JPH0422469A - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
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- JPH0422469A JPH0422469A JP2129614A JP12961490A JPH0422469A JP H0422469 A JPH0422469 A JP H0422469A JP 2129614 A JP2129614 A JP 2129614A JP 12961490 A JP12961490 A JP 12961490A JP H0422469 A JPH0422469 A JP H0422469A
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- coating
- slit
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/848—Coating a support with a magnetic layer by extrusion
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
- B05C5/0254—Coating heads with slot-shaped outlet
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
- B05C9/06—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying two different liquids or other fluent materials, or the same liquid or other fluent material twice, to the same side of the work
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/842—Coating a support with a liquid magnetic dispersion
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、主に磁気テープやフロッピーディスクとして
用いられる表面性の良好な磁気記録媒体の塗布装置に関
し、特に未乾燥状態で二層を同時に塗布し、膜表面を平
滑にする塗布装置に関する。
用いられる表面性の良好な磁気記録媒体の塗布装置に関
し、特に未乾燥状態で二層を同時に塗布し、膜表面を平
滑にする塗布装置に関する。
従来の技術
近年、磁気記録媒体の高性能化に伴って、磁性層の多層
化が注目を集めている。たとえば上層には短波長記録に
おいて電磁変換特性に優れた磁性層を設け、下層には長
波長記録に通した磁性層を設けることにより、従来、単
層では得られなかった優れた電磁変換特性を備えたｉｆ
ｆ気記録媒体が実現できる。たとえば二層構造のビデオ
用磁気記録媒体において、下層の磁性層の膜厚は上層の
磁性層より厚く、０．５〜４μｍの範囲である。一方、
上層の塗布膜厚は０．１〜０．５μｍがよい、上層の膜
厚が０．５μｍより厚いと低周波数帯の特性が低下し、
０．１μｍより薄いと下層の影響が強くなるため二層の
効果が小さくなる。
化が注目を集めている。たとえば上層には短波長記録に
おいて電磁変換特性に優れた磁性層を設け、下層には長
波長記録に通した磁性層を設けることにより、従来、単
層では得られなかった優れた電磁変換特性を備えたｉｆ
ｆ気記録媒体が実現できる。たとえば二層構造のビデオ
用磁気記録媒体において、下層の磁性層の膜厚は上層の
磁性層より厚く、０．５〜４μｍの範囲である。一方、
上層の塗布膜厚は０．１〜０．５μｍがよい、上層の膜
厚が０．５μｍより厚いと低周波数帯の特性が低下し、
０．１μｍより薄いと下層の影響が強くなるため二層の
効果が小さくなる。
このような磁性層が二層構造の磁気記録媒体は一回の塗
布・乾燥で製造することが望まれており、磁性層を二層
同時に塗布する塗布装置については、たとえば特開昭６
３−８８０８０号公報等が知られている。
布・乾燥で製造することが望まれており、磁性層を二層
同時に塗布する塗布装置については、たとえば特開昭６
３−８８０８０号公報等が知られている。
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記従来の塗布装置で、高密度記録用の磁
性塗布液を塗布した場合、微細な縦筋が発生することを
本発明者は研究により究明した。
性塗布液を塗布した場合、微細な縦筋が発生することを
本発明者は研究により究明した。
第４図は上層として次の第１表に示す磁性塗布液を乾燥
状態膜厚で０，３μｍ、下層として第２表に示す磁性塗
布液を乾燥状態膜厚で３μｍとなるように、従来例であ
る特開昭６３−８８０８０号公報の塗布装置により、厚
さ１４μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（支
持体）上に塗布。
状態膜厚で０，３μｍ、下層として第２表に示す磁性塗
布液を乾燥状態膜厚で３μｍとなるように、従来例であ
る特開昭６３−８８０８０号公報の塗布装置により、厚
さ１４μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（支
持体）上に塗布。
配向、乾燥した後、カレンダー処理したうえ、塗膜表面
を三次元表面粗さ計で測定した結果の一例である。
を三次元表面粗さ計で測定した結果の一例である。
第 １ 表
（以
下
余
白）
第
表
測定結果は塗膜表面の凸部を見やすくするために、三次
元グラフィックスにおいて、高さ方向の平均値よりも高
い部分のみを出力しである。塗膜表面に支持体の走行方
向に約５０μｍピッチの微細な縦筋が認められる。さら
に第４図の塗膜表面の平均表面粗さ（以下においてはＲ
ＭＳ（実効値）と略す）は１５．８ｎｍであった。電磁
変換特性を、ＭＵフォーマットデツキを用い測定すると
、ビデオ帯域出力（７ＭＩｌｚ）では、松下電器産業■
の基準テープに対して一２ｄＢであり、Ｓ／Ｎ比でｌｄ
Ｂという結果であった。
元グラフィックスにおいて、高さ方向の平均値よりも高
い部分のみを出力しである。塗膜表面に支持体の走行方
向に約５０μｍピッチの微細な縦筋が認められる。さら
に第４図の塗膜表面の平均表面粗さ（以下においてはＲ
ＭＳ（実効値）と略す）は１５．８ｎｍであった。電磁
変換特性を、ＭＵフォーマットデツキを用い測定すると
、ビデオ帯域出力（７ＭＩｌｚ）では、松下電器産業■
の基準テープに対して一２ｄＢであり、Ｓ／Ｎ比でｌｄ
Ｂという結果であった。
以上のことから第４図に示したような塗膜表面の微細な
縦筋は、電磁変換特性を著しく低下させるものであるこ
とが明らかである。
縦筋は、電磁変換特性を著しく低下させるものであるこ
とが明らかである。
本発明者は、この微細な縦筋の発生原因について究明し
た結果、以下の理由によるものであることがわかった。
た結果、以下の理由によるものであることがわかった。
磁性塗布液は、磁性粉粒子間の磁気力の影響で一次粒子
として存在しているとは考え髄く、三次元の網目構造を
形成しており、これに−ロん断を付与したとき、ある大
きさを持った凝集塊に破壊されると考えられる。（「塗
装工学」第２１巻、第１０号、４７５〜４７９頁、１９
８６年）。Ｌ５１気力が強くさらに長径方向の平均粒径
が小さい磁性粉を使用している磁性塗布液は、凝集力が
非常に強いために、上記凝集塊は数１０〜１００μｍの
オーダーで流動中の塗布液に存在しており、この磁性塗
布液を従来の塗布装置で支持体に塗布したとき、上記凝
集塊が従来の塗布装置のスリットからリップ上に押し出
された後、リップ面で十分に平滑化処理されないために
縦筋が発生することがわかった。
として存在しているとは考え髄く、三次元の網目構造を
形成しており、これに−ロん断を付与したとき、ある大
きさを持った凝集塊に破壊されると考えられる。（「塗
装工学」第２１巻、第１０号、４７５〜４７９頁、１９
８６年）。Ｌ５１気力が強くさらに長径方向の平均粒径
が小さい磁性粉を使用している磁性塗布液は、凝集力が
非常に強いために、上記凝集塊は数１０〜１００μｍの
オーダーで流動中の塗布液に存在しており、この磁性塗
布液を従来の塗布装置で支持体に塗布したとき、上記凝
集塊が従来の塗布装置のスリットからリップ上に押し出
された後、リップ面で十分に平滑化処理されないために
縦筋が発生することがわかった。
このような微細な縦筋は、磁気力が強くさらに長径方向
の平均粒径が小さい磁性粉を使用した磁性塗布液を塗布
したときほど顕著に現れることも実験によりｉ！認した
。現在磁気記録媒体は高密度記録化の方向にあり、その
ため高磁気力でかつ超微粒の磁性粉を用いるので、上記
のような塗膜表面の微細な縦筋は、ビデオ帯域出力やＳ
／Ｎ比などのｔＭ！変換特性を著しく低下させ、製品品
質上致命的な欠陥となっていた。
の平均粒径が小さい磁性粉を使用した磁性塗布液を塗布
したときほど顕著に現れることも実験によりｉ！認した
。現在磁気記録媒体は高密度記録化の方向にあり、その
ため高磁気力でかつ超微粒の磁性粉を用いるので、上記
のような塗膜表面の微細な縦筋は、ビデオ帯域出力やＳ
／Ｎ比などのｔＭ！変換特性を著しく低下させ、製品品
質上致命的な欠陥となっていた。
さらに上層の塗布膜厚が０．１〜０．５μｍと非常に薄
い同時二Ｎ塗布を行うとき、第２リップと第３リップの
構成を特定しなければ、均一でかつ安定に塗布できない
ことが本発明者の研究により判明した。
い同時二Ｎ塗布を行うとき、第２リップと第３リップの
構成を特定しなければ、均一でかつ安定に塗布できない
ことが本発明者の研究により判明した。
本発明の目的は、上層の乾燥状態における膜厚が０．１
〜０．５μｍと非常に薄い同時二Ｎ塗布を行う塗布装置
において、均一でかつ安定に二層塗布でき、さらに平滑
な塗膜表面である多層構造の磁気記録媒体を製造するた
めの塗布装置を提供することにある。
〜０．５μｍと非常に薄い同時二Ｎ塗布を行う塗布装置
において、均一でかつ安定に二層塗布でき、さらに平滑
な塗膜表面である多層構造の磁気記録媒体を製造するた
めの塗布装置を提供することにある。
課題を解決するための手段
上記課題を解決するために本発明の塗布装置は、３つの
リップと２つのスリットを有し、各スリットより下流側
のリップの先端部の断面形状が曲面である塗布装置にお
いて、第２りンプの先端部の第１スリット側エッヂをＡ
、第２リップの先端部の第２スリット側エッヂをＢ、第
３リップの先端部の第２スリット側エッヂをＣ１第３リ
ンプの先端部の反スリット側エッヂをＤとし、Ｂにおけ
る接触ＸとＣにおける接触Ｙとのなす角をθとしたとき
、 ０″ ≦θ≦５＠ ／−− であり、かつ第２リップの先端部の円弧■Ｏ長であるこ
とを特徴とするものである。
リップと２つのスリットを有し、各スリットより下流側
のリップの先端部の断面形状が曲面である塗布装置にお
いて、第２りンプの先端部の第１スリット側エッヂをＡ
、第２リップの先端部の第２スリット側エッヂをＢ、第
３リップの先端部の第２スリット側エッヂをＣ１第３リ
ンプの先端部の反スリット側エッヂをＤとし、Ｂにおけ
る接触ＸとＣにおける接触Ｙとのなす角をθとしたとき
、 ０″ ≦θ≦５＠ ／−− であり、かつ第２リップの先端部の円弧■Ｏ長であるこ
とを特徴とするものである。
作用
本発明は上記した構成により、第１スリットより押し出
されて形成された下層用磁性塗布液に、で高いせん断が
付与され、下層用磁性塗布液中の凝集塊は破壊され、か
つ塗膜表面は十分に平滑化され、その直後に第２スリッ
トより押し出されて形成された上層用磁性塗布液に、第
３リップ面が付与され、上層用磁性塗布液中の凝集塊は
破壊され、かつ塗膜表面は十分に平滑化されるので、上
記した塗膜表面の微細な縦筋は抑制できる。
されて形成された下層用磁性塗布液に、で高いせん断が
付与され、下層用磁性塗布液中の凝集塊は破壊され、か
つ塗膜表面は十分に平滑化され、その直後に第２スリッ
トより押し出されて形成された上層用磁性塗布液に、第
３リップ面が付与され、上層用磁性塗布液中の凝集塊は
破壊され、かつ塗膜表面は十分に平滑化されるので、上
記した塗膜表面の微細な縦筋は抑制できる。
さらに本発明は上記した第２リップと第３リップの構成
により、下層付の支持体が第３リップ面に大きな屈曲な
く滑らかに進入していくので、第２スリット出口におけ
る上層用磁性塗布液の流れを乱すことなく、上層を薄く
均一でかつ安定に塗布形成することが可能である。
により、下層付の支持体が第３リップ面に大きな屈曲な
く滑らかに進入していくので、第２スリット出口におけ
る上層用磁性塗布液の流れを乱すことなく、上層を薄く
均一でかつ安定に塗布形成することが可能である。
実施例
以下図面にしたがって本発明の詳細な説明する。第１図
は本発明の塗布装置の概略断面図である。図において、
１は第１リップ、２は第２リップ、３は第３リップ、４
は第１スリット、５は第２スリット、６は第１マニホル
ド、７は第２マニホルド、８は第１ポンプ、９は第２ポ
ンプである。
は本発明の塗布装置の概略断面図である。図において、
１は第１リップ、２は第２リップ、３は第３リップ、４
は第１スリット、５は第２スリット、６は第１マニホル
ド、７は第２マニホルド、８は第１ポンプ、９は第２ポ
ンプである。
第２リンブ２および第３リップ３の先端部の断面形状は
曲面であり、その第２リップ２の先端部の曲率半径Ｒ１
は４〜２０ｍｍの範囲内であり、第３す、７ブ３の先端
部の曲率半径Ｒ２は４〜２０＋＋ｕｎの範囲内である。
曲面であり、その第２リップ２の先端部の曲率半径Ｒ１
は４〜２０ｍｍの範囲内であり、第３す、７ブ３の先端
部の曲率半径Ｒ２は４〜２０＋＋ｕｎの範囲内である。
リップ２，３の先端部の曲率半径は磁性塗布液の粘度、
塗布速度、塗布膜厚、支持体張力の条件により、最適な
曲率半径を選択する。第２リップ２および第３リップ３
の厚さ（第１図における左右方向の幅）は２〜１０ｍｍ
の範囲である。
塗布速度、塗布膜厚、支持体張力の条件により、最適な
曲率半径を選択する。第２リップ２および第３リップ３
の厚さ（第１図における左右方向の幅）は２〜１０ｍｍ
の範囲である。
３つのリップは超硬合金を用いることにより、リップの
真直度や平面度を数μｍのオーダーで仕上げることがで
き、さらにステンレス鋼などを加工したときにみられる
第２および第３す、プ２３の出口端部におけるエッヂの
ぼりやだれの発生を防止できた。この結果、薄層塗布を
行った場合でも、幅方向に厚みむらが生しず、エッヂの
ぼりやだれに起因する塗膜表面の縦筋も発生せず良好な
塗布が可能であった。
真直度や平面度を数μｍのオーダーで仕上げることがで
き、さらにステンレス鋼などを加工したときにみられる
第２および第３す、プ２３の出口端部におけるエッヂの
ぼりやだれの発生を防止できた。この結果、薄層塗布を
行った場合でも、幅方向に厚みむらが生しず、エッヂの
ぼりやだれに起因する塗膜表面の縦筋も発生せず良好な
塗布が可能であった。
マニホールド６および７は塗布装置の塗布幅方向に貫通
している。マニホールド６．７の断面形状は円形、半円
形いずれでもよい、スリット４゜５のギャップは通常０
．１〜０．５ｍａに設定され、スリンｌ−４，５の幅方
向長さは塗布幅とほぼ同一である。マニホールド６．７
からスリット４．５の出口までのスリット長さは塗布液
のチキソトロピック性を考慮した粘度、塗布装置からの
吐出量などの塗布条件により設定するが、通常２０〜１
００鴫の長さである。
している。マニホールド６．７の断面形状は円形、半円
形いずれでもよい、スリット４゜５のギャップは通常０
．１〜０．５ｍａに設定され、スリンｌ−４，５の幅方
向長さは塗布幅とほぼ同一である。マニホールド６．７
からスリット４．５の出口までのスリット長さは塗布液
のチキソトロピック性を考慮した粘度、塗布装置からの
吐出量などの塗布条件により設定するが、通常２０〜１
００鴫の長さである。
第１リップＩの先端形状は、第１図では平面状であるが
、曲面、多角面いずれでもよい。
、曲面、多角面いずれでもよい。
第２図は本発明の塗布装置により磁性塗布液を二層で塗
布している状態を示す断面図である０図において、１０
は磁気記録媒体としての支持体、１１は下層用磁性塗布
液、１２は上層用磁性塗布液である。
布している状態を示す断面図である０図において、１０
は磁気記録媒体としての支持体、１１は下層用磁性塗布
液、１２は上層用磁性塗布液である。
支持体１０の本塗布装置に対する進入角度は、第２リッ
プ２の先端部の第１スリット４側エッヂＡにおける接線
とほぼ平行になるように、第１リップ１より上流側に設
けられたガイドロール（図示せず）により調整される。
プ２の先端部の第１スリット４側エッヂＡにおける接線
とほぼ平行になるように、第１リップ１より上流側に設
けられたガイドロール（図示せず）により調整される。
さらに支持体１０が本塗布装置より出ていく角度は、第
３リップ３の先端部の反スリット側エッヂＤにおける接
線とほぼ平行になるように、第３リンブ３より下流側に
設けられたガイドロール（図示せず）により調整される
。
３リップ３の先端部の反スリット側エッヂＤにおける接
線とほぼ平行になるように、第３リンブ３より下流側に
設けられたガイドロール（図示せず）により調整される
。
第１リップ１の第１スリット側エッヂと支持体１０との
隙間は５〜２００μｍで設定する。隙間をこの範囲より
小さくすると、支持体１０の走行中のばたつきにより、
支持体１０と第１リップ１の上記エッヂが接触し、支持
体１０に擦傷が発生するため製品品質に悪影響を及ぼす
。
隙間は５〜２００μｍで設定する。隙間をこの範囲より
小さくすると、支持体１０の走行中のばたつきにより、
支持体１０と第１リップ１の上記エッヂが接触し、支持
体１０に擦傷が発生するため製品品質に悪影響を及ぼす
。
また上記隙間を２００μｍより大きくすると、支持体Ｉ
Ｏに同伴してくる空気が巻き込まれ、塗布できなくなる
。
Ｏに同伴してくる空気が巻き込まれ、塗布できなくなる
。
下層用の磁性塗布液１１は第１ポンプ８により第１マユ
ボールドＧ内に支持体１０への塗布量分を連続的に供給
され、第１マニホールド６内の液圧力により第１スリソ
ｌ−４に押し出される。また上層用の磁性塗布液１２は
第２ポンプ９により第２７二ホールド７内に支持体ＩＯ
への塗布量分を連続的に供給され、第２マニホールド７
内の減圧力により第２スリソ］・５に押し出される。
ボールドＧ内に支持体１０への塗布量分を連続的に供給
され、第１マニホールド６内の液圧力により第１スリソ
ｌ−４に押し出される。また上層用の磁性塗布液１２は
第２ポンプ９により第２７二ホールド７内に支持体ＩＯ
への塗布量分を連続的に供給され、第２マニホールド７
内の減圧力により第２スリソ］・５に押し出される。
第１スリット４より押し出された下層用磁性塗布液ｌｌ
中には、」１記したように磁性粉粒子の凝集塊が存在し
ている。しかし、」１記のように本塗布装置に対する支
持体ｌＯの角度を設定することにより、第２リップ２面
■と支持体１ｏとの隙間がウェット状態の下層塗布膜厚
の約２倍で第２磁性塗布液１１に１０５〜１０’ （
］／５ｅｃ）のオーダーの高いせん断速度が連続的に付
与され、そのため上記凝集塊は微細に破壊されて塗膜表
面は平滑化され、塗膜表面の微細な紺筋発生の原因とは
ならない。
中には、」１記したように磁性粉粒子の凝集塊が存在し
ている。しかし、」１記のように本塗布装置に対する支
持体ｌＯの角度を設定することにより、第２リップ２面
■と支持体１ｏとの隙間がウェット状態の下層塗布膜厚
の約２倍で第２磁性塗布液１１に１０５〜１０’ （
］／５ｅｃ）のオーダーの高いせん断速度が連続的に付
与され、そのため上記凝集塊は微細に破壊されて塗膜表
面は平滑化され、塗膜表面の微細な紺筋発生の原因とは
ならない。
さらに第２スリット５より押し出された上層用磁性塗布
液１２中にも、上記したような磁性粉粒子の凝集塊が存
在している。しかし、上記のように第２リップ２の第２
スリット５側エッヂＢにおける接線Ｘと、第３リップ３
の第２スリント５側エツジＣにおける接線Ｙとのなす角
をθとしたとき、 ０≦θ≦５″ の範囲で第２リンプ２および第３リップ３の形状を設定
することにより、第２スリント５から押し出された上層
用磁性塗布液１２は第３リップ３面上で液溜りを形成す
ることなく、支持体１０との隙間が上層と下層のウニ、
ト状態での塗布膜厚のされ、さらに上層用磁性塗布液１
２に１０５〜１０６ （１／５ｅｃ）のオーダーの高い
せん断速度が連続的に付与されるため、上層用磁性塗布
液１２中のぬ集塊は微細に破壊され、塗膜表面は平滑化
される。
液１２中にも、上記したような磁性粉粒子の凝集塊が存
在している。しかし、上記のように第２リップ２の第２
スリット５側エッヂＢにおける接線Ｘと、第３リップ３
の第２スリント５側エツジＣにおける接線Ｙとのなす角
をθとしたとき、 ０≦θ≦５″ の範囲で第２リンプ２および第３リップ３の形状を設定
することにより、第２スリント５から押し出された上層
用磁性塗布液１２は第３リップ３面上で液溜りを形成す
ることなく、支持体１０との隙間が上層と下層のウニ、
ト状態での塗布膜厚のされ、さらに上層用磁性塗布液１
２に１０５〜１０６ （１／５ｅｃ）のオーダーの高い
せん断速度が連続的に付与されるため、上層用磁性塗布
液１２中のぬ集塊は微細に破壊され、塗膜表面は平滑化
される。
本発明者の研究により、第２リップ２面の円弧の長さ■
と第３リップ３面の円弧の長さＣＤの大きさが、二層同
時塗布における塗膜表面の平滑性と塗布の安定性に非常
に大きな影響を及ぼすことが判明した。
と第３リップ３面の円弧の長さＣＤの大きさが、二層同
時塗布における塗膜表面の平滑性と塗布の安定性に非常
に大きな影響を及ぼすことが判明した。
すなわち■およびＣＤが２１１Ｉ１１より小さい場合は
、磁性塗布液に高せん断を付与する距離または時間が短
くなるために、十分に凝集塊を破壊することができず、
塗膜表面に微細な縦筋が発生する。
、磁性塗布液に高せん断を付与する距離または時間が短
くなるために、十分に凝集塊を破壊することができず、
塗膜表面に微細な縦筋が発生する。
さらに■およびＣＤの大きさを７鵬より大きくすると、
支持体ｌＯと第２および第３リップ２゜３との隙間を流
れる磁性塗布液の流体力学的梃抗が大きくなりすぎて、
塗布幅方向に膜厚むらが発生し、安定に塗布できなくな
ることもわかった。
支持体ｌＯと第２および第３リップ２゜３との隙間を流
れる磁性塗布液の流体力学的梃抗が大きくなりすぎて、
塗布幅方向に膜厚むらが発生し、安定に塗布できなくな
ることもわかった。
の範囲で、塗膜表面の微細な縦筋発生を抑制することが
できる。
できる。
さらに第２リップ２の第２スリット５側エンヂＢにおけ
る接線Ｘと、第３リップ３の第２スリット５側エッヂＣ
における接線Ｙとのなす角をθとしたとき、 ０≦θ≦５″ の範囲で第２リップ２および第３リップ３の形状を設定
することにより上層を薄く均一で、かつ安定に塗布でき
ることが、本発明者の研究により判明した。下層を塗布
された支持体１０は上記接線Ｘに沿って第２リップ２か
ら離れていき、上記接線Ｙに沿って第３リップ３面に進
入していく。このとき接線Ｘと接線Ｙとのなす角θが５
°より大きいと、第３リップ３に進入していく下層付支
持体１０の屈曲が大きくなり過ぎ、第２スリット５出口
における上層用磁性塗布液１２の流れが乱されて、上層
を均一に塗布できなくなることがわかった。θが上記範
囲内であれば、支持体１０の屈曲が小さいので、第２ス
リット５出口における流れを乱すことなく、さらに支持
体】０の幅方向のテンションも均一に保つことができる
ので、上層を薄く均一にかつ安定に塗布することが可能
である。
る接線Ｘと、第３リップ３の第２スリット５側エッヂＣ
における接線Ｙとのなす角をθとしたとき、 ０≦θ≦５″ の範囲で第２リップ２および第３リップ３の形状を設定
することにより上層を薄く均一で、かつ安定に塗布でき
ることが、本発明者の研究により判明した。下層を塗布
された支持体１０は上記接線Ｘに沿って第２リップ２か
ら離れていき、上記接線Ｙに沿って第３リップ３面に進
入していく。このとき接線Ｘと接線Ｙとのなす角θが５
°より大きいと、第３リップ３に進入していく下層付支
持体１０の屈曲が大きくなり過ぎ、第２スリット５出口
における上層用磁性塗布液１２の流れが乱されて、上層
を均一に塗布できなくなることがわかった。θが上記範
囲内であれば、支持体１０の屈曲が小さいので、第２ス
リット５出口における流れを乱すことなく、さらに支持
体】０の幅方向のテンションも均一に保つことができる
ので、上層を薄く均一にかつ安定に塗布することが可能
である。
また第３リンプ３の第２スリット５側エッヂＣは、上Ｎ
塗布膜厚により上記接線Ｙがら反支持体方向に、段差が
ない状態かまたは若干段差を設ける６段差は、上層の塗
布液中固形分率と塗布膜厚により適時設定するが、通常
、上層のウェット状し！膜厚の約２倍で設定する。これ
により下層付支持体１０と第３リップ３面との隙間の上
層用磁性塗布液が安定に流れ、均一な塗布が可能となる
。
塗布膜厚により上記接線Ｙがら反支持体方向に、段差が
ない状態かまたは若干段差を設ける６段差は、上層の塗
布液中固形分率と塗布膜厚により適時設定するが、通常
、上層のウェット状し！膜厚の約２倍で設定する。これ
により下層付支持体１０と第３リップ３面との隙間の上
層用磁性塗布液が安定に流れ、均一な塗布が可能となる
。
以下、具体的実施例について説明する。
実施例１
上層用磁性塗布液として第１表に示す磁性塗布液を乾燥
膜厚として０．３μｍとなるように第２スリットから吐
出し、下層用磁性塗布液として第２表に示す磁性塗布液
を乾燥膜厚として３．０μｍとなるように第１スリット
から吐出し、支持体厚さ１４μｍのポリエチレンテレフ
タレートフィルム上に塗布した。塗布速度は１００ｍ／
ｍｉｎ、支持体張力は２００ｇ／ｃｍである。塗布装置
において、 第２リップの曲率半径を１５＋ｎｍ、第３リップ長さは
５印で固定しておき、第２９ノブの円弧／−へ ■の長さを次の第３表のように変えた塗布装置を用いて
塗布を行った。
膜厚として０．３μｍとなるように第２スリットから吐
出し、下層用磁性塗布液として第２表に示す磁性塗布液
を乾燥膜厚として３．０μｍとなるように第１スリット
から吐出し、支持体厚さ１４μｍのポリエチレンテレフ
タレートフィルム上に塗布した。塗布速度は１００ｍ／
ｍｉｎ、支持体張力は２００ｇ／ｃｍである。塗布装置
において、 第２リップの曲率半径を１５＋ｎｍ、第３リップ長さは
５印で固定しておき、第２９ノブの円弧／−へ ■の長さを次の第３表のように変えた塗布装置を用いて
塗布を行った。
第
表
塗布した後、配向、乾燥を行い、カレンダー処理後、所
定の幅にスリンｈしてテープを作成した。
定の幅にスリンｈしてテープを作成した。
メー＼
Ａ Ｉ３ ＝ ８ ｒＭＱの場合には、塗布幅方向に膜
厚むら２．７ｍ＋ｎの塗布装置で作成した各テープの塗
膜表面の状態を三次元表面粗さ計で測定した結果、■＝
１．５ｏｍの場合には、第４図に示したような微細な縦
筋が発生した。Ａｌ３＝２および７髄の場合には縦筋は
発生しなかった。
厚むら２．７ｍ＋ｎの塗布装置で作成した各テープの塗
膜表面の状態を三次元表面粗さ計で測定した結果、■＝
１．５ｏｍの場合には、第４図に示したような微細な縦
筋が発生した。Ａｌ３＝２および７髄の場合には縦筋は
発生しなかった。
ど−Ｘ
例えば■＝２ｍｍの場合の塗膜表面状態を第３図に示す
。微細な縦筋（第４図）は全く発止セず、本発明の塗布
装置により非常に平滑な塗膜表面が得られた。
。微細な縦筋（第４図）は全く発止セず、本発明の塗布
装置により非常に平滑な塗膜表面が得られた。
また本実施例による各塗布装置を用いて作成したテープ
と、従来の塗布装置で作成したテープの電磁変換特性、
すなわちＭＩＩフォーマットデツキを用いて、ビデオ帯
域の周波数７ＭＨｚにおける出力およびＳ／Ｎ比の測定
結果を第４表に示す。電磁変換特性の測定には、比較し
易いように松下電器産業■で作成したＭＵテープを基準
テープとした。
と、従来の塗布装置で作成したテープの電磁変換特性、
すなわちＭＩＩフォーマットデツキを用いて、ビデオ帯
域の周波数７ＭＨｚにおける出力およびＳ／Ｎ比の測定
結果を第４表に示す。電磁変換特性の測定には、比較し
易いように松下電器産業■で作成したＭＵテープを基準
テープとした。
（以 下 余 白）
なお、第４表には三次元表面粗さ計で測定したＲＭＳも
併せて示しである。本発明による塗布装置すなわちΔＢ
＝２（財）および７胴のもので作成したテープは、塗膜
表面が非常に平滑であるため、して作成したテープに対
して、ＲＭＳは小さく、再生出力およびＳ／Ｎ比ともに
レヘルは格段に優れており、本発明の効果が顕著である
ことがわかった。
併せて示しである。本発明による塗布装置すなわちΔＢ
＝２（財）および７胴のもので作成したテープは、塗膜
表面が非常に平滑であるため、して作成したテープに対
して、ＲＭＳは小さく、再生出力およびＳ／Ｎ比ともに
レヘルは格段に優れており、本発明の効果が顕著である
ことがわかった。
実施例２
上層用磁性塗布液として第１表に示す磁性塗布液を乾燥
膜厚として０．３μｍとなるように第２スリットから吐
出し、下層用磁性塗布液として第２表に示す磁性塗布液
を乾燥膜厚として３．０μｍとなるように第１スリント
から吐出し、支持体厚さ１４μｍのポリエチレンテレフ
タレートフィルム」二に塗布した。塗布速度は１００ｍ
／ｍｔｎ、支持体張力は２００ｇ／ｃｍである。塗布装
置において、第２リップの曲率半径を１５Ｉｉ１１１、
第３リップの長さは５帥で固定しておき、第３リンブの
円弧ＣＤの長さを次の第５表のように変えた塗布装置を
用いて塗布を行った。
膜厚として０．３μｍとなるように第２スリットから吐
出し、下層用磁性塗布液として第２表に示す磁性塗布液
を乾燥膜厚として３．０μｍとなるように第１スリント
から吐出し、支持体厚さ１４μｍのポリエチレンテレフ
タレートフィルム」二に塗布した。塗布速度は１００ｍ
／ｍｔｎ、支持体張力は２００ｇ／ｃｍである。塗布装
置において、第２リップの曲率半径を１５Ｉｉ１１１、
第３リップの長さは５帥で固定しておき、第３リンブの
円弧ＣＤの長さを次の第５表のように変えた塗布装置を
用いて塗布を行った。
第５表
塗布した後、配向、乾燥を行い、カレンダー処理後、所
定の幅にスリ・ツトしてテープを作成した。
定の幅にスリ・ツトしてテープを作成した。
上記各ＣＤの塗布装置で作成した各テープの塗膜表面の
ＣＤ＝８ａｍの場合には、塗布幅方向に膜＝１．５２．
７鴫の状態を三次元表面粗さ計で測ｒ） 定した結果、ＣＤ＝１．５ｍの場合には、第４図におよ
び７釦の場合には実施例１において示した第３図のよう
に、非常に平滑な塗膜表面が得られた。
ＣＤ＝８ａｍの場合には、塗布幅方向に膜＝１．５２．
７鴫の状態を三次元表面粗さ計で測ｒ） 定した結果、ＣＤ＝１．５ｍの場合には、第４図におよ
び７釦の場合には実施例１において示した第３図のよう
に、非常に平滑な塗膜表面が得られた。
また実施例１と同様に、本実施例による塗布装置を用い
て作成したテープと、従来の塗布装置で作成したテープ
の１！磁変換特性、すなわちＭｎフォーマ・ットデッキ
を用いて、ビデオ帯域の周波数７ＭＨｚにおける出力お
よびＳ／Ｎ比の測定結果とＲＭＳを次のを第６表にまと
めて示す。
て作成したテープと、従来の塗布装置で作成したテープ
の１！磁変換特性、すなわちＭｎフォーマ・ットデッキ
を用いて、ビデオ帯域の周波数７ＭＨｚにおける出力お
よびＳ／Ｎ比の測定結果とＲＭＳを次のを第６表にまと
めて示す。
（以
下
余
白）
本発明による塗布装置すなわちＣＤ ＝ ２ ＋ｎｍお
よび７＋＋＋ｍのもので作成したテープは、塗膜表面が
非常に平滑であるため、従来の塗布装置で塗布して作成
したテープに対して、ＲＭＳは小さく、再生出力および
Ｓ／Ｎ比ともにレヘルは格段に優れでおり、本発明の効
果が本実施例においても顕著であることがわかった。
よび７＋＋＋ｍのもので作成したテープは、塗膜表面が
非常に平滑であるため、従来の塗布装置で塗布して作成
したテープに対して、ＲＭＳは小さく、再生出力および
Ｓ／Ｎ比ともにレヘルは格段に優れでおり、本発明の効
果が本実施例においても顕著であることがわかった。
実施例３
上層用磁性塗布液として第１表に示す磁性塗布液を乾燥
膜厚として０．１μｍとなるように第２スリットから吐
出し、下層用磁性塗布液として第２表に示す磁性塗布液
を乾燥膜厚として３．０μｍとなるように第１スリット
から吐出し、支持体厚さ１４μｍのポリエチレンテレフ
タレートフィルム上に塗布した。塗布速度は１００ｍ／
ｍｉｎである。塗布装置において、■およびＣＤの長さ
を５ｍで固定し、第２リップの曲率半径を１０腫、第３
リップの曲率半径を１０ｍとし、第２リップの第２スリ
ット側エッヂＢにおける接線Ｘと、第３リップの第２ス
リント側エッヂＣにおける接線Ｙとのなす角θを、次の
第７表のように変えた塗布装置を用いて塗布を行った。
膜厚として０．１μｍとなるように第２スリットから吐
出し、下層用磁性塗布液として第２表に示す磁性塗布液
を乾燥膜厚として３．０μｍとなるように第１スリット
から吐出し、支持体厚さ１４μｍのポリエチレンテレフ
タレートフィルム上に塗布した。塗布速度は１００ｍ／
ｍｉｎである。塗布装置において、■およびＣＤの長さ
を５ｍで固定し、第２リップの曲率半径を１０腫、第３
リップの曲率半径を１０ｍとし、第２リップの第２スリ
ット側エッヂＢにおける接線Ｘと、第３リップの第２ス
リント側エッヂＣにおける接線Ｙとのなす角θを、次の
第７表のように変えた塗布装置を用いて塗布を行った。
第 ７ 表
塗布した後、配向、乾燥を行い、カレンダー処理後、所
定の幅にスリットしてテープを作成した。
定の幅にスリットしてテープを作成した。
θが６°の場合には、塗布幅方向に上層の膜厚むらが発
生し均一に塗布できなかった。θが０゜および５″の場
合には、上層が均一でかつ安定に塗布でき、本発明の効
果が本実施例において顕著であることがわかった。
生し均一に塗布できなかった。θが０゜および５″の場
合には、上層が均一でかつ安定に塗布でき、本発明の効
果が本実施例において顕著であることがわかった。
実施例４
上層用磁性塗布液として第１表に示す磁性塗布液を乾燥
膜厚として０．５μｍとなるように第２スリットから吐
出し、下層用磁性塗布液として第２表に示す磁性塗布液
を乾燥膜厚として３．０μｍとなるように第１スリット
から吐出し、支持体厚さ１４μｍのポリエチレンテレフ
タレートフィルム上に塗布した。塗布速度は１００ｍ／
ｍｉｎである、塗布装置において、■およびＣＤの長さ
を５睡で固定し、第２リンブの曲率半径を１０閤、第３
リップの曲率半径をＩＯ＋＋＋ｍとし、第２リップの第
２スリット側エッヂＢにおける接線Ｘと、第３１Ｊノブ
の第２スリット側エンヂＣにおける接線Ｙとのなす角θ
を、次の第８表のように変えた塗布装置を用いて塗布を
行った。
膜厚として０．５μｍとなるように第２スリットから吐
出し、下層用磁性塗布液として第２表に示す磁性塗布液
を乾燥膜厚として３．０μｍとなるように第１スリット
から吐出し、支持体厚さ１４μｍのポリエチレンテレフ
タレートフィルム上に塗布した。塗布速度は１００ｍ／
ｍｉｎである、塗布装置において、■およびＣＤの長さ
を５睡で固定し、第２リンブの曲率半径を１０閤、第３
リップの曲率半径をＩＯ＋＋＋ｍとし、第２リップの第
２スリット側エッヂＢにおける接線Ｘと、第３１Ｊノブ
の第２スリット側エンヂＣにおける接線Ｙとのなす角θ
を、次の第８表のように変えた塗布装置を用いて塗布を
行った。
第８表
塗布した後、配向、乾燥を行い、カレンダー処理後、所
定の幅にスリットしてテープを作成した。
定の幅にスリットしてテープを作成した。
θが６°の場合には、塗布幅方向に上層の膜厚むらが発
生し均一に塗布できなかった。θが０゜および５″の場
合には、上層が均一でかつ安定に塗布でき、本発明の効
果が本実施例においても顕著であることがわかった。
生し均一に塗布できなかった。θが０゜および５″の場
合には、上層が均一でかつ安定に塗布でき、本発明の効
果が本実施例においても顕著であることがわかった。
比較例
従来の塗布装置により、上層用磁性塗布液として第１表
に示す磁性塗布液を乾燥膜厚としてＯ３μｍとなるよう
に第２スリットから吐出し、下層用磁性塗布液として第
２表に示す磁性塗布液を乾燥膜厚として３．０μｍとな
るように第１スリットから吐出し、支持体厚さ１４μｍ
のポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布した。
に示す磁性塗布液を乾燥膜厚としてＯ３μｍとなるよう
に第２スリットから吐出し、下層用磁性塗布液として第
２表に示す磁性塗布液を乾燥膜厚として３．０μｍとな
るように第１スリットから吐出し、支持体厚さ１４μｍ
のポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布した。
塗布速度はＩ ＯＯｍｍ／ｒｎ ｉ ｎ、支持体張力は
２００ｇ／ｃｍである。塗布後、配向、乾燥し、カレン
ダー処理した後、所定の幅にスリットしてテープを作成
した。
２００ｇ／ｃｍである。塗布後、配向、乾燥し、カレン
ダー処理した後、所定の幅にスリットしてテープを作成
した。
そのテープの塗膜表面を三次元表面粗さ計で測定した結
果を第４図に示す。また周波数７Ｍｌ１ｚの出力および
Ｓ／Ｎ比などの電磁変換特性を第４表に示した。
果を第４図に示す。また周波数７Ｍｌ１ｚの出力および
Ｓ／Ｎ比などの電磁変換特性を第４表に示した。
発明の効果
以上のように本発明によれば、磁性層が二層構造のビデ
オ用テープの塗布において、磁気力が強くさらに長径方
向の平均粒径が小さい磁性粉を使用した凝集力の非常に
強い磁性塗布液に対して、上層の乾燥状態塗布膜厚０．
１〜０．５μｍを均一安定に塗布でき、さらに塗膜表面
を非常に平滑に塗布することができ、この結果、多層構
造の高密度磁気記録媒体の製品品質を大幅に向上させる
ことができるものであり、その産業性は大なるものであ
る。
オ用テープの塗布において、磁気力が強くさらに長径方
向の平均粒径が小さい磁性粉を使用した凝集力の非常に
強い磁性塗布液に対して、上層の乾燥状態塗布膜厚０．
１〜０．５μｍを均一安定に塗布でき、さらに塗膜表面
を非常に平滑に塗布することができ、この結果、多層構
造の高密度磁気記録媒体の製品品質を大幅に向上させる
ことができるものであり、その産業性は大なるものであ
る。
第１図は本発明による塗布装置の一実施例の断面図、第
２図は同塗布装置の使用時における断面図、第３図は本
発明による塗布装置を用いて作成した磁気記録媒体の塗
膜表面拡大斜視図、第４図は従来の塗布装置を用いて作
成した磁気記録媒体の塗膜表面の拡大斜視図である。 １・・・・・・第１リップ、２・・・・・・第２リップ
、３・・・・・・第３リップ、４・・・・・・第１スリ
ット、５・・・・・・第２スリット、１０・・・・・・
支持体、１１・・・・・・下層用磁性塗布液、１２・・
・・・・上層用磁性塗布液。 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 はか１名第 図 中）ｆ袖γ戸悉トｉりＤゾ」 第 図 １１方１’１２！ｔｒミ）ｏｙＪ 〜 （＋’ｌ ← 噂
２図は同塗布装置の使用時における断面図、第３図は本
発明による塗布装置を用いて作成した磁気記録媒体の塗
膜表面拡大斜視図、第４図は従来の塗布装置を用いて作
成した磁気記録媒体の塗膜表面の拡大斜視図である。 １・・・・・・第１リップ、２・・・・・・第２リップ
、３・・・・・・第３リップ、４・・・・・・第１スリ
ット、５・・・・・・第２スリット、１０・・・・・・
支持体、１１・・・・・・下層用磁性塗布液、１２・・
・・・・上層用磁性塗布液。 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 はか１名第 図 中）ｆ袖γ戸悉トｉりＤゾ」 第 図 １１方１’１２！ｔｒミ）ｏｙＪ 〜 （＋’ｌ ← 噂
Claims (2)
- （１）３つのリップと２つのスリットを有し、各スリッ
トより下流側のリップの先端部の断面形状が曲面である
塗布装置において、第２リップの先端部の第１スリット
側エッヂをＡ、第２リップの先端部の第２スリット側エ
ッヂをＢ、第３リップの先端部の第２スリット側エッヂ
をＣ、第３リップの先端部の反スリット側エッヂをＤと
し、Ｂにおける接線ＸとＣにおける接線Ｙとのなす角を
θとしたとき、 ０°≦θ≦５° であり、かつ第２リップの先端部の円弧■の長さと第３
リップの先端部の円弧ＣＤの長さが２ｍｍ≦■≦７ｍｍ ２ｍｍ≦■≦７ｍｍ であることを特徴とする塗布装置。 - （２）第２リップの先端部の円弧■の曲率半径をＲ１、
第３リップの先端部の円弧■の曲率半径をＲ２としたと
き、 ４ｍｍ≦Ｒ１≦２０ｍｍ ４ｍｍ≦Ｒ２≦２０ｍｍ であることを特徴とする請求項（１）に記載の塗布装置
。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2129614A JPH0822414B2 (ja) | 1990-05-18 | 1990-05-18 | 塗布装置 |
| US07/680,183 US5167713A (en) | 1990-05-18 | 1991-04-03 | Coating apparatus |
| EP91105792A EP0457029B1 (en) | 1990-05-18 | 1991-04-11 | Coating apparatus |
| DE69112487T DE69112487T2 (de) | 1990-05-18 | 1991-04-11 | Beschichtungsapparat. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2129614A JPH0822414B2 (ja) | 1990-05-18 | 1990-05-18 | 塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0422469A true JPH0422469A (ja) | 1992-01-27 |
| JPH0822414B2 JPH0822414B2 (ja) | 1996-03-06 |
Family
ID=15013823
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2129614A Expired - Fee Related JPH0822414B2 (ja) | 1990-05-18 | 1990-05-18 | 塗布装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5167713A (ja) |
| EP (1) | EP0457029B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0822414B2 (ja) |
| DE (1) | DE69112487T2 (ja) |
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| US5816506A (en) * | 1995-05-18 | 1998-10-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Nozzle and nozzle processing method |
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| JP2566096B2 (ja) † | 1992-04-14 | 1996-12-25 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
| DE4226139A1 (de) * | 1992-08-07 | 1994-02-10 | Basf Magnetics Gmbh | Vorrichtung zur Herstellung eines magnetischen Aufzeichnungsträgers |
| DE4234608C2 (de) * | 1992-08-07 | 1997-08-07 | Basf Magnetics Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines magnetischen Aufzeichnungsträgers |
| KR0164669B1 (ko) * | 1995-12-30 | 1999-03-20 | 최영각 | 자기기록매체용 도포장치 |
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| KR102733885B1 (ko) * | 2019-09-06 | 2024-11-22 | 주식회사 엘지에너지솔루션 | 에어 벤트를 포함하는 슬롯 다이 코팅 장치 |
| KR102521454B1 (ko) * | 2019-09-19 | 2023-04-14 | 주식회사 엘지에너지솔루션 | 이중 슬릿을 포함하는 코팅 다이 및 이를 이용한 전극 활물질 코팅 장치 |
| CN115210003B (zh) * | 2020-08-03 | 2024-07-02 | 株式会社Lg新能源 | 多狭缝模具涂布机 |
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- 1991-04-03 US US07/680,183 patent/US5167713A/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-04-11 DE DE69112487T patent/DE69112487T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-04-11 EP EP91105792A patent/EP0457029B1/en not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02265672A (ja) * | 1989-04-05 | 1990-10-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5425967A (en) * | 1993-04-20 | 1995-06-20 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Coating apparatus and method including a coating head having a plurality of slots formed by multiple, adjustable blocks |
| US5816506A (en) * | 1995-05-18 | 1998-10-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Nozzle and nozzle processing method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69112487D1 (de) | 1995-10-05 |
| DE69112487T2 (de) | 1996-03-14 |
| US5167713A (en) | 1992-12-01 |
| JPH0822414B2 (ja) | 1996-03-06 |
| EP0457029A2 (en) | 1991-11-21 |
| EP0457029B1 (en) | 1995-08-30 |
| EP0457029A3 (en) | 1992-01-08 |
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