JPH04243888A - イミダゾ[1,2−a]ピリジン誘導体、その製造方法及びその中間体としてのα−ハロケトン誘導体 - Google Patents
イミダゾ[1,2−a]ピリジン誘導体、その製造方法及びその中間体としてのα−ハロケトン誘導体Info
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- JPH04243888A JPH04243888A JP8714391A JP8714391A JPH04243888A JP H04243888 A JPH04243888 A JP H04243888A JP 8714391 A JP8714391 A JP 8714391A JP 8714391 A JP8714391 A JP 8714391A JP H04243888 A JPH04243888 A JP H04243888A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規なイミダゾ[1,2
−a]ピリジン誘導体、その製造方法及びその中間体と
してのα−ハロケトン誘導体に関する。
−a]ピリジン誘導体、その製造方法及びその中間体と
してのα−ハロケトン誘導体に関する。
【0002】
【従来の技術】本発明のイミダゾ[1,2−a]ピリジ
ン誘導体及びその中間体としてのα−ハロケトン誘導体
は、いずれも文献未載の新規化合物である。
ン誘導体及びその中間体としてのα−ハロケトン誘導体
は、いずれも文献未載の新規化合物である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は後記するよう
に医薬品として有用な化合物及びその製造用中間体とし
ての化合物を提供することを目的とする。
に医薬品として有用な化合物及びその製造用中間体とし
ての化合物を提供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、一般式
(1)
(1)
【0005】
【化5】
で表わされるイミダゾ[1,2−a]ピリジン誘導体が
提供される。
提供される。
【0006】上記一般式(1)中、R1及びR2はそれ
ぞれ水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ
基、フェニル低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボ
ニル基又はハロゲン置換低級アルキル基を示し、R3は
水素原子、低級アルキル基又はフェニル基を、R4は低
級アルキル基をそれぞれ示す。
ぞれ水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ
基、フェニル低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボ
ニル基又はハロゲン置換低級アルキル基を示し、R3は
水素原子、低級アルキル基又はフェニル基を、R4は低
級アルキル基をそれぞれ示す。
【0007】また本発明によれば、一般式(2)
【00
08】
08】
【化6】
[式中R3及びR4は上記に同じ。Xはハロゲン原子を
示す。]で表わされる化合物と一般式(3)
示す。]で表わされる化合物と一般式(3)
【0009
】
】
【化7】
[式中R1及びR2は上記に同じ。]で表わされる化合
物とを縮合反応させることによる上記一般式(1)で表
わされるイミダゾ[1,2−a]ピリジン誘導体の製造
方法が提供される。
物とを縮合反応させることによる上記一般式(1)で表
わされるイミダゾ[1,2−a]ピリジン誘導体の製造
方法が提供される。
【0010】更に本発明によれば、上記一般式(1)で
表わされるイミダゾ[1,2−a]ピリジン誘導体の製
造に用いられる上記一般式(2)で表わされるα−ハロ
ケトン誘導体が提供される。
表わされるイミダゾ[1,2−a]ピリジン誘導体の製
造に用いられる上記一般式(2)で表わされるα−ハロ
ケトン誘導体が提供される。
【0011】上記一般式(1)〜(3)において示され
る各基としては、具体的にはそれぞれ以下の各基を例示
できる。即ち、低級アルキル基としては、例えばメチル
、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチ
ル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の直鎖
又は分岐鎖状の低級アルキル基を例示できる。フェニル
低級アルコキシ基としては、例えばベンジルオキシ、1
−フェニルエトキシ、2−フェニルエトキシ、3−フェ
ニルプロポキシ、4−フェニルブトキシ、2−フェニル
プロポキシ基等を例示できる。低級アルコキシカルボニ
ル基としては、例えばメトキシカルボニル、エトキシカ
ルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカル
ボニル、ブトキシカルボニル、tert一ブトキシカル
ボニル基等を例示できる。ハロゲン置換低級アルキル基
としては、例えばトリフルオロメチル、ペンタフルオロ
エチル、ヘプタフルオロプロピル、ノナフルオロブチル
、ウンデカフルオロペンチル、トリデカフルオロヘキシ
ル基等を例示できる。またハロゲン原子には、弗素原子
、塩素原子、臭素原子、沃素原子が包含される。
る各基としては、具体的にはそれぞれ以下の各基を例示
できる。即ち、低級アルキル基としては、例えばメチル
、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチ
ル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の直鎖
又は分岐鎖状の低級アルキル基を例示できる。フェニル
低級アルコキシ基としては、例えばベンジルオキシ、1
−フェニルエトキシ、2−フェニルエトキシ、3−フェ
ニルプロポキシ、4−フェニルブトキシ、2−フェニル
プロポキシ基等を例示できる。低級アルコキシカルボニ
ル基としては、例えばメトキシカルボニル、エトキシカ
ルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカル
ボニル、ブトキシカルボニル、tert一ブトキシカル
ボニル基等を例示できる。ハロゲン置換低級アルキル基
としては、例えばトリフルオロメチル、ペンタフルオロ
エチル、ヘプタフルオロプロピル、ノナフルオロブチル
、ウンデカフルオロペンチル、トリデカフルオロヘキシ
ル基等を例示できる。またハロゲン原子には、弗素原子
、塩素原子、臭素原子、沃素原子が包含される。
【0012】上記一般式(1)で表わされる本発明誘導
体は、優れた脂質低下作用及び虚血再灌流障害改善作用
を有しており、高脂質血症治療剤及び虚血再灌流障害改
善剤として、例えば高コレステロール血症、高トリグリ
セリド血症、高リン脂質血症、高遊離脂肪酸血症等の各
種疾患(高脂質血症)の、また虚血再灌流障害の治療及
び予防に有用である。
体は、優れた脂質低下作用及び虚血再灌流障害改善作用
を有しており、高脂質血症治療剤及び虚血再灌流障害改
善剤として、例えば高コレステロール血症、高トリグリ
セリド血症、高リン脂質血症、高遊離脂肪酸血症等の各
種疾患(高脂質血症)の、また虚血再灌流障害の治療及
び予防に有用である。
【0013】本発明のイミダゾ[1,2−a]ピリジン
誘導体は、各種の方法により製造することができる。そ
の具体例を下記反応工程式−1に示す。 反応工程式−1
誘導体は、各種の方法により製造することができる。そ
の具体例を下記反応工程式−1に示す。 反応工程式−1
【0014】
【化8】
[各式中R1、R2、R3、R4及びXは前記に同じ。
]上記反応工程式に示すα−ハロケトン誘導体(2)と
アミノピリジン誘導体(3)との反応は、反応に悪影響
を及ぼさない不活性溶媒、例えば低級アルコール類、芳
香族炭化水素類、1,2−ジメトキシエタン、1,4−
ジオキサン等の鎖状乃至環状エーテル類、アセトニトリ
ル等の溶媒中で行なわれる。化合物(2)と化合物(3
)との使用割合は、特に限定されないが、通常前者に対
して後者を等モル量〜過剰量用いるのがよい。 反応は好ましくは上記溶媒の還流温度条件下で行なわれ
、用いる化合物(2)及び(3)の種類により異なるが
、一般に約1〜20時間程度で終了し、かくして目的化
合物(1)を収得できる。
アミノピリジン誘導体(3)との反応は、反応に悪影響
を及ぼさない不活性溶媒、例えば低級アルコール類、芳
香族炭化水素類、1,2−ジメトキシエタン、1,4−
ジオキサン等の鎖状乃至環状エーテル類、アセトニトリ
ル等の溶媒中で行なわれる。化合物(2)と化合物(3
)との使用割合は、特に限定されないが、通常前者に対
して後者を等モル量〜過剰量用いるのがよい。 反応は好ましくは上記溶媒の還流温度条件下で行なわれ
、用いる化合物(2)及び(3)の種類により異なるが
、一般に約1〜20時間程度で終了し、かくして目的化
合物(1)を収得できる。
【0015】尚、上記に示すα−ハロケトン誘導体(2
)は、文献未載の新規化合物であり、例えば下記反応工
程式−2に示す方法により製造できる。 反応工程式−2
)は、文献未載の新規化合物であり、例えば下記反応工
程式−2に示す方法により製造できる。 反応工程式−2
【0016】
【化9】
[各式中R3、R4及びXは前記に同じ。Yはハロゲン
原子を示す。]上記において、化合物(4)のハロゲン
化反応は、ベンゼン、四塩化炭素等の不活性溶媒中、過
酸化ベンゾイル、アゾビスイソブチロニトリル、t−ブ
チルハイドロパーオキシド等の触媒の存在下、N−プロ
ムコハク酸イミド、N−クロルコハク酸イミド、臭素等
のハロゲン化剤と処理することにより行なわれる。ハロ
ゲン化剤の使用量は化合物(4)に対して等モル量〜小
過剰モル量程度とするのが好ましい。反応は約50℃〜
溶媒の沸点の範囲の加熱条件下に実施され、一般に5〜
20時間程度で完結する。
原子を示す。]上記において、化合物(4)のハロゲン
化反応は、ベンゼン、四塩化炭素等の不活性溶媒中、過
酸化ベンゾイル、アゾビスイソブチロニトリル、t−ブ
チルハイドロパーオキシド等の触媒の存在下、N−プロ
ムコハク酸イミド、N−クロルコハク酸イミド、臭素等
のハロゲン化剤と処理することにより行なわれる。ハロ
ゲン化剤の使用量は化合物(4)に対して等モル量〜小
過剰モル量程度とするのが好ましい。反応は約50℃〜
溶媒の沸点の範囲の加熱条件下に実施され、一般に5〜
20時間程度で完結する。
【0017】次に、上記ハロゲン化反応により得られる
化合物(5)をトリアルキルホスファイト(6)と反応
させることにより化合物(7)を収得できる。該反応は
無溶媒で又はエタノール、ベンゼン、N,N−ジメチル
ホルムアミド等の不活性溶媒中で、化合物(6)を化合
物(5)に対して1〜5倍モル量程度用いて行なわれる
。反応温度は無溶媒の場合は130〜180℃程度、溶
媒を用いる場合は溶媒の沸点温度程度とするのがよく、
通常0.5〜3時間程度で反応は終了する。
化合物(5)をトリアルキルホスファイト(6)と反応
させることにより化合物(7)を収得できる。該反応は
無溶媒で又はエタノール、ベンゼン、N,N−ジメチル
ホルムアミド等の不活性溶媒中で、化合物(6)を化合
物(5)に対して1〜5倍モル量程度用いて行なわれる
。反応温度は無溶媒の場合は130〜180℃程度、溶
媒を用いる場合は溶媒の沸点温度程度とするのがよく、
通常0.5〜3時間程度で反応は終了する。
【0018】続いて、上記により得られた化合物(7)
をハロゲン化することにより、化合物(4)を収得でき
る。ここでハロゲン化剤としては従来公知の各種のもの
を広く使用でき、これには具体的には臭素、塩素、塩化
スルフリル、塩化銅(II)、臭化銅(II)、N−ク
ロロ琥珀酸イミド、N−ブロモ琥珀酸イミド、ジオキサ
ンジブロミド、テトラブチルアンモニウムトリブロミド
、フェニルトリメチルアンモニウムトリブロミド、ピリ
ジニウムヒドロブロミドペルブロミド、ピリドンヒドロ
トリブロミド等が包含される。之等の内では、テトラブ
チルアンモニウムトリブロミド、フェニルトリメチルア
ンモニウムトリブロミド等が有利に用いられる。之等ハ
ロゲン化剤の使用量は、化合物(7)に対して等モル量
〜少過剰量の範囲から選ばれるのが好ましい。反応溶媒
としては、用いるハロゲン化剤の種類により異なるが、
通常、水、メタノール、ジクロロメタン、クロロホルム
、四塩化炭素、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
、酢酸等を用いるのがよい。反応は、冷却下、室温下及
び加熱下のいずれでも進行するが、通常0℃〜室温の温
度条件を採用するのがよく、一般に0.5〜20時間程
度で終了し、かくして目的化合物(2)を収得できる。
をハロゲン化することにより、化合物(4)を収得でき
る。ここでハロゲン化剤としては従来公知の各種のもの
を広く使用でき、これには具体的には臭素、塩素、塩化
スルフリル、塩化銅(II)、臭化銅(II)、N−ク
ロロ琥珀酸イミド、N−ブロモ琥珀酸イミド、ジオキサ
ンジブロミド、テトラブチルアンモニウムトリブロミド
、フェニルトリメチルアンモニウムトリブロミド、ピリ
ジニウムヒドロブロミドペルブロミド、ピリドンヒドロ
トリブロミド等が包含される。之等の内では、テトラブ
チルアンモニウムトリブロミド、フェニルトリメチルア
ンモニウムトリブロミド等が有利に用いられる。之等ハ
ロゲン化剤の使用量は、化合物(7)に対して等モル量
〜少過剰量の範囲から選ばれるのが好ましい。反応溶媒
としては、用いるハロゲン化剤の種類により異なるが、
通常、水、メタノール、ジクロロメタン、クロロホルム
、四塩化炭素、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
、酢酸等を用いるのがよい。反応は、冷却下、室温下及
び加熱下のいずれでも進行するが、通常0℃〜室温の温
度条件を採用するのがよく、一般に0.5〜20時間程
度で終了し、かくして目的化合物(2)を収得できる。
【0019】上記各工程における目的化合物は、通常の
分離手段により容易に単離精製することができる。該分
離手段としては、例えば溶媒抽出、再結晶、吸着クロマ
トグラフィー、プレパラティブ薄層クロマトグラフィー
等を例示できる。
分離手段により容易に単離精製することができる。該分
離手段としては、例えば溶媒抽出、再結晶、吸着クロマ
トグラフィー、プレパラティブ薄層クロマトグラフィー
等を例示できる。
【0020】
【実施例】以下、本発明を更に詳しく説明するため実施
例を挙げる。
例を挙げる。
【0021】
【実施例1】2−ブロモ−4′−ジエトキシホスホリル
メチルアセトフェノンの製造 4′−メチルアセトフェノン74g(0.55モル)、
N−ブロムコハク酸イミド97.9g(0.55モル)
及び過酸化ベンゾイル0.05gをベンゼン400ml
に加えて15時間加熱還流した。反応混合液に水を加え
、クロロホルムで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した後、溶媒を留去して、粗製の4′−ブロム
メチルアセトフェノンを得た。次に、これを亜リン酸ト
リエチル200ml(1.5モル)と共に、160℃で
1時間加熱攪拌した。反応終了後、過剰の亜リン酸トリ
エチルを減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(クロロホルム:酢酸エチル=1:1で溶出
)で精製して、油状の4′−ジエトキシホスホリルメチ
ルアセトフェノン97gを得た。
メチルアセトフェノンの製造 4′−メチルアセトフェノン74g(0.55モル)、
N−ブロムコハク酸イミド97.9g(0.55モル)
及び過酸化ベンゾイル0.05gをベンゼン400ml
に加えて15時間加熱還流した。反応混合液に水を加え
、クロロホルムで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した後、溶媒を留去して、粗製の4′−ブロム
メチルアセトフェノンを得た。次に、これを亜リン酸ト
リエチル200ml(1.5モル)と共に、160℃で
1時間加熱攪拌した。反応終了後、過剰の亜リン酸トリ
エチルを減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(クロロホルム:酢酸エチル=1:1で溶出
)で精製して、油状の4′−ジエトキシホスホリルメチ
ルアセトフェノン97gを得た。
【0022】得られた4′−ジエトキシホスホリルメチ
ルアセトフェノン24.0g(88.7ミリモル)をジ
クロロメタン100mlとメタノール40mlとの混合
溶媒に溶解させ、これに室温攪拌下にフェニルトリメチ
ルアンモニウムトリブロミド33.3g(88.7ミリ
モル)を加えた。室温で20時間撹拌後、反応混合物中
に水250mlを加え、クロロホルムで抽出した。芒硝
上で乾燥し、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(クロロホルム−酢酸エチル=
1:2で溶出)に付して、油状の標記化合物24.6g
を得た。このものの1H−NMR分析結果を第2表に示
す。
ルアセトフェノン24.0g(88.7ミリモル)をジ
クロロメタン100mlとメタノール40mlとの混合
溶媒に溶解させ、これに室温攪拌下にフェニルトリメチ
ルアンモニウムトリブロミド33.3g(88.7ミリ
モル)を加えた。室温で20時間撹拌後、反応混合物中
に水250mlを加え、クロロホルムで抽出した。芒硝
上で乾燥し、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(クロロホルム−酢酸エチル=
1:2で溶出)に付して、油状の標記化合物24.6g
を得た。このものの1H−NMR分析結果を第2表に示
す。
【0023】
【実施例2及び3】実施例1と同様にして第1表に示す
構造の各化合物を得た。第1表には実施例1の化合物も
併記する。
構造の各化合物を得た。第1表には実施例1の化合物も
併記する。
【0024】また、各化合物の1H−NMR分析結果を
第2表に示す。
第2表に示す。
【0025】
【表1】
【0026】
【表2】
【0027】
【実施例4】6−ブロモ−2−(4−ジエトキシホスホ
リルメチルフェニル)イミダゾ[1,2−a]ピリジン
の製造 2−アミノ−5−ブロモピリジン1.73g(10ミリ
モル)と、実施例1で得た化合物1.75g(5ミリモ
ル)とを、1,4−ジオキサン30mlに溶解させ、1
20℃で17時間加熱攪拌した。反応混合物に10%炭
酸カリウム水溶液50mlを加え、クロロホルムで抽出
した。芒硝上で乾燥し、溶媒を減圧留去した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム−酢
酸エチル=1:2で溶出)に付して標記化合物を得た。 これをベンゼン−n−ヘキサンより再結晶して、無色結
晶0.70gを得た。融点=160−161℃
リルメチルフェニル)イミダゾ[1,2−a]ピリジン
の製造 2−アミノ−5−ブロモピリジン1.73g(10ミリ
モル)と、実施例1で得た化合物1.75g(5ミリモ
ル)とを、1,4−ジオキサン30mlに溶解させ、1
20℃で17時間加熱攪拌した。反応混合物に10%炭
酸カリウム水溶液50mlを加え、クロロホルムで抽出
した。芒硝上で乾燥し、溶媒を減圧留去した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム−酢
酸エチル=1:2で溶出)に付して標記化合物を得た。 これをベンゼン−n−ヘキサンより再結晶して、無色結
晶0.70gを得た。融点=160−161℃
【002
8】
8】
【実施例5〜14】実施例4と同様にして、第3表に示
す構造の各化合物を得た。尚、第3表には実施例4の化
合物も併記する。また該表には性状の項に融点(℃)と
再結晶溶媒の種類を挙げるか又は油状物の場合はその1
H−NMR(CDCl3、内部標準TMS)分析結果(
δppm値)を挙げる。
す構造の各化合物を得た。尚、第3表には実施例4の化
合物も併記する。また該表には性状の項に融点(℃)と
再結晶溶媒の種類を挙げるか又は油状物の場合はその1
H−NMR(CDCl3、内部標準TMS)分析結果(
δppm値)を挙げる。
【0029】
【表3】
【0030】
【表4】
Claims (3)
- 【請求項1】一般式 【化1】 [式中R1及びR2はそれぞれ水素原子、低級アルキル
基、ハロゲン原子、ニトロ基、フェニル低級アルコキシ
基、低級アルコキシカルボニル基又はハロゲン置換低級
アルキル基を示し、R3は水素原子、低級アルキル基又
はフェニル基を、R4は低級アルキル基をそれぞれ示す
。]で表わされるイミダゾ[1,2−a]ピリジン誘導
体。 - 【請求項2】一般式 【化2】 [式中R3及びR4は上記に同じ。Xはハロゲン原子を
示す。]で表わされる化合物と 【化3】 [式中R1及びR2は上記に同じ。]で表わされる化合
物とを縮合反応させることを特徴とする請求項1に記載
のイミダゾ[1,2−a]ピリジン誘導体の製造方法。 - 【請求項3】一般式 【化4】 [式中R3、R4及びXは上記に同じ。]で表わされる
α−ハロケトン誘導体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3087143A JP2549950B2 (ja) | 1991-01-24 | 1991-01-24 | イミダゾ[1,2−a]ピリジン誘導体、その製造方法及びその中間体としてのα−ハロケトン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3087143A JP2549950B2 (ja) | 1991-01-24 | 1991-01-24 | イミダゾ[1,2−a]ピリジン誘導体、その製造方法及びその中間体としてのα−ハロケトン誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04243888A true JPH04243888A (ja) | 1992-08-31 |
| JP2549950B2 JP2549950B2 (ja) | 1996-10-30 |
Family
ID=13906760
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3087143A Expired - Fee Related JP2549950B2 (ja) | 1991-01-24 | 1991-01-24 | イミダゾ[1,2−a]ピリジン誘導体、その製造方法及びその中間体としてのα−ハロケトン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2549950B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995000524A1 (fr) * | 1993-06-17 | 1995-01-05 | Otsuka Pharmaceutical Factory, Inc. | Derive de diester phosphonique |
| WO1995006051A1 (en) * | 1993-08-20 | 1995-03-02 | Otsuka Pharmaceutical Factory, Inc. | Phosphonic diester derivative |
| WO1998039342A1 (en) * | 1997-03-07 | 1998-09-11 | Metabasis Therapeutics, Inc. | Novel indole and azaindole inhibitors of fructose-1,6-bisphosphatase |
-
1991
- 1991-01-24 JP JP3087143A patent/JP2549950B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995000524A1 (fr) * | 1993-06-17 | 1995-01-05 | Otsuka Pharmaceutical Factory, Inc. | Derive de diester phosphonique |
| CN1048018C (zh) * | 1993-06-17 | 2000-01-05 | 株式会社大塚制药工场 | 膦酸二酯衍生物 |
| WO1995006051A1 (en) * | 1993-08-20 | 1995-03-02 | Otsuka Pharmaceutical Factory, Inc. | Phosphonic diester derivative |
| US5527786A (en) * | 1993-08-20 | 1996-06-18 | Otsuka Pharmaceutical Factory, Inc. | Phosphonic diester derivatives |
| CN1043897C (zh) * | 1993-08-20 | 1999-06-30 | 株式会社大塚制药工场 | 膦酸二酯衍生物 |
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| JP2549950B2 (ja) | 1996-10-30 |
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