JPH04228499A - 真空装置 - Google Patents
真空装置Info
- Publication number
- JPH04228499A JPH04228499A JP41352090A JP41352090A JPH04228499A JP H04228499 A JPH04228499 A JP H04228499A JP 41352090 A JP41352090 A JP 41352090A JP 41352090 A JP41352090 A JP 41352090A JP H04228499 A JPH04228499 A JP H04228499A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vent
- gas
- lock chamber
- load lock
- rough exhaust
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はスパッタ装置，ＰＣＶＤ
装置，ドライエッチング装置に代表されるような薄膜製
造等に用いられる真空装置，さらに詳しくいえば真空チ
ャンバ内で基板処理時に発生するパーティクルを粗引き
排気時およびガス供給時、基板へ付着することを防止す
るようにした真空装置に関する。 【０００２】 【従来の技術】図４に従来のインライン型真空装置のロ
ードロックチャンバの概略図を示す。ロードロックチャ
ンバ１の中のトレイ２に基板３が取り付けられている。 ロードロックチャンバ１にはスローベント機構１０およ
びスロー排気機構１１が接続されている。また、スロー
排気機構１１にはルーツブロアポンプ８およびロータリ
ポンプ９が接続されている。ベントガス（Ｎ２ ）を供
給する場合、スローベント機構１０を介することにより
ガス供給開始時、発生する乱流を防止してチャンバ１内
に少しずつ導入するようにしている。また、粗引き排気
する場合は、スロー排気機構１１を通すことにより同様
に乱流を防止してゆっくりと時間をかけて排気している
。 従来の真空装置は上記のようにガス供給，排気をゆっく
り行うことにより基板処理時に発生するパーティクルの
舞い上げを防止していた（特開昭５９ー１３３３６５号
公報およびＰｅｔｅｒ Ｄ．Ｈｏｈ Ｊ．Ｖａｃ．Ｔｅ
ｃｈｎｏｌ．Ａ２（２）， Ａｐｒ．−Ｊｕｎｅ１９８
４ 参照） 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】そのため、排気時間お
よびガス導入のためのベント時間が長くなり、大量生産
を目的とするインライン型の真空装置ではスループット
が低下するという欠点があった。本発明の目的は上記欠
点を解決するもので、ベント時および粗引き排気時の基
板へのパーティクルの付着を低減化し、かつ、粗引き排
気およびガス導入にかかる時間をスローベント機構等を
挿入した従来装置より短縮化できる真空装置を提供する
ことにある。 【０００４】 【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明による真空装置は基板処理等のためチャンバ内
を排気する粗引き口の他にガス供給のためのベント口を
備えた真空装置において、前記チャンバ内の粗引き口お
よびベント口に、金属焼結フィルタを接続して構成して
ある。このような構成によればベント口径が実質的に大
きくなるので、金属焼結フィルタを接続しない場合と同
様な時間でガス導入ができ、また、ベント開始時の導入
ガスが層流になるので、パーティクルの舞い上げを阻止
して基板への付着を防止できる。粗引き時もやはり同様
に作用する。 【０００５】 【実施例】以下、図面を参照して本発明をさらに詳しく
説明する。図１は本発明による真空装置の実施例を示す
概略図である。本実施例は従来例と同様インライン型真
空装置のロードロックチャンバ部分を示した図である。 【０００６】ロードロックチャンバ１のトレイ２の中に
基板３が配置されている。ベントガス系はベントバルブ
４を介して導入され、ロードロックチャンバ１内で金属
焼結フィルタ５に接続されている。ベントバルブ４を開
くことにより金属焼結フィルタ５を介してロードロック
チャンバ１内にＮ２ ガスが層流で流入する。一方、粗
引き排気系はロータリポンプ９にルーツブロワポンプ８
が接続され、さらに粗引きバルブ７を介してロードロッ
クチャンバ１内に導入されている。ロードロックチャン
バ１内では金属焼結フィルタ１３が接続されている。粗
引きバルブ７を開いてロータリポンプ９およびルーツブ
ロワ８を起動することにより金属焼結フィルタ１３を介
して排気ができる。このように構成することにより粗引
きおよびベント開始時の乱流を抑えることができ、パー
ティクルの基板への付着を低減化できる。 【０００７】図２はベント口および金属焼結フィルタの
詳細を示す図である。図２（Ａ） は金属焼結フィルタ
を使用しない場合を、図２（Ｂ） は金属焼結フィルタ
を接続した状態をそれぞれ示している。金属焼結フィル
タ５の一端がベント口４ａに結合されている。ベント口
の接続面積に対し金属焼結フィルタ５の外壁面５ａの面
積が大きくなっており、これによってベント口の実質的
な口径が大きくなっている。よって、金属焼結フィルタ
の有無にかかわらずベント時間および粗引き時間はほぼ
変わらず，量産時のスループットの低下を防止できる。 【０００８】図３は真空中パーティクルモニタで測定し
たパーティクル数の時間変化と圧力変化を示した図であ
る。図３（Ａ） は金属焼結フィルタを用いない場合を
、図３（Ｂ） は金属焼結フィルタを接続した場合をそ
れぞれ示している。金属焼結フィルタを使用しない場合
、ベントを開始した瞬間に１００個／ｓｅｃ近くまでパ
ーティクルが計測されその後徐々に減少している。これ
に対し金属焼結フィルタを使用した場合はベントが終了
するまで開始時から５個／ｓｅｃ以下に抑えられている
なお、両者のベント時間はほとんど変わらない。 【０００９】図５は金属焼却フィルタの他の実施例を示
す概略図である。金属焼結フィルタ１１を図５に示すよ
うな形状とし，ロードロックチャンバ壁１ａの真空側の
ベント口の開口面積を大きくし，この開口部に組み込む
ような構成にすることもできる。 【００１０】 【発明の効果】以上，説明したように本発明は真空装置
のベントガス系および粗引き排気系にスローベント機構
，スロー排気機構を設けるのではなく、チャンバ内のベ
ント口および排気口に立体状の金属焼結フィルタを接続
することにより、ベント時間および排気時間は金属焼結
フィルタを使用しない場合とぼぼ同様で、かつ、ベント
開始時および排気開始時のパーティクルの舞い上げを防
止できるので、量産時のスループットを向上させること
ができる。
装置，ドライエッチング装置に代表されるような薄膜製
造等に用いられる真空装置，さらに詳しくいえば真空チ
ャンバ内で基板処理時に発生するパーティクルを粗引き
排気時およびガス供給時、基板へ付着することを防止す
るようにした真空装置に関する。 【０００２】 【従来の技術】図４に従来のインライン型真空装置のロ
ードロックチャンバの概略図を示す。ロードロックチャ
ンバ１の中のトレイ２に基板３が取り付けられている。 ロードロックチャンバ１にはスローベント機構１０およ
びスロー排気機構１１が接続されている。また、スロー
排気機構１１にはルーツブロアポンプ８およびロータリ
ポンプ９が接続されている。ベントガス（Ｎ２ ）を供
給する場合、スローベント機構１０を介することにより
ガス供給開始時、発生する乱流を防止してチャンバ１内
に少しずつ導入するようにしている。また、粗引き排気
する場合は、スロー排気機構１１を通すことにより同様
に乱流を防止してゆっくりと時間をかけて排気している
。 従来の真空装置は上記のようにガス供給，排気をゆっく
り行うことにより基板処理時に発生するパーティクルの
舞い上げを防止していた（特開昭５９ー１３３３６５号
公報およびＰｅｔｅｒ Ｄ．Ｈｏｈ Ｊ．Ｖａｃ．Ｔｅ
ｃｈｎｏｌ．Ａ２（２）， Ａｐｒ．−Ｊｕｎｅ１９８
４ 参照） 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】そのため、排気時間お
よびガス導入のためのベント時間が長くなり、大量生産
を目的とするインライン型の真空装置ではスループット
が低下するという欠点があった。本発明の目的は上記欠
点を解決するもので、ベント時および粗引き排気時の基
板へのパーティクルの付着を低減化し、かつ、粗引き排
気およびガス導入にかかる時間をスローベント機構等を
挿入した従来装置より短縮化できる真空装置を提供する
ことにある。 【０００４】 【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明による真空装置は基板処理等のためチャンバ内
を排気する粗引き口の他にガス供給のためのベント口を
備えた真空装置において、前記チャンバ内の粗引き口お
よびベント口に、金属焼結フィルタを接続して構成して
ある。このような構成によればベント口径が実質的に大
きくなるので、金属焼結フィルタを接続しない場合と同
様な時間でガス導入ができ、また、ベント開始時の導入
ガスが層流になるので、パーティクルの舞い上げを阻止
して基板への付着を防止できる。粗引き時もやはり同様
に作用する。 【０００５】 【実施例】以下、図面を参照して本発明をさらに詳しく
説明する。図１は本発明による真空装置の実施例を示す
概略図である。本実施例は従来例と同様インライン型真
空装置のロードロックチャンバ部分を示した図である。 【０００６】ロードロックチャンバ１のトレイ２の中に
基板３が配置されている。ベントガス系はベントバルブ
４を介して導入され、ロードロックチャンバ１内で金属
焼結フィルタ５に接続されている。ベントバルブ４を開
くことにより金属焼結フィルタ５を介してロードロック
チャンバ１内にＮ２ ガスが層流で流入する。一方、粗
引き排気系はロータリポンプ９にルーツブロワポンプ８
が接続され、さらに粗引きバルブ７を介してロードロッ
クチャンバ１内に導入されている。ロードロックチャン
バ１内では金属焼結フィルタ１３が接続されている。粗
引きバルブ７を開いてロータリポンプ９およびルーツブ
ロワ８を起動することにより金属焼結フィルタ１３を介
して排気ができる。このように構成することにより粗引
きおよびベント開始時の乱流を抑えることができ、パー
ティクルの基板への付着を低減化できる。 【０００７】図２はベント口および金属焼結フィルタの
詳細を示す図である。図２（Ａ） は金属焼結フィルタ
を使用しない場合を、図２（Ｂ） は金属焼結フィルタ
を接続した状態をそれぞれ示している。金属焼結フィル
タ５の一端がベント口４ａに結合されている。ベント口
の接続面積に対し金属焼結フィルタ５の外壁面５ａの面
積が大きくなっており、これによってベント口の実質的
な口径が大きくなっている。よって、金属焼結フィルタ
の有無にかかわらずベント時間および粗引き時間はほぼ
変わらず，量産時のスループットの低下を防止できる。 【０００８】図３は真空中パーティクルモニタで測定し
たパーティクル数の時間変化と圧力変化を示した図であ
る。図３（Ａ） は金属焼結フィルタを用いない場合を
、図３（Ｂ） は金属焼結フィルタを接続した場合をそ
れぞれ示している。金属焼結フィルタを使用しない場合
、ベントを開始した瞬間に１００個／ｓｅｃ近くまでパ
ーティクルが計測されその後徐々に減少している。これ
に対し金属焼結フィルタを使用した場合はベントが終了
するまで開始時から５個／ｓｅｃ以下に抑えられている
なお、両者のベント時間はほとんど変わらない。 【０００９】図５は金属焼却フィルタの他の実施例を示
す概略図である。金属焼結フィルタ１１を図５に示すよ
うな形状とし，ロードロックチャンバ壁１ａの真空側の
ベント口の開口面積を大きくし，この開口部に組み込む
ような構成にすることもできる。 【００１０】 【発明の効果】以上，説明したように本発明は真空装置
のベントガス系および粗引き排気系にスローベント機構
，スロー排気機構を設けるのではなく、チャンバ内のベ
ント口および排気口に立体状の金属焼結フィルタを接続
することにより、ベント時間および排気時間は金属焼結
フィルタを使用しない場合とぼぼ同様で、かつ、ベント
開始時および排気開始時のパーティクルの舞い上げを防
止できるので、量産時のスループットを向上させること
ができる。
【図１】本発明による真空装置の実施例を示す概略図で
ある。
ある。
【図２】ベント口および金属焼結フィルタの詳細を示す
図である。
図である。
【図３】真空中パーティクルモニタで測定したパーティ
クル数の時間変化と圧力変化を示した図である。
クル数の時間変化と圧力変化を示した図である。
【図４】従来のインライン型真空装置のロードロックチ
ャンバの概略図である。
ャンバの概略図である。
【図５】金属焼却フィルタの他の実施例を示す概略図で
ある。
ある。
１…ロードロックチャンバ
２…トレイ
３…基板
４…ベントバルブ
５，１２，１３…金属焼結フィルタ
６…ガス（Ｎ２ ）
７…粗引きバルブ
８…ルーツブロワポンプ
９…ロータリポンプ
Claims (1)
- 【請求項１】 基板処理等のためチャンバ内を排気す
る粗引き口の他にガス供給のためのベント口を備えた真
空装置において、前記チャンバ内の粗引き口およびベン
ト口に、金属焼結フィルタを接続したことを特徴とする
真空装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2413520A JPH0783826B2 (ja) | 1990-12-21 | 1990-12-21 | 真空装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2413520A JPH0783826B2 (ja) | 1990-12-21 | 1990-12-21 | 真空装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04228499A true JPH04228499A (ja) | 1992-08-18 |
| JPH0783826B2 JPH0783826B2 (ja) | 1995-09-13 |
Family
ID=18522146
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2413520A Expired - Fee Related JPH0783826B2 (ja) | 1990-12-21 | 1990-12-21 | 真空装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0783826B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP4000711A1 (de) * | 2020-11-17 | 2022-05-25 | Christof-Herbert Diener | Vakuumvorrichtung mit einem sintermetall-taschenfilter |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5376656A (en) * | 1976-12-17 | 1978-07-07 | Kyushu Nippon Electric | Furnace core tube |
-
1990
- 1990-12-21 JP JP2413520A patent/JPH0783826B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5376656A (en) * | 1976-12-17 | 1978-07-07 | Kyushu Nippon Electric | Furnace core tube |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP4000711A1 (de) * | 2020-11-17 | 2022-05-25 | Christof-Herbert Diener | Vakuumvorrichtung mit einem sintermetall-taschenfilter |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0783826B2 (ja) | 1995-09-13 |
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