JPH04223307A - シールド付チップ型コイル - Google Patents

シールド付チップ型コイル

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JPH04223307A
JPH04223307A JP40576790A JP40576790A JPH04223307A JP H04223307 A JPH04223307 A JP H04223307A JP 40576790 A JP40576790 A JP 40576790A JP 40576790 A JP40576790 A JP 40576790A JP H04223307 A JPH04223307 A JP H04223307A
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JP
Japan
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insulating film
film
coil conductor
conductor
magnetic film
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Katsuhiro Misaki
勝弘 三▲崎▼
Masahiko Kawaguchi
正彦 川口
Kazuo Dogakiuchi
一雄 堂垣内
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明はシールド付チップ型コ
イルに関し、特にたとえば高周波のマイクロ波回路等に
採用される平面型のシールド付チップ型コイルに関する
【0002】
【従来の技術】この種の従来技術としては、本件出願人
がたとえば特開平2−54903 号等において提案し
た、チップ型コイルがある。このチップ型コイルは、基
板の表面に1対の端子電極を形成するとともに、端子電
極にその両端が接続される帯状のコイル導体を形成し、
端子電極およびコイル導体の表面を覆うようにポリイミ
ドあるいはポリアミドからなる絶縁膜を形成するととも
に、絶縁膜のうち少なくとも端子電極部分をエッチング
法により除去して端子電極を露出させたものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】このチップ型コイルで
は、外部からの影響を受け易く、また外部に磁束が漏れ
てしまうという問題点があった。  それゆえに、この
発明の主たる目的は、シールド効果が大きい、シールド
付チップ型コイルを提供することである。
【0004】
【課題を解決するための手段】この発明は、基板、基板
上に形成される第1の磁性体膜、第1の磁性体膜の上に
形成されるコイル導体、およびコイル導体の上に形成さ
れる第2の磁性体膜を備える、シールド付チップ型コイ
ルである。
【0005】
【作用】コイル導体の下部には第1の磁性体膜が、コイ
ル導体の上部には第2の磁性体膜がそれぞれ形成される
。したがって、コイル導体は第1および第2の磁性体膜
によって挟まれる。
【0006】
【発明の効果】この発明によれば、コイル導体は第1お
よび第2の磁性体膜によって挟まれるため、高いシール
ド効果が得られ、したがって外部からのまたは外部への
影響が軽減される。この発明の上述の目的,その他の目
的,特徴および利点は、図面を参照して行う以下の実施
例の詳細な説明から一層明らかとなろう。
【0007】
【実施例】図1を参照して、この実施例のシールド付チ
ップ型コイル10はたとえばアルミナ,ガラスまたは樹
脂などの絶縁体からなる基板12を含む。基板12の上
面略中央部には、磁性体膜14が形成され、さらに磁性
体膜14を覆うように、基板12の上面全面には絶縁膜
16が形成される。なお、磁性体膜14は点線で示すよ
うに、基板12の下面略中央部に形成されてもよい。
【0008】そして、図3からよくわかるように、絶縁
膜16の上面両端部には、端子電極18aおよび18b
が形成され、絶縁膜16の上面略中央部にはスパイラル
状のコイル導体20が形成される。コイル導体20はた
とえば幅略40μm,厚さ5μmに形成される。コイル
導体20の外端20aは、端子電極18aに接続される
【0009】そして、絶縁膜16の上面には、コイル導
体20を覆うように、ポリイミドあるいはポリアミドな
どの樹脂からなる絶縁膜22がコーティングされる。な
お、コイル導体20の内端20b部分には、スルーホー
ル24が形成される。また、絶縁膜22の上面には、ス
ルーホール24を通してコイル導体20の内端20bと
端子電極18bとを接続するリード導体26が形成され
る。さらに、絶縁膜22の上面全面には、ポリイミドや
ポリアミドなどの樹脂からなる絶縁膜28がコーティン
グされる。そして、絶縁膜28の上面略中央部には、磁
性体膜30が形成される。さらに、絶縁膜28の上面全
面には、磁性体膜30を覆うように絶縁膜32が形成さ
れる。
【0010】このようなシールド付チップ型コイル10
は、図2〜図5に示す工程順次に製造される。まず、図
2に示すように、基板12を準備し、基板12の両面に
鏡面研磨を施した後、洗浄する。次いで、基板12の上
面略中央部には、フォトリソグラフィ技術により、磁性
体膜14が形成される。すなわち、基板12の上面全面
には、蒸着,スパッタリングあるいはイオンプレーティ
ング法等の薄膜形成技術によりフェライトなどからなる
磁性体膜が形成され、磁性体膜の上面にはフォトレジス
ト膜(図示せず)がコーティングされる。フォトレジス
ト膜は、磁性体膜14の所望の形状にあわせて予め形成
されたマスクで覆われ、残したいフォトレジスト膜の部
分を露光した後、現像処理してフォトレジスト膜の不要
部分を除去する。ただし、ネガ型フォトレジストの場合
には、除去したい部分を露光する。そして、エッチング
すると、フォトレジスト膜の形成されていない部分の磁
性体膜が除去され、磁性体膜14が形成される。その後
、フォトレジスト膜をたとえばシンナーなどによって除
去する。その後、基板12の上面全面には、磁性体膜1
4を覆うように、ポリイミドやポリアミドからなる絶縁
膜16が形成される。
【0011】さらに、図3に示すように、絶縁膜16の
上面には、フォトリソグラフィ技術により、コイル導体
20および端子電極18a,18bが形成される。すな
わち、絶縁膜16の上面全面には、蒸着,スパッタリン
グあるいはイオンプレーティング法等の薄膜形成技術に
よりAgなどからなる導体膜(図示せず)が形成される
。そして、上述の磁性体膜14と同様に、導体膜の上面
にはフォトレジスト膜がコーティングされる。フォトレ
ジスト膜は、コイル導体20および端子電極18a,1
8bの所望の形状にあわせて予め形成されたマスクを通
して露光し、現像してフォトレジスト膜の不要部分を除
去する。そして、エッチングによってフォトレジスト膜
の形成されていない部分の導体膜が除去され、コイル導
体20および端子電極18a,18bが形成される。 その後、フォトレジスト膜をたとえばシンナーなどによ
って除去する。
【0012】さらに、図4に示すように、絶縁膜16の
上面には、コイル導体20を覆うように、同様のフォト
リソグラフィ技術により、絶縁膜22が形成される。す
なわち、絶縁膜16の上面全面には、コイル導体20お
よび端子電極18a,18bを覆うように、たとえばポ
リイミドやポリアミドなどからなる絶縁膜がコーティン
グされ、乾燥される。そして、絶縁膜の端子電極18a
,18b部分およびコイル導体20の内端20b以外の
部分を露光する。次に、これを現像すると、露光させた
部分だけが残る。すなわち、図4に示すように、端子電
極18a,18b部分が露出するとともに、スルーホー
ル24が形成され、コイル導体20の内端20b部分が
露出するように、絶縁膜22が形成される。次に、これ
を窒素ガス雰囲気中において、約400℃に加熱して、
絶縁層22を硬化させる。なお、後述の絶縁膜28,3
2,48,56,62および64にも、同様の方法が適
用され得る。
【0013】その後、図5に示すように、絶縁膜22の
上面には、フォトリソグラフィ技術によってリード導体
26が形成される。すなわち、絶縁膜22の上面に、ス
パッタリングにより導体層を形成した後、上述のコイル
導体20および端子電極18a,18bを形成したのと
同様の方法で、リード導体26が形成される。リード導
体26の一方端はスルーホール24を介してコイル導体
20の内端20bに接続され、リード導体26の他方端
は端子電極18bに接続されるので、コイル導体20と
端子電極18bとはリード導体26によって電気的に接
続される。そして、絶縁膜22の上面全面には、たとえ
ばポリイミドやポリアミドなどからなる絶縁膜28がコ
ーティングされ、絶縁膜22上のリード導体26も絶縁
膜28に覆われる。絶縁膜28を形成するには、まず、
端子18aおよび18bをも覆うように、絶縁膜が形成
され、端子18aおよび18b部分の絶縁膜は、フォト
エッチングにより除去される。
【0014】そして、図1に示すように、絶縁膜28の
上面略中央部には、磁性体膜30が形成される。磁性体
膜30は、フォトリソグラフィ技術により、磁性体膜1
4の形成と同様にして形成される。最後に、絶縁膜28
の上面には、磁性体膜30を覆うように、絶縁膜32が
形成され、シールド付チップ型コイル10が形成される
【0015】このようにして形成されたシールド付チッ
プ型コイル10においては、コイル導体20の下部に磁
性体膜14が、コイル導体20の上部に磁性体膜30が
それぞれ形成されるので、コイル導体20は磁性体膜1
4と30とによって挟まれた形となり、したがって、高
いシールド効果が得られ、外部からの影響を受けずまた
は外部へ影響を及ぼさない信頼性の高いシールド付チッ
プ型コイル10を得ることができる。
【0016】また、このような磁性体膜14および30
によってほぼ閉磁路が形成されるので、同一サイズのコ
イルでのインダクタンスを大きくできる。したがって、
シールド付チップ型コイル10自体を薄型にできかつ小
型化をも図れる。また、図6に示す他の実施例のシール
ド付チップ型コイル40は、磁性体膜42をコイル導体
44の上部だけでなく、コイル導体44の線間にも入り
込ませ、さらにシールド効果を上げた点に特徴を有し、
その他の構成部分は先の実施例とほぼ同様に形成される
【0017】シールド付チップ型コイル40は、先の実
施例とほぼ同様の工程を経て製造されるので、ここでは
、簡単に説明する。まず、図7に示すように、チップ状
の基板12を準備し、基板12の上面全面に、磁性体膜
46が形成される。次いで、磁性体膜46の上面に、た
とえばポリイミドやポリアミドなどの樹脂からなる絶縁
膜48が形成される。絶縁膜48を形成するには、まず
、磁性体膜46の上面全面に絶縁膜を形成し、その後、
図8にも示すコイル導体44の中央部50およびコイル
導体44の外側部52の部分の絶縁膜をフォトエッチン
グにより除去し、図7に示すような絶縁膜48が形成さ
れる。
【0018】次いで、図8に示すように、絶縁膜48の
上面には、フォトリソグラフィ技術によりコイル導体4
4および端子電極54a,54bが形成される。まず、
絶縁膜48の上面全面には、導体膜が形成され、不要部
分をフォトエッチングして、図9にも示すように、絶縁
膜48の上面両端部に端子電極54aおよび54b、絶
縁膜48の上面略中央部にコイル導体44がそれぞれ形
成され、コイル導体44の外端44aは端子電極54a
に接続される。
【0019】そして、絶縁膜48の上面には、コイル導
体44を覆うように絶縁膜56が形成される。まず、絶
縁膜48の上面全面にはコイル導体44および端子電極
54a,54bを覆うように、絶縁膜がコーティングさ
れる。そして、絶縁膜の端子電極54a,54bおよび
コイル導体44の内端44b,コイル導体44の中央部
50および外側部52をエッチングすると、図9に示す
ように、端子電極54a,54b部分が露出するととも
にスルーホール58が形成され、コイル導体44の内端
44b部分が露出し、さらに、中央部50および外側部
52も露出するように、絶縁膜56が形成される。
【0020】そして、図10に示すように、絶縁膜56
の上面には、コイル導体44の内端44bと端子電極5
4bとを接続するリード導体60が形成される。まず、
絶縁膜56の上面に、スパッタリングにより導体層を形
成した後、上述のコイル導体44および端子電極54a
,54bを形成したのと同様の方法で、リード導体60
が形成される。リード導体60の一方端はスルーホール
58を介してコイル導体44の内端44bに接続され、
リード導体60の他方端は端子電極54bに接続される
【0021】そして、絶縁膜56の上面には、リード導
体60の一部を覆うように、絶縁膜62がコーティング
される。絶縁膜62は、図8を参照すると、エッチング
により外側部52の内側で中央部50を除いたところに
形成される。そして、図6に示すように、コイル導体4
4の上部だけでなく、コイル導体44の中央部50や外
側部52にも磁性体膜42がコーティングされる。
【0022】さらに、磁性体膜42を覆うように、絶縁
膜64が形成される。絶縁膜は、最初に、端子電極54
aおよび54b部分にも形成されるが、その後、エッチ
ングによって端子電極54aおよび54b部分の絶縁膜
は除去されるため、端子電極54aおよび54bは露出
する。この実施例のシールド付チップ型コイル40では
、図6に示すように、コイル導体44が磁性体膜42と
磁性体膜46とによって挟まれ、しかも磁性体膜42と
46とによって磁路66が形成されるので、シールド効
果がより一層高められるばかりでなく、インダクタンス
もさらに向上する。
【0023】なお、リード導体26および60は、塗布
により形成してもよい。また、絶縁膜にポリイミドを用
いても、ポリイミドが非感光性の場合には、ポジ系フォ
トレジストを塗布した後、絶縁膜の残さない部分を露光
して現像すればよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例を示す端面図である。
【図2】基板に磁性体膜および絶縁膜を形成した状態を
示す端面図である。
【図3】コイル導体および端子電極を形成した状態を示
す平面図である。
【図4】絶縁膜を形成した状態を示す端面図である。
【図5】リード導体および絶縁膜を形成した状態を示す
端面図である。
【図6】この発明の他の実施例を示す端面図である。
【図7】基板に磁性体膜および絶縁膜を形成した状態を
示す端面図である。
【図8】コイル導体および端子電極を形成した状態を示
す平面図である。
【図9】絶縁膜を形成した状態を示す端面図である。
【図10】リード導体および絶縁膜を形成した状態を示
す端面図である。
【符号の説明】
10,40            …シールド付チッ
プ型コイル12                  
…基板14,30,42,46…磁性体膜

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】基板、前記基板上に形成される第1の磁性
    体膜、前記第1の磁性体膜の上に形成されるコイル導体
    、および前記コイル導体の上に形成される第2の磁性体
    膜を備える、シールド付チップ型コイル。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0745434A (ja) * 1993-07-30 1995-02-14 Koa Corp 高周波コイルおよびその製造方法
JPH0757936A (ja) * 1993-08-12 1995-03-03 Koa Corp 高周波コイルおよびその製造方法
JP2003059719A (ja) * 2001-08-16 2003-02-28 Denki Kagaku Kogyo Kk コイル回路付き金属ベース回路基板
JP2007129061A (ja) * 2005-11-04 2007-05-24 Taiyo Yuden Co Ltd 高周波電子部品
JP2015207700A (ja) * 2014-04-22 2015-11-19 新光電気工業株式会社 受動素子基板

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63283004A (ja) * 1987-05-14 1988-11-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 平面インダクタならびにその製造方法
JPH02123706A (ja) * 1988-11-01 1990-05-11 Murata Mfg Co Ltd 高周波コイルの製造方法
JPH02262308A (ja) * 1989-03-31 1990-10-25 Toshiba Lighting & Technol Corp 平面インダクタ

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63283004A (ja) * 1987-05-14 1988-11-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 平面インダクタならびにその製造方法
JPH02123706A (ja) * 1988-11-01 1990-05-11 Murata Mfg Co Ltd 高周波コイルの製造方法
JPH02262308A (ja) * 1989-03-31 1990-10-25 Toshiba Lighting & Technol Corp 平面インダクタ

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0745434A (ja) * 1993-07-30 1995-02-14 Koa Corp 高周波コイルおよびその製造方法
JPH0757936A (ja) * 1993-08-12 1995-03-03 Koa Corp 高周波コイルおよびその製造方法
JP2003059719A (ja) * 2001-08-16 2003-02-28 Denki Kagaku Kogyo Kk コイル回路付き金属ベース回路基板
JP2007129061A (ja) * 2005-11-04 2007-05-24 Taiyo Yuden Co Ltd 高周波電子部品
JP2015207700A (ja) * 2014-04-22 2015-11-19 新光電気工業株式会社 受動素子基板

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