JPH042391Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH042391Y2 JPH042391Y2 JP17397085U JP17397085U JPH042391Y2 JP H042391 Y2 JPH042391 Y2 JP H042391Y2 JP 17397085 U JP17397085 U JP 17397085U JP 17397085 U JP17397085 U JP 17397085U JP H042391 Y2 JPH042391 Y2 JP H042391Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- furnace body
- resin tube
- infrared
- furnace
- air
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Landscapes
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
- Tunnel Furnaces (AREA)
- Furnace Details (AREA)
- Resistance Heating (AREA)
- Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本考案は樹脂チユーブの連続的な加熱成形を行
う場合に使用される樹脂チユーブ加熱炉に関する
ものである。
う場合に使用される樹脂チユーブ加熱炉に関する
ものである。
(従来の技術)
肉厚が例えば10〜300μで外径が270〜320mm程
度の薄肉樹脂チユーブを外径が900〜1020mmにま
で加熱膨脹させようとする場合、従来から上下面
を開口させた竪型円筒状の加熱炉が使用されてい
る。しかしこのような加熱炉においては炉内に対
流が生じて炉の上部が下部に比較して高温になり
樹脂チユーブの均一な加熱が困難であるばかり
か、対流による炉の上面開口部からの熱放散が大
きくエネルギの損失が多くなる欠点を生じてい
た。
度の薄肉樹脂チユーブを外径が900〜1020mmにま
で加熱膨脹させようとする場合、従来から上下面
を開口させた竪型円筒状の加熱炉が使用されてい
る。しかしこのような加熱炉においては炉内に対
流が生じて炉の上部が下部に比較して高温になり
樹脂チユーブの均一な加熱が困難であるばかり
か、対流による炉の上面開口部からの熱放散が大
きくエネルギの損失が多くなる欠点を生じてい
た。
(考案が解決しようとする問題点)
本考案は上記のような従来の問題点を解決し
て、樹脂チユーブを均一にしかも熱効率よく加熱
することができる樹脂チユーブ加熱炉を目的とし
て完成されたものである。
て、樹脂チユーブを均一にしかも熱効率よく加熱
することができる樹脂チユーブ加熱炉を目的とし
て完成されたものである。
(問題点を解決するための手段)
本考案の樹脂チユーブ加熱炉は、上下面を開口
させた竪型円筒状の炉体の内側面に多数の赤外線
ヒータを配設するとともに、該炉体の内周縁部に
空気を斜め下向きに噴射する空気噴射口を設けた
赤外線加熱装置を、垂直方向に複数段積み重ねた
ことを特徴とするものである。
させた竪型円筒状の炉体の内側面に多数の赤外線
ヒータを配設するとともに、該炉体の内周縁部に
空気を斜め下向きに噴射する空気噴射口を設けた
赤外線加熱装置を、垂直方向に複数段積み重ねた
ことを特徴とするものである。
(実施例)
次に本考案を図示の実施例について詳細に説明
する。
する。
第1図は本考案の樹脂チユーブ加熱炉を構成す
る赤外線加熱装置を拡大して示したものであり、
図中、1は上面及び下面を開口させた竪型円筒状
の炉体であり、その内側面には赤外線反射率の高
いステンレス鋼板2が内張りされている。炉体1
は第1図に示されるように上下に2分割式のもの
とし、またその一部を蝶番3により開閉できる構
造としてメンテナンスが容易にできるようにして
おくことが好ましい。この炉体1の内側面には多
数の赤外線ヒータ4が全周にわたり配設されてい
る。これらの赤外線ヒータ4は上段よりも下段の
方がワツト密度が大きくなるよう配置されて炉体
1の上下の温度バランスが容易に得られるように
なつている。5は炉体1の上部に設けられたリン
グ状のマニホールドであり、該マニホールド5の
上面には多数の空気取り入れ口6が設けられ、ま
たその内周面には炉体1の内周縁部に臨ませてス
リツト状の空気噴射口7が全周にわたつて設けら
れている。このマニホールド5の内部にはブロア
から圧縮空気が供給され、空気噴射口7から4〜
20m/sの速度で空気が斜め下向きに噴射され
る。なお、空気噴射口7は図示のように炉体1の
上部に設けるほか、例えば炉体1の内側面の赤外
線ヒータ4の間に多数のノズルを下向きに設け、
これらのノズルから空気を噴射させるようにして
もよい。
る赤外線加熱装置を拡大して示したものであり、
図中、1は上面及び下面を開口させた竪型円筒状
の炉体であり、その内側面には赤外線反射率の高
いステンレス鋼板2が内張りされている。炉体1
は第1図に示されるように上下に2分割式のもの
とし、またその一部を蝶番3により開閉できる構
造としてメンテナンスが容易にできるようにして
おくことが好ましい。この炉体1の内側面には多
数の赤外線ヒータ4が全周にわたり配設されてい
る。これらの赤外線ヒータ4は上段よりも下段の
方がワツト密度が大きくなるよう配置されて炉体
1の上下の温度バランスが容易に得られるように
なつている。5は炉体1の上部に設けられたリン
グ状のマニホールドであり、該マニホールド5の
上面には多数の空気取り入れ口6が設けられ、ま
たその内周面には炉体1の内周縁部に臨ませてス
リツト状の空気噴射口7が全周にわたつて設けら
れている。このマニホールド5の内部にはブロア
から圧縮空気が供給され、空気噴射口7から4〜
20m/sの速度で空気が斜め下向きに噴射され
る。なお、空気噴射口7は図示のように炉体1の
上部に設けるほか、例えば炉体1の内側面の赤外
線ヒータ4の間に多数のノズルを下向きに設け、
これらのノズルから空気を噴射させるようにして
もよい。
第2図はこのような赤外線加熱装置を垂直方向
に複数段積み重ねた本考案の樹脂チユーブ加熱炉
を示すもので、樹脂チユーブを上端から下端に向
けて各炉体1の内部を連続的に移動させ、その間
に樹脂チユーブを室温から80〜180℃程度まで加
熱できるようにしたものである。この場合、上段
の赤外線加熱装置の内部を例えば300℃の低温、
中段の赤外線加熱装置の内部を例えば320℃の中
温、下段の赤外線加熱装置の内部を例えば350℃
の高温となるように温度設定しておくことができ
る。
に複数段積み重ねた本考案の樹脂チユーブ加熱炉
を示すもので、樹脂チユーブを上端から下端に向
けて各炉体1の内部を連続的に移動させ、その間
に樹脂チユーブを室温から80〜180℃程度まで加
熱できるようにしたものである。この場合、上段
の赤外線加熱装置の内部を例えば300℃の低温、
中段の赤外線加熱装置の内部を例えば320℃の中
温、下段の赤外線加熱装置の内部を例えば350℃
の高温となるように温度設定しておくことができ
る。
(作用)
このように構成されたものは、垂直方向に複数
段積み重ねられた赤外線加熱装置の炉体1の内部
に樹脂チユーブを上方から挿入して下方へ連続的
に移動させれば、炉体1の内側面に配設された赤
外線ヒータ4から赤外線が輻射され、被加熱体を
全周から均一に加熱する。またこれと同時に炉体
1の内周縁部に設けられた空気噴射口7から斜め
下向きに空気が噴射されるので、対流によつて炉
体1の内部に発生しようとする上昇熱気流は下向
きに噴射される空気によつて抑制され、この結
果、炉体1の上下の温度分布は均一となる。例え
ば、外径300mm、肉厚100μの樹脂チユーブを
27m/分の速度で炉体1の内部を移動させて外径
を1020mmまで膨脹させる場合、赤外線ヒータ4の
温度を350℃に設定すれば炉体1の内部の雰囲気
温度は約250℃となり、このときの炉内の円周方
向及び上下方向の温度のばらつきは従来の1/2以
下の1%程度となる。しかも空気噴射口7から斜
め下向きに噴射される空気が炉体1の下面からの
外気の侵入を防止するとともに、炉体1の上面か
らの熱放散を防止するので熱効率がよく、極めて
経済的である。
段積み重ねられた赤外線加熱装置の炉体1の内部
に樹脂チユーブを上方から挿入して下方へ連続的
に移動させれば、炉体1の内側面に配設された赤
外線ヒータ4から赤外線が輻射され、被加熱体を
全周から均一に加熱する。またこれと同時に炉体
1の内周縁部に設けられた空気噴射口7から斜め
下向きに空気が噴射されるので、対流によつて炉
体1の内部に発生しようとする上昇熱気流は下向
きに噴射される空気によつて抑制され、この結
果、炉体1の上下の温度分布は均一となる。例え
ば、外径300mm、肉厚100μの樹脂チユーブを
27m/分の速度で炉体1の内部を移動させて外径
を1020mmまで膨脹させる場合、赤外線ヒータ4の
温度を350℃に設定すれば炉体1の内部の雰囲気
温度は約250℃となり、このときの炉内の円周方
向及び上下方向の温度のばらつきは従来の1/2以
下の1%程度となる。しかも空気噴射口7から斜
め下向きに噴射される空気が炉体1の下面からの
外気の侵入を防止するとともに、炉体1の上面か
らの熱放散を防止するので熱効率がよく、極めて
経済的である。
このように、本考案の樹脂チユーブ加熱炉は個
別に温度制御ができる複数の赤外線加熱装置を垂
直方向に複数段積み重ねたものであるので、その
内部に樹脂チユーブを通せば理想的な昇温カーブ
でしかも均一に樹脂チユーブを加熱することがで
きる。しかも各赤外線加熱装置は炉体1の内周縁
部に空気を斜め下向きに噴射する空気噴射口7を
設けたものであるから、各段の赤外線加熱装置は
隣接する段からの対流熱の侵入による影響を受け
ることがなく、熱効率が良好となるとともに高い
温度精度を維持することができる。
別に温度制御ができる複数の赤外線加熱装置を垂
直方向に複数段積み重ねたものであるので、その
内部に樹脂チユーブを通せば理想的な昇温カーブ
でしかも均一に樹脂チユーブを加熱することがで
きる。しかも各赤外線加熱装置は炉体1の内周縁
部に空気を斜め下向きに噴射する空気噴射口7を
設けたものであるから、各段の赤外線加熱装置は
隣接する段からの対流熱の侵入による影響を受け
ることがなく、熱効率が良好となるとともに高い
温度精度を維持することができる。
なお、実施例のように炉体1を分割式のものと
しておけばメンテナンスが容易であり、また炉体
1の断熱材層を設けておけば熱効率が更に向上す
ることはいうまでもない。
しておけばメンテナンスが容易であり、また炉体
1の断熱材層を設けておけば熱効率が更に向上す
ることはいうまでもない。
(考案の効果)
本考案は以上の説明から明らかなように、竪型
円筒状の炉体の内周縁部に空気を斜め下向きに噴
射する空気噴射口を設けた赤外線加熱装置からな
るものであるので、各赤外線加熱装置の内部を通
過する間に樹脂チユーブを赤外線ヒータからの輻
射熱及び炉体内部に生成される熱風により効率よ
く加熱することができる。また空気噴射口から斜
め下向きに噴射される空気が炉内の対流を抑制し
て、各赤外線加熱装置の内部の温度のばらつきを
従来の1/2以下の1%程度とすることができ、し
かも各炉体の上面の開口部等からのエネルギの損
失を最少にして熱効率を高めることができる。更
に空気噴射口から斜め下向きに噴射される空気に
よつて各段の赤外線加熱装置が隣接する段からの
対流熱の侵入による影響を受けることが防止さ
れ、高い温度精度を維持することもできる。
円筒状の炉体の内周縁部に空気を斜め下向きに噴
射する空気噴射口を設けた赤外線加熱装置からな
るものであるので、各赤外線加熱装置の内部を通
過する間に樹脂チユーブを赤外線ヒータからの輻
射熱及び炉体内部に生成される熱風により効率よ
く加熱することができる。また空気噴射口から斜
め下向きに噴射される空気が炉内の対流を抑制し
て、各赤外線加熱装置の内部の温度のばらつきを
従来の1/2以下の1%程度とすることができ、し
かも各炉体の上面の開口部等からのエネルギの損
失を最少にして熱効率を高めることができる。更
に空気噴射口から斜め下向きに噴射される空気に
よつて各段の赤外線加熱装置が隣接する段からの
対流熱の侵入による影響を受けることが防止さ
れ、高い温度精度を維持することもできる。
よつて本考案は従来の問題点を解消した樹脂チ
ユーブ加熱炉として、その実用的価値は極めて大
である。
ユーブ加熱炉として、その実用的価値は極めて大
である。
第1図は本考案の樹脂チユーブ加熱炉を構成す
る赤外線加熱装置を拡大して示す一部切欠正面
図、第2図は本考案の実施例を示す一部切欠正面
図である。 1……炉体、4……赤外線ヒータ、7……空気
噴射口。
る赤外線加熱装置を拡大して示す一部切欠正面
図、第2図は本考案の実施例を示す一部切欠正面
図である。 1……炉体、4……赤外線ヒータ、7……空気
噴射口。
Claims (1)
- 上下面を開口させた竪型円筒状の炉体1の内側
面に多数の赤外線ヒータ4を配設するとともに、
該炉体1の内周縁部に空気を斜め下向きに噴射す
る空気噴射口7を設けた赤外線加熱装置を、垂直
方向に複数段積み重ねたことを特徴とする樹脂チ
ユーブ加熱炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17397085U JPH042391Y2 (ja) | 1985-11-12 | 1985-11-12 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17397085U JPH042391Y2 (ja) | 1985-11-12 | 1985-11-12 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6283199U JPS6283199U (ja) | 1987-05-27 |
| JPH042391Y2 true JPH042391Y2 (ja) | 1992-01-27 |
Family
ID=31111931
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17397085U Expired JPH042391Y2 (ja) | 1985-11-12 | 1985-11-12 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH042391Y2 (ja) |
-
1985
- 1985-11-12 JP JP17397085U patent/JPH042391Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6283199U (ja) | 1987-05-27 |
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