JPH04233702A - 酸化物半導体組成物 - Google Patents

酸化物半導体組成物

Info

Publication number
JPH04233702A
JPH04233702A JP2416256A JP41625690A JPH04233702A JP H04233702 A JPH04233702 A JP H04233702A JP 2416256 A JP2416256 A JP 2416256A JP 41625690 A JP41625690 A JP 41625690A JP H04233702 A JPH04233702 A JP H04233702A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thermistor
composition
chip
elements
point
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2416256A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2658581B2 (ja
Inventor
Koji Oi
幸二 大井
Keisuke Nishimura
圭介 西村
Masakiyo Tsunoda
匡清 角田
Masami Koshimura
正己 越村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Materials Corp filed Critical Mitsubishi Materials Corp
Priority to JP2416256A priority Critical patent/JP2658581B2/ja
Publication of JPH04233702A publication Critical patent/JPH04233702A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2658581B2 publication Critical patent/JP2658581B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Non-Adjustable Resistors (AREA)
  • Thermistors And Varistors (AREA)
  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、負の抵抗温度係数を有
するサーミスタの素体に適する酸化物半導体組成物に関
する。更に詳しくはプリント回路基板の表面に実装され
る温度補償用のチップ型サーミスタ、又は基板表面実装
のチップ型に限らない各種温度センサ用のサーミスタの
各素体に用いられる酸化物半導体組成物に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】従来、プリント回路基板の表面に実装さ
れるチップ型サーミスタとして、チップ状に形成された
サーミスタ素体の両端部にAg/Pd等の導電性ペース
トを焼付けて端子電極を設けたバルク型のものが知られ
ている。このバルク型のサーミスタ素体は、Mn,Ni
,Co,Cu等を主成分とする金属酸化物により作られ
る。これらの材料を用いてチップ型のサーミスタ素体を
形成する方法としては、■ドクタブレード法等により成
膜したサーミスタ用グリーンシートを所定のサイズのチ
ップ状に切断した後、このグリーンチップを焼成してサ
ーミスタ素体を製造する方法、及び■サーミスタ材料を
金型等を用いて例えば円柱状のブロックに加圧成形し、
この成形体を焼成した後、この焼結体ブロックをダイヤ
モンドブレード等によりウエハ状にスライスし、更にこ
のウエハを切断して所定のサイズのチップ型サーミスタ
素体を製造する方法がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】チップ型サーミスタで
は、サーミスタ素体そのもので基板表面への実装部品と
して十分な強度を有することが必要である。しかし、M
n,Ni,Co,Cu等の酸化物を原料とする従来のサ
ーミスタ素体は酸化物に含まれる金属元素の組成によっ
て十分な強度が得られない問題点があった。即ち、上記
■の方法ではグリーンチップを空気中で焼成したときに
、組成によって焼成後にサーミスタ素体の表面にクラッ
クが生じていたり、クラックが発生しなくても強度が劣
化する場合があった。また上記■の方法では焼結体ブロ
ックの表面付近から切出したウエハを捨て、内部から切
出したウエハのみをサーミスタ素体にすれば、上記■の
問題点は解消されるが、Ag/Pd等の導電ペーストを
素体の両端部に焼付けて端子電極を形成する際に、やは
り組成によって素体の強度が低下してしまう問題点があ
った。
【0004】この原因を追究すると、従来よりサーミス
タ素体として用いられるMn,Ni,Co,Cu等を主
成分とする金属酸化物からなるサーミスタ材料は、組成
に応じた所定の焼成温度、焼付け温度及び周囲の酸素分
圧によってそれぞれ安定な結晶構造をとるものの、これ
らの温度条件及び酸素分圧条件が変化すると、サーミス
タ素子としての電気特性、熱膨張係数等の物理的な特性
が変化することがあることが判明した。即ち、サーミス
タ用のグリーンチップを空気中で焼成する場合、或いは
チップ状のサーミスタ素体にAg/Pd等の端子電極を
焼付ける場合に、焼成或いは焼付け温度を一定に保持し
ている段階では概ね素体表面の結晶構造は素体内部の結
晶構造と同一であるが、その温度から冷却していく段階
では酸素の出入りが自由な素体表面だけが酸化されるた
め、室温まで冷却された段階ではサーミスタ素体の表面
と内部では互いに異なる結晶構造を有するようになる。 この冷却していく段階で、素体表面の熱膨張係数と素体
内部の熱膨張係数が大きく変化すると、素体表面或いは
素体内部に応力が働き、クラックが発生したり、素体の
強度が低下するようになる。
【0005】本発明の目的は、上記問題点を解決し、チ
ップ型サーミスタの素体として用いた場合には、焼成し
た後のサーミスタ素体及び端子電極を焼付けた後のサー
ミスタ素子にそれぞれクラックが生じず、しかも強度が
低下することがない酸化物半導体組成物を提供すること
にある。また本発明の別の目的は、基板表面実装のチッ
プ型に限らない各種温度センサ用のサーミスタの素体と
して用いた場合には、高精度で高信頼性の物理的特性を
有するサーミスタが得られる酸化物半導体組成物を提供
することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らはサーミスタ
素子を製造していく過程でサーミスタ材料の結晶構造が
不安定になって結晶構造が変化したり、或いは焼結体が
単一相の結晶構造にならないと、サーミスタ素体にクラ
ックが発生し、その強度が低下することを鑑み、サーミ
スタ素子製造中における材料の結晶構造の安定化及び焼
結体の結晶構造の単一相化を主眼として研究を鋭意続け
た結果、本発明に到達した。本発明の酸化物半導体組成
物は、酸化物の金属元素としてMnとCoとCuの3種
又はMnとCoの2種の元素を合計100原子%含む。 図1に示すように、この組成物はMnとCoとCuの三
元系の組成をギブスの組成三角形で表わし、この三角形
内において原子比をそれぞれ         Mn:Co:Cu  =  60  
  :15    :25      を点A、   
     Mn:Co:Cu  =  27.5:60
    :12.5  を点B、        Mn
:Co:Cu  =  32.5:67.5:0   
     を点C、及び        Mn:Co:
Cu  =  45    :55    :0   
     を点Dとするとき、前記3種又は2種の金属
元素の組成割合が線分ABと線分BCと線分CDと線分
DAで囲まれた四角形ABCD内にあって、組成物の結
晶構造が立方晶スピネル単一相であることを特徴とする
。
【0007】以下、本発明を詳述する。本発明の酸化物
半導体組成物は、MnとCoとCuの3種の元素又はM
nとCoの2種の元素を金属元素として含む。この組成
物はこれらの金属元素が上記組成割合に配合された原料
混合粉を用いて作られる。この原料混合粉は上記3種又
は2種の金属元素をそれぞれ単独で含む金属化合物を金
属原子比が所定の割合になるようにそれぞれ秤量して均
一に混合した後、混合物を仮焼し微粉砕して作られる。 混合又は微粉砕はボールミル、ビースミル等で行われ、
均一に混合させるためには仮焼と微粉砕を繰返し行うこ
とが好ましい。
【0008】3種の金属元素のうち、Cuを他の2種の
元素に比べて多く配合すると、後述する焼成により酸化
銅が形成され、またCoのみを多く配合するとやはり焼
成により酸化コバルトが形成され、それぞれ焼結体が単
一相の結晶構造にならなくなる。特にCuはその傾向が
顕著である。またMnを他の2種のCu及びCoより多
く配合してこれを主成分にすると、焼結体が正方晶スピ
ネル構造になり易く、温度変化に対する結晶構造の安定
性が低下する。本発明は上記基本的概念の下に、3種又
は2種の金属元素の組成割合を適宜決めていくなかで、
完成したものである。
【0009】この原料混合粉からチップ型サーミスタの
素体を製造する方法には、例えば次の2つの方法がある
。第一の方法では、この原料混合粉に有機バインダ及び
炭化水素系の有機溶剤を加えて均一に混練しセラミック
スラリーを調製した後、このスラリーをドクタブレード
法等によりグリーンシートに成膜する。乾燥後、このグ
リーンシートをチップ状に切断し、続いてこのグリーン
チップを大気圧下、900〜1300℃で1〜10時間
焼成してサーミスタ素体を製造する。また第二の方法で
は、この原料混合粉に有機バインダを添加して粒径が1
00〜400μmになるように原料混合粉を造粒し、こ
の粒子を金型に入れて円柱状、角柱状のブロックに加圧
成形する。次いでこのブロックを大気圧下、900〜1
300℃で1〜10時間焼成し、この焼結体ブロックを
ダイヤモンドブレード等により厚み0.5〜1.5mm
のウエハ状にスライスし、更にこのウエハを切断してサ
ーミスタ素体を製造する。第一及び第二の方法で用いら
れる有機バインダとしては、ポリビニルアルコール、ポ
リビニルブチラール、メチルセルロース、エチルセルロ
ース、アクリル系ポリマー等が挙げられる。図2に示す
ように、第一及び第二の方法で得られたサーミスタ素体
1の両端部にAg/Pd,Pt,Au等の導体ペースト
を塗布した後、これを大気圧下、600〜900℃で1
0〜30分間焼付けて端子電極2を形成するとチップ型
サーミスタ3が得られる。
【0010】また上記原料混合粉から製造される基板表
面実装のチップ型に限らない各種温度センサ用のサーミ
スタとしては、例えば、■2本の白金線の間に上記原料
混合粉を含むサーミスタペーストを付けて焼結させ白金
線を端子とするビード型、■円板状に上記原料混合粉を
成形し焼結後、両端に銀電極を焼付けるディスク型、■
湿式押出法又は粉末成形法で原料混合粉を成形し、焼結
後、両端に銀電極を焼付けるロッド型、■ディスク型を
薄板にスライスし、電極加工後、更に細片にスクライブ
し、これをダイオードのガラスケースに封入するDHD
(double heat−sink diode)型
等のサーミスタが挙げられる。
【0011】
【作用】本発明の組成物をMnとCoとCuの三元系に
より構成し、ギブスの組成三角形内において、金属元素
MnとCoとCuを上述した組成割合にすると、焼成温
度から室温まで冷却しても、その焼結体は空気中で立方
晶スピネルという単一でしかも結晶構造の中で最も安定
した結晶相になる。これにより、サーミスタ用のグリー
ンチップを焼成し、或いはこのサーミスタ素体の両端部
にAg/Pd等の端子電極を焼付けた後、温度条件及び
周囲の酸素分圧条件が変化してもサーミスタ素体にはク
ラックは生じず、またその強度は低下しない。また本発
明の組成物は立方晶スピネルの単一相であることから、
その電気特性、熱膨張係数等の物理的な特性のばらつき
が極めて小さく、基板表面実装のチップ型に限らない各
種温度センサ用のサーミスタの素体に広く利用すること
ができる。
【0012】
【発明の効果】以上述べたように、従来の金属元素の組
成割合では、サーミスタ素体の製造中又は端子電極の形
成中にサーミスタ素体の結晶構造が変化したり、或いは
焼結体の結晶構造が単一相にならなかったものが、本発
明の金属元素の組成割合にすれば、組成物が安定な立方
晶スピネル単一相の結晶構造になるため、グリーンチッ
プを焼成して室温まで冷却する過程で、或いは焼結体で
あるチップ型サーミスタ素体の両端部に端子電極を焼付
けて室温まで冷却する過程で、サーミスタ素体のクラッ
クの発生、或いは強度の低下を防止することができる。 この結果、この組成物からなるチップ型サーミスタを基
板表面に実装する際に素体の破損が生じなくなり、その
取扱いが容易になるとともに、自動実装に好適な電子部
品となる。更に本発明の組成物は、結晶構造が安定な立
方晶スピネル単一相であって、サーミスタにしたときの
電気特性の素子間のばらつきが減少するため、高精度、
高信頼性の要求される各種温度センサ用サーミスタの材
料に極めて有用である。
【0013】
【実施例】次に本発明の具体的態様を示すために、本発
明の実施例を比較例とともに図面に基づいて説明する。 <実施例1>市販の炭酸マンガン、炭酸コバルト、酸化
銅を出発原料として、各金属元素が表1に示す10種類
の原子比になるようにこれらの金属化合物を秤量し、ボ
ールミルで16時間混合した後、脱水乾燥した。次に混
合物を大気圧下、900℃で2時間仮焼し、仮焼物を再
びボールミルで24時間微粉砕した後、脱水乾燥して1
0種類の原料混合粉を得た。 <比較例1>各金属元素が表1に示す10種類の原子比
になるように実施例1と同一の金属化合物を秤量した以
外は、実施例1と同様にして10種類の原料混合物を得
た。
【0014】実施例1及び比較例1の20種類の原料混
合粉からそれぞれスラリーを調製した。即ち、原料混合
粉100重量%に対して有機バインダとしてポリビニル
ブチラール6重量%と有機溶剤としてエタノール30重
量%及びブタノール30重量%を添加混合してスラリー
を調製した。各スラリーを用いてドクターブレード法に
よりグリーンシートを形成し、各シートを切断してグリ
ーンチップを得た。ここでグリーンチップのサイズは次
の焼成後に長さ1.85mm、幅1.25mm、厚み0
.65mmになるようにした。各グリーンチップを大気
圧下、空気中で950〜1150℃、10時間保持して
焼成し、サーミスタ素体となる焼結体チップを得た。
【0015】<焼結体チップの結晶解析>実施例1と比
較例1の各焼結体チップの結晶解析をCuをターゲット
とするX線回折法により行った。その結果、比較例1の
焼結体チップは焼結体表面と焼結体内部とで結晶構造が
異なっていた。これに対して実施例1の全ての焼結体チ
ップは焼結体表面も焼結体内部もそれぞれ同一の立方晶
スピネル構造の単一相であった。一例を図3及び図4に
示す。図3は実施例1の試料No.6の焼結体チップ、
図4は比較例1の試料No.6の焼結体チップのそれぞ
れX線回折図形である。図4のX線回折プロファイルか
ら明かなように、比較例1の焼結体表面では図の○印で
示す立方晶スピネル相のピークしか現れなかったものが
、焼結体内部では図の○印で示す立方晶スピネル相のピ
ーク以外に●印で示す単斜晶の酸化銅の相のピークが現
れた。これに対して、図3のX線回折プロファイルから
明かなように、実施例1の焼結体は表面及び内部ともに
○印で示す立方晶スピネル相のピークしか現れなかった
。
【0016】<焼結体チップの強度測定とクラック発生
状況の検査>実施例1及び比較例1の各焼結体チップの
長さ方向の両端を1.2mmの間隔で配置した2つの台
に載せ、焼結体中央部に押し下げ速度20mm/分で荷
重を加え、焼結体が破壊したときの応力を測定した。ま
た破壊片から焼結体表面及び内部のクラックの発生の有
無を検査した。これらの結果を表1に示す。表1から比
較例1の焼結体チップは6割にクラックが発生し、抗折
強度が2.0kgf未満の低い値を示したのに対して、
実施例1の焼結体チップは全てにクラックが発生せず、
抗折強度が2.5kgf以上の高い値を示した。これに
より、実施例1の焼結体チップは焼成してから室温に冷
却するまでに素体の強度低下を生じないサーミスタ素体
であることが判った。
【0017】<実施例2>実施例1で得られた10種類
の原料混合粉にそれぞれポリビニールアルコールを原料
粉固形分に対して1重量%ずつ添加し、粒径が100〜
400μmになるように原料混合粉を造粒した。10種
類の粒子を別々に金型に入れてそれぞれ1ton/cm
2の圧力で直径30mmで厚み10mmの円柱状のブロ
ックに成形した。次いで各ブロックを大気圧下、空気中
950〜1150℃で10時間保持して焼成し、各焼結
体ブロックをダイヤモンドブレードにより厚み0.65
mmのウエハにスライスした。焼結体表面を含まない部
分をウエハより切出し、長さ1.85mm、幅1.25
mmのチップを得た。切出した10種類のチップをそれ
ぞれ820℃で10分間保持した。この熱処理条件は、
チップの両端部にAg/Pdからなる導体ペーストを塗
布して焼付ける条件と同一であった。 <比較例2>比較例1で得られた10種類の原料混合粉
を出発原料として、実施例2と同様に加圧成形後、焼成
しウエハにスライスした。試料No.3及びNo.4は
焼結体内部にクラックを生じていたため、これらを除外
して実施例2と同様に切出して8種類のチップを得た。
【0018】<チップの強度測定>実施例1の焼結体チ
ップと同様に実施例2及び比較例2のウエハより切出し
直後のチップと熱処理後のチップの強度をそれぞれ測定
した。その結果を表2に示す。表2から実施例2及び比
較例2ともウエハより切出し直後のチップの抗折強度は
2.7kgf以上あったが、熱処理後のチップの抗折強
度は比較例2が2.4kgf以下で平均1.36kgf
の低い値を示したのに対して、実施例2は2.8kgf
以上で平均3.19kgfの高い値を示した。これによ
り、実施例2のチップは端子電極を焼付けても素体の強
度低下を生じないサーミスタ素体であることが判った。
【0019】
【表1】
【0020】
【表2】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の酸化物半導体組成物に含有する金属元
素の組成割合を示すギブスの組成三角形図。
【図2】本発明のチップ型サーミスタの外観斜視図。
【図3】実施例1の焼結体チップのX線回折図形。
【図4】比較例1の焼結体チップのX線回折図形。
【符号の説明】
1    サーミスタ素体 2    端子電極 3    チップ型サーミスタ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  酸化物の金属元素としてMnとCoと
    Cuの3種又はMnとCoの2種の元素を合計100原
    子%含み、MnとCoとCuの三元系の組成をギブスの
    組成三角形で表わし、この三角形内において原子比をそ
    れぞれ         Mn:Co:Cu  =  60  
      :15    :25      を点A、   
         Mn:Co:Cu  =  27.5:60
        :12.5  を点B、        Mn
    :Co:Cu  =  32.5:67.5:0   
         を点C、及び        Mn:Co:
    Cu  =  45    :55    :0   
         を点Dとするとき、前記3種又は2種の金属
    元素の組成割合が線分ABと線分BCと線分CDと線分
    DAで囲まれた四角形ABCD内にあって、組成物の結
    晶構造が立方晶スピネル単一相であることを特徴とする
    酸化物半導体組成物。
JP2416256A 1990-12-28 1990-12-28 酸化物半導体組成物 Expired - Lifetime JP2658581B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2416256A JP2658581B2 (ja) 1990-12-28 1990-12-28 酸化物半導体組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2416256A JP2658581B2 (ja) 1990-12-28 1990-12-28 酸化物半導体組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04233702A true JPH04233702A (ja) 1992-08-21
JP2658581B2 JP2658581B2 (ja) 1997-09-30

Family

ID=18524488

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2416256A Expired - Lifetime JP2658581B2 (ja) 1990-12-28 1990-12-28 酸化物半導体組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2658581B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014195014A (ja) * 2013-03-29 2014-10-09 Mitsubishi Materials Corp サーミスタ用金属酸化物材料及びその製造方法並びにサーミスタ素子

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58105502A (ja) * 1981-12-17 1983-06-23 松下電器産業株式会社 サ−ミスタ用酸化物半導体の製造方法
JPS63315562A (ja) * 1987-06-18 1988-12-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd サーミスタ磁器組成物
JPS6412501A (en) * 1987-07-07 1989-01-17 Matsushita Electric Industrial Co Ltd Manufacture of oxide semiconductor for thermistor

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58105502A (ja) * 1981-12-17 1983-06-23 松下電器産業株式会社 サ−ミスタ用酸化物半導体の製造方法
JPS63315562A (ja) * 1987-06-18 1988-12-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd サーミスタ磁器組成物
JPS6412501A (en) * 1987-07-07 1989-01-17 Matsushita Electric Industrial Co Ltd Manufacture of oxide semiconductor for thermistor

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014195014A (ja) * 2013-03-29 2014-10-09 Mitsubishi Materials Corp サーミスタ用金属酸化物材料及びその製造方法並びにサーミスタ素子

Also Published As

Publication number Publication date
JP2658581B2 (ja) 1997-09-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3711857B2 (ja) 負の抵抗温度特性を有する半導体磁器組成物及び負特性サーミスタ
US7781357B2 (en) Dielectric ceramic composition
JP2976244B2 (ja) Ntcサーミスタ素子の製造方法
JP2658581B2 (ja) 酸化物半導体組成物
JPH07235405A (ja) サーミスタ焼結体
EP4579691A1 (en) Thermistor element and method for producing same
CN111386581A (zh) 热敏电阻烧结体及温度传感器元件
JP2581754B2 (ja) サーミスタ用酸化物半導体組成物
KR100304984B1 (ko) 고온절대습도센서용부온도계수써미스터소자제조방법및그조성물
JP2005150289A (ja) サーミスタ用組成物及びサーミスタ素子
JPH05283205A (ja) チップ型サーミスタ及びその製造方法
CN114409397B (zh) 一种低tcr陶瓷芯片电阻及其材料和制备
JP5193319B2 (ja) セラミックス組成物及び電子部品
PL247593B1 (pl) Sposób wytwarzania wielowarstwowych, termistorowych czujników temperatury
JPH0812416A (ja) 着色アルミナ質焼結体
JPH07183105A (ja) チップ型サーミスタ
JP2006332192A (ja) 厚膜サーミスタ組成物とその製造方法並びに厚膜サーミスタ素子
KR950007088B1 (ko) Bi-Sr-Ca-Cu-O계 초전도막형성용 타아겟재
JP2025086716A (ja) Ntcサーミスタ組成物およびサーミスタ素子
JPH0572721B2 (ja)
JPS6117086B2 (ja)
JP2004010441A (ja) 誘電体磁器組成物およびそれを用いた積層セラミック電子部品
JPH10106809A (ja) チップ型サーミスタ及びその製造方法
JPH07211515A (ja) サーミスタ素子の製造方法
JP4882094B2 (ja) 酸化物超電導体厚膜およびその製造方法、並びに、酸化物超電導体厚膜製造用ペースト

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 19970506