JPH0423821A - プリント配線板用臭素低含量耐熱性樹脂組成物 - Google Patents

プリント配線板用臭素低含量耐熱性樹脂組成物

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JPH0423821A
JPH0423821A JP2125249A JP12524990A JPH0423821A JP H0423821 A JPH0423821 A JP H0423821A JP 2125249 A JP2125249 A JP 2125249A JP 12524990 A JP12524990 A JP 12524990A JP H0423821 A JPH0423821 A JP H0423821A
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epoxy resin
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resin
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Chuuru Chen Tuyen
チュエン チュール チェン
Min Chen Kehl
ケール ミン チェン
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0326Organic insulating material consisting of one material containing O

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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は一種の化学成分で、臭素低含量ポリオキサゾリ
ドン(Po1yoxazolidone )のプレポリ
−v −(Prepolymer )  と熟成剤(C
uringIgent )とを混合してなるOそれを用
いて高グラス移転温度をもつプリントサー千ット板の住
産に用いる材料て、その臭素低含量ポリオキサゾリドン
のプレポリマーは、三級ジアミ不スで改質した含臭素エ
ポキシ樹脂とポリイソシアネート樹flit (Po1
yisocyanate resin) =ポリイソシ
アン酸)とを化合させてなるものである・〔従来の技術
〕 伝統的方法によれば、多功能エポキシ樹1]+fは高ガ
ラス移転温度(Tgと略称)をもつプリントサーキット
板の製作に用いることができる、が而し、エポキシ樹脂
は熟成状況下で高脆い性と耐火不良等の不良効果を表現
するO 〔発明が解決しようとする問題点〕 前記の欠点を補足する爲に、一種の両功能含臭素樹脂を
加入して、多功能エポキシ樹8aが熟成状態下で硬度と
耐火性を増加させることがて゛きるO然れど、このよう
な両功能含臭紫樹脂は大いに樹脂のTg値をダウンして
いるO前記の問題について、本発明は一種の甑に改質し
た臭素低含量エポキシ樹8Nを利用し、適当に硬化剤を
加えて、高Tg値の要求をはだすようにさせたばかりで
なく、並びに耐火と脆い性の問題を改善して、大いに経
済価値を向上しているO 済価値を向上している・ 一般に使用するFR4樹側樹脂のTg値は大体110〜
130°Cで、含臭量がn5前後(ガラス布を含まない
)であるので、そこて、何うしても多功能エポキシ樹脂
を加入してそのTg値を 向上せねばならない、然れど
こうすると製品が大小に脆くなり、且つこの樹脂は一種
の非含臭素化学品であるので、そこて耐火の問題を発生
する・ある文献資料の布告によると、ポリイソシアヌレ
ート(Po1yisocyanurBte)は一種の高
耐熱及び耐火の材料て゛あるが、但しその脆性1より−
stage含浸材(PreprQg )にすることがで
きないので.プリントサーキツト板の生産には鍼灸に使
用することがないO 日本特許、例えば1978−30697号と1987−
74649号で述べているのを参照してみると、ポリオ
キサゾリドンはすべてエポキシ樹hmの脆性改良に利用
されており、その生産はポリエポキシ樹脂とポリイソシ
アネートを加熱した後に前置性樹脂に化合されており、
そこてポリオキサゾリドンはプリントサーキット板の製
造過程において、安定したB −Stage含浸材の生
産に適合しないものであるO 又、日本特許1982−3815号を参照してみると、
その中エポキシ樹脂中の水酸基(Hydroxylgr
oup =ヒドロキシル基)はシアン酸塩が化合してポ
リウレタン樹脂(Po1yurethane resi
n )にならないように防止するのに用い、高泪催化を
経て、オキサゾリドン結構をもつ抗熱樹脂になる・但し
この材料には一つの主要な欠点がある、卸もその製造過
程で長い圧縮時間、及びその高粘度の液体含浸材を要す
るのて、すべて生産を困難にしている0 〔問題点を解決するための手段〕 本発明は一つの材料を一種の臭素低含量ポリオキサゾリ
ドンプレポリマーに合成し、商業用の熟成剤と溶剤を添
加して、一種の安定貯存、長期適用できるB −Sta
ge含浸材を製造して、それて多層プリントサーキット
板の生産に用いる・本発明は伝銃使用のFR−4のTg
値、抗火性と脆性と云う常時の問題を改良しただけでは
なく、更にポリオキサゾリドンとポリイソシアヌレート
の生産と貯存の困難を解決し、その持点がこの化合過程
の優点てもある・ 本発明の化合過程は、非常に良好な電気的特性、粘着力
と硬さをもつばかりではなく、且つ極めて高い抗熱、抗
漏と抗火性及び回生産性をもち、本発明をして多層プリ
ントサーキット板を製造する最良の材料にしているO 〔最良実施例と詳細な説明〕 本発明に使用する基本原料には次ぎのものを含む: (a)含臭素エポキシ樹脂 (b)ポリイソシアネート (C)二級両アミネス (d)環元触媒 (e)熟成剤 本発明の化合過程と合成成分を次ぎに詳しく述べる: (+) 130〜160 ’Cの温度の中にポリイソシ
アネートを加入して畝に改良したエポキシ樹haと3〜
6時作用させる、その中イソシアネート基とエポキシ基
の当量比は0.25〜0.8で;環元触媒の重量比は1
〜0.01%;水酸基と改良エポキシ樹脂内のイソシア
ネート基とは約0・1〜0.5であるO作用完成後にそ
れを冷却すると、瑞瑞色固体樹脂が形成される・ (2)含臭素エポキシ樹脂と二級内シアンを三級シアン
塩を触媒にして、100〜150°Cの温度の下で1〜
5時間作用させてから、エポキシ樹脂内の水酸基を取り
出す・その中、二級内シアンとエポキシ基のグラム分子
比は0゜O1〜0.5である自作用後に発生した含臭エ
ポキシ樹脂は透明で稍浅黄色の固体である・ (3)過@(1)て取得した含臭素物質を近似の溶剤に
溶かし、然る後に含臭素物質との当量比が0.85〜1
.0である熟成剤を加入し、良好な貯存安定特性をもつ
ワニス(Varnish )が得られるO 本発明で採用する典型的な原料の一例な星げて詳しく述
べてみる0 (a)本発明の使用する含臭素エボ千ン樹bitは次ぎ
の結構であっても良いO その中R: 1〜4ケのカーボンアルキル基 R,: H、B。
n=Q 〜2 エポキシ当量: 150〜575 その中R:H、CH,R:H、B、 、n=1〜4エポ
キシ当量: 150〜350 R,、R,=:H、Ci(。
(b)本発明で採用するポリイソシアネート樹脂は吹キ
の結構であっても良い・ n=o〜2 (V) (C)本発明で採用する二級筒アミネスは′?:、キの
結構であっても良いO R1、R2= H,CH3 c2)+5. c6H5 R1、R2:H,C)13 、 C2115、C6)I
s(d)本発咲で採用する環元触媒は吹ざのものであっ
ても良い・ (1)三級7ミネス塩 (2)三級アルフキシト (3)四級アミネス塩(臭素離子を含む)(C,)本発
明で使用する触媒は−21のものであっても良い0 (1)芳香族のジアミネス (2)ジシアンジアミデス(dicyandiamid
es)(3) 芳I 族(7) シフ y ハイドリゾ
y、 (dianhydrides )(4)ボリカー
ボキシリツクアシド(Pa1ycarb−oxylic
 acid) 実験で分るように、本発明は明らかにTgを180’C
?こまで向上し、従来の技術の130°Cに比べて著し
く増加し、特に同時に高度の粘着力を強化並びに維持し
、170°Cのテスト湯度において、従来の技術に比べ
殆ど二倍も高くなっている、この外、本発明で生産する
樹脂はZ軸膨脹係数240は従来の技術の350に比べ
て大きく低下し【いるO そこで、その製造した多層プリントサーキット集積層材
料樹脂に良い安定性、品質安定性をもたせ、並びに容易
に加工できる優点なもたせる、と同時に本発明の組成に
おいて臭素の含量を5%以内に制御して、UL−94の
耐火標準にマツチさせ、且つ低含臭素量は臭素の分野を
減少するので、故に組成全体の耐熱性を向上することが
できるO特に般の多層プリントサーキット集積樹脂材料
の製造において、多層プレス合せの逼程に適合する爲に
、樹1「は基本的にB−st4gBの含浸状態を要する
O日本特許JP−53−30697とJP−74649
の一般に知られている文献資料による、例えばポリイソ
シアヌレートは、別にB−stageの含浸状態に達成
しにくいものでなければ、 B−st@g 含浸樹脂の
安定性が良くないのを形成しているO 本発明の組成成分を観察して見ると、より高い粘着力と
低い熱l#脹係数をもつばかりでなく、更に非常に安定
したB−stag含浸状態をもっているので、多層プリ
ントサーキット集積層を製造する樹脂材料である・ 以上這べたのを綜合してみると、本発明は二級ジアミネ
スとエポキシ樹脂の反応により、数ケの水酸基を発生し
て、而して改質エポキシ樹脂を形成し、ポリイソシアネ
ートと還元触媒と結合し、更に熟成剤を混合して、一つ
の高グラス移転淵度、低脆性、高粘着力、低膨脹係数と
加工容易はB−stBge含浸集積層樹脂材料を構成し
、それで以て多層プリントサーキット板を生産すること
ができるので、本発明は確実に産業上の利用価値をもつ
O 本発明の実施範例−: 這爾化学会社のエポキシ樹HH(DER322) ”4
:340gとり、更にエポキシ樹脂(DER542)を
179gとって、25gのジメチルヒダントイン(5,
5−dimethyl hydantoin )と0.
2gf+ジメチルヘンヅラE 7 (N、N−dime
thyl benzlBmins )を混合し、140
℃まで加熱して、二時間後に更に160gのシフイニル
グループメタンジイソシアネートエステル(diphe
nyl group tnethane di−soc
7anate est6r == MD I )と0.
7gのテトラエチルアンモニウムプロマイト(tetr
@ ethyl−ammonium bromide 
 )を添加して150℃まで加熱し、三時間保持して、
冷却後に一当量値を486gの1!瑞色樹脂にするO然
る後、 486 gの前記反応物に165 gのジメチ
ルホルムアニリド(dimethyl formani
lide = DMF )を添加して、溶解後に更に3
70gの7七トン(1catone )及び60gのり
アミンジフィニルスルホン(dia−mine dip
henyl 5ulfone )を添加し、5〜Io分
間混合攪拌すると、固態成分が父%消失した樹脂が得ら
れ、7628のガラス布で処理して、B−stage含
浸材料を形成し、然る後に180℃加圧力250 ps
iで1.5時間維持すれば、厚さ1.6mmの銅/含浸
材/銅の積層板が得られ、その特性は表1で示す通りで
ある旬 本発明の実施範例二: 道爾化学会社のエボ千シ樹IN (DER331)38
0gとエポキシ樹脂(DER542) 120 g 、
及び日本の納化フェノリックエポキシ樹i1 (XOX
 NXPPNPhenolic epoxy resi
n ) B RE N −860gを1208のDMF
 に溶かし、更に19gのバルビッル酸(叩もマロニル
尿素、barbituricacid=malonyl
ure)を添加し、145°Cで二時間作用してから、
更に126gのT、DIと0.4gのへキサメチレンテ
トラミ7 (hexamethylena tetra
mine=bexan山建)を添加して150℃内で三
時間反応し、冷却後に一種の瑞瑞色で、耐火耐熱、それ
に当量470をもつ粘着液体が得られる・更に480g
のア七トン、120gのDMF及び26gのジシアミド
(dicyan diBtnide )を添加して一時
間攪拌すると、固態含量を51%渭失した樹脂を形成し
、7628のガラス布処理を経てB −s tags含
浸材となり 、180℃、250 psiで1.5時間力p圧すれば
、厚さ1.6−の銅/含浸材/銅の積層板(そ の銅は1オンス)が得られ、その特性は表1て示す通り
である・

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.プリントサーキツト集積層板の製作に利用する臭素
    低含量材料に係わるもので、二級ジアミネス、含臭エポ
    キシ樹脂及び不含臭エポキシ樹脂で、100〜150℃
    内で1〜4時間混合し、改質したエポキシ樹脂を形成す
    る;更にポリイソシアン酸塩と環元触媒をこの樹脂に加
    入し、120〜160℃中で3〜6時間維持して、改質
    エポキシ樹脂中の水酸基とイソシアン酸基の当量比を0
    .01〜0.5値に予定することができるのをその特徴
    とするもの。 2.特許請求の範囲第1項で述べたようなプリントサー
    キツト集積層板の製作に用いる臭素低含量材料で、その
    中、二級ジアミネスとエポキシ基のグラム分子比が0.
    01〜0.5であるのをその特徴とするもの。 3.特許請求の範囲第1項で述べたようなプリントサー
    キツト集積層板の製作に用いる臭素低含量材料で、その
    中、イソシアン酸基とエポキシ基の当量比を0.25〜
    0.8にしたのをその特徴とするもの。 4.特許請求の範囲第1項で述べたようなプリントサー
    キツト集積層板の製作に用いる臭素低含量材料で、その
    中、環元触媒と含臭エポキシ樹脂、不含臭素エポキシ樹
    脂、及びポリイソシアン酸樹脂との重量百分比が0.0
    1〜1%であるのをその特徴とするもの。 5.特許請求の範囲第1項で述べたようなプリントサー
    キツト集積層板の製作に用いる臭素低含量材料で、その
    中、含臭素エポキシ樹脂は次ぎの結構から選択できるの
    をその特徴とするもの。 (i) ▲数式、化学式、表等があります▼ R:1〜4つのカーボンのアルキル基,R_1=H,B
    _r,n=0〜2エポキシ当重量:150 (ii) ▲数式、化学式、表等があります▼ R_1=H,CH_3,R_2=H,B_r n=1〜
    4エポキシ当重量15〜350 (iii) ▲数式、化学式、表等があります▼ (iV) ▲数式、化学式、表等があります▼ 6.特許請求の範囲第1項で述べたようなプリントサー
    キツト集積層板の製作に用いる臭素低含量材料で、その
    中、ポリイソシアン酸樹脂は次ぎの結構から選択できる
    のをその特徴とするもの。 (i) ▲数式、化学式、表等があります▼ (ii) ▲数式、化学式、表等があります▼ (iii) ▲数式、化学式、表等があります▼ (iV) ▲数式、化学式、表等があります▼ (V) ▲数式、化学式、表等があります▼ 7.特許請求の範囲第1項で述べたようなプリントサー
    キツト集積層板の製作に用いる臭素低含量材料で、その
    中、二級ジアミネスは次ぎ(i) ▲数式、化学式、表等があります▼ R_1,R_2=H,CH_3,C_2H_5,C_6
    H_5(ii) ▲数式、化学式、表等があります▼ R_1,R_2:H,CH_3,C_2H_5,C_6
    H_5(iii) ▲数式、化学式、表等があります▼ の結構から選択できるのをその特徴とするもの。 8.特許請求の範囲第1項で述べたようなプリントサー
    キツト集積層板の製作に用いる臭素低含量材料で、その
    中、環元触媒は次ぎの (1)三級ジアミネス (2)三級アルコキミド (3)四級アミン塩 にすることができるのをその特徴とするもの。 9.特許請求の範囲第1項で述べたようなプリントサー
    キツト集積層板の製作に用いる臭素低含量材料で、それ
    にはポリイソシアン酸樹脂、環元触媒及び改質のエポキ
    シ樹脂を含み、そのエポキシ樹脂は二級ジアミネスと不
    含臭素樹脂で化合してなるのをその特徴とするもの。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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