JPH0332768A - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
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- JPH0332768A JPH0332768A JP1169297A JP16929789A JPH0332768A JP H0332768 A JPH0332768 A JP H0332768A JP 1169297 A JP1169297 A JP 1169297A JP 16929789 A JP16929789 A JP 16929789A JP H0332768 A JPH0332768 A JP H0332768A
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- lip
- slit
- coating
- support
- coating liquid
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
- B05C5/0254—Coating heads with slot-shaped outlet
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/848—Coating a support with a magnetic layer by extrusion
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、磁気テープやフロッピーディスクとして用い
られる磁気記録媒体の塗布装置に関し、特にダイノズル
の改良に関するものである。
られる磁気記録媒体の塗布装置に関し、特にダイノズル
の改良に関するものである。
従来の技術
磁気記録媒体の製造にかいて、ダイノズルを用いた塗布
装置によシブラスチックフィルム上に磁性層、バック層
を設ける方法がある。ダイノズルに関しては、例えば第
８図に示すように支持体８の背面を支持することなく、
ダイノズル６のスリット先端から磁性塗布液７をポンプ
６によシ連続的に押し出し、吐出された磁性塗布液７の
液圧でダイノズルと支持体とのクリアランスを保ちつつ
、連続的に塗布液を支持体に塗布するものが知られてい
る。このダイノズルの特徴は、ノズルの下流側リップ１
の面に湾曲を持たせ、且つ塗布時に下流側リップのスリ
ット側に液溜部Ｐの塗布液が加圧状態にあるように上流
側リップ２と湾曲面の下流側リップ１とを構成すること
によシ、高速で均一な薄層塗布を可能にした。更にもう
一つの特徴としては、下流側リップの断面を曲面形状に
し異物の蓄積を防止することにより、長時間連続塗布を
行ったときに問題となるすじむら発生の防止を達成した
ことである。
装置によシブラスチックフィルム上に磁性層、バック層
を設ける方法がある。ダイノズルに関しては、例えば第
８図に示すように支持体８の背面を支持することなく、
ダイノズル６のスリット先端から磁性塗布液７をポンプ
６によシ連続的に押し出し、吐出された磁性塗布液７の
液圧でダイノズルと支持体とのクリアランスを保ちつつ
、連続的に塗布液を支持体に塗布するものが知られてい
る。このダイノズルの特徴は、ノズルの下流側リップ１
の面に湾曲を持たせ、且つ塗布時に下流側リップのスリ
ット側に液溜部Ｐの塗布液が加圧状態にあるように上流
側リップ２と湾曲面の下流側リップ１とを構成すること
によシ、高速で均一な薄層塗布を可能にした。更にもう
一つの特徴としては、下流側リップの断面を曲面形状に
し異物の蓄積を防止することにより、長時間連続塗布を
行ったときに問題となるすじむら発生の防止を達成した
ことである。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、前記塗布装置で、磁性塗布液のように粘
度がぜん断速度に依存する特性、いわゆるチキソトロピ
ックな性質を有する塗布液を支持体に塗布した場合、塗
膜表面に前述したすじむらとは異なる微細な縦筋が発生
する場合があることが本発明者らの研究により判明した
。
度がぜん断速度に依存する特性、いわゆるチキソトロピ
ックな性質を有する塗布液を支持体に塗布した場合、塗
膜表面に前述したすじむらとは異なる微細な縦筋が発生
する場合があることが本発明者らの研究により判明した
。
（以下余 白）
第
表
第７図ａは表１に示す磁性塗布液を、支持体として厚さ
１４μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗
布した後、カレンダー処理したうえ、塗膜表面を３次元
表面粗さ計で測定した結果の一例である。な訃測定結果
は塗膜表面の凸部を見やすくするために、３次元グラフ
ィックスを０レベルで切りとり凸部のみを出力しである
。塗膜表面に支持体の走行方向に約３００μ重ピッチの
微細な縦筋が認められ、これは前述の塗布装置で塗布し
たときに発生する、異物に起因したすじむらとは明らか
に異なるものである。さらに第７図ａの塗膜表面の平均
表面粗さ（以下にかいてはＲＭＳと略す）は１１．６μ
ｍであった。電磁変換特性を、Ｍｌフォーマットデツキ
を用い測定すると、ビデオ帯域出力（７ＭＨｚ ）では
、当社基準テープに対して−２（ＩＢであシ、Ｓ／Ｎ比
で−１（ＩＢという結果であった。以上のことから第３
図ａに示したような塗膜表面の微細な縦筋は、電磁変換
特性を著しく低下させるものである。
１４μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗
布した後、カレンダー処理したうえ、塗膜表面を３次元
表面粗さ計で測定した結果の一例である。な訃測定結果
は塗膜表面の凸部を見やすくするために、３次元グラフ
ィックスを０レベルで切りとり凸部のみを出力しである
。塗膜表面に支持体の走行方向に約３００μ重ピッチの
微細な縦筋が認められ、これは前述の塗布装置で塗布し
たときに発生する、異物に起因したすじむらとは明らか
に異なるものである。さらに第７図ａの塗膜表面の平均
表面粗さ（以下にかいてはＲＭＳと略す）は１１．６μ
ｍであった。電磁変換特性を、Ｍｌフォーマットデツキ
を用い測定すると、ビデオ帯域出力（７ＭＨｚ ）では
、当社基準テープに対して−２（ＩＢであシ、Ｓ／Ｎ比
で−１（ＩＢという結果であった。以上のことから第３
図ａに示したような塗膜表面の微細な縦筋は、電磁変換
特性を著しく低下させるものである。
本発明者らはこの微細な縦筋の発生原因について究明し
た結果、以下の理由によるものであることがわかった。
た結果、以下の理由によるものであることがわかった。
磁性塗布液は、磁性粉粒子間の磁気力の影響で一次粒子
として存在しているとは考え難く、３次元の網目構造を
形成してｐシ、これにせん断を付与したとき、ある大き
さを持った凝集塊に破壊されると考えらる（塗装工学Ｖ
ｏｌ ２１゜１’ｈ １Ｏ−１９８６）。磁気力が強く
さらに長径方向の平均粒径が小さい磁性粉を使用してい
る磁性塗布液は、凝集力が非常に強い為に、前記凝集塊
は数１０〜百μｍのオーダーで流動中の塗布液に存在し
て′ｉ？、ｐ、この磁性塗布液を上述したダイノズルで
支持体に塗布したとき、前記凝集塊が第８図に示す液溜
部Ｐから下流リップ上に押し出され。
として存在しているとは考え難く、３次元の網目構造を
形成してｐシ、これにせん断を付与したとき、ある大き
さを持った凝集塊に破壊されると考えらる（塗装工学Ｖ
ｏｌ ２１゜１’ｈ １Ｏ−１９８６）。磁気力が強く
さらに長径方向の平均粒径が小さい磁性粉を使用してい
る磁性塗布液は、凝集力が非常に強い為に、前記凝集塊
は数１０〜百μｍのオーダーで流動中の塗布液に存在し
て′ｉ？、ｐ、この磁性塗布液を上述したダイノズルで
支持体に塗布したとき、前記凝集塊が第８図に示す液溜
部Ｐから下流リップ上に押し出され。
これが微細な縦筋の発生原因となることがわかった。
さらにこのような微細な縦筋は、磁気力が強くさらに長
径方向の平均粒径が小さい磁性粉を使用した磁性塗布液
を塗布したときほど顕著に現れることも実験によシ確認
した。
径方向の平均粒径が小さい磁性粉を使用した磁性塗布液
を塗布したときほど顕著に現れることも実験によシ確認
した。
現在、磁気記録媒体の高密度記録化に伴って、高磁気力
で且つ超微粒の磁性粉を用いる傾向にあり、前記のよう
な塗膜表面の微細な縦筋は、ビデオ帯域出力やＳ／Ｎ比
などの電磁変換特性を著しく低下させ、製品品質上致命
的な欠陥となっていた。
で且つ超微粒の磁性粉を用いる傾向にあり、前記のよう
な塗膜表面の微細な縦筋は、ビデオ帯域出力やＳ／Ｎ比
などの電磁変換特性を著しく低下させ、製品品質上致命
的な欠陥となっていた。
本発明の目的は、上記した問題点を解決し平滑な塗膜表
面の磁気記録媒体を製造するための塗布装置を提供する
ことにある。
面の磁気記録媒体を製造するための塗布装置を提供する
ことにある。
課題を解決するための手段
上記課題を解決するために本発明の塗布装置は、連続走
行する支持体の背面を支持することなく、ダイノズルの
スリット先端部から塗布液を連続的に押し出して前記支
持体に塗布液を塗布する塗布装置において、前記ダイノ
ズルの上流側リップ面は曲面で、下流側リップ面は曲面
であシ、下流側リップ面のスリット側端部をＡ、上流側
リップのスリット側端部をＢとしたとき、ムにかける接
線とＢにｐける接線とのなす角θがθく４６°であシ、
上流側リツプ面いかなる点もム及びＢに釦ける接線から
支持体方向に越えないように構成したことを特徴とする
ものである。
行する支持体の背面を支持することなく、ダイノズルの
スリット先端部から塗布液を連続的に押し出して前記支
持体に塗布液を塗布する塗布装置において、前記ダイノ
ズルの上流側リップ面は曲面で、下流側リップ面は曲面
であシ、下流側リップ面のスリット側端部をＡ、上流側
リップのスリット側端部をＢとしたとき、ムにかける接
線とＢにｐける接線とのなす角θがθく４６°であシ、
上流側リツプ面いかなる点もム及びＢに釦ける接線から
支持体方向に越えないように構成したことを特徴とする
ものである。
また１本発明の塗布装置は、連続走行する支持体の背面
を支持することなく、ダイノズルのスリット先端部から
塗布液を連続的に押し出して前記支持体に塗布液を塗布
する塗布装置において、前記ダイノズルの上流側リップ
面は平面で、下流側リップ面は曲面であり、下流側リッ
プ面のスリット側端部をＡ、上流側リツプ面スリット側
端部をＢ、上流側リップの反スリット側端部をＣとし。
を支持することなく、ダイノズルのスリット先端部から
塗布液を連続的に押し出して前記支持体に塗布液を塗布
する塗布装置において、前記ダイノズルの上流側リップ
面は平面で、下流側リップ面は曲面であり、下流側リッ
プ面のスリット側端部をＡ、上流側リツプ面スリット側
端部をＢ、上流側リップの反スリット側端部をＣとし。
上流側リップの辺ＢＣｉとスリット側の面との頂角θが
３０゛くθく８０ｏであシ、上流側リップの頂点Ｂは、
ムに釦ける接線から反支持体方向に段差２〜１０ｏμｍ
ｉ有する位置に設けたことを特徴とするものである。
３０゛くθく８０ｏであシ、上流側リップの頂点Ｂは、
ムに釦ける接線から反支持体方向に段差２〜１０ｏμｍ
ｉ有する位置に設けたことを特徴とするものである。
更に１本発明の塗布装置は、連続走行する支持体の背面
を支持することなく、夕ダイノズルのスリット先端部か
ら塗布液を連続的に押し出して前記支持体に塗布液を塗
布する塗布装置にかいて、前記ダイノズルの上流側リッ
プ面は平面で、下流側リップ面は曲面であり、下流側リ
ップ面のスリット側端点に釦ける接線と上流側リップ面
とは平行であり、上流側リップ面を反支持体方向に前記
接線からの距離２〜１００μｍの位置に設けたことを特
徴とするものである。
を支持することなく、夕ダイノズルのスリット先端部か
ら塗布液を連続的に押し出して前記支持体に塗布液を塗
布する塗布装置にかいて、前記ダイノズルの上流側リッ
プ面は平面で、下流側リップ面は曲面であり、下流側リ
ップ面のスリット側端点に釦ける接線と上流側リップ面
とは平行であり、上流側リップ面を反支持体方向に前記
接線からの距離２〜１００μｍの位置に設けたことを特
徴とするものである。
作用
本発明は前記した構成によシ、スリット出口から上流側
リップ面にかけて液溜部を形成し、下流側リップと支持
体との間には液溜部を形成せず。
リップ面にかけて液溜部を形成し、下流側リップと支持
体との間には液溜部を形成せず。
磁性塗布液を塗布することを特徴とするものである。従
って下流側リップのスリット側エッヂ部にかいて、支持
体と前記エッヂとの隙間で磁性塗布液に高ぜん断が付与
され前記凝集塊はさらに微細に破壊されるため、塗膜表
面には微細な縦筋は発生しない。
って下流側リップのスリット側エッヂ部にかいて、支持
体と前記エッヂとの隙間で磁性塗布液に高ぜん断が付与
され前記凝集塊はさらに微細に破壊されるため、塗膜表
面には微細な縦筋は発生しない。
実施例
以下、図面にしたがって本発明の実施例について説明す
る。
る。
第１図は本発明の塗布装置を示す概略断面図である。下
流側リップ１は曲面を有して釦シ、その曲率半径ｒは２
〜２０ｍである。磁性塗布液の粘度、塗布速度、塗布膜
厚、支持体張力の条件により、最適な曲率半径を選択す
る。下流側リップの厚さは２〜２０ｍの範囲である。
流側リップ１は曲面を有して釦シ、その曲率半径ｒは２
〜２０ｍである。磁性塗布液の粘度、塗布速度、塗布膜
厚、支持体張力の条件により、最適な曲率半径を選択す
る。下流側リップの厚さは２〜２０ｍの範囲である。
上流側リップ２は、以下の理由により、下流側リップ面
のスリット側端部をＡ、上流側リツプのスリット側端部
をＢとしたとき、ムにおける接線とＢＩＣＤける接線と
のなす角θがθく４６°であるように構成する。
のスリット側端部をＡ、上流側リツプのスリット側端部
をＢとしたとき、ムにおける接線とＢＩＣＤける接線と
のなす角θがθく４６°であるように構成する。
塗布速度が１００ ｍ ／ ｌｌｌｉｎ以上のときや塗
布膜厚が液状で１０μｍ以下のときには、支持体に同伴
してくる空気がスリットよう吐出された塗布液中に巻き
込１れ塗布できなくなる。そこで第２図に示すように、
下流側リップのエッヂ端点ムにかける接線と支持体との
なす角ψ全０．６°くψく６゜の範囲となるように、上
流側リップに対する支持体の進入角度を設定すると、ス
リット出口から上流側リップにかけて形成する液溜部Ｐ
の液圧を加圧状態にでき、前記のような塗布液中への空
気の巻き込みが防止できる。これによＦ） １００ ｍ
／ Ｗｉｎ以上の高速で１０μｍ以下の薄層塗布も可能
となる。このとき、前記の上流側リップの構成にすれば
、支持体が上流側リップ面に接触し、支持体にすり傷が
発生するのを防止できる。
布膜厚が液状で１０μｍ以下のときには、支持体に同伴
してくる空気がスリットよう吐出された塗布液中に巻き
込１れ塗布できなくなる。そこで第２図に示すように、
下流側リップのエッヂ端点ムにかける接線と支持体との
なす角ψ全０．６°くψく６゜の範囲となるように、上
流側リップに対する支持体の進入角度を設定すると、ス
リット出口から上流側リップにかけて形成する液溜部Ｐ
の液圧を加圧状態にでき、前記のような塗布液中への空
気の巻き込みが防止できる。これによＦ） １００ ｍ
／ Ｗｉｎ以上の高速で１０μｍ以下の薄層塗布も可能
となる。このとき、前記の上流側リップの構成にすれば
、支持体が上流側リップ面に接触し、支持体にすり傷が
発生するのを防止できる。
上流側及び下流側リップの材料は、超硬合金を用いるこ
とによシ、前記両リップの真直度や平面度を数μｍのオ
ーダーで仕上げることができ、さらに下流側リップの出
口端面にｐけるエッヂのノくりの発生を防止できた。こ
の結果、薄層塗布を行った場合でも１幅方向に厚みむら
が生じず、エッヂのパリに起因する塗膜表面の縦筋も発
生せず良好な塗布が可能であった。
とによシ、前記両リップの真直度や平面度を数μｍのオ
ーダーで仕上げることができ、さらに下流側リップの出
口端面にｐけるエッヂのノくりの発生を防止できた。こ
の結果、薄層塗布を行った場合でも１幅方向に厚みむら
が生じず、エッヂのパリに起因する塗膜表面の縦筋も発
生せず良好な塗布が可能であった。
マニホールド３は内径１０〜１００ｍの円形断面であり
、ダイノズルの塗布幅方向に貫通している。スリット４
のギャップは通常０．１〜１關に設定され、スリットの
幅方向長さは塗布幅とほぼ同一である。マニホールドか
らスリット出口１でのスリット長さは塗布液のチキン）
ｏピック性を考慮した粘度、ダイノズルからの吐出量な
どの塗布条件によう設定するが、通常２０〜１００ｍの
長さである。
、ダイノズルの塗布幅方向に貫通している。スリット４
のギャップは通常０．１〜１關に設定され、スリットの
幅方向長さは塗布幅とほぼ同一である。マニホールドか
らスリット出口１でのスリット長さは塗布液のチキン）
ｏピック性を考慮した粘度、ダイノズルからの吐出量な
どの塗布条件によう設定するが、通常２０〜１００ｍの
長さである。
第２図は本発明の塗布装置により磁性塗布液を塗布して
いる状態を示す概略断面図である。磁性塗布液７はポン
プ６によりグイノズル２のマニホールド３内に支持体へ
の塗布量分を連続的に供給され、マニホールド３内の液
圧力によシスリット４に押し出される。スリットから押
し出された磁性塗布液７は、支持体８と上流側リップ２
との間で液溜部Ｐを形成しつつ、支持体８に所定の膜厚
で塗布されていく。支持体８の上流側リップに対する進
入角度は、ダイノズルに対して上流側に設けられたガイ
ドロール（図示せず）によシ調整される。
いる状態を示す概略断面図である。磁性塗布液７はポン
プ６によりグイノズル２のマニホールド３内に支持体へ
の塗布量分を連続的に供給され、マニホールド３内の液
圧力によシスリット４に押し出される。スリットから押
し出された磁性塗布液７は、支持体８と上流側リップ２
との間で液溜部Ｐを形成しつつ、支持体８に所定の膜厚
で塗布されていく。支持体８の上流側リップに対する進
入角度は、ダイノズルに対して上流側に設けられたガイ
ドロール（図示せず）によシ調整される。
液溜部Ｐを形成する磁性塗布液Ｔ中には、前記したよう
に磁性粉粒子の凝集塊が存在しているが、下流側リップ
のスリット側エッヂ端点ムと支持体８との隙間は、１０
〜３０μｌと前記凝集塊の大きさに比べ狭く、更にこの
隙間で、前記凝集塊にせん断速度として１０〜１０ （
１／５ＩＥＣ）のオーダーで高せん断が付与されるため
、前記凝集塊はさらに微細に破壊され、下流側リップ面
上に太きな凝集塊が押し出されることがなく、塗膜表面
の微細な縦筋発生を抑制できる。本実施例によシ第１表
に示す磁性塗布液を塗布速度２００ｍ ／ ｍｉｎで、
支持体として厚さ１４μｍのポリエチレンテレフタレー
トフィルム上に塗布した後、カレンダー処理し、テープ
を作成した。
に磁性粉粒子の凝集塊が存在しているが、下流側リップ
のスリット側エッヂ端点ムと支持体８との隙間は、１０
〜３０μｌと前記凝集塊の大きさに比べ狭く、更にこの
隙間で、前記凝集塊にせん断速度として１０〜１０ （
１／５ＩＥＣ）のオーダーで高せん断が付与されるため
、前記凝集塊はさらに微細に破壊され、下流側リップ面
上に太きな凝集塊が押し出されることがなく、塗膜表面
の微細な縦筋発生を抑制できる。本実施例によシ第１表
に示す磁性塗布液を塗布速度２００ｍ ／ ｍｉｎで、
支持体として厚さ１４μｍのポリエチレンテレフタレー
トフィルム上に塗布した後、カレンダー処理し、テープ
を作成した。
そのテープの塗膜表面を３次元表面粗さ計で測定した結
果を第３１１ ｂに示す。従来装置のダイノズルによる
塗膜表面に見られた微細な縦筋（第３図ａ）は全く発生
しなかった。
果を第３１１ ｂに示す。従来装置のダイノズルによる
塗膜表面に見られた微細な縦筋（第３図ａ）は全く発生
しなかった。
また電磁変換特性に訃いて、Ｍｌフォーマットデツキを
用いて、ビデオ帯域の周波数７ ＭＨｚにかける出力及
びＳ／Ｎ比の測定結果と３次元表面粗さ計で測定したＲ
ＭＳを第２表に示す。従来装置のダイノズルで塗布して
作成したテープに対して、ＲＭＳは小さく、再生出力及
びＳ／Ｎ比共にレベルは格段に向上し、製品品質上全く
問題ない磁気記録媒体を作成できた。
用いて、ビデオ帯域の周波数７ ＭＨｚにかける出力及
びＳ／Ｎ比の測定結果と３次元表面粗さ計で測定したＲ
ＭＳを第２表に示す。従来装置のダイノズルで塗布して
作成したテープに対して、ＲＭＳは小さく、再生出力及
びＳ／Ｎ比共にレベルは格段に向上し、製品品質上全く
問題ない磁気記録媒体を作成できた。
なか、比較のため、従来装置のダイノズルによシ、第１
表に示す磁性塗布液を塗布速度２００ｃｎ／ｗｉｎ テ
、支持体として厚さ１４μｍのポリエチレンテレフタレ
ートフィルム上に塗布した後、カレンダー処理し、テー
プを作成した。そのテープの塗膜表面を３次元表面粗さ
計で測定した結果を第３図ａに示す。筐た電磁変換特性
を実施例と同様な方法で、周波数７ ＭＨｚの出力及び
Ｓ／Ｎ比を測定し、結果を第２表に示す。第２表には当
社基準テープのＲＭＳ、周波数７ ＭＨｚの出力、Ｓ／
Ｎ比を併せて記載した。
表に示す磁性塗布液を塗布速度２００ｃｎ／ｗｉｎ テ
、支持体として厚さ１４μｍのポリエチレンテレフタレ
ートフィルム上に塗布した後、カレンダー処理し、テー
プを作成した。そのテープの塗膜表面を３次元表面粗さ
計で測定した結果を第３図ａに示す。筐た電磁変換特性
を実施例と同様な方法で、周波数７ ＭＨｚの出力及び
Ｓ／Ｎ比を測定し、結果を第２表に示す。第２表には当
社基準テープのＲＭＳ、周波数７ ＭＨｚの出力、Ｓ／
Ｎ比を併せて記載した。
第２表
トテープを基準テープとした。
第３図は、本発明の塗布装置の第２の実施例を示す概略
断面図であり第１の実施例と異なるところは上流側リッ
プ２の構成にある。この上流側リップ２は、その支持体
側の面は平面であシ、下流側リップ面のスリット側端部
をＡ、上流側リップのスリット側端部をＢ、上流側リッ
プの反スリット側端部をＣとし、上流側リップの辺ＢＣ
とスリット面との頂角θが３００くθ＜ｓｏ’である。
断面図であり第１の実施例と異なるところは上流側リッ
プ２の構成にある。この上流側リップ２は、その支持体
側の面は平面であシ、下流側リップ面のスリット側端部
をＡ、上流側リップのスリット側端部をＢ、上流側リッ
プの反スリット側端部をＣとし、上流側リップの辺ＢＣ
とスリット面との頂角θが３００くθ＜ｓｏ’である。
さらに、下記の理由によシ、上流側リツプ２頂点Ｂは、
ムに訃ける接線から反支持体方向に段差２〜１００μｍ
を有する位置に設ける。
ムに訃ける接線から反支持体方向に段差２〜１００μｍ
を有する位置に設ける。
塗布速度が１００ ｍ／ Ｗｉｎ以上のときや塗布膜厚
が液状で１０μ重以下のときには、支持体に同伴してく
る空気がスリットよシ吐出された塗布液中に巻き込ちれ
塗布できなくなる。そこで第４図に示すように、下流側
リップ１のエッヂ端点ムにｐける接線よシも、支持体を
上流側リップ面に近接せしめるように、上流側リップに
対する支持体の進入角度を調整すると、スリット出口か
ら上流側リップにかけて形成する液溜部Ｐの液圧を加圧
状態にでき、前記のような塗布液中への空気の巻き込み
が防止できる。これにより１００ｍ／ｗｉｎ以上の高速
で１０μｍ以下の薄層塗布も可能となる。
が液状で１０μ重以下のときには、支持体に同伴してく
る空気がスリットよシ吐出された塗布液中に巻き込ちれ
塗布できなくなる。そこで第４図に示すように、下流側
リップ１のエッヂ端点ムにｐける接線よシも、支持体を
上流側リップ面に近接せしめるように、上流側リップに
対する支持体の進入角度を調整すると、スリット出口か
ら上流側リップにかけて形成する液溜部Ｐの液圧を加圧
状態にでき、前記のような塗布液中への空気の巻き込み
が防止できる。これにより１００ｍ／ｗｉｎ以上の高速
で１０μｍ以下の薄層塗布も可能となる。
このとき、支持体と上流側リップ面が流触し、支持体に
すり傷が発生するのを防止するために、上流側リップの
辺ＢＣとスリット面との頂角θが３０°〈θく８０°と
し、リップの頂点Ｂは、ムに釦ける接線から反支持体方
向に段差２〜１００μｍを有する位置に設ける。
すり傷が発生するのを防止するために、上流側リップの
辺ＢＣとスリット面との頂角θが３０°〈θく８０°と
し、リップの頂点Ｂは、ムに釦ける接線から反支持体方
向に段差２〜１００μｍを有する位置に設ける。
上流側及び下流側リップの材料は、超硬合金を用いるこ
とにより、前記両リップの真直度や平面度を数μｍのオ
ーダーで仕上げることができ、さらにステンレス鋼を加
工したときなどにみられる下流側リップの出口端部にか
けるエッヂのパリやダレの発生を防止できた。この結果
、薄層塗布を行った場合でも１幅方向に厚みむらが生じ
ず、エッヂのパリやダレに起因する塗膜表面の縦筋も発
生せず良好な塗布が可能であった。
とにより、前記両リップの真直度や平面度を数μｍのオ
ーダーで仕上げることができ、さらにステンレス鋼を加
工したときなどにみられる下流側リップの出口端部にか
けるエッヂのパリやダレの発生を防止できた。この結果
、薄層塗布を行った場合でも１幅方向に厚みむらが生じ
ず、エッヂのパリやダレに起因する塗膜表面の縦筋も発
生せず良好な塗布が可能であった。
本実施例によシ第１表に示す磁性塗布液を塗布速度２０
０ｍ／ｍｉｎで、支持体として厚さ１４μ鳳のポリエチ
レンテレフタレートフィルム上に塗布した後、カレンダ
ー処理し、テープを作成した。
０ｍ／ｍｉｎで、支持体として厚さ１４μ鳳のポリエチ
レンテレフタレートフィルム上に塗布した後、カレンダ
ー処理し、テープを作成した。
そのテープの塗膜表面を３次元表面粗さ計で測定した結
果、第１実施例と同様の効果を得た。
果、第１実施例と同様の効果を得た。
第６図に本発明の塗布装置の第３の実施例を示す。第１
．第２の実施例と異なるところは上流側リップ２の構成
にある。上流側リップ２は、その支持体側の面は平面で
あシ、下流側リップの端点ムにｐける接線と前記平面と
は平行である。さらに、下記の理由により、上流側リッ
プの前記平面を、反支持体方向□前記接線から距離ｄが
２〜１００μｍの段差を有する位置に設ける。
．第２の実施例と異なるところは上流側リップ２の構成
にある。上流側リップ２は、その支持体側の面は平面で
あシ、下流側リップの端点ムにｐける接線と前記平面と
は平行である。さらに、下記の理由により、上流側リッ
プの前記平面を、反支持体方向□前記接線から距離ｄが
２〜１００μｍの段差を有する位置に設ける。
塗布速度が１００（１／ｗｉｎ以上のときや塗布膜厚が
液状で１０μｍ以下のときには、支持体に同伴してくる
空気がスリットよシ吐出された塗布液中に巻き込１れ塗
布できなくなる。そこで第６図に示すように、下流側リ
ップのエッチ端点ムにかける接線と支持体とのなす角θ
を０．６°くθく３゜の範囲となるように、上流側リッ
プに対する支持体の進入角度を設定すると、スリット出
口から上流側リップにかけて形成する液溜部Ｐの液圧を
加圧状態にでき、前記のような塗布液中への空気の巻き
込みが防止できる。これにより１００ｍ／ｗｉｎ以上の
高速で１０μｍ以下の薄層塗布が可能となる。このとき
、支持体と上流側リップ面が接触し、支持体にすり傷が
発生するのを防止するために、上流側リップの前記平面
を、反支持体方向に前記接線から距離ｄの段差を有する
位置に設ける。
液状で１０μｍ以下のときには、支持体に同伴してくる
空気がスリットよシ吐出された塗布液中に巻き込１れ塗
布できなくなる。そこで第６図に示すように、下流側リ
ップのエッチ端点ムにかける接線と支持体とのなす角θ
を０．６°くθく３゜の範囲となるように、上流側リッ
プに対する支持体の進入角度を設定すると、スリット出
口から上流側リップにかけて形成する液溜部Ｐの液圧を
加圧状態にでき、前記のような塗布液中への空気の巻き
込みが防止できる。これにより１００ｍ／ｗｉｎ以上の
高速で１０μｍ以下の薄層塗布が可能となる。このとき
、支持体と上流側リップ面が接触し、支持体にすり傷が
発生するのを防止するために、上流側リップの前記平面
を、反支持体方向に前記接線から距離ｄの段差を有する
位置に設ける。
上流側及び下流側リップの材料は、超硬合金を用いるこ
とによシ、前記両リップの真直度や平面度を数μｍのオ
ーダーで仕上げることができ、さらにステンレス鋼など
を加工したときにみられる下流側リップの出口端部にか
けるエッヂのパリやダレの発生を防止できた。この結果
、薄層塗布を行った場合でも、幅方向に厚みむらが生じ
ず、エッヂのパリやダレに起因する塗膜表面の縦筋も発
生せず良好な塗布が可能であった。
とによシ、前記両リップの真直度や平面度を数μｍのオ
ーダーで仕上げることができ、さらにステンレス鋼など
を加工したときにみられる下流側リップの出口端部にか
けるエッヂのパリやダレの発生を防止できた。この結果
、薄層塗布を行った場合でも、幅方向に厚みむらが生じ
ず、エッヂのパリやダレに起因する塗膜表面の縦筋も発
生せず良好な塗布が可能であった。
本実施例によシ第１表に示す磁性塗布液を塗布速度２０
０ ｍ／ Ｗｉｎで、支持体として厚さ１４μ重のポリ
エチレンテレフタレートフィルム上に塗布した後、カレ
ンダー処理し、テープを作成した。
０ ｍ／ Ｗｉｎで、支持体として厚さ１４μ重のポリ
エチレンテレフタレートフィルム上に塗布した後、カレ
ンダー処理し、テープを作成した。
そのテープの塗膜表面を３次元表面粗さ計で測定した結
果、第１．第２の実施例と同様の効果を得た。
果、第１．第２の実施例と同様の効果を得た。
発明の効果
以上のように本発明によれば、磁気力が強くさらに長径
方向の平均粒径が小さい磁性粉を使用した凝集力の非常
に強い磁性塗布液に対して、塗膜表面を非常に平滑に塗
布することが可能となった。
方向の平均粒径が小さい磁性粉を使用した凝集力の非常
に強い磁性塗布液に対して、塗膜表面を非常に平滑に塗
布することが可能となった。
この結果、高密度磁気記録媒体の製品品質を大幅に向上
させることができた。
させることができた。
第１図及び第２図は本発明の塗布装置の第１の実施例を
示す断面図、第３図及び第４図は本発明の塗布装置の第
２の実施例を示す断面図、第６図及び第６図は本発明の
塗布装置の第３の実施例を示す断面図、第７図は塗膜表
面を３次元表面粗さ計で測定した結果を示す図、第８図
は従来のダイノズルの断面図である。 １・・・・・・下流側リップ、２・・・・・・上流側リ
ップ、３・・・・・・マニホールド、４・・・・・・ス
リット、６・・・・・・ダイ ノズル％６・・・・・・ポンプ。
示す断面図、第３図及び第４図は本発明の塗布装置の第
２の実施例を示す断面図、第６図及び第６図は本発明の
塗布装置の第３の実施例を示す断面図、第７図は塗膜表
面を３次元表面粗さ計で測定した結果を示す図、第８図
は従来のダイノズルの断面図である。 １・・・・・・下流側リップ、２・・・・・・上流側リ
ップ、３・・・・・・マニホールド、４・・・・・・ス
リット、６・・・・・・ダイ ノズル％６・・・・・・ポンプ。
Claims (4)
- （１）連続走行する支持体の背面を支持することなく、
ダイノズルのスリット先端部から塗布液を連続的に押し
出して前記支持体に塗布液を塗布する塗布装置において
、前記ダイノズルの上流側リップ面は曲面で、下流側リ
ップ面は曲面であり、下流側リップ面のスリット側端部
をＡ、上流側リップのスリット側端部をＢとしたとき、
Ａにおける接線とＢにおける接線とのなす角θがθ＜４
５゜であり、上流側リップのいかなる点もＡ及びＢにお
ける接線から支持体方向に越えないように構成したこと
を特徴とする塗布装置。 - （２）連続走行する支持体の背面を支持することなく、
ダイノズルのスリット先端部から塗布液を連続的に押し
出して前記支持体に塗布液を塗布する塗布装置において
、前記ダイノズルの上流側リップ面は平面で、下流側リ
ップ面は曲面であり、下流側リップ面のスリット側端部
をＡ、上流側リップのスリット側端部をＢ、上流側リッ
プの反スリット側端部をＣとし、上流側リップの辺ＢＣ
とスリット面との頂角θが３０゜＜θ＜８０゜であり、
上流側リップの頂点Ｂは、Ａにおける接線から反支持体
方向に段差２〜１００μｍを有する位置に設けたことを
特徴とする塗布装置。 - （３）連続走行する支持体の背面を支持することなく、
ダイノズルのスリット先端部から塗布液を連続的に押し
出して前記支持体に塗布液を塗布する塗布装置において
、前記ダイノズルの上流側リップ面は平面で、下流側リ
ップ面は曲面であり、下流側リップ面のスリット側端点
における接線と上流側リップ面とは平行であり、上流側
リップ面を反支持体方向に前記接線からの距離２〜１０
０μｍの位置に設けたことを特徴とする塗布装置。 - （４）下流側リップの湾曲面の曲率半径が２〜２０ｍｍ
である請求項１〜３のいずれかに記載の塗布装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1169297A JPH0829285B2 (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | 塗布装置 |
| US07/545,890 US5173119A (en) | 1989-06-29 | 1990-06-29 | Coating apparatus base film coating apparatus with die nozzle |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1169297A JPH0829285B2 (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | 塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0332768A true JPH0332768A (ja) | 1991-02-13 |
| JPH0829285B2 JPH0829285B2 (ja) | 1996-03-27 |
Family
ID=15883909
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1169297A Expired - Lifetime JPH0829285B2 (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | 塗布装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5173119A (ja) |
| JP (1) | JPH0829285B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5816506A (en) * | 1995-05-18 | 1998-10-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Nozzle and nozzle processing method |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5376178A (en) * | 1991-07-31 | 1994-12-27 | Sony Corporation | Coating apparatus |
| FR2710864B1 (fr) * | 1993-10-06 | 1995-12-08 | Pont A Mousson | Procédé et installation pour l'assemblage de parties de modèles gazéifiables utilisés en fonderie. |
| JP3445343B2 (ja) * | 1993-12-28 | 2003-09-08 | Ｔｄｋ株式会社 | 塗布方法および塗布装置 |
| JPH07256188A (ja) * | 1994-03-25 | 1995-10-09 | Tdk Corp | 押出し塗布ヘッド |
| JPH07256189A (ja) * | 1994-03-25 | 1995-10-09 | Tdk Corp | 押出し塗布ヘッド |
| US5795320A (en) * | 1995-06-07 | 1998-08-18 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Paper applicator containing a compostable coating |
| US5984888A (en) * | 1995-06-07 | 1999-11-16 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Applicator and coating |
| KR0156781B1 (ko) * | 1995-12-08 | 1998-12-15 | 최영각 | 도포장치 |
| US5679158A (en) * | 1996-03-19 | 1997-10-21 | Basf Corporation | Finish nozzle and application assembly for a synthetic filament spinning apparatus |
| KR19990033752A (ko) * | 1997-10-27 | 1999-05-15 | 구광시 | 프라이머가 도포된 폴리에스테르 필름의 제조방법 |
| US6458064B1 (en) * | 1998-08-14 | 2002-10-01 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Coating Method |
| JP7593741B2 (ja) | 2020-03-26 | 2024-12-03 | ノードソン コーポレーション | ノズル、接着剤塗布ヘッド、接着剤塗布装置及びおむつ製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5784771A (en) * | 1980-11-13 | 1982-05-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Coater |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58205561A (ja) * | 1982-05-25 | 1983-11-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布方法及び装置 |
| JPS60238179A (ja) * | 1984-05-14 | 1985-11-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布装置 |
| DE68906416T2 (de) * | 1988-02-17 | 1993-09-09 | Konishiroku Photo Ind | Beschichtungsapparat. |
| JPH0824872B2 (ja) * | 1988-06-07 | 1996-03-13 | 松下電器産業株式会社 | 塗布装置 |
-
1989
- 1989-06-29 JP JP1169297A patent/JPH0829285B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-06-29 US US07/545,890 patent/US5173119A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5784771A (en) * | 1980-11-13 | 1982-05-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Coater |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5816506A (en) * | 1995-05-18 | 1998-10-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Nozzle and nozzle processing method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5173119A (en) | 1992-12-22 |
| JPH0829285B2 (ja) | 1996-03-27 |
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Legal Events
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100327 Year of fee payment: 14 |