JPH0822414B2 - 塗布装置 - Google Patents
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- JPH0822414B2 JPH0822414B2 JP2129614A JP12961490A JPH0822414B2 JP H0822414 B2 JPH0822414 B2 JP H0822414B2 JP 2129614 A JP2129614 A JP 2129614A JP 12961490 A JP12961490 A JP 12961490A JP H0822414 B2 JPH0822414 B2 JP H0822414B2
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Classifications
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/848—Coating a support with a magnetic layer by extrusion
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
- B05C5/0254—Coating heads with slot-shaped outlet
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
- B05C9/06—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying two different liquids or other fluent materials, or the same liquid or other fluent material twice, to the same side of the work
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/842—Coating a support with a liquid magnetic dispersion
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
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- Coating Apparatus (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、主に磁気テープやフロッピーディスクとし
て用いられる表面性の良好な磁気記録媒体の塗布装置に
関し、特に未乾燥状態で二層を同時に塗布し、膜表面を
平滑にする塗布装置に関する。
て用いられる表面性の良好な磁気記録媒体の塗布装置に
関し、特に未乾燥状態で二層を同時に塗布し、膜表面を
平滑にする塗布装置に関する。
従来の技術 近年、磁気記録媒体の高性能化に伴って、磁性層の多
層化が注目を集めている。たとえば上層には短波長記録
において電磁変換特性に優れた磁性層を設け、下層には
長波長記録に適した磁性層を設けることにより、従来、
単層では得られなかった優れた電磁変換特性を備えた磁
気記録媒体が実現できる。たとえば二層構造のビデオ用
磁気記録媒体において、下層の磁性層の膜厚は上層の磁
性層より厚く、0.5〜４μｍの範囲である。一方、上層
の塗布膜厚は0.1〜0.5μｍがよい。上層の膜厚が0.5μ
ｍより厚いと低周波数帯の特性が低下し、0.1μｍより
薄いと下層の影響が強くなるため二層の効果が小さくな
る。
層化が注目を集めている。たとえば上層には短波長記録
において電磁変換特性に優れた磁性層を設け、下層には
長波長記録に適した磁性層を設けることにより、従来、
単層では得られなかった優れた電磁変換特性を備えた磁
気記録媒体が実現できる。たとえば二層構造のビデオ用
磁気記録媒体において、下層の磁性層の膜厚は上層の磁
性層より厚く、0.5〜４μｍの範囲である。一方、上層
の塗布膜厚は0.1〜0.5μｍがよい。上層の膜厚が0.5μ
ｍより厚いと低周波数帯の特性が低下し、0.1μｍより
薄いと下層の影響が強くなるため二層の効果が小さくな
る。
このような磁性層が二層構造の磁気記録媒体は一回の
塗布・乾燥で製造することが望まれており、磁性層を二
層同時に塗布する塗布装置については、たとえば特開昭
63−88080号公報等が知られている。
塗布・乾燥で製造することが望まれており、磁性層を二
層同時に塗布する塗布装置については、たとえば特開昭
63−88080号公報等が知られている。
発明が解決しようとする課題 しかしながら上記従来の塗布装置で、高密度記録用の
磁性塗布液を塗布した場合、微細な縦筋が発生すること
を本発明者は研究により究明した。第４図は上層として
次の第１表に示す磁性塗布液を乾燥状態膜厚で0.3μ
ｍ、下層として第２表に示す磁性塗布液を乾燥状態膜厚
で３μｍとなるように、従来例である特開昭63−88080
号公報の塗布装置により、厚さ14μｍのポリエチレンテ
レフタレートフィルム（支持体）上に塗布，配向，乾燥
した後、カレンダー処理したうえ、塗膜表面を三次元表
面粗さ計で測定した結果の一例である。
磁性塗布液を塗布した場合、微細な縦筋が発生すること
を本発明者は研究により究明した。第４図は上層として
次の第１表に示す磁性塗布液を乾燥状態膜厚で0.3μ
ｍ、下層として第２表に示す磁性塗布液を乾燥状態膜厚
で３μｍとなるように、従来例である特開昭63−88080
号公報の塗布装置により、厚さ14μｍのポリエチレンテ
レフタレートフィルム（支持体）上に塗布，配向，乾燥
した後、カレンダー処理したうえ、塗膜表面を三次元表
面粗さ計で測定した結果の一例である。
測定結果は塗膜表面の凸部を見やすくするために、三
次元グラフィックスにおいて、高さ方向の平均値よりも
高い部分のみを出力してある。塗膜表面に支持体の走行
方向に約50μｍピッチの微細な縦筋が認められる。さら
に第４図の塗膜表面の平均表面粗さ（以下においてはRM
S（実効値）と略す）は15.8nmであった。電磁変換特性
を、M IIフォーマットデッキを用い測定すると、ビデオ
帯域出力（7MHzでは、松下電器産業（株）の基準テープ
に対して−2dBであり、S/N比で−1dBという結果であっ
た。
次元グラフィックスにおいて、高さ方向の平均値よりも
高い部分のみを出力してある。塗膜表面に支持体の走行
方向に約50μｍピッチの微細な縦筋が認められる。さら
に第４図の塗膜表面の平均表面粗さ（以下においてはRM
S（実効値）と略す）は15.8nmであった。電磁変換特性
を、M IIフォーマットデッキを用い測定すると、ビデオ
帯域出力（7MHzでは、松下電器産業（株）の基準テープ
に対して−2dBであり、S/N比で−1dBという結果であっ
た。
以上のことから第４図に示したような塗膜表面の微細
な縦筋は、電磁変換特性を著しく低下させるものである
ことが明らかである。
な縦筋は、電磁変換特性を著しく低下させるものである
ことが明らかである。
本発明者は、この微細な縦筋の発生原因について究明
した結果、以下の理由によるものであることがわかっ
た。
した結果、以下の理由によるものであることがわかっ
た。
磁性塗布液は、磁性粉粒子間の磁気力の影響で一次粒
子として存在しているとは考え難く、三次元の網目構造
を形成しており、これにせん断を付与したとき、ある大
きさを持った凝集塊に破壊されると考えられる。（「塗
装工学」第21巻、第10号、475〜479頁、1986年）。磁気
力が強くさらに長径方向の平均粒径が小さい磁性粉を使
用している磁性塗布液は、凝集力が非常に強いために、
上記凝集塊は数10〜100μｍのオーダーで流動中の塗布
液に存在しており、この磁性塗布液を従来の塗布装置で
支持体に塗布したとき、上記凝集塊が従来の塗布装置の
スリットからリップ上に押し出された後、リップ面で十
分に平滑化処理されないために縦筋が発生することがわ
かった。
子として存在しているとは考え難く、三次元の網目構造
を形成しており、これにせん断を付与したとき、ある大
きさを持った凝集塊に破壊されると考えられる。（「塗
装工学」第21巻、第10号、475〜479頁、1986年）。磁気
力が強くさらに長径方向の平均粒径が小さい磁性粉を使
用している磁性塗布液は、凝集力が非常に強いために、
上記凝集塊は数10〜100μｍのオーダーで流動中の塗布
液に存在しており、この磁性塗布液を従来の塗布装置で
支持体に塗布したとき、上記凝集塊が従来の塗布装置の
スリットからリップ上に押し出された後、リップ面で十
分に平滑化処理されないために縦筋が発生することがわ
かった。
このような微細な縦筋は、磁気力が強くさらに長径方
向の平均粒径が小さい磁性粉を使用した磁性塗布液を塗
布したときほど顕著に現れることも実験により確認し
た。現在磁気記録媒体は高密度記録化の方向にあり、そ
のため高磁気力でかつ超微粒の磁性粉を用いるので、上
記のような塗膜表面の微細な縦筋は、ビデオ帯域出力や
S/N比などの電磁変換特性を著しく低下させ、製品品質
上致命的な欠陥となっていた。
向の平均粒径が小さい磁性粉を使用した磁性塗布液を塗
布したときほど顕著に現れることも実験により確認し
た。現在磁気記録媒体は高密度記録化の方向にあり、そ
のため高磁気力でかつ超微粒の磁性粉を用いるので、上
記のような塗膜表面の微細な縦筋は、ビデオ帯域出力や
S/N比などの電磁変換特性を著しく低下させ、製品品質
上致命的な欠陥となっていた。
さらに上層の塗布膜厚が0.1〜0.5μｍと非常に薄い同
時二層塗布を行うとき、第２リップと第３リップの構成
を特定しなければ、均一でかつ安定に塗布できないこと
が本発明者の研究により判明した。
時二層塗布を行うとき、第２リップと第３リップの構成
を特定しなければ、均一でかつ安定に塗布できないこと
が本発明者の研究により判明した。
本発明の目的は、上層の乾燥状態における膜厚が0.1
〜0.5μｍと非常に薄い同時二層塗布を行う塗布装置に
おいて、均一でかつ安定に二層塗布でき、さらに平滑な
塗膜表面である多層構造の磁気記録媒体を製造するため
の塗布装置を提供することにある。
〜0.5μｍと非常に薄い同時二層塗布を行う塗布装置に
おいて、均一でかつ安定に二層塗布でき、さらに平滑な
塗膜表面である多層構造の磁気記録媒体を製造するため
の塗布装置を提供することにある。
課題を解決するための手段 上記課題を解決するために本発明の塗布装置は、３つ
のリップと２つのスリットを有し、各スリットより下流
側のリップの先端部の断面形状が曲面である塗布装置に
おいて、第２リップの先端部の第１スリット側エッヂを
Ａ、第２リップの先端部の第２スリット側エッヂをＢ、
第３リップの先端部の第２スリット側エッヂをＣ、第３
リップの先端部の反スリット側エッヂをＤとし、Ｂにお
ける接触ＸとＣにおける接触Ｙとのなす角をθとしたと
き、 ０゜≦θ≦５゜ であり、かつ第２リップの先端部の円弧 の長さと第３リップの先端部の円弧 の長さが であることを特徴とするものである。
のリップと２つのスリットを有し、各スリットより下流
側のリップの先端部の断面形状が曲面である塗布装置に
おいて、第２リップの先端部の第１スリット側エッヂを
Ａ、第２リップの先端部の第２スリット側エッヂをＢ、
第３リップの先端部の第２スリット側エッヂをＣ、第３
リップの先端部の反スリット側エッヂをＤとし、Ｂにお
ける接触ＸとＣにおける接触Ｙとのなす角をθとしたと
き、 ０゜≦θ≦５゜ であり、かつ第２リップの先端部の円弧 の長さと第３リップの先端部の円弧 の長さが であることを特徴とするものである。
作用 本発明は上記した構成により、第１スリットより押し
出されて形成された下層用磁性塗布液に、第２リップ面 と連続走行する支持体との隙間で高いせん断が付与さ
れ、下層用磁性塗布装液中の凝集塊は破壊され、かつ塗
膜表面は十分に平滑化され、その直後に第２スリットよ
り押し出されて形成された上層用磁性塗布液に、第３リ
ップ面 と下層付支持体との隙間において高いせん断が付与さ
れ、上層用磁性塗布液中の凝集塊は破壊され、かつ塗膜
表面は十分に平滑化されるので、上記した塗膜表面の微
細な縦筋は抑制できる。
出されて形成された下層用磁性塗布液に、第２リップ面 と連続走行する支持体との隙間で高いせん断が付与さ
れ、下層用磁性塗布装液中の凝集塊は破壊され、かつ塗
膜表面は十分に平滑化され、その直後に第２スリットよ
り押し出されて形成された上層用磁性塗布液に、第３リ
ップ面 と下層付支持体との隙間において高いせん断が付与さ
れ、上層用磁性塗布液中の凝集塊は破壊され、かつ塗膜
表面は十分に平滑化されるので、上記した塗膜表面の微
細な縦筋は抑制できる。
さらに本発明は上記した第２リップと第３リップの構
成により、下層付の支持体が第３リップ面に大きな屈曲
なく滑らかに進入していくので、第２スリット出口にお
ける上層用磁性塗布液の流れを乱すことなく、上層を薄
く均一でかつ安定に塗布形成することが可能である。
成により、下層付の支持体が第３リップ面に大きな屈曲
なく滑らかに進入していくので、第２スリット出口にお
ける上層用磁性塗布液の流れを乱すことなく、上層を薄
く均一でかつ安定に塗布形成することが可能である。
実施例 以下図面にしたがって本発明の実施例を説明する。第
１図は本発明の塗布装置の概略断面図である。図におい
て、１は第１リップ、２は第２リップ、３は第３リッ
プ、４は第１スリット、５は第２スリット、６は第１マ
ニホルド、７は第２マニホルド、８は第１ポンプ、９は
第２ポンプである。
１図は本発明の塗布装置の概略断面図である。図におい
て、１は第１リップ、２は第２リップ、３は第３リッ
プ、４は第１スリット、５は第２スリット、６は第１マ
ニホルド、７は第２マニホルド、８は第１ポンプ、９は
第２ポンプである。
第２リップ２および第３リップ３の先端部の断面形状
は曲面であり、その第２リップ２の先端部の曲率半径R1
は４〜20mmの範囲内であり、第３リップ３の先端部の曲
率半径R2は４〜20mmの範囲内である。リップ2,3の先端
部の曲率半径は磁性塗布液の粘度，塗布速度，塗布膜
厚，支持体張力の条件により、最適な曲率半径を選択す
る。第２リップ２および第３リップ３の厚さ（第１図に
おける左右方向の幅）は２〜10mmの範囲である。
は曲面であり、その第２リップ２の先端部の曲率半径R1
は４〜20mmの範囲内であり、第３リップ３の先端部の曲
率半径R2は４〜20mmの範囲内である。リップ2,3の先端
部の曲率半径は磁性塗布液の粘度，塗布速度，塗布膜
厚，支持体張力の条件により、最適な曲率半径を選択す
る。第２リップ２および第３リップ３の厚さ（第１図に
おける左右方向の幅）は２〜10mmの範囲である。
３つのリップは超硬合金を用いることにより、リップ
の真直度や平面度を数μｍのオーダーで仕上げることが
でき、さらにステンレス鋼などを加工したときにみられ
る第２および第３リップ2,3の出口端部におけるエッヂ
のばりやだれの発生を防止できた。この結果、薄層塗布
を行った場合でも、幅方向の厚みむらが生じず、エッヂ
のばりやだれに起因する塗膜表面の縦筋も発生せず良好
な塗布が可能であった。
の真直度や平面度を数μｍのオーダーで仕上げることが
でき、さらにステンレス鋼などを加工したときにみられ
る第２および第３リップ2,3の出口端部におけるエッヂ
のばりやだれの発生を防止できた。この結果、薄層塗布
を行った場合でも、幅方向の厚みむらが生じず、エッヂ
のばりやだれに起因する塗膜表面の縦筋も発生せず良好
な塗布が可能であった。
マニホールド６および７は塗布装置の塗布幅方向に貫
通している。マニホールド6,7の断面形状は円形，半円
形いずれでもよい。スリット4,5のギャップは通常0.1〜
0.5mmに設定され、スリット4,5の幅方向長さは塗布幅と
ほぼ同一である。マニホールド6,7からスリット4,5の出
口までのスリット長さは塗布液のチキソトロピック性を
考慮した粘度、塗布装置からの吐出量などの塗布条件に
より設定するが、通常20〜100mmの長さである。
通している。マニホールド6,7の断面形状は円形，半円
形いずれでもよい。スリット4,5のギャップは通常0.1〜
0.5mmに設定され、スリット4,5の幅方向長さは塗布幅と
ほぼ同一である。マニホールド6,7からスリット4,5の出
口までのスリット長さは塗布液のチキソトロピック性を
考慮した粘度、塗布装置からの吐出量などの塗布条件に
より設定するが、通常20〜100mmの長さである。
第１リップ１の先端形状は、第１図では平面状である
が、曲面，多角面いずれでもよい。
が、曲面，多角面いずれでもよい。
第２図は本発明の塗布装置により磁性塗布液を二層で
塗布している状態を示す断面図である。図において、10
は磁気記録媒体としての支持体、11は下層用磁性塗布
液、12は上層用磁性塗布液である。
塗布している状態を示す断面図である。図において、10
は磁気記録媒体としての支持体、11は下層用磁性塗布
液、12は上層用磁性塗布液である。
支持体10の本塗布装置に対する進入角度は、第２リッ
プ２の先端部の第１スリット４側エッヂＡにおける接線
とほぼ平行になるように、第１リップ１より上流側に設
けられたガイドロール（図示せず）により調整される。
さらに支持体10が本塗布装置より出ていく角度は、第３
リップ３の先端部の反スリット側エッヂＤにおける接線
とほぼ平行になるように、第３リップ３より下流側に設
けられたガイドロール（図示せず）により調整される。
プ２の先端部の第１スリット４側エッヂＡにおける接線
とほぼ平行になるように、第１リップ１より上流側に設
けられたガイドロール（図示せず）により調整される。
さらに支持体10が本塗布装置より出ていく角度は、第３
リップ３の先端部の反スリット側エッヂＤにおける接線
とほぼ平行になるように、第３リップ３より下流側に設
けられたガイドロール（図示せず）により調整される。
第１リップ１の第１スリット側エッヂと支持体10との
隙間は５〜200μｍで設定する。隙間をこの範囲より小
さくすると、支持体10の走行中のばたつきにより、支持
体10と第１リップ１の上記エッヂが接触し、支持体10の
擦傷が発生するため製品品質に悪影響を及ぼす。
隙間は５〜200μｍで設定する。隙間をこの範囲より小
さくすると、支持体10の走行中のばたつきにより、支持
体10と第１リップ１の上記エッヂが接触し、支持体10の
擦傷が発生するため製品品質に悪影響を及ぼす。
また上記隙間を200μｍより大きくすると、支持体10
に同伴してくる空気が巻き込まれ、塗布できなくなる。
に同伴してくる空気が巻き込まれ、塗布できなくなる。
下層用の磁性塗布液11は第１ポンプ８により第１マニ
ホールド６内に支持体10へと塗布量分を連続的に供給さ
れ、第１マニホールド６内の液圧力により第１スリット
４に押し出される。また上層用の磁性塗布液12は第２ポ
ンプ９により第２マニホールド７内に支持体10への塗布
量分を連続的に供給され、第２マニホールド７内の減圧
力により第２スリット５に押し出される。
ホールド６内に支持体10へと塗布量分を連続的に供給さ
れ、第１マニホールド６内の液圧力により第１スリット
４に押し出される。また上層用の磁性塗布液12は第２ポ
ンプ９により第２マニホールド７内に支持体10への塗布
量分を連続的に供給され、第２マニホールド７内の減圧
力により第２スリット５に押し出される。
第１スリット４より押し出された下層用磁性塗布液11
中には、上記したように磁性粉粒子の凝集塊が存在して
いる。しかし、上記のように本塗布装置に対する支持体
10の角度を設定することにより、第２リップ２面 と支持体10との隙間がウエット状態の下層塗布膜厚の約
２倍で第２リップ２面 に沿って一定に保持され、下層用磁性塗布液11に105〜1
06（1/sec）のオーダーの高いせん断速度が連続的に付
与され、そのため上記凝集塊は微細に破壊されて塗膜表
面は平滑化され、塗膜表面の微細な縦筋発生の原因とは
ならない。
中には、上記したように磁性粉粒子の凝集塊が存在して
いる。しかし、上記のように本塗布装置に対する支持体
10の角度を設定することにより、第２リップ２面 と支持体10との隙間がウエット状態の下層塗布膜厚の約
２倍で第２リップ２面 に沿って一定に保持され、下層用磁性塗布液11に105〜1
06（1/sec）のオーダーの高いせん断速度が連続的に付
与され、そのため上記凝集塊は微細に破壊されて塗膜表
面は平滑化され、塗膜表面の微細な縦筋発生の原因とは
ならない。
さらに第２スリット５より押し出された上層用磁性塗
布液12中にも、上記したような磁性粉粒子の凝集塊が存
在している。しかし、上記のように第２リップ２の第２
スリット５側エッヂＢにおける接線Ｘと、第３リップ３
の第２スリット５側エッヂＣにおける接線Ｙとのなす角
をθとしたとき、 ０≦θ≦５゜ の範囲で第２リップ２および第３リップ３の形状を設定
することにより、第２スリット５から押し出された上層
用磁性塗布液12は第３リップ３面上で液溜りを形成する
ことなく、支持体10との隙間が上層と下層のウエット状
態での塗布膜厚の約２倍で第３リップ３面 に沿って一定に保持され、さらに上層用磁性塗布液12に
105〜106（1/sec）のオーダーの高いせん断速度が連続
的に付与されるため、上層用磁性塗布液12中の凝集塊は
微細に破壊され、塗膜表面は平滑化される。
布液12中にも、上記したような磁性粉粒子の凝集塊が存
在している。しかし、上記のように第２リップ２の第２
スリット５側エッヂＢにおける接線Ｘと、第３リップ３
の第２スリット５側エッヂＣにおける接線Ｙとのなす角
をθとしたとき、 ０≦θ≦５゜ の範囲で第２リップ２および第３リップ３の形状を設定
することにより、第２スリット５から押し出された上層
用磁性塗布液12は第３リップ３面上で液溜りを形成する
ことなく、支持体10との隙間が上層と下層のウエット状
態での塗布膜厚の約２倍で第３リップ３面 に沿って一定に保持され、さらに上層用磁性塗布液12に
105〜106（1/sec）のオーダーの高いせん断速度が連続
的に付与されるため、上層用磁性塗布液12中の凝集塊は
微細に破壊され、塗膜表面は平滑化される。
本発明者の研究により、第２リップ２面の円弧の長さ と第３リップ３面の円弧の長さ の大きさが、二層同時塗布における塗膜表面の平滑性と
塗布の安定性に非常に大きな影響を及ぼすことが判明し
た。
塗布の安定性に非常に大きな影響を及ぼすことが判明し
た。
すなわち が2mmより小さい場合は、磁性塗布液に高せん断を付与
する距離または時間が短くなるために、十分に凝集塊を
破壊することができず、塗膜表面に微細な縦筋が発生す
る。さらに の大きさを7mmより大きくすると、支持体10と第２およ
び第３リップ2,3との隙間を流れる磁性塗布液の流体力
学的抵抗が大きくなりすぎて、塗布幅方向に膜厚むらが
発生し、安定に塗布できなくなることもわかった。した
がって第２および第３リップ2,3面の および は、 の範囲で、塗膜表面の微細な縦筋発生を抑制することが
できる。
する距離または時間が短くなるために、十分に凝集塊を
破壊することができず、塗膜表面に微細な縦筋が発生す
る。さらに の大きさを7mmより大きくすると、支持体10と第２およ
び第３リップ2,3との隙間を流れる磁性塗布液の流体力
学的抵抗が大きくなりすぎて、塗布幅方向に膜厚むらが
発生し、安定に塗布できなくなることもわかった。した
がって第２および第３リップ2,3面の および は、 の範囲で、塗膜表面の微細な縦筋発生を抑制することが
できる。
さらに第２リップ２の第２スリット５側エッヂＢにお
ける接線Ｘと、第３リップ３の第２スリット５側エッヂ
Ｃにおける接線Ｙとのなす角をθとしたとき、 ０≦θ≦５゜ の範囲で第２リップ２および第３リップ３と形状を設定
することにより上層を薄く均一で、かつ安定に塗布でき
ることが、本発明者の研究により判明した。下層を塗布
された支持体10は上記接線Ｘに沿って第２リップ２から
離れていき、上記接線Ｙに沿って第３リップ３面に進入
していく。このとき接線Ｘと接線Ｙとのなす角θが５゜
より大きいと、第３リップ３に進入していく下層付支持
体10の屈曲が大きくなり過ぎ、第２スリット５出口にお
ける上層用磁性塗布液12の流れが乱されて、上層を均一
に塗布できなくなることがわかった。θが上記範囲内で
あれば、支持体10の屈曲が小さいので、第２スリット５
出口における流れを乱すことなく、さらに支持体10の幅
方向のテンションも均一に保つことができるので、上層
を薄く均一にかつ安定に塗布することが可能である。
ける接線Ｘと、第３リップ３の第２スリット５側エッヂ
Ｃにおける接線Ｙとのなす角をθとしたとき、 ０≦θ≦５゜ の範囲で第２リップ２および第３リップ３と形状を設定
することにより上層を薄く均一で、かつ安定に塗布でき
ることが、本発明者の研究により判明した。下層を塗布
された支持体10は上記接線Ｘに沿って第２リップ２から
離れていき、上記接線Ｙに沿って第３リップ３面に進入
していく。このとき接線Ｘと接線Ｙとのなす角θが５゜
より大きいと、第３リップ３に進入していく下層付支持
体10の屈曲が大きくなり過ぎ、第２スリット５出口にお
ける上層用磁性塗布液12の流れが乱されて、上層を均一
に塗布できなくなることがわかった。θが上記範囲内で
あれば、支持体10の屈曲が小さいので、第２スリット５
出口における流れを乱すことなく、さらに支持体10の幅
方向のテンションも均一に保つことができるので、上層
を薄く均一にかつ安定に塗布することが可能である。
また第３リップ３の第２スリット５側エッヂＣは、上
層塗布膜厚により上記接線Ｙから反支持体方向に、段差
がない状態かまたは若干段差を設ける。段差は、上層の
塗布液中固形分率と塗布膜厚により適時設定するが、通
常、上層のウエット状態膜厚の約２倍で設定する。これ
により下層付支持体10と第３リップ３面との隙間の上層
用磁性塗布液が安定に流れ、均一な塗布が可能となる。
層塗布膜厚により上記接線Ｙから反支持体方向に、段差
がない状態かまたは若干段差を設ける。段差は、上層の
塗布液中固形分率と塗布膜厚により適時設定するが、通
常、上層のウエット状態膜厚の約２倍で設定する。これ
により下層付支持体10と第３リップ３面との隙間の上層
用磁性塗布液が安定に流れ、均一な塗布が可能となる。
以下、具体的実施例について説明する。
実施例１ 上層用磁性塗布液として第１表に示す磁性塗布液を乾
燥膜厚として0.3μｍとなるように第２スリットから吐
出し、下層用磁性塗布液として第２表に示す磁性塗布液
を乾燥膜厚として3.0μｍとなるように第１スリットか
ら吐出し、支持体厚さ14μｍのポリエチレンテレフタレ
ートフィルム上に塗布した。塗布速度は100m/min、支持
体張力は200g/cmである。塗布装置において、第２リッ
プの曲率半径を15mm、第３リップの曲率半径を5mmと
し、第３リップの円弧 の長さは5mmで固定しておき、第２リップの円弧 の長さを次の第３表のように変えた塗布装置を用いて塗
布を行った。
燥膜厚として0.3μｍとなるように第２スリットから吐
出し、下層用磁性塗布液として第２表に示す磁性塗布液
を乾燥膜厚として3.0μｍとなるように第１スリットか
ら吐出し、支持体厚さ14μｍのポリエチレンテレフタレ
ートフィルム上に塗布した。塗布速度は100m/min、支持
体張力は200g/cmである。塗布装置において、第２リッ
プの曲率半径を15mm、第３リップの曲率半径を5mmと
し、第３リップの円弧 の長さは5mmで固定しておき、第２リップの円弧 の長さを次の第３表のように変えた塗布装置を用いて塗
布を行った。
塗布した後、配向，乾燥を行い、カレンダー処理後、
所定の幅にスリットしてテープを作成した。
所定の幅にスリットしてテープを作成した。
の場合には、塗布幅方向に膜厚むらが発生し、うまく塗
布できなかった。
布できなかった。
2,7mmの塗布装置で作成した各テープの塗膜表面の状態
を三次元表面粗さ計で測定した結果、 の場合には、第４図に示したような微細な縦筋が発生し
た。
を三次元表面粗さ計で測定した結果、 の場合には、第４図に示したような微細な縦筋が発生し
た。
および7mmの場合には縦筋は発生しなかった。
例えば の場合の塗膜表面状態を第３図に示す。微細な縦筋（第
４図）は全く発生せず、本発明の塗布装置により非常に
平滑な塗膜表面が得られた。
４図）は全く発生せず、本発明の塗布装置により非常に
平滑な塗膜表面が得られた。
また本実施例による各塗布装置を用いて作成したテー
プと、従来の塗布装置で作成したテープの電磁変換特
性、すなわちM IIフォーマットデッキを用いて、ビデオ
帯域の周波数7MHzにおける出力およびS/N比の測定結果
を第４表に示す。電磁変換特性の測定には、比較し易い
ように松下電器産業（株）で作成したM IIテープを基準
テープとした。
プと、従来の塗布装置で作成したテープの電磁変換特
性、すなわちM IIフォーマットデッキを用いて、ビデオ
帯域の周波数7MHzにおける出力およびS/N比の測定結果
を第４表に示す。電磁変換特性の測定には、比較し易い
ように松下電器産業（株）で作成したM IIテープを基準
テープとした。
なお、第４表には三次元表面粗さ計で測定したPMSも
併せて示してある。本発明による塗布装置すなわち および7mmのもので作成したテープは、塗膜表面が非常
に平滑であるため、 の塗布装置や従来の塗布装置で塗布して作成したテープ
に対して、RMSは小さく、再生出力およびS/N比ともにレ
ベルは格段に優れており、本発明の効果が顕著であるこ
とがわかった。
併せて示してある。本発明による塗布装置すなわち および7mmのもので作成したテープは、塗膜表面が非常
に平滑であるため、 の塗布装置や従来の塗布装置で塗布して作成したテープ
に対して、RMSは小さく、再生出力およびS/N比ともにレ
ベルは格段に優れており、本発明の効果が顕著であるこ
とがわかった。
実施例２ 上層用磁性塗布液として第１表に示す磁性塗布液を乾
燥膜厚として0.3μｍとなるように第２スリットから吐
出し、下層用磁性塗布液として第２表に示す磁性塗布液
を乾燥膜厚として3.0μｍとなるように第１スリットか
ら吐出し、支持体厚さ14μｍのポリエチレンテレフタレ
ートフィルム上に塗布した。塗布速度は100m/min、支持
体張力は200g/cmである。塗布装置において、第２リッ
プの曲率半径を15mm、第３リップの曲率半径を15mmと
し、第２リップの円弧 の長さは5mmで固定しておき、第３リップの円弧 の長さを次の第５表のように変えた塗布装置を用いて塗
布を行った。
燥膜厚として0.3μｍとなるように第２スリットから吐
出し、下層用磁性塗布液として第２表に示す磁性塗布液
を乾燥膜厚として3.0μｍとなるように第１スリットか
ら吐出し、支持体厚さ14μｍのポリエチレンテレフタレ
ートフィルム上に塗布した。塗布速度は100m/min、支持
体張力は200g/cmである。塗布装置において、第２リッ
プの曲率半径を15mm、第３リップの曲率半径を15mmと
し、第２リップの円弧 の長さは5mmで固定しておき、第３リップの円弧 の長さを次の第５表のように変えた塗布装置を用いて塗
布を行った。
塗布した後、配向，乾燥を行い、カレンダー処理後、
所定の幅にスリットしてテープを作成した。
所定の幅にスリットしてテープを作成した。
上記各 の塗布装置で作成した各テープの塗膜表面の の場合には、塗布幅方向に膜厚むらが発生し、うまく塗
布できなかった。
布できなかった。
の状態を三次元表面粗さ計で測定した結果、 の場合には、第４図に示したような微細な縦筋が発生し
た。
た。
および7mmの場合には実施例１において示した第３図の
ように、非常に平滑な塗膜表面が得られた。
ように、非常に平滑な塗膜表面が得られた。
また実施例１と同様に、本実施例による塗布装置を用
いて作成したテープと、従来の塗布装置で作成したテー
プの電磁変換特性、すなわちM IIフォーマットデッキを
用いて、ビデオ帯域の周波数7MHzにおける出力およびS/
N比の測定結果とPMSを次のを第６表にまとめて示す。
いて作成したテープと、従来の塗布装置で作成したテー
プの電磁変換特性、すなわちM IIフォーマットデッキを
用いて、ビデオ帯域の周波数7MHzにおける出力およびS/
N比の測定結果とPMSを次のを第６表にまとめて示す。
本発明による塗布装置すなわち および7mmのもので作成したテープは、塗膜表面が非常
に平滑であるため、従来の塗布装置で塗布して作成した
テープに対して、RMSが小さく、再生出力およびS/N比と
もにレベルは格段に優れており、本発明の効果が本実施
例においても顕著であることがわかった。
に平滑であるため、従来の塗布装置で塗布して作成した
テープに対して、RMSが小さく、再生出力およびS/N比と
もにレベルは格段に優れており、本発明の効果が本実施
例においても顕著であることがわかった。
実施例３ 上層用磁性塗布液として第１表に示す磁性塗布液を乾
燥膜厚として0.1μｍとなるように第２スリットから吐
出し、下層用磁性塗布液として第２表に示す磁性塗布液
を乾燥膜厚として3.0μｍとなるように第１スリットか
ら吐出し、支持体厚さ14μｍのポリエチレンテレフタレ
ートフィルム上に塗布した。塗布速度は100m/minであ
る。塗布装置において、 の長さを5mmで固定し、第２リップの曲率半径を10mm、
第３リップの曲率半径を10mmとし、第２リップの第２ス
リット側エッヂＢにおける接線Ｘと、第３リップの第２
スリット側エッヂＣにおける接線Ｙとのなす角θを、次
の第７表のように変えた塗布装置を用いて塗布を行っ
た。
燥膜厚として0.1μｍとなるように第２スリットから吐
出し、下層用磁性塗布液として第２表に示す磁性塗布液
を乾燥膜厚として3.0μｍとなるように第１スリットか
ら吐出し、支持体厚さ14μｍのポリエチレンテレフタレ
ートフィルム上に塗布した。塗布速度は100m/minであ
る。塗布装置において、 の長さを5mmで固定し、第２リップの曲率半径を10mm、
第３リップの曲率半径を10mmとし、第２リップの第２ス
リット側エッヂＢにおける接線Ｘと、第３リップの第２
スリット側エッヂＣにおける接線Ｙとのなす角θを、次
の第７表のように変えた塗布装置を用いて塗布を行っ
た。
塗布した後、配向，乾燥を行い、カレンダー処理後、
所定の幅にスリットしてテープを作成した。
所定の幅にスリットしてテープを作成した。
θが６゜の場合には、塗布幅方向に上層の膜厚むらが
発生し均一に塗布できなかった。θが０゜および５゜の
場合には、上層が均一でかつ安定に塗布でき、本発明の
効果が本実施例において顕著であることがわかった。
発生し均一に塗布できなかった。θが０゜および５゜の
場合には、上層が均一でかつ安定に塗布でき、本発明の
効果が本実施例において顕著であることがわかった。
実施例４ 上層用磁性塗布液として第１表に示す磁性塗布液を乾
燥膜厚として0.5μｍとなるように第２スリットから吐
出し、下層用磁性塗布液として第２表に示す磁性塗布液
を乾燥膜厚として3.0μｍとなるように第１スリットか
ら吐出し、支持体厚さ14μｍのポリエチレンテレフタレ
ートフィルム上に塗布した。塗布速度は100m/minであ
る。塗布装置において、 の長さを5mmで固定し、第２リップの曲率半径を10mm、
第３リップの曲率半径を10mmとし、第２リップの第２ス
リット側エッヂＢにおける接線Ｘと、第３リップの第２
スリット側エッヂＣにおける接線Ｙとのなす角θを、次
の第８表のように変えた塗布装置を用いて塗布を行っ
た。
燥膜厚として0.5μｍとなるように第２スリットから吐
出し、下層用磁性塗布液として第２表に示す磁性塗布液
を乾燥膜厚として3.0μｍとなるように第１スリットか
ら吐出し、支持体厚さ14μｍのポリエチレンテレフタレ
ートフィルム上に塗布した。塗布速度は100m/minであ
る。塗布装置において、 の長さを5mmで固定し、第２リップの曲率半径を10mm、
第３リップの曲率半径を10mmとし、第２リップの第２ス
リット側エッヂＢにおける接線Ｘと、第３リップの第２
スリット側エッヂＣにおける接線Ｙとのなす角θを、次
の第８表のように変えた塗布装置を用いて塗布を行っ
た。
塗布した後、配向，乾燥を行い、カレンダー処理後、
所定の幅にスリットしてテープを作成した。
所定の幅にスリットしてテープを作成した。
θが６゜の場合には、塗布幅方向に上層の膜厚むらが
発生し均一に塗布できなかった。θが０゜および５゜の
場合には、上層が均一でかつ安定に塗布でき、本発明の
効果が本実施例においても顕著であることがわかった。
発生し均一に塗布できなかった。θが０゜および５゜の
場合には、上層が均一でかつ安定に塗布でき、本発明の
効果が本実施例においても顕著であることがわかった。
比較例 従来の塗布装置により、上層用磁性塗布液として第１
表に示す磁性塗布液を乾燥膜厚として0.3μｍとなるよ
うに第２スリットから吐出し、下層用磁性塗布液として
第２表に示す磁性塗布液を乾燥膜厚として3.0μｍとな
るように第１スリットから吐出し、支持体厚さ14μｍの
ポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布した。塗
布速度は100mm/min、支持体張力は200g/cmである。塗布
後、配向，乾燥し、カレンダー処理した後、所定の幅に
スリットしてテープを作成した。
表に示す磁性塗布液を乾燥膜厚として0.3μｍとなるよ
うに第２スリットから吐出し、下層用磁性塗布液として
第２表に示す磁性塗布液を乾燥膜厚として3.0μｍとな
るように第１スリットから吐出し、支持体厚さ14μｍの
ポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布した。塗
布速度は100mm/min、支持体張力は200g/cmである。塗布
後、配向，乾燥し、カレンダー処理した後、所定の幅に
スリットしてテープを作成した。
そのテープの塗膜表面を三次元表面粗さ計で測定した
結果を第４図に示す。また周波数7MHzの出力およびS/N
比などの電磁変換特性を第４表に示した。
結果を第４図に示す。また周波数7MHzの出力およびS/N
比などの電磁変換特性を第４表に示した。
発明の効果 以上のように本発明によれば、磁性層が二層構造のビ
デオ用テープの塗布において、磁気力が強くさらに長径
方向の平均粒径が小さい磁性粉を使用した凝集力の非常
に強い磁性塗布液に対して、上層の乾燥状態塗布膜厚0.
1〜0.5μｍを均一，安定に塗布でき、さらに塗膜表面を
非常に平滑に塗布することができ、この結果、多層構造
の高密度磁気記録媒体の製品品質を大幅に向上させるこ
とができるものであり、その産業性は大なるものであ
る。
デオ用テープの塗布において、磁気力が強くさらに長径
方向の平均粒径が小さい磁性粉を使用した凝集力の非常
に強い磁性塗布液に対して、上層の乾燥状態塗布膜厚0.
1〜0.5μｍを均一，安定に塗布でき、さらに塗膜表面を
非常に平滑に塗布することができ、この結果、多層構造
の高密度磁気記録媒体の製品品質を大幅に向上させるこ
とができるものであり、その産業性は大なるものであ
る。
第１図は本発明による塗布装置の一実施例の断面図、
第２図は同塗布装置の使用時における断面図、第３図は
本発明による塗布装置を用いて作成した磁気記録媒体の
塗膜表面拡大斜視図、第４図は従来の塗布装置を用いて
作成した磁気記録媒体の塗膜表面の拡大斜視図である。 １……第１リップ、２……第２リップ、３……第３リッ
プ、４……第１スリット、５……第２スリット、10……
支持体、11……下層用磁性塗布液、12……上層用磁性塗
布液。
第２図は同塗布装置の使用時における断面図、第３図は
本発明による塗布装置を用いて作成した磁気記録媒体の
塗膜表面拡大斜視図、第４図は従来の塗布装置を用いて
作成した磁気記録媒体の塗膜表面の拡大斜視図である。 １……第１リップ、２……第２リップ、３……第３リッ
プ、４……第１スリット、５……第２スリット、10……
支持体、11……下層用磁性塗布液、12……上層用磁性塗
布液。
Claims (2)
- 【請求項１】３つのリップと２つのスリットを有し、各
スリットより下流側のリップの先端部の断面形状が曲面
である塗布装置において、第２リップの先端部の第１ス
リット側エッヂをＡ、第２リップの先端部の第２スリッ
ト側エッヂをＢ、第３リップの先端部の第２スリット側
エッヂＣを、第３リップの先端部の反スリット側エッヂ
をＤとし、Ｂにおける接線ＸとＣにおける接線Ｙとのな
す角をθとしたとき、 ０゜≦θ≦５゜ であり、かつ第２リップの先端部の円弧 の長さと第３リップの先端部の円弧CDの長さが であることを特徴とする塗布装置。 - 【請求項２】第２リップの先端部の円弧 の曲率半径をR1、第３リップの先端部の円弧 の曲率半径をR2としたとき、 4mm≦R1≦20mm 4mm≦R2≦20mm であることを特徴とする請求項（１）に記載の塗布装
置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2129614A JPH0822414B2 (ja) | 1990-05-18 | 1990-05-18 | 塗布装置 |
| US07/680,183 US5167713A (en) | 1990-05-18 | 1991-04-03 | Coating apparatus |
| EP91105792A EP0457029B1 (en) | 1990-05-18 | 1991-04-11 | Coating apparatus |
| DE69112487T DE69112487T2 (de) | 1990-05-18 | 1991-04-11 | Beschichtungsapparat. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2129614A JPH0822414B2 (ja) | 1990-05-18 | 1990-05-18 | 塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0422469A JPH0422469A (ja) | 1992-01-27 |
| JPH0822414B2 true JPH0822414B2 (ja) | 1996-03-06 |
Family
ID=15013823
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2129614A Expired - Fee Related JPH0822414B2 (ja) | 1990-05-18 | 1990-05-18 | 塗布装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5167713A (ja) |
| EP (1) | EP0457029B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0822414B2 (ja) |
| DE (1) | DE69112487T2 (ja) |
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| US5324357A (en) * | 1991-10-01 | 1994-06-28 | Konica Corporation | Extrusion coating apparatus |
| JP2566096B2 (ja) † | 1992-04-14 | 1996-12-25 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
| DE4226139A1 (de) * | 1992-08-07 | 1994-02-10 | Basf Magnetics Gmbh | Vorrichtung zur Herstellung eines magnetischen Aufzeichnungsträgers |
| DE4234608C2 (de) * | 1992-08-07 | 1997-08-07 | Basf Magnetics Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines magnetischen Aufzeichnungsträgers |
| JP3322720B2 (ja) * | 1993-04-20 | 2002-09-09 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布方法 |
| JP3397962B2 (ja) * | 1995-05-18 | 2003-04-21 | 松下電器産業株式会社 | ノズル |
| KR0164669B1 (ko) * | 1995-12-30 | 1999-03-20 | 최영각 | 자기기록매체용 도포장치 |
| JP2934186B2 (ja) * | 1996-04-12 | 1999-08-16 | 花王株式会社 | 塗布方法 |
| JP4165183B2 (ja) * | 2002-10-25 | 2008-10-15 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 銀塩熱現像感光材料製造用塗布装置 |
| EP2274410A4 (en) * | 2008-04-07 | 2012-05-09 | Ecolab Inc | ULTRA-CONCENTRATED SOLID DEGRADANT COMPOSITION |
| KR102733885B1 (ko) * | 2019-09-06 | 2024-11-22 | 주식회사 엘지에너지솔루션 | 에어 벤트를 포함하는 슬롯 다이 코팅 장치 |
| KR102521454B1 (ko) * | 2019-09-19 | 2023-04-14 | 주식회사 엘지에너지솔루션 | 이중 슬릿을 포함하는 코팅 다이 및 이를 이용한 전극 활물질 코팅 장치 |
| CN115210003B (zh) * | 2020-08-03 | 2024-07-02 | 株式会社Lg新能源 | 多狭缝模具涂布机 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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