JPH04219182A - 洗浄方法 - Google Patents

洗浄方法

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Publication number
JPH04219182A
JPH04219182A JP41132090A JP41132090A JPH04219182A JP H04219182 A JPH04219182 A JP H04219182A JP 41132090 A JP41132090 A JP 41132090A JP 41132090 A JP41132090 A JP 41132090A JP H04219182 A JPH04219182 A JP H04219182A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning
washed
liquid
washing
ultrasonic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP41132090A
Other languages
English (en)
Inventor
Masakatsu Tsuji
辻 正勝
Yoshio Miyairi
宮入 嘉夫
Toshio Hattori
服部 敏夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority to JP41132090A priority Critical patent/JPH04219182A/ja
Publication of JPH04219182A publication Critical patent/JPH04219182A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、機器部品その他各種被
洗物を洗浄液中にくり返し浸漬して行なう洗浄方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】従来、機械部品等一定の形状を保持し得
る部品の洗浄において被洗物を超音波加振された洗浄液
中に浸漬して行なう超音波洗浄方法が一般に知られてい
る。この1例を図3に示す。図3において図示しないコ
ンベアで搬送される被洗物1は、洗浄槽2の上部で一旦
停止し洗浄槽2内の洗浄液3の中へ一定時間浸漬静置さ
れ超音波加振装置4による超音波9の照射を受け、被洗
物の表面に付着した異物除去即ち洗浄が行なわれた後、
被洗物1は洗浄液3から引き上げられる。即ち単純浸漬
静置型の超音波洗浄が行なわれる。このような被洗物1
を洗浄液3の中へ単純に浸漬静置するだけの単純浸漬静
置型超音波洗浄方法では、洗浄性能(洗浄率=付着した
異物量に対する除去された異物量の比)は洗浄時間に応
じて向上するものの洗浄に要する時間が長く、その割に
到達洗浄率が低いのが実情である。
【0003】これを改善する方法として被洗物1を洗浄
液3中で例えば上下に揺動させる浸漬揺動型超音波洗浄
法も知られており、洗浄性能は著しく向上するが、揺動
機構が複雑であることから、前述の単純浸漬静置型の洗
浄方法が一般的に用いられる。また前述した洗浄液を超
音波加振して行なう超音波洗浄のメカニズムは洗浄条件
が非常に多く複雑であるが、一般には次のように考えら
れている。 (1)  キャビティション効果 洗浄液を超音波加振することにより、洗浄液中には空洞
(キャビティション)の発生と消滅がくり返され、この
空洞が破壊する際に被洗物の表面に付着した異物を吸着
剥離する。 (2)  物理および化学的な反応促進作用これは、超
音波加振による洗浄液の微小振動、攪乱、脱泡、乳化作
用等によって、異物と洗浄液間の物理的および化学的反
応を促進する。上記のように超音波洗浄方法はこれを用
いない洗浄方法に比し格段の洗浄性能を得ることができ
る極めて優れた洗浄方法である。しかしながら前述の点
で更に改善の余地あるものである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで前述の従来の
単純浸漬静置型の超音波洗浄方法において一定の洗浄性
能を得るに要する時間が長いと云う不具合の理由の一つ
は、次のように推察される。即ち洗浄のメカニズムは前
述の如く被洗物の表面に付着ないし吸着している異物の
剥離、溶解、拡散、混合によると考えられるが、超音波
の作用は主として異物の剥離に対して作用しており、剥
離した異物の洗浄液中への溶解、拡散、混合促進、特に
被洗物表面の更新には改善の余地がある。つまり被洗物
の表面に接する洗浄液の更新を促進すれば、洗浄率向上
と所要時間短縮の可能性があることを示唆している。
【0005】本発明は、かかる従来の単純浸漬型の超音
波洗浄方法の欠点を改善し高い洗浄性能(洗浄率)なら
びに所要時間の短い優れた洗浄方法を提供することを目
的としている。また浸漬揺動型の洗浄方法に対してはそ
れに替り得る簡便な洗浄方法を得ることを目的としてい
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】このため本発明の洗浄方
法は、洗浄液中に被洗物を所定時間浸漬した後、該被洗
物を大気中に引き上げ、再浸漬する繰返し浸漬を少なく
とも2回以上の複数回繰返し行なうことを特徴とするも
ので、また被洗物を揺動浸漬する洗浄液は超音波加振装
置によって加振されることが効果的である。
【0007】
【作用】本発明の洗浄方法は前記のように構成されてお
り次のような作用を奏する。1.  洗浄液中へ被洗物
を浸漬する時被洗物の侵入にともない洗浄液が強制流動
され攪拌される。またこの種の攪拌作用は被洗物を洗浄
液中から引き上げる時被洗物の移動空間を埋めるために
生ずる洗浄液の流動により生ずることは、従来の単純浸
漬静置型ないし、浸漬揺動型と大差ない。しかし洗浄途
中で一旦被洗物を大気中に引き上げると被洗物表面に付
着した液膜が除去され表面更新が行なわれる。これが、
揺動浸漬により洗浄液の攪拌効果が増加する以上に、洗
浄性能を向上させる理由であると考えられる。■  こ
れは実施例でも判るように、超音波洗浄槽を用いた2回
の揺動浸漬洗浄方法の洗浄率は、同じく超音波洗浄槽を
用いた5〜6回の液中揺動洗浄方法と同等レベルであっ
た事実から明らかである。■  この揺動浸漬による洗
浄性能(A)は超音波洗浄方法に適用して超音波洗浄方
法の単独性能(B)と同時につまり(A+B)として確
認されたものであるが、それぞれの効果は加算的に働く
ことは自明であるから超音波槽を用いた揺動浸漬法の洗
浄性能(A+B)と超音波洗浄方法(B)との差は、揺
動浸漬洗浄法(A)の効果であり、実施例から明らかな
如く単独の効果を主張し得る。2.  超音波洗浄方法
は、洗浄液種、振動子の周波数と出力密度、および槽構
造を適正に決めれば、極めて優れた洗浄性能を示す。こ
の洗浄方法に更に1項の揺動浸漬操作を加えれば、両者
の加算的洗浄性能を示す。
【0008】
【実施例】以下図面により本発明の一実施例を説明する
と図1は本洗浄方法の操作の説明図を示し、図2は本発
明と従来方法との洗浄性能比較特性を示す説明図である
。図1において被洗物1は洗浄槽2の洗浄液3の中に浸
漬される。そして被洗物1は静置され、超音波加振装置
4で加振される洗浄液3により所定時間超音波洗浄され
る。この後、被洗物1は洗浄液3より大気中に引き上げ
られる。その後再び被洗物1は洗浄液中に再浸漬される
。このような作業を少なくとも2回または複数回繰り返
す。
【0009】図2は、本発明による洗浄方法と従来の洗
浄方法による洗浄性能を洗浄時間をパラメータにした洗
浄率で対比して示す。(ここに洗浄率は洗浄後被洗物に
付着する異物量の洗浄前異物量に対する百分率を示す。 )洗浄液はいずれも超音波加振を受けている。従来方法
の洗浄性能(●印)は、規定時間単純浸漬したものであ
り、本発明の洗浄方法の洗浄性能(〇印は)規定時間の
中間で、たとえば60秒に対する結果は、30秒浸漬後
、約3秒液外へ取り出し、再び30秒間浸漬したもので
ある。図2から本発明による洗浄方法の洗浄性能6は従
来の洗浄方法の洗浄性能7に比し、飛躍的に向上してお
り、本発明の洗浄方法が従来の洗浄方法に比べ、極めて
優れていることが明確である。そしてこの差は被洗物、
洗浄液種、超音波加振条件が同一であるから本願のいう
揺動浸漬操作とり分け被洗物を大気中へ引き上げた時の
被洗物の表面更新効果と考えられる。更に繰り返し浸漬
の回数を増やすことにより、洗浄性能が一層向上するこ
とも確認されている。また液中揺動操作を超音波洗浄に
適用すると液中揺動サイクル数5〜6の洗浄率は、本願
発明の揺動浸漬サイクル数2の時の洗浄率と同等レベル
になった。これを図2中(◎印)7′の特性で示す。
【0010】以上の結果を検討すると、本願発明の要件
のうち洗浄液中への浸漬と大気中への被洗物の引き上げ
再浸漬操作は、単純静置、液中揺動または被洗物が静止
して液が移動す場合の洗浄液の強制攪拌にともなう被洗
物表面の液中での表面更新効果に大差は考えられ難く、
他の要件である超音波加振による液中揺動の操作による
被洗物の表面更新効果が大きいと考えられる。即ち、液
中での被洗物と液との相対移動では、被洗物表面に付着
する液膜の更新が不完全なものと推察され、この要件は
従来の単純浸漬静置型の洗浄方法では全く作用しない。
【0011】
【発明の効果】以上述べたように本発明の洗浄方法によ
れば次に示す効果が得られる。 1.  単純浸漬型の洗浄方法に対する洗浄率に対し1
5%程度洗浄率が向上する。 2.  液中揺動型(液中移動型も含む)の洗浄方法に
対し、揺動サイクル回数は1/3 程度に下り、装置設
計上極めて有利である。また被洗物を静止させて洗浄液
を移動させる方法に対しては、ポンプ容量が過大となり
実用的でない。従って本願発明の効果が十分現れている
。 3.  本願発明を超音波洗浄方法と組み合せることに
より洗浄性能は加算的に向上し、洗浄時間の短縮が図れ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の1実施例に係る洗浄方法の説明図であ
る。
【図2】本発明方法と従来方法との洗浄性能比較図であ
る。
【図3】従来の浸漬静置型超音波洗浄方法の説明図であ
る。
【符号の説明】
1  被洗浄物 2  洗浄槽 3  洗浄液 4  超音波加振装置 5  浸漬手順(ワークの動き) 6  本発明による洗浄方法の洗浄特性9  超音波

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  洗浄液中に被洗物を所定時間浸漬した
    後、該被洗物を大気中に引き上げ、再浸漬する繰返し浸
    漬を少なくとも2回以上の複数回繰返し行なうことを特
    徴とする洗浄方法。
  2. 【請求項2】  被洗物を超音波加振装置により加振さ
    れた洗浄液中に揺動浸漬する請求項1記載の洗浄方法。
JP41132090A 1990-12-18 1990-12-18 洗浄方法 Pending JPH04219182A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0740331A3 (en) * 1995-04-19 1997-07-30 Memc Electronic Materials Process for cleaning semiconducting wafers and device therefor
CN102806217A (zh) * 2012-08-21 2012-12-05 安阳市凤凰光伏科技有限公司 用有机溶剂进行硅片清洗的方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62102877A (ja) * 1985-10-30 1987-05-13 三菱化学株式会社 洗浄方法
JPS6224986B2 (ja) * 1976-12-29 1987-06-01 Alden Res Found
JPH04197478A (ja) * 1990-11-29 1992-07-17 Chuo Hatsumei Kenkyusho:Kk 含浸孔質物品の洗浄方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6224986B2 (ja) * 1976-12-29 1987-06-01 Alden Res Found
JPS62102877A (ja) * 1985-10-30 1987-05-13 三菱化学株式会社 洗浄方法
JPH04197478A (ja) * 1990-11-29 1992-07-17 Chuo Hatsumei Kenkyusho:Kk 含浸孔質物品の洗浄方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0740331A3 (en) * 1995-04-19 1997-07-30 Memc Electronic Materials Process for cleaning semiconducting wafers and device therefor
CN102806217A (zh) * 2012-08-21 2012-12-05 安阳市凤凰光伏科技有限公司 用有机溶剂进行硅片清洗的方法

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Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 19980804