JPH04225542A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
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- JPH04225542A JPH04225542A JP2408071A JP40807190A JPH04225542A JP H04225542 A JPH04225542 A JP H04225542A JP 2408071 A JP2408071 A JP 2408071A JP 40807190 A JP40807190 A JP 40807190A JP H04225542 A JPH04225542 A JP H04225542A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置、詳しくは半
導体チップをワイヤレスボンディング法、特にフリップ
チップボンディング法又はテープキャリアボンディング
法により装着される半導体装置に関する。
導体チップをワイヤレスボンディング法、特にフリップ
チップボンディング法又はテープキャリアボンディング
法により装着される半導体装置に関する。
【0002】
【従来技術とその課題】従来、半田バンプを介して装着
した半導体装置は図8に示す如く、半導体チップ1′の
配線2′又は基板3′のリード4′の何れか一方に半田
バンプ6′を設け、該バンプ6′に他方を熱圧着法又は
リフロー法によって接合し実装するものである。
した半導体装置は図8に示す如く、半導体チップ1′の
配線2′又は基板3′のリード4′の何れか一方に半田
バンプ6′を設け、該バンプ6′に他方を熱圧着法又は
リフロー法によって接合し実装するものである。
【0003】しかるに、最近は半導体装置に不良が発生
した場合、半導体チップ1′をいったん基板3′から剥
離し、不良部を修正した後に再度チップ1′を装着する
修復作業を要求されるが、前記従来構造においてはチッ
プ1′を剥離する際、バンプ6′の熱疲労破壊による割
れ10′は基板3′側又はチップ1′側に生じるなど一
定せず、再装着時におけるバンプ形成等に手数を要し、
あるいは再装着不能になる等の不具合がある。
した場合、半導体チップ1′をいったん基板3′から剥
離し、不良部を修正した後に再度チップ1′を装着する
修復作業を要求されるが、前記従来構造においてはチッ
プ1′を剥離する際、バンプ6′の熱疲労破壊による割
れ10′は基板3′側又はチップ1′側に生じるなど一
定せず、再装着時におけるバンプ形成等に手数を要し、
あるいは再装着不能になる等の不具合がある。
【0004】本発明は斯る従来不具合を解消して半導体
装置の修復作業性を容易ならしめる半導体装置を提供せ
んとすることを目的とする。
装置の修復作業性を容易ならしめる半導体装置を提供せ
んとすることを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】斯る本発明の半導体装置
は、半導体チップ側と基板リード側とにそれぞれ金属バ
ンプを設け、両金属バンプを熱圧着により接合又は一方
の金属バンプのみ溶かした状態で融着接合せしめるとと
もに、前記両金属バンプが異種又は異形であることを特
徴とする。
は、半導体チップ側と基板リード側とにそれぞれ金属バ
ンプを設け、両金属バンプを熱圧着により接合又は一方
の金属バンプのみ溶かした状態で融着接合せしめるとと
もに、前記両金属バンプが異種又は異形であることを特
徴とする。
【0006】上記両金属バンプの接合手段としてリフロ
ー法によれば、両バンプが溶融一体化して本発明の作用
効果が得られないので、前述の通り熱圧着法又は一方の
金属バンプのみ溶かした状態での遊着接合法によるもの
である。
ー法によれば、両バンプが溶融一体化して本発明の作用
効果が得られないので、前述の通り熱圧着法又は一方の
金属バンプのみ溶かした状態での遊着接合法によるもの
である。
【0007】金属バンプを異種とする態様には次の2つ
がある。すなわち、その一態様は金属バンプの一方を高
融点金属、例えばAu ,Pd ,Pt ,Ni ,C
u あるいはそれらの合金等とし、他方を低融点金属、
例えばPb ,Sn ,In あるいはPb−Sn ,
Pb−In ,Sn−In などの合金等とする。
がある。すなわち、その一態様は金属バンプの一方を高
融点金属、例えばAu ,Pd ,Pt ,Ni ,C
u あるいはそれらの合金等とし、他方を低融点金属、
例えばPb ,Sn ,In あるいはPb−Sn ,
Pb−In ,Sn−In などの合金等とする。
【0008】又、他の態様は前記低融点金属同志あるい
は高融点金属同志をそれぞれの金属バンプとし、かつそ
れら低融点金属又は高融点金属中の異なる金属の組合せ
とし、その中にはPb−Sn ,Pb−In 合金のS
n ,In の濃度を変えた組合せも含むものである。
は高融点金属同志をそれぞれの金属バンプとし、かつそ
れら低融点金属又は高融点金属中の異なる金属の組合せ
とし、その中にはPb−Sn ,Pb−In 合金のS
n ,In の濃度を変えた組合せも含むものである。
【0009】この後者態様においては、低融点金属同志
又は高融点金属同志から硬さ及び融点の異なる組合せと
することが望ましい。
又は高融点金属同志から硬さ及び融点の異なる組合せと
することが望ましい。
【0010】上記金属バンプを異形とする態様としては
両金属バンプを大小異なる形状、すなわち一方を他方よ
り小さなバンプ形状とする。この金属バンプの異形態様
においては、前記バンプの異種態様との組合せによる複
数の態様のあることはもちろんであるが、両金属バンプ
の種類を同一金属とし、それらを相互に大小異なる形状
とする態様とすることもよい。
両金属バンプを大小異なる形状、すなわち一方を他方よ
り小さなバンプ形状とする。この金属バンプの異形態様
においては、前記バンプの異種態様との組合せによる複
数の態様のあることはもちろんであるが、両金属バンプ
の種類を同一金属とし、それらを相互に大小異なる形状
とする態様とすることもよい。
【0011】
【作用】本発明によれば、半導体チップ側と基板リード
側とに設けた異種又は異形の2つの金属バンプを熱圧着
により接合又は一方の金属バンプのみ溶かした状態で融
着接合せしめたので、チップを剥離する際の破壊は常に
両金属バンプの接合界面近傍で起る。
側とに設けた異種又は異形の2つの金属バンプを熱圧着
により接合又は一方の金属バンプのみ溶かした状態で融
着接合せしめたので、チップを剥離する際の破壊は常に
両金属バンプの接合界面近傍で起る。
【0012】従って、チップを再装着する際には、新た
に形成した一方の金属バンプが前記他方の金属バンプの
破壊面を埋める状態で接合させ得る。
に形成した一方の金属バンプが前記他方の金属バンプの
破壊面を埋める状態で接合させ得る。
【0013】
【実施例】本発明の実施例を図面により説明すれば、図
1及び図2は本発明の原理、作用を説明するものであり
、図において、1は半導体チップ、2は該チップ1に形
成されたAl などの配線、3は基板、4は該基板3に
形成されたCu ,Al ,Ni などのリードである
。上記配線2及びリード4はチップ1及び基板3上に対
応して多数配設されるが、説明の便宜のため、対応する
一対のみを示す。
1及び図2は本発明の原理、作用を説明するものであり
、図において、1は半導体チップ、2は該チップ1に形
成されたAl などの配線、3は基板、4は該基板3に
形成されたCu ,Al ,Ni などのリードである
。上記配線2及びリード4はチップ1及び基板3上に対
応して多数配設されるが、説明の便宜のため、対応する
一対のみを示す。
【0014】チップ1の配線2上及び基板3のリード4
上には、それぞれに金属バンプ5,6をワイヤボンディ
ング法など任意の方法によって形成し(図1(A))、
両金属バンプ5,6を熱圧着法又は一方の金属バンプの
み溶かした状態での融着接合法により接合せしめる(図
1(B))。
上には、それぞれに金属バンプ5,6をワイヤボンディ
ング法など任意の方法によって形成し(図1(A))、
両金属バンプ5,6を熱圧着法又は一方の金属バンプの
み溶かした状態での融着接合法により接合せしめる(図
1(B))。
【0015】金属バンプ5,6は、Au ,Pd ,P
t ,Ni ,Cu あるいはそれらの合金、Pb ,
Sn ,In あるいはそれらの合金であるPb−Sn
,Pb−In ,Sn−In 等から選んだ異種又は
同種である。
t ,Ni ,Cu あるいはそれらの合金、Pb ,
Sn ,In あるいはそれらの合金であるPb−Sn
,Pb−In ,Sn−In 等から選んだ異種又は
同種である。
【0016】上記半導体装置を修復する場合、チップ1
を基板3から剥離する際に、接合する金属バンプ5,6
間では両者の接合界面又はその近傍で割れ10が生じる
ことになり(図2(A))、その後にチップ1に新たな
金属バンプ5′を形成して(図2(B))、基板3上に
熱圧着又は一方の金属バンプのみ溶かした状態で融着接
合すると前記バンプ5′が金属バンプ6の割れ10を埋
める状態で両バンプ5′,6が接合する。
を基板3から剥離する際に、接合する金属バンプ5,6
間では両者の接合界面又はその近傍で割れ10が生じる
ことになり(図2(A))、その後にチップ1に新たな
金属バンプ5′を形成して(図2(B))、基板3上に
熱圧着又は一方の金属バンプのみ溶かした状態で融着接
合すると前記バンプ5′が金属バンプ6の割れ10を埋
める状態で両バンプ5′,6が接合する。
【0017】上記接合は、レーザービーム加熱等の局所
加熱法により大気中好ましくはN2 ガス等の不活性ガ
ス中で可能である。
加熱法により大気中好ましくはN2 ガス等の不活性ガ
ス中で可能である。
【0018】図3〜図6は金属バンプ5,6の組合せを
例示するものであり、図3は高融点金属、すなわちAu
,Pd ,Pt ,Ni あるいはそれらの合金と、
低融点金属、すなわちPb ,Sn ,In あるいは
それらの合金Pb−Sn ,Pb−In ,Sn−In
等との組合せを示す。そして図3(A)は一例として
金属バンプ5にAu を、バンプ6にSn を用いた同
一形状の態様を示し、図3(B)は金属バンプ5を金属
バンプ6より小さくした大小異形の態様である。
例示するものであり、図3は高融点金属、すなわちAu
,Pd ,Pt ,Ni あるいはそれらの合金と、
低融点金属、すなわちPb ,Sn ,In あるいは
それらの合金Pb−Sn ,Pb−In ,Sn−In
等との組合せを示す。そして図3(A)は一例として
金属バンプ5にAu を、バンプ6にSn を用いた同
一形状の態様を示し、図3(B)は金属バンプ5を金属
バンプ6より小さくした大小異形の態様である。
【0019】図4は金属バンプ5,6を前記低融点金属
同志の異種とした組合せであって、その図4(A)は一
例として金属バンプ5にSn を、バンプ6にPb−S
n を用いた同一形状の態様を示し、図4(B)はその
大小異形の態様を示す。
同志の異種とした組合せであって、その図4(A)は一
例として金属バンプ5にSn を、バンプ6にPb−S
n を用いた同一形状の態様を示し、図4(B)はその
大小異形の態様を示す。
【0020】図5は金属バンプ5,6を前記高融点金属
同志の異種とした組合せであって、その図5(A)は一
例として金属バンプ5にAu を、バンプ6にPd を
用いた同一形状の態様を示し、図5(B)はその大小異
形の態様を示す。
同志の異種とした組合せであって、その図5(A)は一
例として金属バンプ5にAu を、バンプ6にPd を
用いた同一形状の態様を示し、図5(B)はその大小異
形の態様を示す。
【0021】図6は金属バンプ5,6を前記低融点金属
同志の同種又は高融点金属同志の同種とし、かつ大小異
形とした態様を示す。
同志の同種又は高融点金属同志の同種とし、かつ大小異
形とした態様を示す。
【0022】図6(A)は一例として金属バンプ5,6
にそれぞれPb−Sn を用いた場合であり、図6(B
)は金属バンプ5,6にそれぞれAu を用いた場合で
ある。
にそれぞれPb−Sn を用いた場合であり、図6(B
)は金属バンプ5,6にそれぞれAu を用いた場合で
ある。
【0023】尚、上記実施例図3〜図6においては低融
点金属、高融点金属の中から1つを例示したが、他の金
属バンプの組合せを選定することも自由であり、また金
属バンプ5と6との金属を逆にすることも任意である。
点金属、高融点金属の中から1つを例示したが、他の金
属バンプの組合せを選定することも自由であり、また金
属バンプ5と6との金属を逆にすることも任意である。
【0024】又、実施例図4及び図5の如く、低融点金
属同志又は高融点金属同志の中から異種を選ぶ場合には
、その一方を他方より融点が高い金属又は硬い金属を選
定することが好ましく、さらに図6の実施例においては
チップ1を剥離する際に金属バンプ5,6がその略接合
界面で破壊し離反する。
属同志又は高融点金属同志の中から異種を選ぶ場合には
、その一方を他方より融点が高い金属又は硬い金属を選
定することが好ましく、さらに図6の実施例においては
チップ1を剥離する際に金属バンプ5,6がその略接合
界面で破壊し離反する。
【0025】図7は前示実施例図3(B)の場合におけ
る他の作用例を説明するものである。 同図において
チップ1を基板3から剥離する際に、金属バンプ5の配
線2側又はバンプ5と配線2との接合界面で破壊を生じ
て、金属バンプ5の一部又は全部が金属バンプ6上に残
る場合もある(図7(B))。その場合でも、チップ1
に新たな金属バンプ5′を形成して(図7(C))、基
板3上に熱圧着すると前記バンプ5′がバンプ6上のバ
ンプ5をバンプ6内に押込んでそれらバンプ5,5′,
6が接合一体的となる。
る他の作用例を説明するものである。 同図において
チップ1を基板3から剥離する際に、金属バンプ5の配
線2側又はバンプ5と配線2との接合界面で破壊を生じ
て、金属バンプ5の一部又は全部が金属バンプ6上に残
る場合もある(図7(B))。その場合でも、チップ1
に新たな金属バンプ5′を形成して(図7(C))、基
板3上に熱圧着すると前記バンプ5′がバンプ6上のバ
ンプ5をバンプ6内に押込んでそれらバンプ5,5′,
6が接合一体的となる。
【0026】
【効果】本発明によれば、半導体装置を修復するために
チップを剥離する際の破壊が常に両金属バンプの接合界
面近傍で起るので、一方の金属バンプはそのバンプ形状
をほぼ保持した状態で残り、再装着の際に新たに形成し
たバンプと熱圧着により接合又は一方の金属バンプのみ
溶かした状態で融着接合して導通をとることができる。 従って、修復可能な半導体装置を提供し所期の目的を達
成し得る。
チップを剥離する際の破壊が常に両金属バンプの接合界
面近傍で起るので、一方の金属バンプはそのバンプ形状
をほぼ保持した状態で残り、再装着の際に新たに形成し
たバンプと熱圧着により接合又は一方の金属バンプのみ
溶かした状態で融着接合して導通をとることができる。 従って、修復可能な半導体装置を提供し所期の目的を達
成し得る。
【図1】本発明半導体装置の接合を示す部分拡大正面図
。
。
【図2】本発明の修復作用を説明する同正面図。
【図3】金属バンプの態様を示す同正面図。
【図4】金属バンプの他の態様を示す同正面図。
【図5】金属バンプのさらに他の態様を示す同正面図。
【図6】金属バンプのさらに他の態様を示す同正面図。
【図7】本発明の修復における他の作用を示す同正面図
。
。
【図8】従来例を示す同正面図。
1 半導体チップ
2 配 線3 基 板
4 リード5,5′,
6 金属バンプ
2 配 線3 基 板
4 リード5,5′,
6 金属バンプ
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2408071A JPH04225542A (ja) | 1990-12-27 | 1990-12-27 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2408071A JPH04225542A (ja) | 1990-12-27 | 1990-12-27 | 半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04225542A true JPH04225542A (ja) | 1992-08-14 |
Family
ID=18517572
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2408071A Pending JPH04225542A (ja) | 1990-12-27 | 1990-12-27 | 半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04225542A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5477086A (en) * | 1993-04-30 | 1995-12-19 | Lsi Logic Corporation | Shaped, self-aligning micro-bump structures |
| JPH0878474A (ja) * | 1994-08-31 | 1996-03-22 | Nec Corp | 基板の接続構造及びその接続方法 |
| JPH08148495A (ja) * | 1994-11-25 | 1996-06-07 | Fujitsu Ltd | 半導体装置及びその製造方法、半導体装置におけるバンプ密着性評価方法 |
| JPH08213425A (ja) * | 1995-02-03 | 1996-08-20 | Matsushita Electron Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
| US5708283A (en) * | 1994-10-20 | 1998-01-13 | Hughes Aircraft | Flip chip high power monolithic integrated circuit thermal bumps |
| US5767580A (en) * | 1993-04-30 | 1998-06-16 | Lsi Logic Corporation | Systems having shaped, self-aligning micro-bump structures |
| US6436730B1 (en) * | 1993-10-04 | 2002-08-20 | Motorola, Inc. | Microelectronic package comprising tin copper solder bump interconnections and method for forming same |
| US6583514B2 (en) | 2000-10-04 | 2003-06-24 | Nec Corporation | Semiconductor device with a binary alloy bonding layer |
| JP2005311188A (ja) * | 2004-04-23 | 2005-11-04 | Fuchigami Micro:Kk | 多層配線基板 |
| JP5817893B1 (ja) * | 2014-07-14 | 2015-11-18 | 大日本印刷株式会社 | 部品実装配線基板及びその製造方法 |
-
1990
- 1990-12-27 JP JP2408071A patent/JPH04225542A/ja active Pending
Cited By (10)
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