JPH0422539A - スラブ表面の縦すじ防止機能を有する電磁鋳造装置 - Google Patents
スラブ表面の縦すじ防止機能を有する電磁鋳造装置Info
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- JPH0422539A JPH0422539A JP12521990A JP12521990A JPH0422539A JP H0422539 A JPH0422539 A JP H0422539A JP 12521990 A JP12521990 A JP 12521990A JP 12521990 A JP12521990 A JP 12521990A JP H0422539 A JPH0422539 A JP H0422539A
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- Casting Support Devices, Ladles, And Melt Control Thereby (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明はスラブ表面の縦すじ防止機能を有する電vi
L鋳造装置に関するものである。
L鋳造装置に関するものである。
[従来技術]
電磁鋳造は従来の鋳型の代りに磁場を使用してアルミ若
しくはアルミ合金等の軽金属の溶湯を保持して鋳造する
方法である。この際磁場に保持された溶湯の表面には酸
化被膜が形成される。この酸化被膜は鋳塊がビレットの
ように円形断面を有する場合には鋳塊の周囲に均一に流
れ込むが、鋳塊がスラブのように矩形断面を有する場合
には鋳塊の周囲に均一に流れ込まないで部分的に厚く成
長する。又鋳造開始時に溶湯を電la鋳造装置の底台に
注いだ時に酸化物が発生しやすい。この様な酸化物や酸
化被膜は鋳塊の表面に沿って移動し、引いては鋳塊の表
面から内部に流れ込み鋳塊表面の欠陥となる。
しくはアルミ合金等の軽金属の溶湯を保持して鋳造する
方法である。この際磁場に保持された溶湯の表面には酸
化被膜が形成される。この酸化被膜は鋳塊がビレットの
ように円形断面を有する場合には鋳塊の周囲に均一に流
れ込むが、鋳塊がスラブのように矩形断面を有する場合
には鋳塊の周囲に均一に流れ込まないで部分的に厚く成
長する。又鋳造開始時に溶湯を電la鋳造装置の底台に
注いだ時に酸化物が発生しやすい。この様な酸化物や酸
化被膜は鋳塊の表面に沿って移動し、引いては鋳塊の表
面から内部に流れ込み鋳塊表面の欠陥となる。
[発明が解決しようとする課題]
そこで例えば第9図(イ)、(ロ)に示す従来の電磁鋳
造装置20.30はそれぞれ断熱材よりなる堰24を有
している。なお、第9図(イ)、(ロ)において、21
は電磁コイル、22はスクリーン、23はノズル、26
はアルミ溶湯部、27はアルミ鋳塊部をそれぞれ示す。
造装置20.30はそれぞれ断熱材よりなる堰24を有
している。なお、第9図(イ)、(ロ)において、21
は電磁コイル、22はスクリーン、23はノズル、26
はアルミ溶湯部、27はアルミ鋳塊部をそれぞれ示す。
然しこのような堰24を使用しても鋳塊部27内部の酸
化物の発生を防止することができるが堰24の外側のア
ルミ溶湯部26の表面に生じる酸化被膜を均一にするこ
とができなかった。そのためスラブのような矩形断面で
は圧延面中央部において鋳塊部27の凝固収縮による酸
化被膜のしわ寄せで縦すじが発生する傾向がある。この
様な縦すじが発生すると電磁鋳造の最大の特徴である無
面削圧延しくは面削減が困難となる。
化物の発生を防止することができるが堰24の外側のア
ルミ溶湯部26の表面に生じる酸化被膜を均一にするこ
とができなかった。そのためスラブのような矩形断面で
は圧延面中央部において鋳塊部27の凝固収縮による酸
化被膜のしわ寄せで縦すじが発生する傾向がある。この
様な縦すじが発生すると電磁鋳造の最大の特徴である無
面削圧延しくは面削減が困難となる。
この発明は電磁鋳造に際し、酸化被膜の発生が極めて僅
かな電磁鋳造装置の提供を課題とする。
かな電磁鋳造装置の提供を課題とする。
[課題を解決するための技術的手段]
上記の課題を解決するためこの発明は上下解放された方
形の電磁コイルと、この電磁コイル内にあって電磁コイ
ルに平行な方形の堰と、この層内に配設された軽金属溶
湯供給用ノズルと、このノズルから供給されて凝固した
方形の軽金属鋳塊部の周辺と前記電磁コイルとの間に介
装された方形のスクリーンとからなる電磁鋳造装置にお
いて、前記堰は前記方形の軽金属鋳塊部の周辺から12
0mm以上離れた位置で方形の軽金属鋳塊部の上側に位
置する方形の軽金属溶融部の上面から該溶融部内に浸漬
し、スクリーンの電磁コイルに対する上下方向の重なり
長さは電磁鋳型の高さの1/2〜1/4に設定した構成
を有している。
形の電磁コイルと、この電磁コイル内にあって電磁コイ
ルに平行な方形の堰と、この層内に配設された軽金属溶
湯供給用ノズルと、このノズルから供給されて凝固した
方形の軽金属鋳塊部の周辺と前記電磁コイルとの間に介
装された方形のスクリーンとからなる電磁鋳造装置にお
いて、前記堰は前記方形の軽金属鋳塊部の周辺から12
0mm以上離れた位置で方形の軽金属鋳塊部の上側に位
置する方形の軽金属溶融部の上面から該溶融部内に浸漬
し、スクリーンの電磁コイルに対する上下方向の重なり
長さは電磁鋳型の高さの1/2〜1/4に設定した構成
を有している。
[作用コ
実験の結果上記の構成により堰がノズル近傍に位置する
ようになり、そのためノズルを出た強い溶湯流動により
酸化被膜が堰で切断され、放射状に広がって溶湯部の側
面に流れ込むので酸化被膜は溶湯部表面で均一に分布さ
れる。これに反して従来の軽金属電磁鋳造装置では堰は
第8図(イ)、(ロ)に示すようにノズルを出た溶湯の
流れが弱い位置にあるので、酸化被膜は随時切断され溶
湯部の側面に流れ込まない。即ち酸化被膜は部分的に堰
に引張られた状態となり、縦すじが生ずる。
ようになり、そのためノズルを出た強い溶湯流動により
酸化被膜が堰で切断され、放射状に広がって溶湯部の側
面に流れ込むので酸化被膜は溶湯部表面で均一に分布さ
れる。これに反して従来の軽金属電磁鋳造装置では堰は
第8図(イ)、(ロ)に示すようにノズルを出た溶湯の
流れが弱い位置にあるので、酸化被膜は随時切断され溶
湯部の側面に流れ込まない。即ち酸化被膜は部分的に堰
に引張られた状態となり、縦すじが生ずる。
F実施例ノ
以下実施例を示す第1〜4図によりこの発明を説明する
。同図において、電磁鋳造装置10は上下解放された銅
製方形の電磁コイル11と、この電磁コイル11内にあ
って電磁コイル11に平行な方形の断熱材よりなる堰1
4と、この堰14内に配設されたアルミ溶湯供給用ノズ
ル13と、このノズル13から供給されて凝固した方形
のアルミ鋳塊部]7の周辺と前記電磁コイル11との間
に介装されたステンレス製方形のスクリーン12とから
構成されている。ノズル13の内部には黒鉛製のストッ
パー15が挿入されている。16はアルミ溶湯部を示す
。又Hは電磁コイル]1とスクリーン12との重なり長
さを示し、Gは電磁コイル11とスクリーン12との距
離を示す。
。同図において、電磁鋳造装置10は上下解放された銅
製方形の電磁コイル11と、この電磁コイル11内にあ
って電磁コイル11に平行な方形の断熱材よりなる堰1
4と、この堰14内に配設されたアルミ溶湯供給用ノズ
ル13と、このノズル13から供給されて凝固した方形
のアルミ鋳塊部]7の周辺と前記電磁コイル11との間
に介装されたステンレス製方形のスクリーン12とから
構成されている。ノズル13の内部には黒鉛製のストッ
パー15が挿入されている。16はアルミ溶湯部を示す
。又Hは電磁コイル]1とスクリーン12との重なり長
さを示し、Gは電磁コイル11とスクリーン12との距
離を示す。
上記の実施例において
(1)堰14について
(イ)堰14の位置は堰14の外側からアルミ鋳塊部1
7側面までの距離りが120an以上が望ましい。
7側面までの距離りが120an以上が望ましい。
(ロ)堰14の材質はルミボード等の断熱材〈樋のライ
ニング材)がよい。
ニング材)がよい。
(ハ)堰14の断面形状はD≧120閉なら第1図の方
形であっても、第9図の(イ〉、(ロ)の堰24のよう
な断面形状であっても特に問題はない。
形であっても、第9図の(イ〉、(ロ)の堰24のよう
な断面形状であっても特に問題はない。
(ニ)堰14の溶湯部16内への浸漬量Fは10〜30
mが望ましい。
mが望ましい。
(2)電磁コイルの相対位置関係
(イ)電磁コイル11.スクリーン12の重なり長ざH
はNlalミコイル1高ざの1/2〜1/4がよい。
はNlalミコイル1高ざの1/2〜1/4がよい。
(ロ)電磁コイル11.スクリーン12間の距離Gは1
!b−30mがよい。
!b−30mがよい。
F実験例1)
AI−M(J合金によりスラブサイズ500mtX98
0m“のスラブを表1に示す条件で電磁鋳造した。鋳造
速度は60m/分とした。
0m“のスラブを表1に示す条件で電磁鋳造した。鋳造
速度は60m/分とした。
表1
鋳造条件
各条件における電磁コイル11、スクリーン12の重な
り長さHと縦すじの本数との関係を第6図に示す。この
結果縦すじの発生を防止するには小堰を使用して電磁コ
イル11.スクリーン12の重なり長さHを15〜30
1run(コイル高さの1/2〜1/4〉にするとよい
ことが分かった。
り長さHと縦すじの本数との関係を第6図に示す。この
結果縦すじの発生を防止するには小堰を使用して電磁コ
イル11.スクリーン12の重なり長さHを15〜30
1run(コイル高さの1/2〜1/4〉にするとよい
ことが分かった。
[実験例2]
実験例つと同じ材質及びサイズのスラブを種々のサイズ
及び断面形状の異なる堰を使用して電磁鋳造した。なお
、この場合電磁コイル11とスクリーン12との重なり
長さHは15IIIIn、電磁コイル11とスクリーン
12間の距離Gは30mmとした。堰のサイズとしては
大頃(外寸400anX780簡)、中履(300#X
680m> 、小堰(255#X 505m>を使用
し、犬種に付いては第7図(イ)に示す方形断面、(ロ
)、(ハ)に示す断面形状のものを使用したが小堰を使
用すると縦すじは発生しなかった。このテストでは鋳造
速度を45m/分とした。この結果を表2に示す。
及び断面形状の異なる堰を使用して電磁鋳造した。なお
、この場合電磁コイル11とスクリーン12との重なり
長さHは15IIIIn、電磁コイル11とスクリーン
12間の距離Gは30mmとした。堰のサイズとしては
大頃(外寸400anX780簡)、中履(300#X
680m> 、小堰(255#X 505m>を使用
し、犬種に付いては第7図(イ)に示す方形断面、(ロ
)、(ハ)に示す断面形状のものを使用したが小堰を使
用すると縦すじは発生しなかった。このテストでは鋳造
速度を45m/分とした。この結果を表2に示す。
表2 スラブ縦すじ本数と堰との関係
第4図(イ)、(ロ)は本実施例の堰14による酸化被
膜発生の情況を示す。本実施例では堰14がノズル’1
3の近傍に位置するのでノズル13を出た強い溶湯流動
により堰14で酸化被膜が切断され、放射状に広がって
溶湯16の側面部に流れこむ状態を示す。
膜発生の情況を示す。本実施例では堰14がノズル’1
3の近傍に位置するのでノズル13を出た強い溶湯流動
により堰14で酸化被膜が切断され、放射状に広がって
溶湯16の側面部に流れこむ状態を示す。
又第5図は電磁コイル11.スクリーン12の重なり長
さHと磁束密度差との関係を示す。前記の重なり長さH
が小さい場合は磁束密度差が大きくなる。即ちスクリー
ン12の下端より15%下側の位置B2の磁束密度はい
ずれの実験条件でもほぼ同じ値であったのでスクリーン
12の下端より15履上側の位置B1の磁場が強くなっ
た。
さHと磁束密度差との関係を示す。前記の重なり長さH
が小さい場合は磁束密度差が大きくなる。即ちスクリー
ン12の下端より15%下側の位置B2の磁束密度はい
ずれの実験条件でもほぼ同じ値であったのでスクリーン
12の下端より15履上側の位置B1の磁場が強くなっ
た。
一般に電磁鋳造では磁場により溶湯を側面から保持して
いるがこれと同時に磁場により溶湯内側面が撹伴される
。この撹伴力は磁場の強さと関連があり、電磁コイル、
スクリーンの重なり長ざHが小さいはど溶湯内側面部の
撹伴が強くなる。このため溶湯内側面部が撹伴により酸
化が促進され、堰14により薄く均一になった酸化被膜
が厚くなり、縦すじが生じ易くなる。そこで電磁コイル
1つとスクリーン12との重なり長さHを大きくし、撹
伴力を押えることが必要となる。
いるがこれと同時に磁場により溶湯内側面が撹伴される
。この撹伴力は磁場の強さと関連があり、電磁コイル、
スクリーンの重なり長ざHが小さいはど溶湯内側面部の
撹伴が強くなる。このため溶湯内側面部が撹伴により酸
化が促進され、堰14により薄く均一になった酸化被膜
が厚くなり、縦すじが生じ易くなる。そこで電磁コイル
1つとスクリーン12との重なり長さHを大きくし、撹
伴力を押えることが必要となる。
[効果]
この発明は上記の構成を有するので次のような優れた効
果を有する。
果を有する。
(イ)電磁鋳造スラブ、特にAl−Mg系合金のスラブ
の縦すじを防止する (口)上記(イ)に伴いスラブの無向削圧延若しくは面
削減(50〜70%)が可能となる。
の縦すじを防止する (口)上記(イ)に伴いスラブの無向削圧延若しくは面
削減(50〜70%)が可能となる。
(ハ)無面削、面削減により歩留りが向上する。
(ニ)スラブの縦すじがなくなるので縦すじに沿った割
れがなくなる。
れがなくなる。
第1図は一実施例の正断面図を示す。第2図は第1図の
平面図を示す。第3図は第1図の要部の拡大正断面図を
示す。第4図(イ)は堰による酸化被膜発生の情況の平
面図を示す。第4図(ロ)は酸化被膜発生の拡大正面図
を示す。第5図は電磁鋳型、遮蔽板の重なり長さと磁束
密度差との関係を示す。第6図は各項につき電磁鋳型、
遮蔽板の重なり長さとスラブに発生する縦すじの本数と
の関係を示す。第7図は実験に使用した異なる堰の断面
を示す。第8図(イ)は従来の電!!鋳造装置を使用し
た場合にスラブに発生する酸化被膜の平面図を示す。第
8図(ロ)は第8図(イ)の−部の拡大正面図を示す。 第9図(イ)、く口)は共に従来の電磁鋳造装置の正断
面図を示す。 1・・・電磁コイル 2・・・スクリーン 3・・・ノズル 4・・・堰 6・・・溶湯部 7・・・鋳塊部
平面図を示す。第3図は第1図の要部の拡大正断面図を
示す。第4図(イ)は堰による酸化被膜発生の情況の平
面図を示す。第4図(ロ)は酸化被膜発生の拡大正面図
を示す。第5図は電磁鋳型、遮蔽板の重なり長さと磁束
密度差との関係を示す。第6図は各項につき電磁鋳型、
遮蔽板の重なり長さとスラブに発生する縦すじの本数と
の関係を示す。第7図は実験に使用した異なる堰の断面
を示す。第8図(イ)は従来の電!!鋳造装置を使用し
た場合にスラブに発生する酸化被膜の平面図を示す。第
8図(ロ)は第8図(イ)の−部の拡大正面図を示す。 第9図(イ)、く口)は共に従来の電磁鋳造装置の正断
面図を示す。 1・・・電磁コイル 2・・・スクリーン 3・・・ノズル 4・・・堰 6・・・溶湯部 7・・・鋳塊部
Claims (1)
- 上下解放された方形の電磁コイルと、この電磁コイル内
にあって電磁コイルに平行な方形の堰と、この堰内に配
設された軽金属溶湯供給用ノズルと、このノズルから供
給されて凝固した方形の軽金属鋳塊部の周辺と前記電磁
コイルとの間に介装された方形のスクリーンとからなる
電磁鋳造装置であつて、前記堰は前記方形の軽金属鋳塊
部の周辺から120mm以上離れた位置で方形の軽金属
鋳塊部の上側に位置する方形の軽金属溶融部の上面から
該溶融部内に浸漬し、スクリーンの電磁コイルに対する
上下方向の重なり長さは電磁コイルの高さの1/2〜1
/4に設定したことを特徴とするスラブ表面の縦すじ防
止機能を有する電磁鋳造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12521990A JPH0724918B2 (ja) | 1990-05-15 | 1990-05-15 | スラブ表面の縦すじ防止機能を有する電磁鋳造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12521990A JPH0724918B2 (ja) | 1990-05-15 | 1990-05-15 | スラブ表面の縦すじ防止機能を有する電磁鋳造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0422539A true JPH0422539A (ja) | 1992-01-27 |
| JPH0724918B2 JPH0724918B2 (ja) | 1995-03-22 |
Family
ID=14904804
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12521990A Expired - Lifetime JPH0724918B2 (ja) | 1990-05-15 | 1990-05-15 | スラブ表面の縦すじ防止機能を有する電磁鋳造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0724918B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0967033A1 (fr) * | 1998-06-19 | 1999-12-29 | Cockerill-Sambre S.A. | Procédé et dispositif destinés à réduire ou éliminer les oscillations des boucles de recirculation de l'acier liquide en lingotière d'une coulée continue |
| EP2364607A1 (en) | 2010-03-08 | 2011-09-14 | Yamato Sewing Machine Seizo Co., Ltd. | High frequency sewing machine |
-
1990
- 1990-05-15 JP JP12521990A patent/JPH0724918B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0967033A1 (fr) * | 1998-06-19 | 1999-12-29 | Cockerill-Sambre S.A. | Procédé et dispositif destinés à réduire ou éliminer les oscillations des boucles de recirculation de l'acier liquide en lingotière d'une coulée continue |
| EP2364607A1 (en) | 2010-03-08 | 2011-09-14 | Yamato Sewing Machine Seizo Co., Ltd. | High frequency sewing machine |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0724918B2 (ja) | 1995-03-22 |
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