JPH04221367A - カルボニル含有アクリジン誘導体の還元方法 - Google Patents

カルボニル含有アクリジン誘導体の還元方法

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JPH04221367A
JPH04221367A JP3087252A JP8725291A JPH04221367A JP H04221367 A JPH04221367 A JP H04221367A JP 3087252 A JP3087252 A JP 3087252A JP 8725291 A JP8725291 A JP 8725291A JP H04221367 A JPH04221367 A JP H04221367A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は式I
【化8】 (式中、nは1、2又は3であり;Xは水素、低級アル
キル、低級アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、トリフ
ルオロメチル、又はNR3R4であり、この場合R3と
R4は独立して水素又は低級アルキルであり;Rは水素
又は低級アルキルであり;R1は水素、低級アルキル、
ジ低級アルキルアミノ低級アルキル、アリール低級アル
キル、ジアリール低級アルキル、フリル低級アルキル、
チエニル低級アルキル、酸素架橋されたアリール低級ア
ルキル、酸素架橋されたジアリール低級アルキル、酸素
架橋されたフリル低級アルキル又は酸素架橋されたチエ
ニル低級アルキルである)のカルボニル含有アクリジン
誘導体の還元方法に関する。
【0002】これらの化合物の還元は記憶の増強に有用
であることが示された化合物の製造に必須のものである
。これらは式
【化9】 (式中、pは0であり;nは1、2又は3であり;Xは
水素、低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン、ヒド
ロキシ、トリフルオロメチル、又はNR3R4であり、
この場合R3とR4は独立して水素又は低級アルキルで
あり;Rは水素又は低級アルキルであり;R1は水素、
低級アルキル、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル、ア
リール低級アルキル、ジアリール低級アルキル、フリル
低級アルキル、チエニル低級アルキル、酸素架橋された
アリール低級アルキル、酸素架橋されたジアリール低級
アルキル、酸素架橋されたフリル低級アルキル又は酸素
架橋されたチエニル低級アルキルである)の化合物;そ
の光学的対掌体、又はその医薬的に許容される酸添加塩
を含む。
【0003】特に関心が持たれるのは式
【化10】 の化合物Iaの式
【化11】 の(±)−9−アミノ−1,2,3,4−テトラヒドロ
アクリジン−1−オールへの還元である。
【0004】それらの還元により製造されるカルボニル
含有アクリジン及びアルコールは米国特許第4,631
,286号、第4,695,573号、第4,754,
050号、第4,835,275号及び第4,839,
364号の開示のように公知である。アクリジン誘導体
製造のための本発明の利点は費用が安く、望ましくない
副生物がなく高収率且つ高純度をもたらすことである。 従って本発明は大規模生産により適応可能なより経済的
で環境的に安全な試薬を使用する方法に対する必要の充
足を助ける。目的のアクリジンは高収率且つ増加した純
度で得られる。
【0005】置換基R、R1、R3、R4、X、m、n
及びpは別記しない限り上で定義した通りである。
【0006】本化合物は次の反応の順序により製造され
る。すなわち式
【化12】 の化合物IIIを式
【化13】 (式中、pは0又は1であり、但しp=1の場合第二の
カルボニル基は環の2又は3位にある)の環状ケトンで
ある化合物IVと反応させて式
【化14】 の公知の中間物質である化合物Vを得る。この反応は典
型的には適当な溶媒中で触媒を使用し、80〜180℃
(又は還流温度まで)で1〜24時間実行する。好まし
い温度範囲は110〜160℃で1〜6時間である。
【0007】触媒は典型的にはp−トルエンスルホン酸
一水和物、メタンスルホン酸、硫酸などから選ばれ、好
ましい触媒はp−トルエンスルホン酸一水和物である。 必要な触媒の量は典型的には0.005〜0.05当量
の範囲にあり、0.008〜0.035当量が好ましい
。縮合に有用な溶媒はトルエン、キシレン、ベンゼン、
又はハロゲン化された芳香族溶媒例えばクロロベンゼン
又はジクロロベンゼンを含む。好ましい溶媒はトルエン
である。
【0008】溶媒のニトリル出発物質に対する容量/重
量(v/w)比は典型的には1:3から1:10の範囲
にあり、好ましい比は1:4から1:6である。
【0009】n=2、及びp=0の化合物IVと化合物
IIIとの反応により式
【化15】 の縮合生成物(Va)が得られ、この生成物はタクリン
(Tacrine)(9−アミノ−1,2,3,4−テ
トラヒドロアクリジン塩酸水和物)の製造に有用な直接
原料である。
【0010】引き続き、pが1の中間物質(V)をアミ
ド溶媒中塩基性無機塩の存在下で触媒と反応させて化合
物Iを得る。
【0011】この環化反応は典型的には触媒例えばFe
Cl2・4H2O、FeCl2、FeCl3等を使用し
、好ましい触媒はFeCl2・4H2Oである。この環
化工程において既知の銅又は亜鉛触媒より鉄触媒を使用
することに著しい利点がある。銅及び亜鉛のような重金
属は毒性が高く微生物排水処理装置と適合しない。銅又
は亜鉛を放出するとそれらは重大な環境問題を引き起こ
すことがある。これに対して、鉄は本質的に無毒であり
排水処理にさえ使用される。使用する触媒の量は5.0
〜13ミリ当量である。
【0012】典型的に使用される塩基性無機塩は炭酸カ
リウム及びナトリウム並びに重炭酸カリウム及びナトリ
ウムを含む。好ましい塩は炭酸カリウム及び重炭酸カリ
ウムである。使用する塩の量は典型的には5.0〜30
ミリ当量の範囲にある。
【0013】環化に使用することができる溶媒はアミド
溶媒例えばジメチルホルムアミド(DMF)又は1−メ
チル−2−ピロリジノンを含み、DMFが好ましい。溶
媒の化合物Vに対するv/w比は典型的には3:1から
5:1の範囲にある。
【0014】この環化は典型的には130〜180℃の
温度範囲で1〜24時間実行し、好ましい条件は140
〜160℃の範囲で1〜8時間を含む。
【0015】上述の典型的条件下で化合物Vaを使用す
る場合、式
【化16】 の化合物IIb(タクリン)が製造される。
【0016】目的のアクリジンは2つの異なる方法によ
り化合物Iaの遊離塩基又は塩のいずれかの還元により
製造される。大規模生産のためには遊離塩基の接触水素
添加が最も実際的な方法であることが見出されている。
【0017】遊離塩基形態の化合物I
【化17】 は水素圧力下で触媒、アルカリ金属塩基及び溶媒を添加
した水素添加容器内で還元されて化合物IIを生成する
【0018】典型的には白金のような貴金属触媒が使用
される。白金は不活性表面例えば炭素上に支持された金
属又は酸化物又は塩の形態とすることができる。触媒の
白金含量は約1〜10%であり、好ましくは2〜5%の
範囲で変動する。触媒に含まれる貴金属の出発ケトンに
対する重量比は一般に0.05〜0.25%であり、好
ましい重量比は0.1〜0.15%である。
【0019】還元に使用することができるアルカリ金属
塩基は水酸化ナトリウム又は水酸化リチウム・H2O又
はナトリウムもしくはリチウムの低級アルコキシドを含
む。本発明の好ましい具体例は出発ケトンに対して0.
1〜0.5当量、好ましくは0.2当量のモル比で水酸
化リチウム・H2Oを使用する。
【0020】炭素数2〜8の低級アルカノール溶媒を典
型的には使用する。好ましい溶媒はエタノール、1−プ
ロパノール、2−プロパノール及び1−ブタノールであ
る。これらの溶媒の内最も好ましいのは1−ブタノール
である。低級アルカノール溶媒の水性混合物も使用する
ことができる。例えばアルカリ金属塩基の溶解性を増加
させるため少量の水を溶媒に添加することができる。添
加する水の量は一般に2〜10%、好ましくは5〜7%
(w/w)の範囲にある。溶媒のケトンに対する典型的
な容量/重量比は3:1から10:1、好ましくは4:
1から8:1の範囲にある。
【0021】使用する水素圧力は50〜1000psi
、典型的には70〜225psiの範囲にある。
【0022】還元は典型的には40〜100℃の操作温
度で4〜20時間、好ましくは60〜80℃の範囲で6
〜10時間実行する。
【0023】触媒の塩基に対する比率は典型的には1:
0.5から1:3、好ましくは1:1から1:2である
【0024】この方法においてはアルカリ金属塩基を存
在させることが重要である。我々は 塩基を存在させないと塩基を存在させた場合の比率より
はるかに少ない比率で還元が起こることを示した。例え
ばこの比率は水酸化リチウム一水和物を塩基として使用
した場合9倍も多くなることを見出した(実施例5参照
)。
【0025】化合物1は温度を120〜150℃の範囲
に1〜4時間上昇させることにより、式
【0026】
【化18】
【0027】のその飽和された形態(化合物VI)に更
に還元させることができる。又は、目的のアルコールは
ナトリウム・ボロヒドリドを使用する安全で実際的な還
元方法を使用して製造することができる。
【0028】ナトリウム・ボロヒドリドの使用はアクリ
ジンの還元について従来報告されている方法より多くの
利点を提供する。第一にナトリウム・ボロヒドリドの安
定化された水溶液は他の金属ヒドリド例えば高度に発熱
性であるリチウムアルミニウムヒドリドより安全に使用
される。第二に水性溶媒の使用はエーテル性溶媒例えば
エーテル、テトラヒドロフランもしくはジオキサン又は
アミド溶媒例えばジメチルホルムアミドもしくはN−メ
チル−2−ピロリジノンより安全且つ経済的である。最
後に5〜25%(v/v)のアルコールの補助溶媒とし
ての使用は水又は酸水溶液を溶媒として使用する場合常
に起こる重大な問題である泡立ちを有効に抑える。
【0029】この代わりの方法において、化合物Iの酸
添加塩を溶媒混合物中でナトリウム・ボロヒドリドと2
0〜60℃の温度で1〜5時間反応させ、好ましくは2
0〜30℃の温度範囲で2〜4時間反応を行わせる。
【0030】典型的にはこの還元は0.8〜1.3当量
、最適には0.9〜1.0当量のナトリウム・ボロヒド
リドを使用する。溶媒混合物は低級アルカノールと水を
含む。低級アルカノールは典型的にはC2〜C8アルカ
ノールであり、2−プロパノールが好ましい。溶媒系は
5〜23%のアルカノール/水の範囲にあり、好ましい
条件では4〜8%溶液を使用する。
【0031】この還元においては反応混合物のpHを適
当に調節しながら保つことが重要である。これは反応工
程の間酸の間欠的添加により達成される。
【0032】本発明は次の実施例によりより詳細に記述
するが、ここでは別記しない限りすべての部、割合、比
率及びパーセントは重量による。
【0033】実施例1 N−(3−オキソシクロヘキセン−1−イル)−2−ア
ミノベンゾニトリルの合成トルエン(250ml)中ア
ミノベンゾニトリル(50.0g)、1,3−シクロヘ
キサンジオン(52.14g)、及びp−トルエンスル
ホン酸一水和物(2.57g)の混合物を共沸蒸留によ
り水を同時除去しながら数時間還流させる。反応混合物
を室温に冷却し、次いで水(100ml)を添加する。 1〜2時間撹拌後粗生成物を濾過し、トルエンと水で洗
浄する。粗生成物を室温で1〜2時間水(350ml)
にスラリーにして洗浄する。濾過し、水で洗浄し乾燥後
、洗浄された生成物、N−(3−オキソシクロヘキセン
−1−イル)−2−アミノベンゾニトリルが高収率で得
られる。
【0034】実施例2 a. 9−アミノ−3,4−ジヒドロ−1(2H)−ア
クリジノン・塩酸塩の合成ジメチルホルムアミド(DM
F)(80ml)中N−(3−オキソシクロヘキセン−
1−イル)−2−アミノベンゾニトリル(20g)、重
炭酸カリウム(0.122g)及び塩化第一鉄四水和物
(0.121g)の混合物を還流下で2〜6時間撹拌す
る。
【0035】反応混合物を80〜85℃に冷却後、30
%塩酸水(12.1ml)を添加して混合物をpH2.
2〜2.4に酸性化し、この間80〜90℃の温度に維
持する。粗生成物懸濁液を冷却し、0〜5℃で1〜2時
間経過させる。粗生成物を濾過し、DMF(40ml)
で洗浄し、真空下で乾燥して22.7gの9−アミノ−
3,4−ジヒドロ−1(2H)−アクリジノン・塩酸塩
が得られる。
【0036】b. 9−アミノ−3,4−ジヒドロ−1
(2H)−アクリジノン・塩酸塩の精製水(175ml
)中9−アミノ−3,4−ジヒドロ−1(2H)−アク
リジノン・塩酸(24.8g)の溶液を活性炭(2〜2
.1g)で処理し、90〜100℃で0.5時間経過さ
せ、濾過し、フィルターケーキを熱水(24.8ml)
で洗浄する。合併した濾液を24%(w/w)塩化ナト
リウム水溶液(17g)で85℃で処理し、0〜5℃で
1時間経過させる。濾過、0〜5℃での水洗(24.8
ml)及び真空乾燥により精製された9−アミノ−3,
4−ジヒドロ−1(2H)−アクリジノン・塩酸塩(2
1.4g)が得られる。
【0037】c. 9−アミノ−3,4−ジヒドロ−1
(2H)−アクリジノン・塩酸塩のその遊離塩基への変
換水(800ml)中9−アミノ−3,4−ジヒドロ−
1(2H)−アクリジノン・塩酸(100g)の溶液を
50%水酸化ナトリウム(33.8g)を添加して溶液
のpHが11より大きくなるまで塩基性にする。得られ
る生成物遊離塩基のスラリーを60℃で0.5時間経過
させ、濾過し真空下で乾燥して85.4gの9−アミノ
−3,4−ジヒドロ−1(2H)−アクリジノンが得ら
れる。
【0038】実施例3 (±)−9−アミノ−1,2,3,4−テトラヒドロア
クリジン−1−オールの接触水素添加による合成窒素で
パージしている300mlのオートクレーブに9−アミ
ノ−3,4−ジヒドロ−1(2H)−アクリジノン(1
5.9g)、水酸化リチウム一水和物(0.63g)、
3%Pt/C(58%の水を含む1.26g)及びn−
ブタノール(111ml)を添加する。水素ガス(12
5psi)下で撹拌する混合物を70℃に加熱する。1
0時間後、混合物はHPLCによると98.5%の生成
物を含む。 混合物を25℃に冷却し、ベント(vent)し、窒素
パージする。生成物に水(27.8ml)、酢酸(6.
5g)を添加し、25℃で30分間ダイジェストさせる
ことにより酢酸塩として溶解させる。
【0039】溶解させた生成物を濾過してPt/C触媒
から分離し、ついで80%n−ブタノール(15.9m
l)で洗浄する。合体した濾液に25〜30℃で50%
水酸化ナトリウム(10.8g)を添加して10.5よ
り大きいpHに塩基性化し、得られる不均質なスラリー
を25℃で1時間経過させる。濾過し、80%水性n−
ブタノール(15.9ml)で洗浄し、水(50ml)
で洗浄し、真空オーブンで乾燥させた後生成物の(±)
−9−アミノ−1,2,3,4−テトラヒドロアクリジ
ン−1−オールが90.6%の収率で単離される。
【0040】次の表1は実施例3のいくつかのパラメー
タを変動させた場合の9−アミノ−1,2,3,4−テ
トラヒドロアクリジン−1−オールの収率に対する効果
を示す。
【0041】
【表1】
【0042】実施例4 (±)−9−アミノ−1,2,3,4−テトラヒドロア
クリジン−1−オールのナトリウム・ボロヒドリド還元
法による合成2−プロパノール(18.8ml)と水(
356ml)の溶媒混合物中9−アミノ−3,4−ジヒ
ドロ−1(2H)−アクリジノン・塩酸塩(75g)の
懸濁液に、137.5mlの0.5%水酸化ナトリウム
の水溶液中ナトリウム・ボロヒドリド(12.84g)
の溶液を室温で少しずつ添加する。
【0043】反応混合物のpHを6N HClを間欠的
に添加して8.2より下に保つ。ナトリウム・ボロヒド
リド溶液の添加が完了した時、反応混合物のpHを50
%水酸化ナトリウム水溶液の添加により9.5〜11に
調節する。遊離塩基の粗生成物を濾過し、水で洗浄する
【0044】湿潤な粗生成物を2−プロパノールと水の
溶媒混合物に室温で懸濁する。酢酸水溶液(50〜60
%)を添加して反応混合物のpHを6〜7に調節する。 混合物を均質な溶液になるまで数分間撹拌する。50%
NaOH溶液で再度塩基性化し、濾過、水性2−プロパ
ノールと水による洗浄および真空カーブン中での乾燥に
より精製された遊離塩基生成物(±)−9−アミノ−1
,2,3,4−テトラヒドロアクリジン−1−オールを
得ることができる。
【0045】実施例5 9−アミノ−3,4−ジヒドロ−1(2H)−アクリジ
ノンの9−アミノ−1,2,3,4−テトラヒドロアク
リジン−1−オール及び9−アミノ−1,2,3,4,
5,6,7,8−オクタヒドロアクリジン−1−オール
への水酸化リチウムを使用しない接触水素添加150m
lのパー(Parr)水素添加容器に9−アミノ−3,
4−ジヒドロ−1(2H)−アクリジノン(6.0g)
、3%Pt/C(65%H2Oと共に)(0.86g)
及び1−ブタノール(42ml)を添加する。混合物を
23〜25℃で窒素(70psi)で3回及び水素(7
0psi)で3回加圧しベントする。最後の水素パージ
後フラスコを水素で70psiに再度加圧し、撹拌しな
がら70℃に加熱する。HPLC分析用試料を2、4及
び12時間に除いた。その結果を下の表2に示す。
【0046】
【表2】
【0047】実施例6 N−(シクロヘキセン−1−イル)−2−アミノベンゾ
ニトリルの合成オーバーヘッド撹拌機、ディーンスター
ク(Dean−Stark)トラップ及び温度計を備え
た300mlの三つ首丸底フラスコに13.3gの2−
アミノベンゾニトリル、133.5mlのキシレン、1
6.64gのシクロヘキサン及び0.905gのp−ト
ルエンスルホン酸一水和物を添加した。撹拌する溶液を
9時間還流温度に加熱して共沸蒸留により水を同時除去
した。次いで混合物を室温に冷却し、150mlの水に
注入した。15分間撹拌後、相を分離した。水相を25
mlのキシレンで抽出し、合併した有機相を10%水酸
化ナトリウム水溶液でpHを約8から9に調節した後1
00mlの水と共に10分間撹拌した。相を分離し、有
機相を100mlの水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で
乾燥させ、濾過し、ロータリーエバポレーターで濃縮し
て20.87gの油状物を得た。粗混合物を精製するこ
となく次工程に使用した。
【0048】実施例7 9−アミノ−1,2,3,4−テトラヒドロアクリジン
の合成オーバーヘッド撹拌機、凝縮器及び温度計を備え
た250mlの三つ首丸底フラスコに20.8gのN−
(シクロヘキセン−1−イル)−2−アミノベンゾニト
リル、90mlのジメチルホルムアミド、2.26gの
塩化第一鉄四水和物及び1.13gの重炭酸カリウムを
添加した。撹拌する混合物を2〜4時間還流させ、次い
で冷却した。反応混合物をロータリーエバポレーターで
濃縮して21.7gの油状物を得た。
【0049】油状物をトルエンと3N HClの間で分
配し、水相を塩基性にして生成物をジクロロメタンに抽
出した。有機相を炭酸カリウム上で乾燥させ、濾過し、
ロータリーエバポレーターで濃縮して10.1gの固体
を得た。3.28gの第二の収量も単離した。2つの固
体を合併し、シリカゲルを使用するクロマトグラフィー
により精製して8.3gの9−アミノ−1,2,3,4
−テトラヒドロアクリジンが得られた。
【0050】実施例8 9−ベンジルアミノ−1,2,3,4−テトラヒドロア
クリジン−1−オールの接触水素添加による合成窒素で
パージしている300mlのオートクレーブに9−ベン
ジルアミノ−3,4−ジヒドロ−1(2H)−アクリジ
ノン(22.7g)、水酸化リチウム一水和物(0.6
3g)、3%Pt/C(65%の水を含む5.42g)
及びn−プロパノール(159ml)を添加する。水素
ガス(400〜1000psi)下で撹拌(500rp
m)している混合物を70℃に加熱する。23時間後、
混合物はHPLCによると>99.5%の生成物を含む
。混合物を25℃に冷却し、ベントし、窒素でパージす
る。溶解した生成物をPt/C触媒から濾過して分離し
、次いでn−プロパノール(22.7ml)で洗浄する
。合併した濾液を30℃より下で濃縮し、得られる不均
質なスラリーを5℃で1時間経過させる。濾過、n−プ
ロパノール洗浄及び真空オーブン中での乾燥により生成
物、9−ベンジルアミノ−1,2,3,4−テトラヒド
ロアクリジン−1−オールが70%収率(HPLC純度
99.0%)で単離される。

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  式I 【化1】 (式中、nは1、2又は3であり、Xは水素、低級アル
    キル、低級アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、トリフ
    ルオロメチル、又はNR3R4であり、ここでR3とR
    4は独立して水素又は低級アルキルであり;Rは水素又
    は低級アルキルであり;R1は水素、低級アルキル、ジ
    低級アルキルアミノ低級アルキル、アリール低級アルキ
    ル、ジアリール低級アルキル、フリル低級アルキル、チ
    エニル低級アルキル、酸素架橋されたアリール低級アル
    キル、酸素架橋されたジアリール低級アルキル、酸素架
    橋されたフリル低級アルキル又は酸素架橋されたチエニ
    ル低級アルキルである)のカルボニル含有アクリジンを
    適当な溶媒中アルカリ金属塩基の存在下及び上昇した温
    度で、水素圧力下に貴金属触媒と反応させることからな
    る式Iのカルボニル含有アクリジン誘導体の還元方法。
  2. 【請求項2】  貴金属触媒は白金、酸化白金又は白金
    塩である請求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】  アルカリ金属塩基は水酸化リチウム及
    びその水和物、水酸化ナトリウム、及びナトリウム又は
    リチウムの低級アルコキシドから選ばれる請求項1記載
    の方法。
  4. 【請求項4】  アルカリ金属塩基は水酸化ナトリウム
    及び水酸化リチウム一水和物である請求項3記載の方法
  5. 【請求項5】  溶媒は炭素原子数2〜8の低級アルカ
    ノール溶媒である請求項1記載の方法。
  6. 【請求項6】  溶媒はエタノール、1−プロパノール
    、2−プロパノール及び1−ブタノールからなる群より
    選ばれる請求項5記載の方法。
  7. 【請求項7】  溶媒は1−ブタノールである請求項6
    記載の方法。
  8. 【請求項8】  2〜10%(w/w)の水を溶媒に添
    加する請求項1記載の方法。
  9. 【請求項9】  上昇した温度は40〜100℃である
    請求項1記載の方法。
  10. 【請求項10】  温度は60〜80℃である請求項9
    記載の方法。
  11. 【請求項11】  触媒は白金、アルカリ金属塩基は水
    酸化リチウム及び溶媒は1−ブタノールである請求項1
    記載の方法。
  12. 【請求項12】  式I 【化2】 (式中、nは1、2又は3であり、Xは水素、低級アル
    キル、低級アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、トリフ
    ルオロメチル、又はNR3R4であり、ここでR3とR
    4は独立して水素又は低級アルキルであり;Rは水素又
    は低級アルキルであり;R1は水素、低級アルキル、ジ
    低級アルキルアミノ低級アルキル、アリール低級アルキ
    ル、ジアリール低級アルキル、フリル低級アルキル、チ
    エニル低級アルキル、酸素架橋されたアリール低級アル
    キル、酸素架橋されたジアリール低級アルキル、酸素架
    橋されたフリル低級アルキル又は酸素架橋されたチエニ
    ル低級アルキルである)のカルボニル含有アクリジンを
    適当な溶媒中でナトリウム・ボロヒドリドと反応させる
    ことからなる式Iのカルボニル含有アクリジンの還元方
    法。
  13. 【請求項13】  溶媒は炭素原子数2〜8の低級アル
    カノールと水との溶媒混合物である請求項12記載の方
    法。
  14. 【請求項14】  溶媒混合物は2−プロパノールと水
    を水中のプロパノールの比5〜23%(w/w)で含有
    する請求項13記載の方法。
  15. 【請求項15】  式Ia 【化3】 の化合物又はその医薬的に許容される酸添加塩を還元し
    て式IIの 【化4】 の化合物又はその医薬的に許容される酸添加塩を形成さ
    せる請求項1〜12のいずれか一項記載の方法。
  16. 【請求項16】  カルボニル含有アクリジンはa) 
    式III 【化5】 (式中、Xは上で定義した通りである)の化合物を適当
    な溶媒中で、及び触媒の存在下で式IV【化6】 (式中、nは定義した通りであり、及びpは0又は1で
    ある)の化合物と反応させて式V 【化7】 (式中、X、n及びpは定義した通りである)の化合物
    を形成させ、及び b) 式V(式中、Xとnは定義した通りであり、及び
    pは1である)の化合物を触媒として金属ハロゲン化物
    、および塩基性無機塩の存在下で環化させて式Iの化合
    物を形成させることにより得られる請求項1〜12のい
    ずれかの項に記載の方法。
  17. 【請求項17】  式IIIの化合物の式IVの化合物
    との反応に使用する触媒はp−トルエンスルホン酸一水
    和物、メタンスルホン酸又は硫酸から選ばれる請求項1
    6記載の方法。
  18. 【請求項18】  触媒はp−トルエンスルホン酸一水
    和物である請求項17記載の方法。
  19. 【請求項19】  環化反応に使用する触媒はFeCl
    2・4H2O、FeCl2又はFeCl3から選ばれ、
    及び使用する塩基性無機塩は炭酸カリウム、炭酸ナトリ
    ウム、重炭酸カリウム又は重炭酸ナトリウムから選ばれ
    る請求項16記載の方法。
  20. 【請求項20】  FeCl2・4H2Oを触媒として
    使用し、炭酸カリウム又は重炭酸カリウムを塩基性無機
    塩として使用する請求項19記載の方法。
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