルアミノフェ
ニル)ヒドラジンIII−8 1−ホルミル−2−[
4−(3−エチルチオウレイド)フェニル)ヒドラジン
III−9 1−チオホルミル−2−{4−[2−(
2,4−ジ−tert−ブチルフェノキシ)ブチルアミ
ド]フェニル}ヒドラジンIII−10 II−ホル
ミル−2−(4−ベンジルアミノフェニル)ヒドラジン
III−11 1−ホルミル−2−(4−オクチルア
ミノフェニル)ヒドラジンIII−12 1−ホルミ
ル−2−(4−ドデシルフェニル)ヒドラジンIII−
13 1−アセチル−2−{4−2−2,4−ジ−t
ert−ブチルフェノキシ)ブチルアミド]フェニル}
ヒドラジンIII−14 4−カルボキシフェニルヒ
ドラジンIII−15 1−アセチル−1−(4−メ
チルフェニルスルホニル)−2−フェニルヒドラジンI
II−16 1−エトキシカルボニル−1−(4−メ
チルフェニルスルホニル)−2−フェニルヒドラジンI
II−17 1−ホルミル−2−(4−ヒドロキシフ
ェニル)−2−(4−メチルフェニルスルホニル)−ヒ
ドラジンIII−18 1−(4−アセトキシフェニ
ル)−2−ホルミル−1−(4−メチルフェニルスルホ
ニル)−ヒドラジンIII−19 1−ホルミル−2
−(4−ヘキサノキシフェニル)−2−(4−メチルフ
ェニルスルホニル)−ヒドラジンIII−20 1−
ホルミル−2−〔4−(テトラヒドロ−2H−ピラン−
2−イルオキシ)−フェニル〕−2−(4−メチルフェ
ニルスルホニル)−ヒドラジンIII−21 1−ホ
ルミル−2−〔4−(3−ヘキシルウレイドフェニル)
〕−2−(4−メチルフェニルスルホニル)−ヒドラジ
ンIII−22 1−ホルミル−2−(4−メチルフ
ェニルスルホ ニル)−2−〔4−(フェノキシチオカ
ルボニ ルアミノ)−フェニル〕−ヒドラジンIII−
23 1−(4−エトキシチオカルボニルアミノフェ
ニル)−2−ホルミル−1−(4−メチルフェニルスル
ホニル)−ヒドラジンIII−24 1−ホルミル−
2−(4−メチルフェニルスルホニル)−2−〔4−(
3−メチル−3−フェニル−2−チオウレイド)−フェ
ニル〕−ヒドラジンIII−25 1−{{4−{3
−〔4−(2,4−ビス−t−アミルフェノキシ)−ブ
チル〕−ウレイド}−フェニル}}−2−ホルミル−1
−(4−メチルフェニルスルホニル)−ヒドラジン
【0076】
【化29】
【0077】
【化30】
【0078】
【化31】
【0079】
【化32】
【0080】
【化33】
【0081】
【化34】
【0082】
【化35】
【0083】
【化36】
【0084】一般式〔III〕で表わされるヒドラジン
化合物の添加位置はハロゲン化銀乳剤層及び/または支
持体上のハロゲン化銀乳剤層側にある非感光層であるが
、好ましくは、ハロゲン化銀乳剤層及び/またはその下
層である。添加量は、10−5〜10−1モル/銀1モ
ルが好ましく、更に好ましくは10−4〜10−2モル
/銀1モルである。
化合物の添加位置はハロゲン化銀乳剤層及び/または支
持体上のハロゲン化銀乳剤層側にある非感光層であるが
、好ましくは、ハロゲン化銀乳剤層及び/またはその下
層である。添加量は、10−5〜10−1モル/銀1モ
ルが好ましく、更に好ましくは10−4〜10−2モル
/銀1モルである。
【0085】本発明において、350〜500nmに吸
収ピークを有する染料としては特に限定しないが、例え
ば次の如き染料が挙げられる。
収ピークを有する染料としては特に限定しないが、例え
ば次の如き染料が挙げられる。
【0086】
【化37】
【0087】
【化38】
【0088】
【化39】
【0089】また、400〜500nmの領域に分光増
感させる増感色素としては、公知の青感光増感色素を用
いることが出来る。例えば西独特許929,080号、
米国特許2,231,658号、同2,493,748
号、同2,530,776号、同2,519,001号
、同2,912,329号、同3,656,956号、
同3,672,897号、同3,6494,217号、
同4,025,349号、同4,046,572号、米
国特許1,242,588号、特公昭44−14030
号、同52−24844号、特開昭48−73137号
、同61−172140号等に記載されたものを挙げる
ことができる。
感させる増感色素としては、公知の青感光増感色素を用
いることが出来る。例えば西独特許929,080号、
米国特許2,231,658号、同2,493,748
号、同2,530,776号、同2,519,001号
、同2,912,329号、同3,656,956号、
同3,672,897号、同3,6494,217号、
同4,025,349号、同4,046,572号、米
国特許1,242,588号、特公昭44−14030
号、同52−24844号、特開昭48−73137号
、同61−172140号等に記載されたものを挙げる
ことができる。
【0090】本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用い
るハロゲン化銀については、特に限定はないが、塩化銀
もしくは塩臭化銀が好ましい。塩臭化銀の組成はAgC
l/AgBr=100/0〜2/98のいずれでもよい
が、好ましくはAgCl/AgBr=90/10〜40
/60のモル比である。ハロゲン化銀粒子の平均粒径は
0.10μm〜0.50μmが好ましく、(粒径の標準
偏差)/(平均粒径)×100で表される変動係数が1
5%以下の粒径分布の狭いものがより好ましい。
るハロゲン化銀については、特に限定はないが、塩化銀
もしくは塩臭化銀が好ましい。塩臭化銀の組成はAgC
l/AgBr=100/0〜2/98のいずれでもよい
が、好ましくはAgCl/AgBr=90/10〜40
/60のモル比である。ハロゲン化銀粒子の平均粒径は
0.10μm〜0.50μmが好ましく、(粒径の標準
偏差)/(平均粒径)×100で表される変動係数が1
5%以下の粒径分布の狭いものがより好ましい。
【0091】本発明において用いられるハロゲン化銀は
、種々な増感剤、安定剤等を用いることができる。また
、本発明に特に有利に用いられる親水性コロイドはゼラ
チンである。
、種々な増感剤、安定剤等を用いることができる。また
、本発明に特に有利に用いられる親水性コロイドはゼラ
チンである。
【0092】これらの親水性コロイドはハロゲン化銀を
含有しない層、例えばハレーション防止層、保護層、中
間層等にも適用できる。
含有しない層、例えばハレーション防止層、保護層、中
間層等にも適用できる。
【0093】本発明に用いる支持体としては、例えばポ
リエステルフィルム等感光材料業界で用いている各種支
持体を用いることができる。
リエステルフィルム等感光材料業界で用いている各種支
持体を用いることができる。
【0094】本発明の感光材料は適度の膜厚を有する保
護層、即ち好ましくは0.1〜10μm、特に好ましく
は0.8〜2μmのゼラチン保護層が塗設されているの
が望ましい。
護層、即ち好ましくは0.1〜10μm、特に好ましく
は0.8〜2μmのゼラチン保護層が塗設されているの
が望ましい。
【0095】本発明に用いられる前記親水性コロイド層
には必要に応じて各種写真用添加剤、例えばゼラチン可
塑剤、硬膜剤、界面活性剤、画像安定剤、紫外線吸収剤
、アンチステイン剤、pH調整剤、酸化防止剤、帯電防
止剤、増粘剤、粒状性向上剤、染料、モルダント、増白
剤、現像速度調整剤、マット剤等を本発明の効果が損な
われない範囲内で使用することができる。
には必要に応じて各種写真用添加剤、例えばゼラチン可
塑剤、硬膜剤、界面活性剤、画像安定剤、紫外線吸収剤
、アンチステイン剤、pH調整剤、酸化防止剤、帯電防
止剤、増粘剤、粒状性向上剤、染料、モルダント、増白
剤、現像速度調整剤、マット剤等を本発明の効果が損な
われない範囲内で使用することができる。
【0096】本発明のハロゲン化銀写真感光材料の現像
に用いられる現像主薬としては 、T.H.ジェームス
著ザ・セオリィ・オブ・ザ・フォトグラフィック・プロ
セス第4版(The Theory of the P
hotographic Process,Fourt
h Edition)291〜334頁及びジャーナル
・オブ・ザ・アメリカン・ケミカル・ソサイティ(Jo
urnal of THeAmerican Chem
ical Society)73巻、3,100頁(1
951)に記載されている如き現像剤が本発明に有効に
使用し得るものである。これらの現像剤は単独で使用し
ても2種以上を組み合わせてもよいが、2種以上組み合
わせて用いる方が好ましい。又、本発明の感光材料の現
像に使用する現像液には保恒剤として、例えば亜硫酸ナ
トリウム、ヒドロキシルアミン、ヒドラジド化合物を用
いてもよい。 その他一般白黒現像液で用いられるような苛性アルカリ
、炭酸アルカリ又はアミン等によるpHの調整とバッフ
ァー機能を持たせること、及び臭化カリウムなど無機現
像抑制剤及びベンゾトリアゾール等の有機現像抑制剤、
エチレンジアミン四酢酸等の金属イオン捕捉剤、メタノ
ール、エタノール、ベンジルアルコール、ポリアルキレ
ンオキシド等の現像促進剤、アルキルアリールスルホン
酸ナトリウム、天然のサポニン、糖類又は前記化合物の
アルキルエステル物等の界面活性剤、グルタルアルデヒ
ド、ホルマリン、グリオキザール等の硬膜剤、硫酸ナト
リウム等のイオン強度調整剤等の添加を行うことは任意
である。
に用いられる現像主薬としては 、T.H.ジェームス
著ザ・セオリィ・オブ・ザ・フォトグラフィック・プロ
セス第4版(The Theory of the P
hotographic Process,Fourt
h Edition)291〜334頁及びジャーナル
・オブ・ザ・アメリカン・ケミカル・ソサイティ(Jo
urnal of THeAmerican Chem
ical Society)73巻、3,100頁(1
951)に記載されている如き現像剤が本発明に有効に
使用し得るものである。これらの現像剤は単独で使用し
ても2種以上を組み合わせてもよいが、2種以上組み合
わせて用いる方が好ましい。又、本発明の感光材料の現
像に使用する現像液には保恒剤として、例えば亜硫酸ナ
トリウム、ヒドロキシルアミン、ヒドラジド化合物を用
いてもよい。 その他一般白黒現像液で用いられるような苛性アルカリ
、炭酸アルカリ又はアミン等によるpHの調整とバッフ
ァー機能を持たせること、及び臭化カリウムなど無機現
像抑制剤及びベンゾトリアゾール等の有機現像抑制剤、
エチレンジアミン四酢酸等の金属イオン捕捉剤、メタノ
ール、エタノール、ベンジルアルコール、ポリアルキレ
ンオキシド等の現像促進剤、アルキルアリールスルホン
酸ナトリウム、天然のサポニン、糖類又は前記化合物の
アルキルエステル物等の界面活性剤、グルタルアルデヒ
ド、ホルマリン、グリオキザール等の硬膜剤、硫酸ナト
リウム等のイオン強度調整剤等の添加を行うことは任意
である。
【0097】本発明の現像液には、特開昭56−106
244号に記載のアルカノールアミンなどのアミノ化合
物を用いることができる。
244号に記載のアルカノールアミンなどのアミノ化合
物を用いることができる。
【0098】この他L.F.A.メソン著「フォトグラ
フィック・プロセシン・ケミストリー」、フォーカル・
プレス刊(L.F.A. Mason Photogr
aphic Process−ing Chemist
ry、Focal Press, London )1
966年の226〜229頁、米国特許第2,193,
015号、同2,592,364号、特開昭48−64
933号などに記載のものを用いてもよい。
フィック・プロセシン・ケミストリー」、フォーカル・
プレス刊(L.F.A. Mason Photogr
aphic Process−ing Chemist
ry、Focal Press, London )1
966年の226〜229頁、米国特許第2,193,
015号、同2,592,364号、特開昭48−64
933号などに記載のものを用いてもよい。
【0099】本発明においては感光材料は現像、定着し
た後、水洗又は安定化処理に施される。
た後、水洗又は安定化処理に施される。
【0100】水洗又は安定化処理は本分野で公知のあら
ゆる方法を適用することができる。本発明において感光
材料は、露光後、ラインスピードが1000mm/mi
n以上の自動現像機を用いて、現像、定着、水洗及び/
又は安定化までの全処理が50秒以内となるように超迅
速処理を行ったところ、目伸し特性がさらに良化し、好
ましい。以下超迅速処理について主に説明する。
ゆる方法を適用することができる。本発明において感光
材料は、露光後、ラインスピードが1000mm/mi
n以上の自動現像機を用いて、現像、定着、水洗及び/
又は安定化までの全処理が50秒以内となるように超迅
速処理を行ったところ、目伸し特性がさらに良化し、好
ましい。以下超迅速処理について主に説明する。
【0101】本発明の感光材料は従来のスピードで処理
しても本発明の目的を達成できるが、更に以下のような
超迅速処理にも好ましく適用できる。
しても本発明の目的を達成できるが、更に以下のような
超迅速処理にも好ましく適用できる。
【0102】即ちラインスピードが1000mm/mi
n以上の自動現像機を用い、現像・定着・水洗及び/又
は安定化処理時間が50秒以内という超迅速処理を行う
場合に、色素残色を更に改良できるという効果がある。 以下、超迅速処理について主に説明する。現像液、特に
黒白現像液に用いる現像主薬には良好な性能を得やすい
点で、ジヒドロキシベンゼン類と1−フェニル−3−ピ
ラゾリドン類の組合わせが好ましい。勿論この他にp−
アミノフェノール系現像主薬を含んでもよい。
n以上の自動現像機を用い、現像・定着・水洗及び/又
は安定化処理時間が50秒以内という超迅速処理を行う
場合に、色素残色を更に改良できるという効果がある。 以下、超迅速処理について主に説明する。現像液、特に
黒白現像液に用いる現像主薬には良好な性能を得やすい
点で、ジヒドロキシベンゼン類と1−フェニル−3−ピ
ラゾリドン類の組合わせが好ましい。勿論この他にp−
アミノフェノール系現像主薬を含んでもよい。
【0103】上記ジヒドロキシベンゼン現像主薬として
はハイドロキノン、クロロハイドロキノン、ブロモハイ
ドロキノン、イソプロピルハイドロキノン、メチルハイ
ドロキノン、2,3−ジクロロハイドロキノン、2,5
−ジクロロハイドロキノン、2,3−ジブロモハイドロ
キノン、2,5−ジメチルハイドロキノンなどがあるが
、特にハイドロキノンが好ましい。
はハイドロキノン、クロロハイドロキノン、ブロモハイ
ドロキノン、イソプロピルハイドロキノン、メチルハイ
ドロキノン、2,3−ジクロロハイドロキノン、2,5
−ジクロロハイドロキノン、2,3−ジブロモハイドロ
キノン、2,5−ジメチルハイドロキノンなどがあるが
、特にハイドロキノンが好ましい。
【0104】上記1−フェニル−3−ピラゾリドン又は
その誘導体の現像主薬としては1−フェニル−4,4−
ジメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−メチ
ル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン、1−フ
ェニル−4,4−ジヒドロキシメチル−3−ピラゾリド
ンなどがある。
その誘導体の現像主薬としては1−フェニル−4,4−
ジメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−メチ
ル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン、1−フ
ェニル−4,4−ジヒドロキシメチル−3−ピラゾリド
ンなどがある。
【0105】上記p−アミノフェノール系現像主薬とし
てはN−メチル−p−アミノフェノール、p−アミノフ
ェノール、N−(β−ヒドロキシエチル)−p−アミノ
フェノール、N−(4−ヒドロキシフェニル)グリシン
、2−メチル−p−アミノフェノール、p−ベンジルア
ミノフェノール等があるが、なかでもN−メチル−p−
アミノフェノールが好ましい。
てはN−メチル−p−アミノフェノール、p−アミノフ
ェノール、N−(β−ヒドロキシエチル)−p−アミノ
フェノール、N−(4−ヒドロキシフェニル)グリシン
、2−メチル−p−アミノフェノール、p−ベンジルア
ミノフェノール等があるが、なかでもN−メチル−p−
アミノフェノールが好ましい。
【0106】現像主薬は通常0.01モル/l〜1.2
モル/lの量で用いられるのが好ましい。
モル/lの量で用いられるのが好ましい。
【0107】現像液に保恒剤として亜硫酸塩が用いられ
るが、このような亜硫酸塩としては亜硫酸ナトリウム、
亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アンモニウム
、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、ホルム
アルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある。亜硫酸塩は
0.2モル/l以上、特に0.4モル/l以上が好まし
い。 また、上限は2.5モル/lまでとするのが好ましい。
るが、このような亜硫酸塩としては亜硫酸ナトリウム、
亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アンモニウム
、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、ホルム
アルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある。亜硫酸塩は
0.2モル/l以上、特に0.4モル/l以上が好まし
い。 また、上限は2.5モル/lまでとするのが好ましい。
【0108】現像液のpHは9〜13までの範囲が好ま
しく、更に好ましくはpH10〜12までの範囲である
。pH調整のために用いるアルカリ剤には水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
、第三リン酸ナトリウム、第三リン酸カリウムの如きp
H調整剤を含む。特開昭61−28708号(ホウ酸塩
)、特開昭60−93439号(例えば、サッカロース
、アセトオキシム、5−スルホサルチル酸)、リン酸塩
、炭酸塩などの緩衝剤を用いてもよい。
しく、更に好ましくはpH10〜12までの範囲である
。pH調整のために用いるアルカリ剤には水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
、第三リン酸ナトリウム、第三リン酸カリウムの如きp
H調整剤を含む。特開昭61−28708号(ホウ酸塩
)、特開昭60−93439号(例えば、サッカロース
、アセトオキシム、5−スルホサルチル酸)、リン酸塩
、炭酸塩などの緩衝剤を用いてもよい。
【0109】上記成分以外に用いられる添加剤としては
、臭化ナトリウム、臭化カリウム、沃化カリウムの如き
現像抑制剤:エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ジメチルホルムアルデヒ
ド、メチルセロソルブ、ヘキシレングリコール、エタノ
ール、メタノールの如き有機溶剤:1−フェニル−5−
メルカプトテトラゾール、2−メルカプトベンツイミダ
ゾール−5−スルホン酸ナトリウム塩等のメルカプト系
化合物、5−ニトロインダゾール等のインダゾール系化
合物、5−メチルベンツトリアゾール等のベンツトリア
ゾール系化合物などのカブリ防止剤を含んでもよく、更
に必要に応じ色調剤、界面活性剤、消泡剤、硬水軟化剤
、特開昭56−106244号記載のアミノ化合物など
を含んでもよい。
、臭化ナトリウム、臭化カリウム、沃化カリウムの如き
現像抑制剤:エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ジメチルホルムアルデヒ
ド、メチルセロソルブ、ヘキシレングリコール、エタノ
ール、メタノールの如き有機溶剤:1−フェニル−5−
メルカプトテトラゾール、2−メルカプトベンツイミダ
ゾール−5−スルホン酸ナトリウム塩等のメルカプト系
化合物、5−ニトロインダゾール等のインダゾール系化
合物、5−メチルベンツトリアゾール等のベンツトリア
ゾール系化合物などのカブリ防止剤を含んでもよく、更
に必要に応じ色調剤、界面活性剤、消泡剤、硬水軟化剤
、特開昭56−106244号記載のアミノ化合物など
を含んでもよい。
【0110】本発明においては現像液に、銀汚れ防止剤
、例えば特開昭56−24347号に記載の化合物、特
開昭56−106244号に記載のアルカノールアミン
などのアミノ化合物を用いることができる。
、例えば特開昭56−24347号に記載の化合物、特
開昭56−106244号に記載のアルカノールアミン
などのアミノ化合物を用いることができる。
【0111】この他L.F.A.メソン著「フォトグラ
フィック・プロセシン・ケミストリー」、フォーカル・
プレス刊(L.F.A. Mason Photogr
aphic Processing Chemistr
y、Focal Press, London )19
66年 の226〜229頁、米国特許第2,193,
015号、同2,592,364号、特開昭48−64
933号などに記載のものを用いてもよい。
フィック・プロセシン・ケミストリー」、フォーカル・
プレス刊(L.F.A. Mason Photogr
aphic Processing Chemistr
y、Focal Press, London )19
66年 の226〜229頁、米国特許第2,193,
015号、同2,592,364号、特開昭48−64
933号などに記載のものを用いてもよい。
【0112】本発明において「現像時間」、「定着時間
」とは各々、処理する感光材料が自現機の現像タンク液
に浸漬してから次の定着液に浸漬するまでの時間、定着
タンク液に浸漬してから次の水洗タンク液(安定液)に
浸漬するまでの時間を言う。また「水洗時間」とは、水
洗タンク液に浸漬している時間をいう。
」とは各々、処理する感光材料が自現機の現像タンク液
に浸漬してから次の定着液に浸漬するまでの時間、定着
タンク液に浸漬してから次の水洗タンク液(安定液)に
浸漬するまでの時間を言う。また「水洗時間」とは、水
洗タンク液に浸漬している時間をいう。
【0113】また「乾燥時間」とは通常35℃〜100
℃で好ましくは40℃〜80℃の熱風が吹きつけられる
乾燥ゾーンが、自現機には設置されているが、その乾燥
ゾーンに入っている時間をいう。
℃で好ましくは40℃〜80℃の熱風が吹きつけられる
乾燥ゾーンが、自現機には設置されているが、その乾燥
ゾーンに入っている時間をいう。
【0114】現像温度及び時間は約25℃〜50℃で2
0秒以下であるが好ましくは30℃〜40℃で6秒〜2
0秒である。 定着液はチオ硫酸塩を含む水溶液であり、pH3.8以
上、好ましくは4.2〜5.5を有する。
0秒以下であるが好ましくは30℃〜40℃で6秒〜2
0秒である。 定着液はチオ硫酸塩を含む水溶液であり、pH3.8以
上、好ましくは4.2〜5.5を有する。
【0115】定着剤としてはチオ硫酸ナトリウム、チオ
硫酸アンモニウムがあるが、チオ硫酸イオンとアンモニ
ウムイオンとを必須成分とするものであり、定着速度の
点からチオ硫酸アンモニウムが特に好ましい。定着剤の
使用量は適宜変えることができ、一般には約0.1〜約
6モル/lである。
硫酸アンモニウムがあるが、チオ硫酸イオンとアンモニ
ウムイオンとを必須成分とするものであり、定着速度の
点からチオ硫酸アンモニウムが特に好ましい。定着剤の
使用量は適宜変えることができ、一般には約0.1〜約
6モル/lである。
【0116】定着液には硬膜剤として作用する水溶性ア
ルミニウム塩を含んでも良く、それらには、例えば塩化
アルミニウム、硫酸アンモニウム、カリ明ばんなどがあ
る。定着液には、酒石酸、クエン酸あるいはそれらの導
体を単独で、あるいは2種以上、併用することてができ
る。これらの化合物に定着液1lにつき0.005モル
以上含むものが有効で、特に0.01モル/l〜0.0
3モル/lが特に有効である。
ルミニウム塩を含んでも良く、それらには、例えば塩化
アルミニウム、硫酸アンモニウム、カリ明ばんなどがあ
る。定着液には、酒石酸、クエン酸あるいはそれらの導
体を単独で、あるいは2種以上、併用することてができ
る。これらの化合物に定着液1lにつき0.005モル
以上含むものが有効で、特に0.01モル/l〜0.0
3モル/lが特に有効である。
【0117】具体的には、酒石酸、酒石酸カリウム、酒
石酸ナトリウム、酒石酸カリウムナトリウム、クエン酸
、クエン酸ナトリウム、クエン酸カリウム、クエン酸リ
チウム、クエン酸アンモニウムなどがある。
石酸ナトリウム、酒石酸カリウムナトリウム、クエン酸
、クエン酸ナトリウム、クエン酸カリウム、クエン酸リ
チウム、クエン酸アンモニウムなどがある。
【0118】定着液には所望により保恒剤(例えば、亜
硫酸塩、重亜硫酸塩)、pH緩衡剤(例えば、酢酸、硝
酸)、pH調整剤(例えば硫酸)、硬水軟化能のあるキ
レート剤や特願昭60−213562号記載の化合物を
含むことができる。
硫酸塩、重亜硫酸塩)、pH緩衡剤(例えば、酢酸、硝
酸)、pH調整剤(例えば硫酸)、硬水軟化能のあるキ
レート剤や特願昭60−213562号記載の化合物を
含むことができる。
【0119】定着温度及び時間は約20℃〜約50℃で
6秒〜1分が好ましいが30℃〜40℃で6秒〜30秒
がより好ましく、更に好ましくは30℃〜40℃で6秒
〜20秒である。
6秒〜1分が好ましいが30℃〜40℃で6秒〜30秒
がより好ましく、更に好ましくは30℃〜40℃で6秒
〜20秒である。
【0120】定着液濃縮液が本発明の方法で自動現像機
に、感光材料が処理されるに従って、それを希釈する水
と共に補充される場合、定着液濃縮液はI剤で構成され
ることが最も好ましいことは現像液の場合と同じである
。
に、感光材料が処理されるに従って、それを希釈する水
と共に補充される場合、定着液濃縮液はI剤で構成され
ることが最も好ましいことは現像液の場合と同じである
。
【0121】I剤として定着液現液が安定に存在しうる
のはpH4.5以上であり、より好ましくはpH4.6
5以上である。pH4.5未満では、特に定着液が実際
に使われるまでの期間長年放置された場合にチオ硫酸塩
が分解して最終的には硫化してしまうためである。従っ
てpH4.5以上の範囲では亜硫酸ガスの発生も少なく
、作業環境上も良くなる。pHの上限はそれ程厳しくな
いが余り高pHで定着されると、以後水洗されても膜p
Hが高くなって膜膨潤が大きくなり従って乾燥負荷が大
きくなるのでpH7まで位が限度である。アルミニウム
塩を使って硬膜する定着液ではアルミニウム塩の折出沈
澱防止pH5.5までが限界である。
のはpH4.5以上であり、より好ましくはpH4.6
5以上である。pH4.5未満では、特に定着液が実際
に使われるまでの期間長年放置された場合にチオ硫酸塩
が分解して最終的には硫化してしまうためである。従っ
てpH4.5以上の範囲では亜硫酸ガスの発生も少なく
、作業環境上も良くなる。pHの上限はそれ程厳しくな
いが余り高pHで定着されると、以後水洗されても膜p
Hが高くなって膜膨潤が大きくなり従って乾燥負荷が大
きくなるのでpH7まで位が限度である。アルミニウム
塩を使って硬膜する定着液ではアルミニウム塩の折出沈
澱防止pH5.5までが限界である。
【0122】本発明は現像液または定着液のいずれかが
上記のような希釈水を必要としない(すなわち原液のま
まで補充する)いわゆる使用液であっても構わない。
上記のような希釈水を必要としない(すなわち原液のま
まで補充する)いわゆる使用液であっても構わない。
【0123】各濃縮液の処理タンク液への供給量及び希
釈水との混合割合はそれぞれ濃縮液の組成に依存して種
々変化させることができるが、一般に濃縮液対希釈水は
1対0〜8の割合で、これらの現像液、定着液各々の全
量は感光材料1m2に対して50mlから1500ml
であることが好ましい。
釈水との混合割合はそれぞれ濃縮液の組成に依存して種
々変化させることができるが、一般に濃縮液対希釈水は
1対0〜8の割合で、これらの現像液、定着液各々の全
量は感光材料1m2に対して50mlから1500ml
であることが好ましい。
【0124】本発明においては感光材料は現液、定着し
た後、水洗又は安定化処理に施される。
た後、水洗又は安定化処理に施される。
【0125】水洗又は安定化処理は本分野で公知のあら
ゆる方法を適用することができ、本分野で公知の種々の
添加剤を含有する水を水洗水又は安定化液として用いる
こともできる。防黴手段を施した水を水洗水又は安定化
液に使用することにより、感光材料1m2当たり3l以
下の補充量という節水処理も可能となるのみならず、自
現機設置の配管が不要となり更にストック槽の削減が可
能となる。即ち現像液及び定着液用の調液希釈水及び水
洗水又は安定化液を共通の一槽のストック槽から供給で
き、自動現像機の一層のコンバクト化が可能となる。
ゆる方法を適用することができ、本分野で公知の種々の
添加剤を含有する水を水洗水又は安定化液として用いる
こともできる。防黴手段を施した水を水洗水又は安定化
液に使用することにより、感光材料1m2当たり3l以
下の補充量という節水処理も可能となるのみならず、自
現機設置の配管が不要となり更にストック槽の削減が可
能となる。即ち現像液及び定着液用の調液希釈水及び水
洗水又は安定化液を共通の一槽のストック槽から供給で
き、自動現像機の一層のコンバクト化が可能となる。
【0126】防黴手段を施した水を水洗水又は安定化液
に併用すると、水垢の発生等が有効に防止し得るため、
感光材料1m2当たり0〜3l、好ましくは0〜1l、
の節水処理を行うことができる。
に併用すると、水垢の発生等が有効に防止し得るため、
感光材料1m2当たり0〜3l、好ましくは0〜1l、
の節水処理を行うことができる。
【0127】ここで、補充量が0の場合とは、水洗槽中
の水洗水が自然蒸発等により減少した分だけ適宜補充す
る以外は全く補充を行なわない、即ち実質的に無補充の
いわゆる「ため水」処理方法を行なう場合をいう。
の水洗水が自然蒸発等により減少した分だけ適宜補充す
る以外は全く補充を行なわない、即ち実質的に無補充の
いわゆる「ため水」処理方法を行なう場合をいう。
【0128】補充量を少なくする方法として、古くより
多段向流方式(例えば2段、3段など)が知られている
。この多段向流方式を本発明に適用すれば定着液の感光
材料はだんだんと清浄な方向、つまり定着液で汚れてい
ない処理液の方に順次接触して処理されて行くので、更
に効率の良い水洗がなされる。これによれば、不安定な
チオ硫酸塩等が適度に除去され、変退色の可能性が一層
小さくなって、更に著しい安定化効果が得られる。水洗
水も従来に比べ津、非常に少ない量ですむ。
多段向流方式(例えば2段、3段など)が知られている
。この多段向流方式を本発明に適用すれば定着液の感光
材料はだんだんと清浄な方向、つまり定着液で汚れてい
ない処理液の方に順次接触して処理されて行くので、更
に効率の良い水洗がなされる。これによれば、不安定な
チオ硫酸塩等が適度に除去され、変退色の可能性が一層
小さくなって、更に著しい安定化効果が得られる。水洗
水も従来に比べ津、非常に少ない量ですむ。
【0129】少量の水洗水で水洗するときには特願昭6
0−172968号に記載のスクイズローラー洗浄槽を
設けることがより好ましい。
0−172968号に記載のスクイズローラー洗浄槽を
設けることがより好ましい。
【0130】更に水洗又は安定化浴に防黴手段を施した
水を処理に応じて補充することによって生ずる水洗又は
安定化浴からのオーバーフロー液の一部又は全部は特開
昭60−235133号に記載されているようにその前
の処理工程である定着能を有する処理液に利用すること
もできる。こうすることによって上記ストック水の節水
ができ、しかも廃液がより少なくなるためより好ましい
。
水を処理に応じて補充することによって生ずる水洗又は
安定化浴からのオーバーフロー液の一部又は全部は特開
昭60−235133号に記載されているようにその前
の処理工程である定着能を有する処理液に利用すること
もできる。こうすることによって上記ストック水の節水
ができ、しかも廃液がより少なくなるためより好ましい
。
【0131】防黴手段としては、特開昭60−2639
39号に記された紫外線照射法、同60−263940
号に記された磁場を用いる方法、同61−131632
号に記されたイオン交換樹脂を用いて純水にする方法、
特願昭60−253807号、同60−295894号
、同61−63030号、同61−51396号に記載
の防菌剤を用いる方法を用いることができる。
39号に記された紫外線照射法、同60−263940
号に記された磁場を用いる方法、同61−131632
号に記されたイオン交換樹脂を用いて純水にする方法、
特願昭60−253807号、同60−295894号
、同61−63030号、同61−51396号に記載
の防菌剤を用いる方法を用いることができる。
【0132】更には、L.E.West “Wate
r Quality Criteria”Photo
Sci & Eng. Vol.9No.6(1965
)、M.W.Be−ach “Microbiolog
ical Growths in Motion−Pi
c−ture Processing” SMPTE
Journal Vol.85,(1976).R.O
.Deegan, “Photo Processi
ng WashWater Biocides” J.
Imaging Tech.Vol 10,No.6(
1984)及び特開昭57−8542号、同57−58
143号、同58−105145号、同57−1321
46号、同58−18631号、同57−97530号
、同57−157244号などに記載されている防菌剤
、防バイ剤、界面活性剤などを併用することもできる。
r Quality Criteria”Photo
Sci & Eng. Vol.9No.6(1965
)、M.W.Be−ach “Microbiolog
ical Growths in Motion−Pi
c−ture Processing” SMPTE
Journal Vol.85,(1976).R.O
.Deegan, “Photo Processi
ng WashWater Biocides” J.
Imaging Tech.Vol 10,No.6(
1984)及び特開昭57−8542号、同57−58
143号、同58−105145号、同57−1321
46号、同58−18631号、同57−97530号
、同57−157244号などに記載されている防菌剤
、防バイ剤、界面活性剤などを併用することもできる。
【0133】更に水洗浴には、R.T.Kreiman
著J.Image,Tech 10,(6) 242
(1984)に記載されたイソチアゾリン系化合物、
RESEARCH DISCLOSURE 第205巻
、Item 20526 (1981年、5月号)に記
載されたイソチアゾリン系化合物、同第228巻、It
em 22845 (1983年、4月号)に記載され
たイソチアゾリン系化合物特願昭61−51396号に
記載された化合物、などを防菌剤(Microbioc
ide)として併用することもできる。
著J.Image,Tech 10,(6) 242
(1984)に記載されたイソチアゾリン系化合物、
RESEARCH DISCLOSURE 第205巻
、Item 20526 (1981年、5月号)に記
載されたイソチアゾリン系化合物、同第228巻、It
em 22845 (1983年、4月号)に記載され
たイソチアゾリン系化合物特願昭61−51396号に
記載された化合物、などを防菌剤(Microbioc
ide)として併用することもできる。
【0134】更に防バイ剤の具体例としては、フェノー
ル、4−クロロフェノール、ペンタクロロフェノール、
クレゾール、O−フェニルフェノール、クロロフェン、
ジクロロフェン、ホルムアルデヒド、グルタールアルデ
ヒド、クロルアセトアミド、p−ヒドロキシ安息香酸エ
ステル、2−(4−チアゾリン)−ベンゾイミダゾール
、ベンゾイソチアゾリン−3−オン、ドデシル−ベンジ
ル−ジメチルアンモニウム−クロライド、N−(フルオ
ロジクロロメチルチオ)−フタルイミド、2,4,4′
−トリクロロ−2′−ハイドロオキシジフェニルエーテ
ルなどである。
ル、4−クロロフェノール、ペンタクロロフェノール、
クレゾール、O−フェニルフェノール、クロロフェン、
ジクロロフェン、ホルムアルデヒド、グルタールアルデ
ヒド、クロルアセトアミド、p−ヒドロキシ安息香酸エ
ステル、2−(4−チアゾリン)−ベンゾイミダゾール
、ベンゾイソチアゾリン−3−オン、ドデシル−ベンジ
ル−ジメチルアンモニウム−クロライド、N−(フルオ
ロジクロロメチルチオ)−フタルイミド、2,4,4′
−トリクロロ−2′−ハイドロオキシジフェニルエーテ
ルなどである。
【0135】防黴手段を施して水ストック槽に保存され
た水は前記現像液定着液などの処理液原液の希釈水とそ
の添加量は好ましくは0.01〜10g/l、より好ま
しくは0.1〜5g/lである。
た水は前記現像液定着液などの処理液原液の希釈水とそ
の添加量は好ましくは0.01〜10g/l、より好ま
しくは0.1〜5g/lである。
【0136】更に水洗水中には銀画像安定化剤の他に水
滴むらを防止する目的で、各種の界面活性剤を添加する
ことができる。界面活性剤としては、陽イオン型、陰イ
オン型、非イオン型および両イオン型のいずれを用いて
もよい。界面活性剤の具体例としてはたとえば工学図書
(株)発行の「界面活性剤ハンドブック」に記載されて
いる化合物などがある。
滴むらを防止する目的で、各種の界面活性剤を添加する
ことができる。界面活性剤としては、陽イオン型、陰イ
オン型、非イオン型および両イオン型のいずれを用いて
もよい。界面活性剤の具体例としてはたとえば工学図書
(株)発行の「界面活性剤ハンドブック」に記載されて
いる化合物などがある。
【0137】上記安定化浴中には画像を安定化する目的
で各種化合物が添加される。例えば膜pHを調整する(
例えばpH3〜8)ための各種の緩衝剤(例えばホウ酸
塩、メタホウ酸塩、ホウ砂、リン酸塩、炭酸塩、水酸化
カリ、水酸化ナトリウム、アンモニア水、モノカルボン
酸、ジカルボン酸、ポリカルボン酸などを組み合わせて
使用)やホルマリンなどのアルデヒドを代表例として挙
げることができる。その他、キレート剤、殺菌剤(チア
ゾール系、イソチアゾール系、ハロゲン化フェノール、
スルファニルアミド、ベンゾトリアゾールなど)、界面
活性剤、蛍光増白剤、硬膜剤などの各種添加剤を使用し
てもよく、同一もしくは異種の目的の化合物を2種以上
併用しても良い。
で各種化合物が添加される。例えば膜pHを調整する(
例えばpH3〜8)ための各種の緩衝剤(例えばホウ酸
塩、メタホウ酸塩、ホウ砂、リン酸塩、炭酸塩、水酸化
カリ、水酸化ナトリウム、アンモニア水、モノカルボン
酸、ジカルボン酸、ポリカルボン酸などを組み合わせて
使用)やホルマリンなどのアルデヒドを代表例として挙
げることができる。その他、キレート剤、殺菌剤(チア
ゾール系、イソチアゾール系、ハロゲン化フェノール、
スルファニルアミド、ベンゾトリアゾールなど)、界面
活性剤、蛍光増白剤、硬膜剤などの各種添加剤を使用し
てもよく、同一もしくは異種の目的の化合物を2種以上
併用しても良い。
【0138】また、処理液の膜pH調整剤として塩化ア
ンモニウム、硝酸アンモニウム、硫酸アンモニウム、リ
ン酸アンモニウム、亜硫酸アンモニウム、チオ硫酸アン
モニウム等の各種アンモニウム塩を添加するのが画像保
存性を良化するために好ましい。
ンモニウム、硝酸アンモニウム、硫酸アンモニウム、リ
ン酸アンモニウム、亜硫酸アンモニウム、チオ硫酸アン
モニウム等の各種アンモニウム塩を添加するのが画像保
存性を良化するために好ましい。
【0139】上記の方法による水洗または安定浴温度及
び時間は0℃〜50℃で6秒〜1分が好ましいが15℃
〜40℃で6秒から30秒がより好ましく、更には15
℃〜40℃で6秒から15秒が好ましい。
び時間は0℃〜50℃で6秒〜1分が好ましいが15℃
〜40℃で6秒から30秒がより好ましく、更には15
℃〜40℃で6秒から15秒が好ましい。
【0140】本発明の方法によれば、現像、定着及び水
洗された写真材料は水洗水をしぼり切る、すなわちスク
イズローラ法を経て乾燥される。乾燥は約40℃〜約1
00℃で行なわれ、乾燥時間は周囲の状態によって適宜
変えられるが、通常は約5秒〜1分でよいが、より好ま
しくは40℃〜80℃で約5秒〜30秒である。
洗された写真材料は水洗水をしぼり切る、すなわちスク
イズローラ法を経て乾燥される。乾燥は約40℃〜約1
00℃で行なわれ、乾燥時間は周囲の状態によって適宜
変えられるが、通常は約5秒〜1分でよいが、より好ま
しくは40℃〜80℃で約5秒〜30秒である。
【0141】本発明においては、感光材料における膨潤
百分率を低減する程その乾燥時間を短縮できるという更
に優れた効果を発揮する。
百分率を低減する程その乾燥時間を短縮できるという更
に優れた効果を発揮する。
【0142】本発明の方法によれば、現像、定着、水洗
及び乾燥されるまでのいわゆる Dryto Dryの
処理時間は100秒以内、好ましくは60秒以内で処理
されることである。ここで“dry to dry”と
は処理される感材の先端が自現機のフィルム挿入部分に
入った瞬間から、処理されて、同先端が自現機から出て
くる瞬間までの時間を言う。
及び乾燥されるまでのいわゆる Dryto Dryの
処理時間は100秒以内、好ましくは60秒以内で処理
されることである。ここで“dry to dry”と
は処理される感材の先端が自現機のフィルム挿入部分に
入った瞬間から、処理されて、同先端が自現機から出て
くる瞬間までの時間を言う。
【0143】
【実施例】以下に具体的実施例を示して、本発明を更に
詳しく説明する。
詳しく説明する。
【0144】実施例1
〔乳剤(A)の調製方法〕
次に示すA液、B液、C液の溶液を用いて塩臭化銀乳剤
を調製した。 <溶液A> オセインゼラチン
17g ポリイソプロピレン−ポリエチレンオキシジ
コハク酸 エステルナトリウム塩10%エタノール水
溶液 5ml 蒸留
水
1280ml<溶液B> 硝酸銀
170g 蒸留水
410ml<溶液C> 塩化ナトリウム
45.0g 臭化カリウム
27.4g 三塩化ロジウム3水塩
28μg ポリイソプロピレ
ンオキシジコハク酸エステルナトリウム塩 10%エ
タノール溶液
3ml オ
セインゼラチン
11g
蒸留水
407ml 溶液Aを40℃に保温した後EAg値が160mVにな
る様に塩化ナトリウムを添加した。
を調製した。 <溶液A> オセインゼラチン
17g ポリイソプロピレン−ポリエチレンオキシジ
コハク酸 エステルナトリウム塩10%エタノール水
溶液 5ml 蒸留
水
1280ml<溶液B> 硝酸銀
170g 蒸留水
410ml<溶液C> 塩化ナトリウム
45.0g 臭化カリウム
27.4g 三塩化ロジウム3水塩
28μg ポリイソプロピレ
ンオキシジコハク酸エステルナトリウム塩 10%エ
タノール溶液
3ml オ
セインゼラチン
11g
蒸留水
407ml 溶液Aを40℃に保温した後EAg値が160mVにな
る様に塩化ナトリウムを添加した。
【0145】次に特開昭57−92523号と同57−
92524号記載の混合撹拌機を用いて、ダブルジェッ
ト法にて溶液B及び溶液Cを添加した。
92524号記載の混合撹拌機を用いて、ダブルジェッ
ト法にて溶液B及び溶液Cを添加した。
【0146】添加流量は表−1に示した様に、全添加時
間80分の間に亘って、徐々に添加流量を増加させEA
g値を一定に保ちながら添加を行った。
間80分の間に亘って、徐々に添加流量を増加させEA
g値を一定に保ちながら添加を行った。
【0147】EAg値は160mVより添加開始5分後
に3ml/lの塩化ナトリウム水溶液を用いてEAg値
120mVに変化させ、以後混合の完了迄この値を維持
した。
に3ml/lの塩化ナトリウム水溶液を用いてEAg値
120mVに変化させ、以後混合の完了迄この値を維持
した。
【0148】EAg値を一定に保つため、3モル/lの
塩化ナトリウム水溶液を用いてEAg値を制御した。
塩化ナトリウム水溶液を用いてEAg値を制御した。
【0149】
【表1】
【0150】EAg値の測定には、金属銀電極と、ダブ
ルジャンクション型飽和 Ag/AgCl比較電極を用
いた(電極の構成は、特開昭57−197534号に開
示されるダブルジャンクションを使用した。)。
ルジャンクション型飽和 Ag/AgCl比較電極を用
いた(電極の構成は、特開昭57−197534号に開
示されるダブルジャンクションを使用した。)。
【0151】又、溶液B液、C液の添加には、流量可変
型のローラーチューブ定量ポンプを用いた。 又、添加中、乳剤のサンプリングにより、系内に新たな
粒子の発生が認められないことを電子顕微鏡により観察
し、確認している。
型のローラーチューブ定量ポンプを用いた。 又、添加中、乳剤のサンプリングにより、系内に新たな
粒子の発生が認められないことを電子顕微鏡により観察
し、確認している。
【0152】又、添加中、系のpH値を3.0に一定に
保つように3%硝酸水溶液で制御した。B液、C液を添
加終了後、乳剤は10分間オストワルド熟成した後、常
法により脱塩、水洗を行い、その後オセインゼラチンの
水溶液600ml(オセインゼラチン30g含有)を加
えて、55℃、30分間撹拌により分散した後、750
mlに調整した。乳剤(A)に対して金硫黄増感を施し
た後、臭化カリウムをハロゲン化銀1モル当たり500
mg添加し、次に増感色素Aを乳剤中に含まれるハロゲ
ン化銀1モルあたり300mg、10分間停滞した後、
安定剤として4‐ヒドロキシ‐6−メチル−1,3,3
a,7−テトラザインデンを加え、増感色素Bを乳剤中
に含まれるハロゲン銀1モルあたり100mg添加した
。
保つように3%硝酸水溶液で制御した。B液、C液を添
加終了後、乳剤は10分間オストワルド熟成した後、常
法により脱塩、水洗を行い、その後オセインゼラチンの
水溶液600ml(オセインゼラチン30g含有)を加
えて、55℃、30分間撹拌により分散した後、750
mlに調整した。乳剤(A)に対して金硫黄増感を施し
た後、臭化カリウムをハロゲン化銀1モル当たり500
mg添加し、次に増感色素Aを乳剤中に含まれるハロゲ
ン化銀1モルあたり300mg、10分間停滞した後、
安定剤として4‐ヒドロキシ‐6−メチル−1,3,3
a,7−テトラザインデンを加え、増感色素Bを乳剤中
に含まれるハロゲン銀1モルあたり100mg添加した
。
【0153】
【化40】
【0154】次いでハロゲン化銀1モル当り一般式〔I
〕のテトラゾリウム化合物を表1に示す量加え、更にp
−ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ300mg、スチ
レン−マレイン酸共重合体がポリマー2g、スチレン−
ブチルアクリレート−アクリル酸共重合体ラテックス(
平均粒径約0.25μm)1.25g/m2を加えて、
Ag量4.0g/m2、ゼラチン量2.00/m2にな
るように特開昭59−19941号実施例(1)に記載
の下引を施したポリエチレンテレフタレートフィルムベ
ース上に塗布した。その際ゼラチン量0.75g/m2
になるように延展剤として、ビス−(2ーエチルヘキシ
ル)スルホコハク酸エステルを10mg/m2、更に表
−1に示すごとく染料を加え、硬膜剤としてホルマリン
15g/m2、グリオキザール8mg/m2を含む保護
層を同時重層塗布した。表−2にその試料の構成を示す
。
〕のテトラゾリウム化合物を表1に示す量加え、更にp
−ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ300mg、スチ
レン−マレイン酸共重合体がポリマー2g、スチレン−
ブチルアクリレート−アクリル酸共重合体ラテックス(
平均粒径約0.25μm)1.25g/m2を加えて、
Ag量4.0g/m2、ゼラチン量2.00/m2にな
るように特開昭59−19941号実施例(1)に記載
の下引を施したポリエチレンテレフタレートフィルムベ
ース上に塗布した。その際ゼラチン量0.75g/m2
になるように延展剤として、ビス−(2ーエチルヘキシ
ル)スルホコハク酸エステルを10mg/m2、更に表
−1に示すごとく染料を加え、硬膜剤としてホルマリン
15g/m2、グリオキザール8mg/m2を含む保護
層を同時重層塗布した。表−2にその試料の構成を示す
。
【0155】
【表2】
【0156】得られた試料の一部に明朝体−ゴシック体
が混在した線画原稿を撮影し、感度及び明朝−ゴシック
再現性を評価した。また別の一部を用いて目伸ばし撮影
(100%→200%の拡大)を行った。ただし試料1
については目伸ばしの後、さらにリーフィルターNo.
101を用いて露光した。
が混在した線画原稿を撮影し、感度及び明朝−ゴシック
再現性を評価した。また別の一部を用いて目伸ばし撮影
(100%→200%の拡大)を行った。ただし試料1
については目伸ばしの後、さらにリーフィルターNo.
101を用いて露光した。
【0157】露光を与えた試料は、下記の処方による現
像液及び定着液を用いて自動現像機にて処理した。
像液及び定着液を用いて自動現像機にて処理した。
【0158】<現像処理条件>
(工程) (温度) (時
間)現像 28℃
30秒定着 28
℃ 約20秒水洗
常温 約20秒乾燥
50℃ 1
5秒<現像液処方> (組成A) 純水(イオン交換水)
150ml エチレンジアミン四酢酸2ナトリウム塩
2g ジ
エチレングリコール
50g
亜硫酸カリウム(55%w/v水溶液)
100ml
炭酸カリウム
50g ハイドロキノン
15g 5−メチルベンゾトリアゾール
200mg 1−フェニル−5−メルカプ
トテトラゾール
30mg 水酸化カリウム 使用液のpHを
10.4にする量 臭化カリウム
4.5g(組成B) 純水(イオン交換水)
3ml ジエチレングリコール
50g エチレンジアミン四酢酸2ナトリウム塩
25mg
酢酸(90%水溶液)
0.3ml 5−ニトロインダゾール
110mg 1−フェニル−3−ピラゾリド
ン
700mg ブチルアミンジエタノー
ルアミン
15g 現像液の使用時に水500ml中に上記組成A、組
成Bの順に溶かし、1lに仕上げて用いた。 <定着液処方> (組成A) チオ硫酸アンモニウム(72.5%w/v水溶液)
240ml
亜硫酸ナトリウム
1
7g 酢酸ナトリウム・3水塩
6.5g 硼酸
6g クエン酸ナトリウム・2
水塩
2g 酢酸(90%w/w水溶液)
13.6ml(組成B) 純水(イオン交換水)
17ml 硫酸(50%w/w水溶液)
4.7g 硫酸アルミニウム(Al2O
3換算含量が8.1%w/wの水溶液)
26.5g 定着液の使用時に水500ml中に上記組成A、組成B
の順に溶かし、1lに仕上げて用いた。この定着液のp
Hは約4.3であった。
間)現像 28℃
30秒定着 28
℃ 約20秒水洗
常温 約20秒乾燥
50℃ 1
5秒<現像液処方> (組成A) 純水(イオン交換水)
150ml エチレンジアミン四酢酸2ナトリウム塩
2g ジ
エチレングリコール
50g
亜硫酸カリウム(55%w/v水溶液)
100ml
炭酸カリウム
50g ハイドロキノン
15g 5−メチルベンゾトリアゾール
200mg 1−フェニル−5−メルカプ
トテトラゾール
30mg 水酸化カリウム 使用液のpHを
10.4にする量 臭化カリウム
4.5g(組成B) 純水(イオン交換水)
3ml ジエチレングリコール
50g エチレンジアミン四酢酸2ナトリウム塩
25mg
酢酸(90%水溶液)
0.3ml 5−ニトロインダゾール
110mg 1−フェニル−3−ピラゾリド
ン
700mg ブチルアミンジエタノー
ルアミン
15g 現像液の使用時に水500ml中に上記組成A、組
成Bの順に溶かし、1lに仕上げて用いた。 <定着液処方> (組成A) チオ硫酸アンモニウム(72.5%w/v水溶液)
240ml
亜硫酸ナトリウム
1
7g 酢酸ナトリウム・3水塩
6.5g 硼酸
6g クエン酸ナトリウム・2
水塩
2g 酢酸(90%w/w水溶液)
13.6ml(組成B) 純水(イオン交換水)
17ml 硫酸(50%w/w水溶液)
4.7g 硫酸アルミニウム(Al2O
3換算含量が8.1%w/wの水溶液)
26.5g 定着液の使用時に水500ml中に上記組成A、組成B
の順に溶かし、1lに仕上げて用いた。この定着液のp
Hは約4.3であった。
【0159】処理し得られた試料を次ぎのごとく評価し
た。感度は各々の試料1のリーフィルターなしを100
とし、相対感度で示した。
た。感度は各々の試料1のリーフィルターなしを100
とし、相対感度で示した。
【0160】キレは明朝体の細線を100倍のルーペで
観察し、フリンジの有無から評価した。ランク5が最良
で、ランク3は市場に受け入れられる下限であり、それ
以下は特殊な用途にのみ使用することができる。
観察し、フリンジの有無から評価した。ランク5が最良
で、ランク3は市場に受け入れられる下限であり、それ
以下は特殊な用途にのみ使用することができる。
【0161】明朝−ゴシック再現性は、明朝体の50μ
mの細線原稿(ポジ)を50μmのネガに返した時、ゴ
シック体文字中の巾50μmの白ヌケの部分が何μmの
黒化部になるかを示したものであり、50μmに近い程
、優れる。
mの細線原稿(ポジ)を50μmのネガに返した時、ゴ
シック体文字中の巾50μmの白ヌケの部分が何μmの
黒化部になるかを示したものであり、50μmに近い程
、優れる。
【0162】目伸ばしについては、網%が95%の原稿
が5%になる露光条件で撮影した時、49%の原稿が何
%になるかで評価を行った。51%に近い程優れている
。
が5%になる露光条件で撮影した時、49%の原稿が何
%になるかで評価を行った。51%に近い程優れている
。
【0163】以上の評価結果を表−3に示した。
【0164】
【表3】
【0165】以上の結果より、感光性層より非感光性層
に染料を添加することにより、線画のキレを損なうこと
なく明朝体−ゴシック体再現性、目伸ばし性を良好に改
善することができた。特に染料の添加量はlogEで−
0.1〜−0.2減感させる量添加することが効果が大
きい。
に染料を添加することにより、線画のキレを損なうこと
なく明朝体−ゴシック体再現性、目伸ばし性を良好に改
善することができた。特に染料の添加量はlogEで−
0.1〜−0.2減感させる量添加することが効果が大
きい。
【0166】実施例2
(ハロゲン化銀写真感光材料の調製)
両面に厚さ0.1μmの下塗層(特開昭59−1994
1号の実施例1参照)を施した厚さ100μmのポリエ
チレンテレフタートフィルムの一方の下塗層上に、下記
処方(1)のハロゲン化銀乳剤層をゼラチン量が2.0
g/m2になる様に塗設し、さらにその上に下記処方(
2)の保護層をゼラチン量が1.5g/m2になる様に
塗設し、また反対側のもう一方の下塗層上には下記処方
(3)に従ってバッキング層をゼラチン量が2.7g/
m2になる様に塗設し、さらにその上に下記処方(4)
の保護層をゼラチン量が1g/m2になる様に塗設して
各試料No.1〜15を得た。
1号の実施例1参照)を施した厚さ100μmのポリエ
チレンテレフタートフィルムの一方の下塗層上に、下記
処方(1)のハロゲン化銀乳剤層をゼラチン量が2.0
g/m2になる様に塗設し、さらにその上に下記処方(
2)の保護層をゼラチン量が1.5g/m2になる様に
塗設し、また反対側のもう一方の下塗層上には下記処方
(3)に従ってバッキング層をゼラチン量が2.7g/
m2になる様に塗設し、さらにその上に下記処方(4)
の保護層をゼラチン量が1g/m2になる様に塗設して
各試料No.1〜15を得た。
【0167】
処方(1)(ハロゲン化銀乳剤層組成) ゼラチ
ン
2
.0g/m2ハロゲン化銀乳剤A 平均粒径0.2μmの沃臭化銀(沃化銀2モル%)
銀量 3.5g/m2 カブリ防
止剤:ハイドロキノン
25mg/m2 安定剤
:4−メチル−6−ヒドロキシ−1,3,3a,7−テ
トラザインデン 30mg/m2 界面活性剤:サポ
ニン
0.1g/m2本発明に係
るヒドラゾン化合物
表−3に示す量
ン
2
.0g/m2ハロゲン化銀乳剤A 平均粒径0.2μmの沃臭化銀(沃化銀2モル%)
銀量 3.5g/m2 カブリ防
止剤:ハイドロキノン
25mg/m2 安定剤
:4−メチル−6−ヒドロキシ−1,3,3a,7−テ
トラザインデン 30mg/m2 界面活性剤:サポ
ニン
0.1g/m2本発明に係
るヒドラゾン化合物
表−3に示す量
【0168】
【化41】
【0169】
処方(2)〔乳剤保護層組成〕
ゼラチン
1.5g/m2 染料
表−4に記載 マット剤:平
均粒径3.0〜5.0μmのポリチメルメタクリレート
0.05g/m2 コロイダルシリカ
0.02g/m2 界面活性剤S
:
1.5g/m2 染料
表−4に記載 マット剤:平
均粒径3.0〜5.0μmのポリチメルメタクリレート
0.05g/m2 コロイダルシリカ
0.02g/m2 界面活性剤S
:
【0170】
【化42】
【0171】
ゼラチン
2.7g/m2 界面活性剤:サポニン
0.1g/m2 硬膜剤:グリオ
キザール
0.01g/m2 ドデ
シルベンゼンスルホン酸ナトリウム
0.01g/m2 処方(4
)〔バッキング保護層組成〕 ゼラチン
1g/m2 マ
ット剤:平均粒径3.0〜5.0μmのポリメチルメタ
キリート 0.05g/m2 界面活性剤S:
0.01g/m2硬
膜剤:グリオキザール
0.01
g/m2 試料の構成を表−4に示す。この試料を下記の現像
処理を行った。
2.7g/m2 界面活性剤:サポニン
0.1g/m2 硬膜剤:グリオ
キザール
0.01g/m2 ドデ
シルベンゼンスルホン酸ナトリウム
0.01g/m2 処方(4
)〔バッキング保護層組成〕 ゼラチン
1g/m2 マ
ット剤:平均粒径3.0〜5.0μmのポリメチルメタ
キリート 0.05g/m2 界面活性剤S:
0.01g/m2硬
膜剤:グリオキザール
0.01
g/m2 試料の構成を表−4に示す。この試料を下記の現像
処理を行った。
【0172】
【表4】
【0173】
現像液処方
エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩
1g 亜硫酸ナトリ
ウム
表−1に示す量 ハイド
ロキノン
35g
5−アミノ−1−ペンタノール
50
g 臭化カリウム
2.5g 5−メチルペンゾトリアゾール
0.3g 1−フェニル−3−ピラゾリドン
表−1に示す量 水を加えて1lとし、水酸化ナト
リウムにてpHを11.5に調整する。
1g 亜硫酸ナトリ
ウム
表−1に示す量 ハイド
ロキノン
35g
5−アミノ−1−ペンタノール
50
g 臭化カリウム
2.5g 5−メチルペンゾトリアゾール
0.3g 1−フェニル−3−ピラゾリドン
表−1に示す量 水を加えて1lとし、水酸化ナト
リウムにてpHを11.5に調整する。
【0174】定着液は実施例1のものと同じである。
【0175】
得られた試料について実施例と同様な評価を行い、結果
を表−5に示した。
を表−5に示した。
【0176】
【表5】
【0177】表−5から実施例1と同様な効果を得るこ
とが出来た。
とが出来た。
【0178】実施例3
実施例2における一般式〔II〕の化合物II−20の
代わりに一般式〔III〕の化合物III−39を使用
して実施例2と全く同様の方法で試料を作成し現像処理
を行い、評価した結果同様な効果を得ることができた。
代わりに一般式〔III〕の化合物III−39を使用
して実施例2と全く同様の方法で試料を作成し現像処理
を行い、評価した結果同様な効果を得ることができた。
【0179】実施例4
下記に示す現像処理条件を変更する以外は、実施例1と
全く同様な方法で試料を作成し、現像処理を行い評価を
した。
全く同様な方法で試料を作成し、現像処理を行い評価を
した。
【0180】結果を表−6に示す。
【0181】
【0182】
【表6】
【0183】表−6から超迅速処理をするとさらに明ゴ
再現性、目伸し性が良化することが確認された。
再現性、目伸し性が良化することが確認された。
【0184】
【発明の効果】本発明により、線画のズレを劣化させず
に、明朝体及びゴシック体の再現性を改良するとともに
、フィルターを用いずに同等の目伸ばしを得ることので
きる印刷製版用感光材料を提供することができた。
に、明朝体及びゴシック体の再現性を改良するとともに
、フィルターを用いずに同等の目伸ばしを得ることので
きる印刷製版用感光材料を提供することができた。
Claims (2)
- 【請求項1】支持体の同じ側に、少なくとも2層以上の
塗設層を有するハロゲン化銀写真感光材料において、該
乳剤層が400〜500nmの領域に分光増感されてお
り、かつ350〜500nmに吸収ピークを有する染料
を感光層と同じ側で支持体から遠い非感光層に添加し、
かつ下記一般式〔I〕または〔II〕または〔III〕
の化合物を感光性層に含有することを特徴とするハロゲ
ン化銀写真感光材料。 - 【請求項2】請求項1記載の染料を、感度がLogEで
−0.05〜−0.3低下する量を含有させることを特
徴とする請求項1記載のハロゲン化銀写真感光材料。 【化1】 〔式中、R31は1価の有機残基を表し、R32は水素
原子または1価の有機残基を表し、Q1及びQ2は水素
原子、アルキルスルホニル基(置換基を有するものも含
む)、アリールスルホニル基(置換基を有するものも含
む)を表し、X1は酸素原子またはイオウ原子を表す。 一般式〔I〕で表される化合物のうち、X1が酸素原子
であり、かつR32が水素原子である化合物が更に好ま
しい。〕
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9217491A JPH04218039A (ja) | 1990-05-07 | 1991-04-23 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11705490 | 1990-05-07 | ||
| JP2-117054 | 1990-05-07 | ||
| JP2-133113 | 1990-05-23 | ||
| JP9217491A JPH04218039A (ja) | 1990-05-07 | 1991-04-23 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04218039A true JPH04218039A (ja) | 1992-08-07 |
Family
ID=26433642
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9217491A Pending JPH04218039A (ja) | 1990-05-07 | 1991-04-23 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04218039A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06130554A (ja) * | 1992-10-22 | 1994-05-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 |
-
1991
- 1991-04-23 JP JP9217491A patent/JPH04218039A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06130554A (ja) * | 1992-10-22 | 1994-05-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 |
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