JPH04222925A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH04222925A JPH04222925A JP40679890A JP40679890A JPH04222925A JP H04222925 A JPH04222925 A JP H04222925A JP 40679890 A JP40679890 A JP 40679890A JP 40679890 A JP40679890 A JP 40679890A JP H04222925 A JPH04222925 A JP H04222925A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- magnetic recording
- texture
- disk
- tape
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体の製造工
程のうち、メッキ処理後の基板表面に所定の表面粗さを
有する凹凸（以下、テクスチャーと言う。）を形成する
工程（以下、テクスチュアリング工程と言う。）に関し
、特に、固定磁気記録装置に搭載される磁気記録媒体の
製造方法に関する。
程のうち、メッキ処理後の基板表面に所定の表面粗さを
有する凹凸（以下、テクスチャーと言う。）を形成する
工程（以下、テクスチュアリング工程と言う。）に関し
、特に、固定磁気記録装置に搭載される磁気記録媒体の
製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、固定磁気記録装置用の磁気記録デ
ィスクは、図３に示すように、Ａｌ合金等からなる非磁
性の基板１の表面に、無電界メッキによってＮｉ−Ｐか
らなるメッキ層２を被着し、このメッキ層２の表面をポ
リシング工程で鏡面研磨した後、所定粗さの研磨テープ
で研磨することによって、メッキ層２の表面上にディス
クの回転方向に凹凸を付けてテクスチャー２ａを形成す
る。このテクスチャー２ａの上にスパッタリング法等に
よって、Ｃｒからなる下地層３及びＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ系
又はＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ系の磁性層４を形成し、最後に、
アモルファスカーボンからなる表面保護層５を形成する
。
ィスクは、図３に示すように、Ａｌ合金等からなる非磁
性の基板１の表面に、無電界メッキによってＮｉ−Ｐか
らなるメッキ層２を被着し、このメッキ層２の表面をポ
リシング工程で鏡面研磨した後、所定粗さの研磨テープ
で研磨することによって、メッキ層２の表面上にディス
クの回転方向に凹凸を付けてテクスチャー２ａを形成す
る。このテクスチャー２ａの上にスパッタリング法等に
よって、Ｃｒからなる下地層３及びＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ系
又はＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ系の磁性層４を形成し、最後に、
アモルファスカーボンからなる表面保護層５を形成する
。
【０００３】その表面保護層５の表面には、上記テクス
チャー２ａの凹凸が反映されて所定粗さの凹凸が形成さ
れるが、この凹凸が磁気ヘッドとの摩擦係数を適度に保
ち、磁気ヘッドと磁気記録ディスク表面との癒着を防止
しつつ、所定の滑走特性を維持するようになっている。
チャー２ａの凹凸が反映されて所定粗さの凹凸が形成さ
れるが、この凹凸が磁気ヘッドとの摩擦係数を適度に保
ち、磁気ヘッドと磁気記録ディスク表面との癒着を防止
しつつ、所定の滑走特性を維持するようになっている。
【０００４】上記テクスチャー２ａを形成するテクスチ
ャリング工程では、図４に示すように、磁気記録ディス
クを回転させながら、アルミナ粉末等が固着された研磨
テープ１２を、回転軸１０ａを中心に回転自在に取り付
けられたローラ１０の周面でメッキ層２の表面に所定の
圧力で押圧し、研磨する。ここに、研磨テープ１２は所
定の送り速度でその延長方向に移動し、順次新たな研磨
面がメッキ層２に接触するようになっている。
ャリング工程では、図４に示すように、磁気記録ディス
クを回転させながら、アルミナ粉末等が固着された研磨
テープ１２を、回転軸１０ａを中心に回転自在に取り付
けられたローラ１０の周面でメッキ層２の表面に所定の
圧力で押圧し、研磨する。ここに、研磨テープ１２は所
定の送り速度でその延長方向に移動し、順次新たな研磨
面がメッキ層２に接触するようになっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のテクスチャリング工程における研磨方法では、研磨
テープ１２の表面に固着された砥粒によってメッキ層２
の表面がディスク回転方向に研磨されるので、形成され
るテクスチャー２ａは、ディスク回転方向に無秩序に伸
びた溝形状となり、円周方向の凹凸形状が不均一となる
。したがって、このテクスチャー上に形成される表面保
護層５の凹凸もそれを反映し、磁気ヘッドの摩擦係数の
均一性若しくは摩擦係数の低減を阻む原因となっており
、更に、磁気ヘッドの浮上安定性も充分でないという問
題点があった。
来のテクスチャリング工程における研磨方法では、研磨
テープ１２の表面に固着された砥粒によってメッキ層２
の表面がディスク回転方向に研磨されるので、形成され
るテクスチャー２ａは、ディスク回転方向に無秩序に伸
びた溝形状となり、円周方向の凹凸形状が不均一となる
。したがって、このテクスチャー上に形成される表面保
護層５の凹凸もそれを反映し、磁気ヘッドの摩擦係数の
均一性若しくは摩擦係数の低減を阻む原因となっており
、更に、磁気ヘッドの浮上安定性も充分でないという問
題点があった。
【０００６】そこで、本発明は上記問題点を解決するも
のであり、その課題は、テクスチャー２ａの方向性を低
減することによって、表面凹凸の均一性を高め、磁気ヘ
ッドとの摩擦特性及び磁気ヘッドの浮上安定性の向上を
図ることにある。
のであり、その課題は、テクスチャー２ａの方向性を低
減することによって、表面凹凸の均一性を高め、磁気ヘ
ッドとの摩擦特性及び磁気ヘッドの浮上安定性の向上を
図ることにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに本発明が講じた手段は、テクスチュアリング工程に
おいて、メッキ表面を鏡面研磨した前記基板表面を、平
均砥粒径１〜５μｍの遊離砥粒を含有する研磨液で回転
研磨するものである。ここに、研磨液としてダイヤモン
ドスラリーを用いるか、或いは遊離砥粒としてアルミナ
砥粒を用いることが望ましい。
めに本発明が講じた手段は、テクスチュアリング工程に
おいて、メッキ表面を鏡面研磨した前記基板表面を、平
均砥粒径１〜５μｍの遊離砥粒を含有する研磨液で回転
研磨するものである。ここに、研磨液としてダイヤモン
ドスラリーを用いるか、或いは遊離砥粒としてアルミナ
砥粒を用いることが望ましい。
【０００８】
【作用】かかる手段によれば、従来の固定砥粒による研
磨とは異なり、研磨部材から完全に遊離した砥粒によっ
て研磨されるので、研磨方向に起因したテクスチャー形
状の異方性が緩和されるとともに、研磨の不均一性を排
除してランダムな凹凸が形成される。
磨とは異なり、研磨部材から完全に遊離した砥粒によっ
て研磨されるので、研磨方向に起因したテクスチャー形
状の異方性が緩和されるとともに、研磨の不均一性を排
除してランダムな凹凸が形成される。
【０００９】
【実施例】次に、添付図面を参照して本発明の実施例を
説明する。図１は、図４に示すものと同様の研磨装置に
よる研磨状態を示したものであり、磁気記録ディスク１
の設置面方向から見た一部断面図である。磁気記録ディ
スク１は２００〜５００回転／分で回転されており、回
転軸１５ａに回転自在に取り付けられた２つのローラ１
５がそれぞれ数ｋｇ／ｃｍ２ 程度の圧力でディスク表
面のメッキ層２を表裏から挟みつけており、これらのロ
ーラ１５の周面には、研磨布テープ２０が巻き付くよう
になっている。この研磨布テープ２０は、通常のポリッ
シング用と同様の材質で形成されており、それ自体には
研磨機能は殆どない。また、その研磨布テープ２０の弾
力性を考慮して、従来よりも硬度の高い材質のローラ１
５を使用している。
説明する。図１は、図４に示すものと同様の研磨装置に
よる研磨状態を示したものであり、磁気記録ディスク１
の設置面方向から見た一部断面図である。磁気記録ディ
スク１は２００〜５００回転／分で回転されており、回
転軸１５ａに回転自在に取り付けられた２つのローラ１
５がそれぞれ数ｋｇ／ｃｍ２ 程度の圧力でディスク表
面のメッキ層２を表裏から挟みつけており、これらのロ
ーラ１５の周面には、研磨布テープ２０が巻き付くよう
になっている。この研磨布テープ２０は、通常のポリッ
シング用と同様の材質で形成されており、それ自体には
研磨機能は殆どない。また、その研磨布テープ２０の弾
力性を考慮して、従来よりも硬度の高い材質のローラ１
５を使用している。
【００１０】ディスク表面と研磨布テープ２０との間に
は、研磨液供給ノズル３０から１〜５μｍの範囲で選択
された平均粒径をもつダイヤモンド粒を含有したダイヤ
モンドスラリー３２が供給され、接触部３４近傍に堆積
しながら、メッキ層２の表面を研磨していく。ここで、
研磨布テープ２０は、研磨中にそれ自体に埋め込まれた
ダイヤモンド粒がメッキ層２を過度に傷つけない程度に
その延長方向に所定の速度で送られる。
は、研磨液供給ノズル３０から１〜５μｍの範囲で選択
された平均粒径をもつダイヤモンド粒を含有したダイヤ
モンドスラリー３２が供給され、接触部３４近傍に堆積
しながら、メッキ層２の表面を研磨していく。ここで、
研磨布テープ２０は、研磨中にそれ自体に埋め込まれた
ダイヤモンド粒がメッキ層２を過度に傷つけない程度に
その延長方向に所定の速度で送られる。
【００１１】図２には、上記研磨によって形成されたメ
ッキ層２の表面のテクスチャー２ａを示しており、ほぼ
平均粒径と同様の周期ｄ（１〜５μｍ）をもつ凹凸が形
成されている。
ッキ層２の表面のテクスチャー２ａを示しており、ほぼ
平均粒径と同様の周期ｄ（１〜５μｍ）をもつ凹凸が形
成されている。
【００１２】本実施例によれば、従来の固着砥粒ではな
く、遊離砥粒によってメッキ層２の表面が研磨されてい
くので、テクスチャー形状における研磨方向（ディスク
の回転方向）の異方性を緩和することができ、ランダム
かつディスク全面に亘って均一な凹凸を形成することが
できる。したがって、磁気ヘッドとディスクとの間の摩
擦特性の向上及び磁気ヘッドの浮上安定性の向上を図る
ことができる。また、その表面凹凸は、従来に比して他
の研磨条件、例えば、ディスクの回転速度等に対する依
存性が弱く、ほぼ、ダイヤモンド粒の平均粒径と同様の
周期を以て形成されるので、テクスチャー形状の制御性
が良い。
く、遊離砥粒によってメッキ層２の表面が研磨されてい
くので、テクスチャー形状における研磨方向（ディスク
の回転方向）の異方性を緩和することができ、ランダム
かつディスク全面に亘って均一な凹凸を形成することが
できる。したがって、磁気ヘッドとディスクとの間の摩
擦特性の向上及び磁気ヘッドの浮上安定性の向上を図る
ことができる。また、その表面凹凸は、従来に比して他
の研磨条件、例えば、ディスクの回転速度等に対する依
存性が弱く、ほぼ、ダイヤモンド粒の平均粒径と同様の
周期を以て形成されるので、テクスチャー形状の制御性
が良い。
【００１３】上記実施例のダイヤモンドスラリー３２の
代わりに、アルミナ砥粒を研磨油等に混在させて用いる
こともできる。この場合、上記図１に示す装置で研磨す
ることも勿論可能であるが、両面ポリッシング装置によ
り磁気記録ディスク１を非束縛状態で上下の定盤間にお
いて研磨することもできる。
代わりに、アルミナ砥粒を研磨油等に混在させて用いる
こともできる。この場合、上記図１に示す装置で研磨す
ることも勿論可能であるが、両面ポリッシング装置によ
り磁気記録ディスク１を非束縛状態で上下の定盤間にお
いて研磨することもできる。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、遊離砥
粒を含有する研磨液によってテクスチャーを形成するこ
とに特徴を有するので、研磨方向性の少ないランダムか
つ均一な凹凸形状とすることができ、磁気記録媒体と磁
気ヘッドとの摩擦特性及び磁気ヘッドの浮上安定性を向
上させることができる。
粒を含有する研磨液によってテクスチャーを形成するこ
とに特徴を有するので、研磨方向性の少ないランダムか
つ均一な凹凸形状とすることができ、磁気記録媒体と磁
気ヘッドとの摩擦特性及び磁気ヘッドの浮上安定性を向
上させることができる。
【図１】本発明に係るテクスチャリング工程の実施例を
示す一部断面図である。
示す一部断面図である。
【図２】実施例によって形成されたテクスチャー形状を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図３】磁気記録ディスクの層構造を示す断面図である
。
。
【図４】従来のテクスチャリング工程を説明するための
概念平面図である。
概念平面図である。
１ 磁気記録ディスク
２ メッキ層
２ａ テクスチャー
１５ ローラ
２０ 研磨布テープ
３２ ダイヤモンドスラリー
Claims (3)
- 【請求項１】 メッキ処理された基板表面にテクスチ
ャーを形成すべきテクスチュアリング工程を有する磁気
記録媒体の製造方法であって、前記テクスチュアリング
工程において、鏡面研磨された前記基板表面を、平均砥
粒径１〜５μｍの遊離砥粒を含有する研磨液で回転研磨
することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項２】 請求項１に記載の磁気記録媒体の製造
方法において、前記研磨液は、ダイヤモンドスラリーで
あることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項３】 請求項１に記載の磁気記録媒体の製造
方法において、前記遊離砥粒は、アルミナ砥粒であるこ
とを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP40679890A JPH04222925A (ja) | 1990-12-26 | 1990-12-26 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP40679890A JPH04222925A (ja) | 1990-12-26 | 1990-12-26 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04222925A true JPH04222925A (ja) | 1992-08-12 |
Family
ID=18516423
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP40679890A Pending JPH04222925A (ja) | 1990-12-26 | 1990-12-26 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04222925A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0636671A1 (en) * | 1993-07-26 | 1995-02-01 | Saint-Gobain/Norton Industrial Ceramics Corporation | Polishing material |
-
1990
- 1990-12-26 JP JP40679890A patent/JPH04222925A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0636671A1 (en) * | 1993-07-26 | 1995-02-01 | Saint-Gobain/Norton Industrial Ceramics Corporation | Polishing material |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4973496A (en) | Method for texturing magnetic disks | |
| KR19990036285A (ko) | 다중 그리트 입자를 갖는 연마성 물품을 이용한 기판 조직화방법 | |
| US5938506A (en) | Methods and apparatus for conditioning grinding stones | |
| JPH1058296A (ja) | 剛性ディスク基板の表面凹凸化装置および方法 | |
| JP3185971B2 (ja) | 研摩布及びその製造方法とテクスチャ加工方法 | |
| JPS61199536A (ja) | テ−プ走行シヤフト表面の梨地模様成形方法 | |
| JPH04222925A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH033765A (ja) | 剛性基板の表面処理方法 | |
| US5540973A (en) | Magnetic recording medium and a method for manufacturing such medium | |
| JPS62236664A (ja) | 磁気デイスク用基盤のテクスチヤリング方法 | |
| JPH05166176A (ja) | 磁気ディスクの製造方法 | |
| JP2001250224A (ja) | 磁気記録媒体用基板とその製造方法および磁気記録媒体 | |
| JP3558568B2 (ja) | 磁気ディスク基板のテクスチャリング加工方法および装置 | |
| JPH0896355A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP4094801B2 (ja) | 磁気ディスク基板用テクスチャリング加工液 | |
| JP3591331B2 (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH06176358A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH06295432A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0714156A (ja) | 磁気ディスク用基板の製造方法 | |
| JPH0615557A (ja) | スタンパーの研磨方法 | |
| JPH06150305A (ja) | 磁気ディスク基板の表面加工方法、磁気ディスク基板、および磁気ディスク基板の表面加工装置 | |
| JPH01205974A (ja) | 磁気ディスク用基盤のテキスチャリング方法 | |
| JPH11273063A (ja) | 磁気ディスク用基板のテクスチャ加工方法 | |
| JPH01201824A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法およびその装置 | |
| JPH1040539A (ja) | 磁気記録媒体及びその表面加工方法 |