JPH04219617A - 浮上型磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
浮上型磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH04219617A JPH04219617A JP3084441A JP8444191A JPH04219617A JP H04219617 A JPH04219617 A JP H04219617A JP 3084441 A JP3084441 A JP 3084441A JP 8444191 A JP8444191 A JP 8444191A JP H04219617 A JPH04219617 A JP H04219617A
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- Y10T29/49032—Fabricating head structure or component thereof
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク装置に使
用される浮上型磁気ヘッドの技術に関するものであり、
特に、ヘッドコア（ヘッドチップ）として薄膜積層コア
を使用したコンポジットタイプの浮上型磁気ヘッドの製
造方法に関するものである。
用される浮上型磁気ヘッドの技術に関するものであり、
特に、ヘッドコア（ヘッドチップ）として薄膜積層コア
を使用したコンポジットタイプの浮上型磁気ヘッドの製
造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図８及び図９には、一般に磁気ディスク
装置に使用されるコンポジット型と称される浮上型磁気
ヘッドが図示される。斯る浮上型磁気ヘッドは、スライ
ダ２とヘッドコア（ヘッドチップ）１とを備え、板バネ
支持機構３を介して装置本体のアクチュエータに接続さ
れている。又、ヘッドコア１はフェライトコアチップと
されるか、又は、フェライトのギャップ部にＦｅ−Ｓｉ
−Ａｌ合金（センダスト）或はアモルファス磁性体から
なる磁性薄膜を形成したＭＩＧ型コアチップとされ、ス
ライダ２の空気軸受け面（Ａｉｒ Ｂｅａｒｉｎｇ Ｓ
ｕｒｆａｃｅ 、以後単に「ＡＢＳ面」という。）４部
分に形成された溝５内にガラスモールド（ガラス溶着）
にて取付けられている。
装置に使用されるコンポジット型と称される浮上型磁気
ヘッドが図示される。斯る浮上型磁気ヘッドは、スライ
ダ２とヘッドコア（ヘッドチップ）１とを備え、板バネ
支持機構３を介して装置本体のアクチュエータに接続さ
れている。又、ヘッドコア１はフェライトコアチップと
されるか、又は、フェライトのギャップ部にＦｅ−Ｓｉ
−Ａｌ合金（センダスト）或はアモルファス磁性体から
なる磁性薄膜を形成したＭＩＧ型コアチップとされ、ス
ライダ２の空気軸受け面（Ａｉｒ Ｂｅａｒｉｎｇ Ｓ
ｕｒｆａｃｅ 、以後単に「ＡＢＳ面」という。）４部
分に形成された溝５内にガラスモールド（ガラス溶着）
にて取付けられている。
【０００３】通常、スライダ２は非磁性のセラミックス
で形成されており、従って、ヘッドコア１をスライダ２
に溶着しているガラスモールド部分、即ちモールドガラ
スＭ（図１０）は、ヘッドコア１及びスライダ２よりも
軟らかく、ＡＢＳ面４の最終仕上においても他の部分に
比べて凹みを生じ易く、その段差を１００Å以下にする
ことは極めて困難であることが知られている。
で形成されており、従って、ヘッドコア１をスライダ２
に溶着しているガラスモールド部分、即ちモールドガラ
スＭ（図１０）は、ヘッドコア１及びスライダ２よりも
軟らかく、ＡＢＳ面４の最終仕上においても他の部分に
比べて凹みを生じ易く、その段差を１００Å以下にする
ことは極めて困難であることが知られている。
【０００４】このような段差には、ＣＳＳ（コンタクト
・スタート・ストップ）によりディスク媒体からの付着
物が溜り易く、そのことによりディスク媒体との摩擦力
が上昇して耐久性に問題を生じる。摩擦力は面積に比例
するので、ＡＢＳ面４に露出するモールドガラスＭの面
積を低減することはＣＳＳ特性を改善するのに極めて有
効な手段である。
・スタート・ストップ）によりディスク媒体からの付着
物が溜り易く、そのことによりディスク媒体との摩擦力
が上昇して耐久性に問題を生じる。摩擦力は面積に比例
するので、ＡＢＳ面４に露出するモールドガラスＭの面
積を低減することはＣＳＳ特性を改善するのに極めて有
効な手段である。
【０００５】しかしながら、フェライト及びＭＩＧ型コ
アチップの場合には、トラック幅がヘッドコアのＡＢＳ
露出部の幅Ｗ（図９）となるために、機械加工によりヘ
ッドコア先端部のみを例えば１０μｍにすることが必要
であり、一方、ヘッドコア厚さＴはハンドリングの強度
上１００μｍ以上が必要であり、従って、図８に図示さ
れるように、ヘッドコア厚さＴとヘッドコア先端部の幅
Ｗとの差ｗである９０μｍ以上がモールドガラスＭの露
出部とせざるを得ないという極めて重大な欠点がある。
アチップの場合には、トラック幅がヘッドコアのＡＢＳ
露出部の幅Ｗ（図９）となるために、機械加工によりヘ
ッドコア先端部のみを例えば１０μｍにすることが必要
であり、一方、ヘッドコア厚さＴはハンドリングの強度
上１００μｍ以上が必要であり、従って、図８に図示さ
れるように、ヘッドコア厚さＴとヘッドコア先端部の幅
Ｗとの差ｗである９０μｍ以上がモールドガラスＭの露
出部とせざるを得ないという極めて重大な欠点がある。
【０００６】更に、従来のフェライトをヘッドコア全体
又は主要部分とするコンポジット型の浮上型磁気ヘッド
においては、ヘッドコアの全体が磁気コアとして働くた
めに、より高周波に対応しようとすればその全厚Ｔをハ
ンドリングの強度上必要な最小の厚みである１００μｍ
程度に薄くして巻数当たりのインダクタンスを小さくす
る以外に方法がなく、従って、トラック幅に相当する部
分以外のヘッドコアの厚みを増してＡＢＳ面にモールド
ガラスが露出しない構造とすることも困難であるという
制約もある。
又は主要部分とするコンポジット型の浮上型磁気ヘッド
においては、ヘッドコアの全体が磁気コアとして働くた
めに、より高周波に対応しようとすればその全厚Ｔをハ
ンドリングの強度上必要な最小の厚みである１００μｍ
程度に薄くして巻数当たりのインダクタンスを小さくす
る以外に方法がなく、従って、トラック幅に相当する部
分以外のヘッドコアの厚みを増してＡＢＳ面にモールド
ガラスが露出しない構造とすることも困難であるという
制約もある。
【０００７】本発明者らは、上記問題を解決するべく、
近年、ＶＴＲに用いられ、高密度記録が達成でき、且つ
狭トラック化が可能な薄膜積層コア、即ち、Ｆｅ−Ｓｉ
−Ａｌ合金（センダスト）、アモルファス磁性体、窒化
鉄などからなる磁性薄膜を基板上に積層することによっ
て作製された薄膜積層コアをヘッドコア（ヘッドチップ
）として用いた薄膜積層型コンポジットタイプの浮上型
磁気ヘッドに注目した。薄膜積層型コンポジットタイプ
の浮上型磁気ヘッドは、本出願人の出願に係る特願平２
−７６３６５号及び特願平２−２０４２０２号に記載さ
れ、又本願添付の図１１及び図１２に図示するように、
例えば単体のセラミックスを切削及び研削することによ
り形成されたセラミックスライダ２の所定溝状凹所５に
ヘッドコア１を組込み、ガラスモールドにより固着して
作製されている。
近年、ＶＴＲに用いられ、高密度記録が達成でき、且つ
狭トラック化が可能な薄膜積層コア、即ち、Ｆｅ−Ｓｉ
−Ａｌ合金（センダスト）、アモルファス磁性体、窒化
鉄などからなる磁性薄膜を基板上に積層することによっ
て作製された薄膜積層コアをヘッドコア（ヘッドチップ
）として用いた薄膜積層型コンポジットタイプの浮上型
磁気ヘッドに注目した。薄膜積層型コンポジットタイプ
の浮上型磁気ヘッドは、本出願人の出願に係る特願平２
−７６３６５号及び特願平２−２０４２０２号に記載さ
れ、又本願添付の図１１及び図１２に図示するように、
例えば単体のセラミックスを切削及び研削することによ
り形成されたセラミックスライダ２の所定溝状凹所５に
ヘッドコア１を組込み、ガラスモールドにより固着して
作製されている。
【０００８】又、このような薄膜積層型コンポジットタ
イプの浮上型磁気ヘッドによれば、図１１に図示される
ように、トラック幅を磁性合金膜１４の厚みで規定し、
その両側をセラミックス１１、１６で補強することによ
り、スライダ２にヘッドコア１を接合する際のモールド
ガラスＭａ、Ｍｂ、Ｍｃの層厚みを大幅に減少させるこ
とができ、２０μｍ以下、更には１０μｍ以下にするこ
とにより、ＡＢＳ面へのモールドガラスの露出面積を大
巾に低減し、ＣＳＳ特性を著しく改善することができ、
全体として信頼性のあるコンポジットヘッドを実現でき
ることが分かる。
イプの浮上型磁気ヘッドによれば、図１１に図示される
ように、トラック幅を磁性合金膜１４の厚みで規定し、
その両側をセラミックス１１、１６で補強することによ
り、スライダ２にヘッドコア１を接合する際のモールド
ガラスＭａ、Ｍｂ、Ｍｃの層厚みを大幅に減少させるこ
とができ、２０μｍ以下、更には１０μｍ以下にするこ
とにより、ＡＢＳ面へのモールドガラスの露出面積を大
巾に低減し、ＣＳＳ特性を著しく改善することができ、
全体として信頼性のあるコンポジットヘッドを実現でき
ることが分かる。
【０００９】しかしながら、このような薄膜積層型コン
ポジットタイプの浮上型磁気ヘッドにおいても、更に、
ＡＢＳ面へのモールドガラスの露出面積の低減、即ち、
ＣＳＳ特性の向上が望まれている。即ち、ヘッドコア１
をスライダ２に溶着しているガラスモールド部分、即ち
モールドガラスＭａ、Ｍｂ、Ｍｃは、ヘッドコア１及び
スライダ２よりも軟らかく、ＡＢＳ面４の最終仕上にお
いても他の部分に比べて凹みを生じ易く、その段差を１
００Å以下にすることは極めて困難である。上述したよ
うに、このような段差には、ＣＳＳ（コンタクト・スタ
ート・ストップ）によりディスク媒体からの付着物が溜
り易く、そのことによりディスク媒体との摩擦力が上昇
して耐久性に問題を生じる。
ポジットタイプの浮上型磁気ヘッドにおいても、更に、
ＡＢＳ面へのモールドガラスの露出面積の低減、即ち、
ＣＳＳ特性の向上が望まれている。即ち、ヘッドコア１
をスライダ２に溶着しているガラスモールド部分、即ち
モールドガラスＭａ、Ｍｂ、Ｍｃは、ヘッドコア１及び
スライダ２よりも軟らかく、ＡＢＳ面４の最終仕上にお
いても他の部分に比べて凹みを生じ易く、その段差を１
００Å以下にすることは極めて困難である。上述したよ
うに、このような段差には、ＣＳＳ（コンタクト・スタ
ート・ストップ）によりディスク媒体からの付着物が溜
り易く、そのことによりディスク媒体との摩擦力が上昇
して耐久性に問題を生じる。
【００１０】更に又、従来の薄膜積層型コンポジットタ
イプの浮上型磁気ヘッドは、上述したように、単体のセ
ラミックスを切削及び研削することにより形成されたセ
ラミックスライダ２の所定溝状凹所５にヘッドコア１を
組込み、ガラスモールドにより固着して作製されている
が、溝状凹所５の加工、更には、該凹所５へのヘッドコ
ア１の組込み、その後のガラスモールド作業などは極め
て煩雑であり、熟練を必要とし、作業効率の点で問題が
あった。
イプの浮上型磁気ヘッドは、上述したように、単体のセ
ラミックスを切削及び研削することにより形成されたセ
ラミックスライダ２の所定溝状凹所５にヘッドコア１を
組込み、ガラスモールドにより固着して作製されている
が、溝状凹所５の加工、更には、該凹所５へのヘッドコ
ア１の組込み、その後のガラスモールド作業などは極め
て煩雑であり、熟練を必要とし、作業効率の点で問題が
あった。
【００１１】斯る問題を解決するべく、関西日電（株）
の特許出願（特開平２−２４０８１８号公報）には、Ａ
ＢＳ面に露出するスライダ材以外の材料の面積を大幅に
低減し得る薄膜積層型コンポジットタイプの浮上型磁気
ヘッドの製造方法を提案している。
の特許出願（特開平２−２４０８１８号公報）には、Ａ
ＢＳ面に露出するスライダ材以外の材料の面積を大幅に
低減し得る薄膜積層型コンポジットタイプの浮上型磁気
ヘッドの製造方法を提案している。
【００１２】つまり、この方法によれば、非磁性基板上
にＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金磁性膜を積層して形成された半
体ブロックをガラス接着により磁気ヘッドブロックを作
製し、この磁気ヘッドブロックをスライダブロックに樹
脂又はガラスにより接合してコア・スライダ組立体が形
成される。次いで、該コア・スライダ組立体の溝加工、
更には磁気ヘッドブロックに切削加工を施し、図１３に
図示されるような浮上型磁気ヘッドが作製されている。 このような構造の浮上型磁気ヘッドにてＡＢＳ面に露出
するのは、トラック幅に相当する厚みを持った金属磁性
膜１４’、これに非磁性基板で挟持するための接合層、
ギャップ材２１’、及び積層型磁気ヘッドブロック１’
とスライダブロック２’とを接合する樹脂又はガラスと
される接着層Ｍ’だけであり、ＡＢＳ面４に露出するス
ライダ材以外の材料の面積を大幅に低減し得る。
にＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金磁性膜を積層して形成された半
体ブロックをガラス接着により磁気ヘッドブロックを作
製し、この磁気ヘッドブロックをスライダブロックに樹
脂又はガラスにより接合してコア・スライダ組立体が形
成される。次いで、該コア・スライダ組立体の溝加工、
更には磁気ヘッドブロックに切削加工を施し、図１３に
図示されるような浮上型磁気ヘッドが作製されている。 このような構造の浮上型磁気ヘッドにてＡＢＳ面に露出
するのは、トラック幅に相当する厚みを持った金属磁性
膜１４’、これに非磁性基板で挟持するための接合層、
ギャップ材２１’、及び積層型磁気ヘッドブロック１’
とスライダブロック２’とを接合する樹脂又はガラスと
される接着層Ｍ’だけであり、ＡＢＳ面４に露出するス
ライダ材以外の材料の面積を大幅に低減し得る。
【００１３】しかしながら、本発明者らが、このような
構成の浮上型磁気ヘッドを更に詳細に検討を重ねたとこ
ろ、上記積層型磁気ヘッドブロック１’とスライダブロ
ック２’とを接合する樹脂又はガラスとされる接着層Ｍ
’が、ＡＢＳ面の加工中に深い凹みを形成しＣＳＳ性を
大幅に劣化させることが分かった。
構成の浮上型磁気ヘッドを更に詳細に検討を重ねたとこ
ろ、上記積層型磁気ヘッドブロック１’とスライダブロ
ック２’とを接合する樹脂又はガラスとされる接着層Ｍ
’が、ＡＢＳ面の加工中に深い凹みを形成しＣＳＳ性を
大幅に劣化させることが分かった。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、スライダのＡＢＳ面に深い凹みを形成することをな
くし、ＣＳＳ特性の向上を図ることのできる、ヘッドコ
アとして薄膜積層コアを使用したコンポジットタイプの
浮上型磁気ヘッドを提供することである。
は、スライダのＡＢＳ面に深い凹みを形成することをな
くし、ＣＳＳ特性の向上を図ることのできる、ヘッドコ
アとして薄膜積層コアを使用したコンポジットタイプの
浮上型磁気ヘッドを提供することである。
【００１５】本発明の他の目的は、磁気ヘッドの特性に
重要な影響を及ぼすギャップ深さを直接観察することが
できる、ヘッドコアとして薄膜積層コアを使用したコン
ポジットタイプの浮上型磁気ヘッドを提供することであ
る。
重要な影響を及ぼすギャップ深さを直接観察することが
できる、ヘッドコアとして薄膜積層コアを使用したコン
ポジットタイプの浮上型磁気ヘッドを提供することであ
る。
【００１６】本発明の更に他の目的は、上述のような磁
性薄膜型の浮上型磁気ヘッドを作業能率よく製造するこ
とができ、しかも、トラック位置に合わせて適当に磁性
薄膜を位置せしめることが可能であり、更にはマルチト
ラックの磁気ヘッドをも容易に製造し得る、ヘッドコア
として薄膜積層コアを使用したコンポジットタイプの浮
上型磁気ヘッドの製造方法を提供することである。
性薄膜型の浮上型磁気ヘッドを作業能率よく製造するこ
とができ、しかも、トラック位置に合わせて適当に磁性
薄膜を位置せしめることが可能であり、更にはマルチト
ラックの磁気ヘッドをも容易に製造し得る、ヘッドコア
として薄膜積層コアを使用したコンポジットタイプの浮
上型磁気ヘッドの製造方法を提供することである。
【００１７】
【課題を解決するための手段】上記目的は本発明に係る
コンポジットタイプの浮上型磁気ヘッドの製造方法にて
達成される。要約すれば本発明は、（ａ）基板上に磁性
薄膜を積層して形成された一対のコア半体ブロックを作
製する工程；（ｂ）前記一対のコア半体ブロックのいず
れかのコア半体ブロックの一側面と、スライダの一つの
端面とを実質的に全領域にわたって適合するように加工
する工程；（ｃ）前記一対のコア半体ブロック及びスラ
イダを加熱加圧し、高融点ガラス層を介して同時に一体
に接合する工程；及び（ｄ）前記一体とされた一対のコ
ア半体ブロックにて形成されたヘッドコア及びスライダ
に溝加工を施してＡＢＳ面を形成し、前記ヘッドコアの
磁性薄膜を少なくとも前記スライダの一方のＡＢＳ面に
一致せしめる工程；を少なくとも有することを特徴とす
る浮上型磁気ヘッドの製造方法である。好ましくは、前
記高融点ガラスの軟化点は５５０〜６５０℃とし前記基
板及びスライダは、非磁性材料又はフェライトにて形成
され、又、前記磁性薄膜は、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金、ア
モルファス又は窒化鉄にて形成される。
コンポジットタイプの浮上型磁気ヘッドの製造方法にて
達成される。要約すれば本発明は、（ａ）基板上に磁性
薄膜を積層して形成された一対のコア半体ブロックを作
製する工程；（ｂ）前記一対のコア半体ブロックのいず
れかのコア半体ブロックの一側面と、スライダの一つの
端面とを実質的に全領域にわたって適合するように加工
する工程；（ｃ）前記一対のコア半体ブロック及びスラ
イダを加熱加圧し、高融点ガラス層を介して同時に一体
に接合する工程；及び（ｄ）前記一体とされた一対のコ
ア半体ブロックにて形成されたヘッドコア及びスライダ
に溝加工を施してＡＢＳ面を形成し、前記ヘッドコアの
磁性薄膜を少なくとも前記スライダの一方のＡＢＳ面に
一致せしめる工程；を少なくとも有することを特徴とす
る浮上型磁気ヘッドの製造方法である。好ましくは、前
記高融点ガラスの軟化点は５５０〜６５０℃とし前記基
板及びスライダは、非磁性材料又はフェライトにて形成
され、又、前記磁性薄膜は、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金、ア
モルファス又は窒化鉄にて形成される。
【００１８】上記特開平２−２４０８１８号の方法では
ヘッドコアを作製した後にスライダとヘッドコアとを接
合しているため、スライダとヘッドコアとの接合に使用
するガラスは、ヘッドコア作製時に使用したガラスが軟
化して緩まないようにヘッドコア作製時に使用したガラ
スより軟化点が１００℃以上低いものを選択せざるをえ
ない。
ヘッドコアを作製した後にスライダとヘッドコアとを接
合しているため、スライダとヘッドコアとの接合に使用
するガラスは、ヘッドコア作製時に使用したガラスが軟
化して緩まないようにヘッドコア作製時に使用したガラ
スより軟化点が１００℃以上低いものを選択せざるをえ
ない。
【００１９】一方、高融点の接合ガラスは通常のヘッド
のギャップ接合で用いられ、ヘッド加工中に深い凹みを
形成することがない。ところが低融点（軟化点４５０℃
以下）のガラスでは高融点の接合ガラスに比べ機械的強
度が弱く、加工条件により偏摩耗を起こし深い凹みを形
成するので、浮上ヘッドのＡＢＳ面のように非常に厳し
いＣＳＳ信頼性を要求するところでは使用することはで
きない。
のギャップ接合で用いられ、ヘッド加工中に深い凹みを
形成することがない。ところが低融点（軟化点４５０℃
以下）のガラスでは高融点の接合ガラスに比べ機械的強
度が弱く、加工条件により偏摩耗を起こし深い凹みを形
成するので、浮上ヘッドのＡＢＳ面のように非常に厳し
いＣＳＳ信頼性を要求するところでは使用することはで
きない。
【００２０】これに対し、本発明の製造方法によれば、
コア半体ブロックの接合とスライダとの接合を同時に行
うためコア半体ブロックの接合（ギャップ接合）と同じ
高融点の接合ガラスを使用することができる。
コア半体ブロックの接合とスライダとの接合を同時に行
うためコア半体ブロックの接合（ギャップ接合）と同じ
高融点の接合ガラスを使用することができる。
【００２１】従って、本発明では機械的強度の強い高融
点の接合ガラスを使用するので、ＡＢＳ面の加工中に深
い凹みを形成することなくＣＳＳ性に優れた浮上型磁気
ヘッドを得ることができる。
点の接合ガラスを使用するので、ＡＢＳ面の加工中に深
い凹みを形成することなくＣＳＳ性に優れた浮上型磁気
ヘッドを得ることができる。
【００２２】
【実施例】次に、本発明に係る浮上型磁気ヘッドの製造
方法を図面に則して更に詳しく説明する。
方法を図面に則して更に詳しく説明する。
【００２３】図１及び図２には、本発明に従って製造さ
れるコンポジットタイプの浮上型磁気ヘッドの実施例が
図示される。本実施例の浮上型磁気ヘッドも又、従来と
同様に、スライダ２とヘッドコア（ヘッドチップ）１が
一体に接合され、このようなヘッドコア付きスライダ２
は板バネ支持機構を介して磁気ディスク装置本体のアク
チュエ−タに接続される。
れるコンポジットタイプの浮上型磁気ヘッドの実施例が
図示される。本実施例の浮上型磁気ヘッドも又、従来と
同様に、スライダ２とヘッドコア（ヘッドチップ）１が
一体に接合され、このようなヘッドコア付きスライダ２
は板バネ支持機構を介して磁気ディスク装置本体のアク
チュエ−タに接続される。
【００２４】更に説明すると、浮上型磁気ヘッドは、例
えば非磁性の基板上に磁性薄膜を積層して形成された一
対のコア半体ブロック１８、１９にて構成されたヘッド
コア１の一側面を、スライダ２の一つの端面の実質的に
全領域にわたって高融点ガラス層ｍを介して一対のコア
半体ブロック１８、１９のギャップ接合と同時に接合し
、前記ヘッドコア１の磁性薄膜１４が少なくとも前記ス
ライダ２の一方のＡＢＳ面４に一致して位置するように
構成される。図１の実施例ではＣ型コア１８がスライダ
２の端面に接合され、図２の実施例によるとＩ型コア１
９がスライダ２の端面に接合されている。
えば非磁性の基板上に磁性薄膜を積層して形成された一
対のコア半体ブロック１８、１９にて構成されたヘッド
コア１の一側面を、スライダ２の一つの端面の実質的に
全領域にわたって高融点ガラス層ｍを介して一対のコア
半体ブロック１８、１９のギャップ接合と同時に接合し
、前記ヘッドコア１の磁性薄膜１４が少なくとも前記ス
ライダ２の一方のＡＢＳ面４に一致して位置するように
構成される。図１の実施例ではＣ型コア１８がスライダ
２の端面に接合され、図２の実施例によるとＩ型コア１
９がスライダ２の端面に接合されている。
【００２５】次に、図３を参照して、ヘッドコア１とし
て使用される、基板上に磁性薄膜を積層して構成される
薄膜積層ヘッドコア１の製造方法の一実施例を説明する
。磁性薄膜１４としてはＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金磁性体、
或はアモルファス磁性体、窒化鉄などが使用されるが、
本実施例ではＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金磁性体が使用される
ものとする。
て使用される、基板上に磁性薄膜を積層して構成される
薄膜積層ヘッドコア１の製造方法の一実施例を説明する
。磁性薄膜１４としてはＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金磁性体、
或はアモルファス磁性体、窒化鉄などが使用されるが、
本実施例ではＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金磁性体が使用される
ものとする。
【００２６】先ず、本実施例では、セラミックスの如き
非磁性基板１１が準備され（図３（Ａ））、該基板１１
上に、スパッタリング法によりＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金膜
１２が膜厚１〜２０μｍにて成膜される。次いで、該Ｆ
ｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金膜１２上に非磁性絶縁膜１３が膜厚
０．０３〜０．５μｍにてスパッタリング法にて形成さ
れる（図３（Ｂ））。非磁性絶縁膜１３としてはＳｉＯ
２ 、Ａｌ２ Ｏ３ 等が用いられる。
非磁性基板１１が準備され（図３（Ａ））、該基板１１
上に、スパッタリング法によりＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金膜
１２が膜厚１〜２０μｍにて成膜される。次いで、該Ｆ
ｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金膜１２上に非磁性絶縁膜１３が膜厚
０．０３〜０．５μｍにてスパッタリング法にて形成さ
れる（図３（Ｂ））。非磁性絶縁膜１３としてはＳｉＯ
２ 、Ａｌ２ Ｏ３ 等が用いられる。
【００２７】上記工程を繰返して、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ合
金膜１２と非磁性絶縁膜１３が必要回数積層され、図３
（Ｃ）に図示するように、膜厚ｔの合金磁性薄膜１４が
基板１１上に成膜される。
金膜１２と非磁性絶縁膜１３が必要回数積層され、図３
（Ｃ）に図示するように、膜厚ｔの合金磁性薄膜１４が
基板１１上に成膜される。
【００２８】次いで、合金磁性薄膜１４上に高融点の、
例えば軟化点６５０℃の積層ガラス１５が膜厚０．０５
〜１．０μｍにてスパッタリング法などで形成され（図
３（Ｄ））、更に該積層ガラス１５上に、先の基板１１
と同じ材料にて作製された他方の非磁性基板１６が接合
されて磁気コアブロック１７が作製される（図３（Ｅ）
）。積層ガラス１５としてはＳｉＯ２ −Ａｌ２ Ｏ３
−Ｎａ２ Ｏ系のガラス或はＳｉＯ２ −Ｂ２ Ｏ３
−Ｎａ２ Ｏ系のガラスが好適である。
例えば軟化点６５０℃の積層ガラス１５が膜厚０．０５
〜１．０μｍにてスパッタリング法などで形成され（図
３（Ｄ））、更に該積層ガラス１５上に、先の基板１１
と同じ材料にて作製された他方の非磁性基板１６が接合
されて磁気コアブロック１７が作製される（図３（Ｅ）
）。積層ガラス１５としてはＳｉＯ２ −Ａｌ２ Ｏ３
−Ｎａ２ Ｏ系のガラス或はＳｉＯ２ −Ｂ２ Ｏ３
−Ｎａ２ Ｏ系のガラスが好適である。
【００２９】このようにして作製された磁気コアブロッ
ク１７は、図３（Ｆ）に図示されるように、積層した厚
さ方向に切断し、一対のコア半体ブロツク１８、１９が
形成される。
ク１７は、図３（Ｆ）に図示されるように、積層した厚
さ方向に切断し、一対のコア半体ブロツク１８、１９が
形成される。
【００３０】次いで、図４に図示されるように、少なく
とも片方のコア半体ブロック、本実施例ではコア半体ブ
ロック１８に巻線溝２０を形成した後、両コア半体ブロ
ツク１８、１９の突合せ面１８ａ、１９ａを研摩し、該
面にＳｉＯ２ 等の非磁性のギャップスペーサー２１を
スパッタリングなどにて形成した後に、接合ガラス膜層
ｍをスパッタリング法などの手段にて形成する（図３（
Ｆ））。ギャップスペーサー２１が形成されない場合に
は、この接合ガラス層ｍ自体がスぺーサーギャップ材と
して機能する。
とも片方のコア半体ブロック、本実施例ではコア半体ブ
ロック１８に巻線溝２０を形成した後、両コア半体ブロ
ツク１８、１９の突合せ面１８ａ、１９ａを研摩し、該
面にＳｉＯ２ 等の非磁性のギャップスペーサー２１を
スパッタリングなどにて形成した後に、接合ガラス膜層
ｍをスパッタリング法などの手段にて形成する（図３（
Ｆ））。ギャップスペーサー２１が形成されない場合に
は、この接合ガラス層ｍ自体がスぺーサーギャップ材と
して機能する。
【００３１】本発明によれば、上記特開平２−２４０８
１８号公報の製造方法と異なり、両コア半体ブロツク１
８、１９は、この段階では接合されない。つまり、本発
明に従えば、図４に図示されるように、更に、コア半体
ブロック１８の前記突き合わせ面１８ａとは反対側の側
面１８ｂ、及び、例えばセラミックスのような非磁性材
料にて形成された、断面が矩形状とされるスライダ２の
接合端面２ａも又研磨し、接合ガラス膜層ｍがスパッタ
リング法などの手段にて形成される。
１８号公報の製造方法と異なり、両コア半体ブロツク１
８、１９は、この段階では接合されない。つまり、本発
明に従えば、図４に図示されるように、更に、コア半体
ブロック１８の前記突き合わせ面１８ａとは反対側の側
面１８ｂ、及び、例えばセラミックスのような非磁性材
料にて形成された、断面が矩形状とされるスライダ２の
接合端面２ａも又研磨し、接合ガラス膜層ｍがスパッタ
リング法などの手段にて形成される。
【００３２】その後、両コア半体ブロック１８、１９及
びスライダ２が接合ガラス層ｍを介して互に同時に重ね
合わされ、加熱加圧されることによって互に接合され、
図５に図示する如き構造の、浮上型磁気ヘッドブロック
が形成される。このとき、ヘッドコア１とスライダ２と
のガラス層ｍの厚さは作製しようとするギャップ長と同
程度とすることができ、例えば０．１〜０．７μｍとす
ることができる。
びスライダ２が接合ガラス層ｍを介して互に同時に重ね
合わされ、加熱加圧されることによって互に接合され、
図５に図示する如き構造の、浮上型磁気ヘッドブロック
が形成される。このとき、ヘッドコア１とスライダ２と
のガラス層ｍの厚さは作製しようとするギャップ長と同
程度とすることができ、例えば０．１〜０．７μｍとす
ることができる。
【００３３】又、両コア半体ブロック１８、１９のアペ
ックス部に後の機械加工における欠けを防止する目的で
アペックスガラスｍａ が充填される（図５）。
ックス部に後の機械加工における欠けを防止する目的で
アペックスガラスｍａ が充填される（図５）。
【００３４】従って、本発明の製造方法によれば、ヘッ
ドコア１のギャップ２１の形成と、ヘッドコア１とスラ
イダ２との接合が同時に達成され、従来の低融点ガラス
層Ｍ’より、より高い融点を有した接合ガラス層ｍを用
いてヘッドコア１とスライダ２との接合が可能とされる
。
ドコア１のギャップ２１の形成と、ヘッドコア１とスラ
イダ２との接合が同時に達成され、従来の低融点ガラス
層Ｍ’より、より高い融点を有した接合ガラス層ｍを用
いてヘッドコア１とスライダ２との接合が可能とされる
。
【００３５】次いで、このようにしてヘッドコア１が一
体に接合されたスライダ２は、通常の方法に従って、図
１及び図２に図示されるように、端縁部の溝１００及び
中央部の溝１０１の加工を行ない、ＡＢＳ面４が形成さ
れる。通常、端縁部の溝１００は、幅が１００μｍ、Ａ
ＢＳ面４からの深さが１５０μｍ以上とされ、又、ＡＢ
Ｓ面４の幅４Ｗ は３００〜７００μｍとされる。又、
ＡＢＳ面４の前後は斜めに切除され傾斜面１０２、１０
３の流入端部、流出端部とされる。
体に接合されたスライダ２は、通常の方法に従って、図
１及び図２に図示されるように、端縁部の溝１００及び
中央部の溝１０１の加工を行ない、ＡＢＳ面４が形成さ
れる。通常、端縁部の溝１００は、幅が１００μｍ、Ａ
ＢＳ面４からの深さが１５０μｍ以上とされ、又、ＡＢ
Ｓ面４の幅４Ｗ は３００〜７００μｍとされる。又、
ＡＢＳ面４の前後は斜めに切除され傾斜面１０２、１０
３の流入端部、流出端部とされる。
【００３６】更に、図１の実施例では、磁気ヘッドブロ
ックのスライダ２と接着していない側は、巻線を容易に
するためＣ型コア１８側へと厚さＴのヘッドコア部を残
して他の部分を除去し、又、図２の実施例では、巻線溝
が形成されたＣ型コアを、磁気ギャップに近い側を一部
残して他部を除去することにより厚さＴのヘッドコア部
が形成される。
ックのスライダ２と接着していない側は、巻線を容易に
するためＣ型コア１８側へと厚さＴのヘッドコア部を残
して他の部分を除去し、又、図２の実施例では、巻線溝
が形成されたＣ型コアを、磁気ギャップに近い側を一部
残して他部を除去することにより厚さＴのヘッドコア部
が形成される。
【００３７】以上の如き構成とされる、本発明に従って
製造された浮上型磁気ヘッドは、図１にて理解されるよ
うに、スライダ２とヘッドコア１との接合層厚さは０．
１〜０．７μｍとされ、その幅はＡＢＳ面４の幅４Ｗ
とされ、従って該露出ガラス層ｍの面積は０．００２ｍ
ｍ２ 以下とされる。この値は、従来の、図９に示すフ
ェライト型及びＭＩＧ型コンポジットタイプの浮上型磁
気ヘッドにて可能とされる最小面積０．０９ｍｍ２ の
１／４５以下にまで低減することができ、又、図１１及
び図１２に示す薄膜積層型コンポジットタイプの浮上型
磁気ヘッドにて可能な最小面積０．０２ｍｍ２ の１／
１０以下にまで低減することができる。
製造された浮上型磁気ヘッドは、図１にて理解されるよ
うに、スライダ２とヘッドコア１との接合層厚さは０．
１〜０．７μｍとされ、その幅はＡＢＳ面４の幅４Ｗ
とされ、従って該露出ガラス層ｍの面積は０．００２ｍ
ｍ２ 以下とされる。この値は、従来の、図９に示すフ
ェライト型及びＭＩＧ型コンポジットタイプの浮上型磁
気ヘッドにて可能とされる最小面積０．０９ｍｍ２ の
１／４５以下にまで低減することができ、又、図１１及
び図１２に示す薄膜積層型コンポジットタイプの浮上型
磁気ヘッドにて可能な最小面積０．０２ｍｍ２ の１／
１０以下にまで低減することができる。
【００３８】スライダ２とヘッドコア１との接合層厚さ
については、０．１μｍ未満では接着強度が弱く、０．
７μｍを超えると高融点ガラスを用いても溝幅が大きく
なりすぎ、わずかな偏摩耗でも１００Å以上の凹みがで
きＣＳＳ性が低下するため、０．１〜０．７μｍとされ
る。
については、０．１μｍ未満では接着強度が弱く、０．
７μｍを超えると高融点ガラスを用いても溝幅が大きく
なりすぎ、わずかな偏摩耗でも１００Å以上の凹みがで
きＣＳＳ性が低下するため、０．１〜０．７μｍとされ
る。
【００３９】更に重要なことは、本発明に従えば、両コ
ア半体ブロック１８、１９及びスライダ２が、従来の低
融点の、即ち、軟化点４５０℃以下の接着ガラスＭ’に
比較して、より軟化点の高い高融点の、即ち、５５０℃
以上の、好ましくは５５０℃〜６５０℃の接合ガラス層
ｍを介して互に同時に接合されるために、ヘッドコア１
をスライダ２に溶着している接着ガラス層部分ｍが、従
来の図１３の特開平２−２４０８１８号の方法で用いら
れる樹脂又はガラスにて構成される接着層部分に比較し
相当硬くされ、従って、このガラス層ｍ部分にてＡＢＳ
面加工中に段差を生じることがなく、ＣＳＳ性を向上せ
しめる。
ア半体ブロック１８、１９及びスライダ２が、従来の低
融点の、即ち、軟化点４５０℃以下の接着ガラスＭ’に
比較して、より軟化点の高い高融点の、即ち、５５０℃
以上の、好ましくは５５０℃〜６５０℃の接合ガラス層
ｍを介して互に同時に接合されるために、ヘッドコア１
をスライダ２に溶着している接着ガラス層部分ｍが、従
来の図１３の特開平２−２４０８１８号の方法で用いら
れる樹脂又はガラスにて構成される接着層部分に比較し
相当硬くされ、従って、このガラス層ｍ部分にてＡＢＳ
面加工中に段差を生じることがなく、ＣＳＳ性を向上せ
しめる。
【００４０】又、本発明は、図１からも理解されるよう
に、アペックスガラスｍａ のアペックス部分が観察可
能となり、磁気ヘッドの性能に極めて重要な、ギャップ
深さを直接観察し得るという利点をも有している。
に、アペックスガラスｍａ のアペックス部分が観察可
能となり、磁気ヘッドの性能に極めて重要な、ギャップ
深さを直接観察し得るという利点をも有している。
【００４１】上記各実施例にて説明した本発明の磁気ヘ
ッドは、図６に図示する方法に従えば、極めて効率よく
多量に製造することができる。
ッドは、図６に図示する方法に従えば、極めて効率よく
多量に製造することができる。
【００４２】つまり、従来行なわれているように、図３
（Ｅ）に図示されるような磁気コアブロック１７を複数
枚積層して積層コアブロックを形成し、該積層コアブロ
ックから、図６に図示されるように、積層した厚さ方向
に切断し、巻線溝、その他所望に応じて所要の溝加工を
施すことによって、Ｃ型コア１８及びＩ型コア１９の一
対の棒状コア半体ブロツク１８、１９が形成される。
（Ｅ）に図示されるような磁気コアブロック１７を複数
枚積層して積層コアブロックを形成し、該積層コアブロ
ックから、図６に図示されるように、積層した厚さ方向
に切断し、巻線溝、その他所望に応じて所要の溝加工を
施すことによって、Ｃ型コア１８及びＩ型コア１９の一
対の棒状コア半体ブロツク１８、１９が形成される。
【００４３】次いで、該棒状コア半体ブロック１８及び
１９並びに棒状のスライダ２は、上述と同様に、接合面
を研磨し、且つ接合ガラス層ｍを形成した後、図６に図
示されるように、同時に接合され、その後に、一点鎖線
にて示す切断位置より、切断され、複数のヘッドコア付
きスライダ２が切り出される。切断位置を変えることに
より、スライダ２におけるトラック位置を任意に設定す
ることができる。
１９並びに棒状のスライダ２は、上述と同様に、接合面
を研磨し、且つ接合ガラス層ｍを形成した後、図６に図
示されるように、同時に接合され、その後に、一点鎖線
にて示す切断位置より、切断され、複数のヘッドコア付
きスライダ２が切り出される。切断位置を変えることに
より、スライダ２におけるトラック位置を任意に設定す
ることができる。
【００４４】その後、上述したように、スライダ２及び
ヘッドコア１に溝加工、その他所望の加工を施し、上述
した実施例に示す浮上型磁気ヘッドが作製される。
ヘッドコア１に溝加工、その他所望の加工を施し、上述
した実施例に示す浮上型磁気ヘッドが作製される。
【００４５】又、上記いずれの実施例においても、ヘッ
ドコアの磁性薄膜１４は、スライダ２のＡＢＳ面４のい
ずれか一方に位置するものとして説明したが、図７に図
示するように、磁気コアブロック１７の積層態様を変更
することによって、両方のＡＢＳ面４にヘッドコア１の
磁性薄膜１４が位置するように構成することもできる。 更に、種々の変更態様が可能であって、本発明によれば
、マルチトラックの浮上型磁気ヘッドを極めて容易に製
造することができる。
ドコアの磁性薄膜１４は、スライダ２のＡＢＳ面４のい
ずれか一方に位置するものとして説明したが、図７に図
示するように、磁気コアブロック１７の積層態様を変更
することによって、両方のＡＢＳ面４にヘッドコア１の
磁性薄膜１４が位置するように構成することもできる。 更に、種々の変更態様が可能であって、本発明によれば
、マルチトラックの浮上型磁気ヘッドを極めて容易に製
造することができる。
【００４６】上述の各実施例において、ヘッドコア１の
基板１１、１６及びスライダ２は、セラミックスの如き
非磁性材料であるとして説明したが、フェライトとする
こともでき、更に他の種々の材料も使用可能である。即
ち、例えば、ヘッドコア１の基板及びスライダ２を共に
フェライトにて形成することもできる。又、ヘッドコア
１の磁性薄膜１４は、上記各実施例ではＦｅ−Ｓｉ−Ａ
ｌ合金磁性体が使用されたが、アモルファス磁性体或は
窒化鉄などとすることもできることは上述した通りであ
る。
基板１１、１６及びスライダ２は、セラミックスの如き
非磁性材料であるとして説明したが、フェライトとする
こともでき、更に他の種々の材料も使用可能である。即
ち、例えば、ヘッドコア１の基板及びスライダ２を共に
フェライトにて形成することもできる。又、ヘッドコア
１の磁性薄膜１４は、上記各実施例ではＦｅ−Ｓｉ−Ａ
ｌ合金磁性体が使用されたが、アモルファス磁性体或は
窒化鉄などとすることもできることは上述した通りであ
る。
【００４７】次に、本発明を実施例について説明する。
【００４８】実施例１
非磁性基板１１としてＣｏＯ−ＮｉＯを主成分とする非
磁性セラミック基板を使用し、図３に関連して説明した
手順にて、該基板１１上に、スパッタリング法によりＦ
ｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金膜１２及び非磁性絶縁膜１３を交互
に積層し、合金磁性薄膜１４を成膜した。本実施例にて
、非磁性絶縁膜１３としてはＳｉＯ２ を使用し、合金
磁性薄膜１４の膜厚はトラック幅とされる２０μｍとさ
れた。
磁性セラミック基板を使用し、図３に関連して説明した
手順にて、該基板１１上に、スパッタリング法によりＦ
ｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金膜１２及び非磁性絶縁膜１３を交互
に積層し、合金磁性薄膜１４を成膜した。本実施例にて
、非磁性絶縁膜１３としてはＳｉＯ２ を使用し、合金
磁性薄膜１４の膜厚はトラック幅とされる２０μｍとさ
れた。
【００４９】次いで、合金磁性薄膜１４上に高融点（軟
化点６５０℃）の積層ガラス１５を、膜厚０．２５μｍ
にてスパッタリング法で形成した。又、基板１１と同じ
材料にて作製された他方の非磁性基板１６にも高融点（
軟化点６５０℃）の積層ガラス１５を、膜厚０．２５μ
ｍにてスパッタリング法で形成し、合金磁性膜１４と重
ねて７００℃にて加圧溶着して磁気コアブロック１７を
作製した。積層ガラス１５としてはＳｉＯ２ −Ａｌ２
Ｏ３ −Ｎａ２ Ｏ系のガラスを使用した。
化点６５０℃）の積層ガラス１５を、膜厚０．２５μｍ
にてスパッタリング法で形成した。又、基板１１と同じ
材料にて作製された他方の非磁性基板１６にも高融点（
軟化点６５０℃）の積層ガラス１５を、膜厚０．２５μ
ｍにてスパッタリング法で形成し、合金磁性膜１４と重
ねて７００℃にて加圧溶着して磁気コアブロック１７を
作製した。積層ガラス１５としてはＳｉＯ２ −Ａｌ２
Ｏ３ −Ｎａ２ Ｏ系のガラスを使用した。
【００５０】次いで、このようにして作製した磁気コア
ブロック１７を、積層した厚さ方向に切断し、一対のコ
ア半体ブロツク１８、１９を形成した。コア半体ブロッ
ク１８には、切断面（図４にて面１８ａ）に巻き線窓と
なる溝を設けた後、この面及び他面（図４にて面１８ｂ
）をも鏡面仕上した。コア半体ブロック１９も切断面（
図４にて面１９ａ）を鏡面仕上した。
ブロック１７を、積層した厚さ方向に切断し、一対のコ
ア半体ブロツク１８、１９を形成した。コア半体ブロッ
ク１８には、切断面（図４にて面１８ａ）に巻き線窓と
なる溝を設けた後、この面及び他面（図４にて面１８ｂ
）をも鏡面仕上した。コア半体ブロック１９も切断面（
図４にて面１９ａ）を鏡面仕上した。
【００５１】これとは別に、主たるＡＢＳ面を形成する
スライダ２として、ＣｏＯ−ＮｉＯを主成分とする非磁
性セラミック基板を準備し、その片面（図４にて面２ａ
）を鏡面仕上した。
スライダ２として、ＣｏＯ−ＮｉＯを主成分とする非磁
性セラミック基板を準備し、その片面（図４にて面２ａ
）を鏡面仕上した。
【００５２】コア半体ブロック１８の両面１８ａ、１８
ｂ、コア半体ブロック１９の面１９ａ及びスライダ２の
面２ａに、スパッタリングにより、高融点（軟化点５５
０℃）の接合ガラス層ｍを形成した。本実施例では、接
合ガラス層ｍがギャップ材としても機能するようにした
。接合ガラス層ｍの層厚は０．２５μｍとされた。
ｂ、コア半体ブロック１９の面１９ａ及びスライダ２の
面２ａに、スパッタリングにより、高融点（軟化点５５
０℃）の接合ガラス層ｍを形成した。本実施例では、接
合ガラス層ｍがギャップ材としても機能するようにした
。接合ガラス層ｍの層厚は０．２５μｍとされた。
【００５３】次いで、コア半体ブロック１８、コア半体
ブロック１９及びスライダ２は同時に６００℃で加圧溶
着し、図５に図示する構造の、浮上型磁気ヘッドブロッ
クを形成した。ヘッドコア１とスライダ２との接合ガラ
ス層ｍの厚さはギャップ長と同程度の０．２５μｍであ
った。
ブロック１９及びスライダ２は同時に６００℃で加圧溶
着し、図５に図示する構造の、浮上型磁気ヘッドブロッ
クを形成した。ヘッドコア１とスライダ２との接合ガラ
ス層ｍの厚さはギャップ長と同程度の０．２５μｍであ
った。
【００５４】又、両コア半体ブロック１８、１９のアペ
ックス部に後の機械加工における欠けを防止する目的で
、通常使用されているアペックスガラスｍａ を充填し
た後、図１に図示されるように、端縁部の溝１００及び
中央部の溝１０１の加工を行ない、幅５００μｍのＡＢ
Ｓ面４を形成した。又、ＡＢＳ面４の前後は斜めに切除
し傾斜面１０２、１０３を形成した。
ックス部に後の機械加工における欠けを防止する目的で
、通常使用されているアペックスガラスｍａ を充填し
た後、図１に図示されるように、端縁部の溝１００及び
中央部の溝１０１の加工を行ない、幅５００μｍのＡＢ
Ｓ面４を形成した。又、ＡＢＳ面４の前後は斜めに切除
し傾斜面１０２、１０３を形成した。
【００５５】更に、本実施例では、図１に図示するよう
に、磁気ヘッドブロックは、幅（Ｔ）が２００μｍとさ
れるヘッドコア部を残して他部は切除した。
に、磁気ヘッドブロックは、幅（Ｔ）が２００μｍとさ
れるヘッドコア部を残して他部は切除した。
【００５６】このようにして作製した浮上型磁気ヘッド
のＡＢＳの各接合部について触針式表面粗さ計により異
種材料間の段差を測定したところ、非磁性基板と磁性合
金膜、高融点ガラス接合層、ギャップ部の全てについて
、１００Å以下の低段差が得られた。
のＡＢＳの各接合部について触針式表面粗さ計により異
種材料間の段差を測定したところ、非磁性基板と磁性合
金膜、高融点ガラス接合層、ギャップ部の全てについて
、１００Å以下の低段差が得られた。
【００５７】更に、この浮上型磁気ヘッドを用いてＣＳ
Ｓ性を試験したところ２００００回を超えても摩擦力が
急速に増大することはなかった。１０００００回で試験
を中止しＡＢＳ面を観察したところ、ＡＢＳ面には付着
物の溜る凹みは存在せず、又記録媒体面にも傷は見られ
なかった。
Ｓ性を試験したところ２００００回を超えても摩擦力が
急速に増大することはなかった。１０００００回で試験
を中止しＡＢＳ面を観察したところ、ＡＢＳ面には付着
物の溜る凹みは存在せず、又記録媒体面にも傷は見られ
なかった。
【００５８】比較例１
コア半体ブロック１８の他面１８ｂと、スライダ２の面
１９ａとにスパッタリングにて厚さ０．３μｍの低融点
（軟化点４５０℃）のガラス層を形成し、その後５００
℃で加圧溶着することによって浮上型磁気ヘッドブロッ
クが形成された。ヘッドコア１とスライダ２との低融点
ガラス層の厚さはギャップ長と同程度の０．２５μｍで
あった。
１９ａとにスパッタリングにて厚さ０．３μｍの低融点
（軟化点４５０℃）のガラス層を形成し、その後５００
℃で加圧溶着することによって浮上型磁気ヘッドブロッ
クが形成された。ヘッドコア１とスライダ２との低融点
ガラス層の厚さはギャップ長と同程度の０．２５μｍで
あった。
【００５９】その後、比較例１と同様の手順にて加工し
、ＡＢＳ面及びヘッドコアを形成した。
、ＡＢＳ面及びヘッドコアを形成した。
【００６０】このようにして作製した浮上型磁気ヘッド
のＡＢＳの各接合部について触針式表面粗さ計により異
種材料間の段差を測定したところ、非磁性基板と磁性合
金膜、高融点ガラス接合層、ギャップ部の全てについて
、１００Å以下の低段差が得られたが、低融点ガラス層
については、最終仕上後の洗浄時に、既に７００〜１５
００Åの凹みが形成されていた。
のＡＢＳの各接合部について触針式表面粗さ計により異
種材料間の段差を測定したところ、非磁性基板と磁性合
金膜、高融点ガラス接合層、ギャップ部の全てについて
、１００Å以下の低段差が得られたが、低融点ガラス層
については、最終仕上後の洗浄時に、既に７００〜１５
００Åの凹みが形成されていた。
【００６１】更に、この浮上型磁気ヘッドを用いてＣＳ
Ｓ性を試験したところ２００００回で摩擦係数が０．５
を超えてしまったため試験を中止した。ＡＢＳ面を観察
したところ、低融点ガラス接着層の凹みが付着物で埋ま
り、ＡＢＳ面よりも盛り上がっていた。
Ｓ性を試験したところ２００００回で摩擦係数が０．５
を超えてしまったため試験を中止した。ＡＢＳ面を観察
したところ、低融点ガラス接着層の凹みが付着物で埋ま
り、ＡＢＳ面よりも盛り上がっていた。
【００６２】
【発明の効果】以上の如くに構成される本発明に係る浮
上型磁気ヘッドの製造方法は、スライダのＡＢＳ面に低
融点のモールドガラスが露出することがなく、本発明に
て製造された浮上型磁気ヘッドのＣＳＳ特性を飛躍的に
向上せしめることができる。又、本発明に従って製造さ
れた浮上型磁気ヘッドは、磁気ヘッドの特性に重要な影
響を及ぼすギャップ深さを直接観察することができると
いう利点をも有している。更に、本発明の製造方法によ
れば、このような磁性薄膜型の浮上型磁気ヘッドを作業
能率よく製造することができ、しかも、トラック位置に
合わせて磁性膜を位置せしめることが可能であり、更に
はマルチトラックの磁気ヘッドをも容易に製造し得ると
いう特長を有している。
上型磁気ヘッドの製造方法は、スライダのＡＢＳ面に低
融点のモールドガラスが露出することがなく、本発明に
て製造された浮上型磁気ヘッドのＣＳＳ特性を飛躍的に
向上せしめることができる。又、本発明に従って製造さ
れた浮上型磁気ヘッドは、磁気ヘッドの特性に重要な影
響を及ぼすギャップ深さを直接観察することができると
いう利点をも有している。更に、本発明の製造方法によ
れば、このような磁性薄膜型の浮上型磁気ヘッドを作業
能率よく製造することができ、しかも、トラック位置に
合わせて磁性膜を位置せしめることが可能であり、更に
はマルチトラックの磁気ヘッドをも容易に製造し得ると
いう特長を有している。
【図１】本発明の製造方法にて製造されたコンポジット
タイプの浮上型磁気ヘッドの一実施例の斜視図である。
タイプの浮上型磁気ヘッドの一実施例の斜視図である。
【図２】本発明の製造方法にて製造されたコンポジット
タイプの浮上型磁気ヘッドの他の実施例の斜視図である
。
タイプの浮上型磁気ヘッドの他の実施例の斜視図である
。
【図３】積層薄膜型ヘッドコアの製造方法を示す工程図
である。
である。
【図４】スライダとヘッドコアの接合状態を示す斜視図
である。
である。
【図５】スライダとヘッドコアが接合された磁気ヘッド
ブロックの斜視図である。
ブロックの斜視図である。
【図６】本発明の他の実施例の製造方法を説明する斜視
図である。
図である。
【図７】本発明の他の実施例の製造方法を説明する斜視
図である。
図である。
【図８】従来のフェライト型コンポジットタイプの浮上
型磁気ヘッドの斜視図である。
型磁気ヘッドの斜視図である。
【図９】従来のフェライト型コンポジットタイプの浮上
型磁気ヘッドの分解斜視図である。
型磁気ヘッドの分解斜視図である。
【図１０】従来のフェライト型コンポジットタイプの浮
上型磁気ヘッドのガラスモールドの状態を説明する平面
図である。
上型磁気ヘッドのガラスモールドの状態を説明する平面
図である。
【図１１】従来提案されている薄膜積層型コンポジット
タイプの浮上型磁気ヘッドの一部拡大斜視図である。
タイプの浮上型磁気ヘッドの一部拡大斜視図である。
【図１２】従来提案されている薄膜積層型コンポジット
タイプの浮上型磁気ヘッドの分解斜視図である。
タイプの浮上型磁気ヘッドの分解斜視図である。
【図１３】従来提案されている薄膜積層型コンポジット
タイプの浮上型磁気ヘッドの斜視図である。
タイプの浮上型磁気ヘッドの斜視図である。
１ ヘッドコア２
スライダ ４ ＡＢＳ面 １４ 積層磁性薄膜１８、１９
コア半体ブロック ２１ ギャップ
スライダ ４ ＡＢＳ面 １４ 積層磁性薄膜１８、１９
コア半体ブロック ２１ ギャップ
Claims (5)
- 【請求項１】 （ａ）基板上に磁性薄膜を積層して形
成された一対のコア半体ブロックを作製する工程；（ｂ
）前記一対のコア半体ブロックのいずれかのコア半体ブ
ロックの一側面と、スライダの一つの端面とを実質的に
全領域にわたって適合するように加工する工程；（ｃ）
前記一対のコア半体ブロック及びスライダを加熱加圧し
、高融点ガラス層を介して同時に一体に接合する工程；
及び （ｄ）前記一体とされた一対のコア半体ブロックにて形
成されたヘッドコア及びスライダに溝加工を施してＡＢ
Ｓ面を形成し、前記ヘッドコアの磁性薄膜を少なくとも
前記スライダの一方のＡＢＳ面に一致せしめる工程；を
少なくとも有することを特徴とする浮上型磁気ヘッドの
製造方法。 - 【請求項２】 前記高融点ガラスの軟化点が５５０〜
６５０℃である請求項１の浮上型磁気ヘッドの製造方法
。 - 【請求項３】 前記高融点ガラス層の厚さが０．１〜
０．７μｍである請求項１又は請求項２の浮上型磁気ヘ
ッドの製造方法。 - 【請求項４】 前記基板及びスライダは、非磁性材料
又はフェライトにて形成される請求項１、請求項２又は
請求項３の浮上型磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項５】 前記磁性薄膜は、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ合
金、アモルファス又は窒化鉄にて形成される請求項１、
請求項２、請求項３又は請求項４の浮上型磁気ヘッドの
製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3084441A JPH04219617A (ja) | 1990-11-30 | 1991-03-26 | 浮上型磁気ヘッドの製造方法 |
| US07/781,478 US5184393A (en) | 1990-11-30 | 1991-10-17 | Method of manufacturing flying magnetic head |
| EP19910310235 EP0488539A3 (en) | 1990-11-30 | 1991-11-05 | Method of manufacturing flying magnetic head |
| KR1019910020690A KR920010544A (ko) | 1990-11-30 | 1991-11-20 | 부상형 자기 헤드의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2-336572 | 1990-11-30 | ||
| JP33657290 | 1990-11-30 | ||
| JP3084441A JPH04219617A (ja) | 1990-11-30 | 1991-03-26 | 浮上型磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04219617A true JPH04219617A (ja) | 1992-08-10 |
Family
ID=26425488
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3084441A Pending JPH04219617A (ja) | 1990-11-30 | 1991-03-26 | 浮上型磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5184393A (ja) |
| EP (1) | EP0488539A3 (ja) |
| JP (1) | JPH04219617A (ja) |
| KR (1) | KR920010544A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995004349A1 (en) * | 1993-07-30 | 1995-02-09 | Japan Energy Corporation | Floating magnetic head and production method thereof |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5305166A (en) * | 1991-10-31 | 1994-04-19 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Magnetic head slider |
| US5359479A (en) * | 1992-06-12 | 1994-10-25 | Applied Magnetics Corporation | Magnetic head slider having a magnetic transducing element affixed to a slider body side surface |
| JPH07153031A (ja) * | 1993-09-20 | 1995-06-16 | Read Rite Corp | 耐摩耗エンドキャップ付き空気浮上式薄膜磁気ヘッド |
| US5722156A (en) * | 1995-05-22 | 1998-03-03 | Balfrey; Brian D. | Method for processing ceramic wafers comprising plural magnetic head forming units |
| US6256171B1 (en) * | 1996-09-30 | 2001-07-03 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Thin film magnetic head having an improved heat dispersion and magnetic recording apparatus using the same |
| JPH10177704A (ja) * | 1996-12-13 | 1998-06-30 | Mitsubishi Electric Corp | 複合形磁気ヘッド及びその製造方法 |
| IT1288420B1 (it) * | 1997-01-22 | 1998-09-22 | Roberto Agosti | Impianto igienico-sanitario autopulente per uso pubblico |
| US6288870B1 (en) * | 1998-01-13 | 2001-09-11 | Quantum Corporation | Self-aligned metal film core multi-channel recording head for tape drives |
| US6587314B1 (en) | 2000-05-16 | 2003-07-01 | International Business Machines Corporation | Enhanced silicon and ceramic magnetoresistive read/write head and a method for producing the same |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6449106A (en) * | 1987-08-19 | 1989-02-23 | Victor Company Of Japan | Composite type magnetic head |
| JPH02240818A (ja) * | 1989-03-14 | 1990-09-25 | Nec Kansai Ltd | 浮動型磁気ヘッドの製造方法 |
-
1991
- 1991-03-26 JP JP3084441A patent/JPH04219617A/ja active Pending
- 1991-10-17 US US07/781,478 patent/US5184393A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-11-05 EP EP19910310235 patent/EP0488539A3/en not_active Withdrawn
- 1991-11-20 KR KR1019910020690A patent/KR920010544A/ko not_active Abandoned
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6449106A (en) * | 1987-08-19 | 1989-02-23 | Victor Company Of Japan | Composite type magnetic head |
| JPH02240818A (ja) * | 1989-03-14 | 1990-09-25 | Nec Kansai Ltd | 浮動型磁気ヘッドの製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995004349A1 (en) * | 1993-07-30 | 1995-02-09 | Japan Energy Corporation | Floating magnetic head and production method thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5184393A (en) | 1993-02-09 |
| EP0488539A3 (en) | 1993-03-03 |
| KR920010544A (ko) | 1992-06-26 |
| EP0488539A2 (en) | 1992-06-03 |
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