JPH04248104A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH04248104A JPH04248104A JP792191A JP792191A JPH04248104A JP H04248104 A JPH04248104 A JP H04248104A JP 792191 A JP792191 A JP 792191A JP 792191 A JP792191 A JP 792191A JP H04248104 A JPH04248104 A JP H04248104A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sliding surface
- point glass
- melting point
- low melting
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ビデオテープレコーダ
等の磁気記録再生装置において、情報の記録再生等に用
いられる磁気ヘッドに関するものである。
等の磁気記録再生装置において、情報の記録再生等に用
いられる磁気ヘッドに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】磁気記録技術の高密度化に伴って、例え
ばメタルテープ等の高保磁力の磁気記録媒体が主流にな
ってきた現在、磁気ヘッドに使用されるコア材料は高い
飽和磁束密度を有するものが要求されている。
ばメタルテープ等の高保磁力の磁気記録媒体が主流にな
ってきた現在、磁気ヘッドに使用されるコア材料は高い
飽和磁束密度を有するものが要求されている。
【０００３】このような状況の下、図８に示すようなヘ
ッドチップ２５を使用した磁気ヘッドが試作されている
。
ッドチップ２５を使用した磁気ヘッドが試作されている
。
【０００４】このヘッドチップ２５は一対のコア片２４
・２４をギャップ面２３にて接合した構成になっている
。各コア片２４は高い飽和磁束密度を有する軟磁性金属
からなる軟磁性薄膜２２と、この軟磁性薄膜２２を挟持
する基板２１・２１とからなっており、軟磁性薄膜２２
はギャップ面２３に対して直交するように形成されてい
る。
・２４をギャップ面２３にて接合した構成になっている
。各コア片２４は高い飽和磁束密度を有する軟磁性金属
からなる軟磁性薄膜２２と、この軟磁性薄膜２２を挟持
する基板２１・２１とからなっており、軟磁性薄膜２２
はギャップ面２３に対して直交するように形成されてい
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記の構成
では、コア片２４を製造するために、基板２１及び軟磁
性薄膜２２の平坦度、平行度、厚み公差等に厳しい条件
が必要であり、このために、ヘッドチップ２５の製造歩
留りが低下し、磁気ヘッドの量産性を阻害しているとい
う問題点を有している。
では、コア片２４を製造するために、基板２１及び軟磁
性薄膜２２の平坦度、平行度、厚み公差等に厳しい条件
が必要であり、このために、ヘッドチップ２５の製造歩
留りが低下し、磁気ヘッドの量産性を阻害しているとい
う問題点を有している。
【０００６】そこで、この問題を解決するために、図９
に示すようなヘッドチップ３５を使用した磁気ヘッドが
考えられている。
に示すようなヘッドチップ３５を使用した磁気ヘッドが
考えられている。
【０００７】このヘッドチップ３５は、上記と同様に、
一対のコア片３４・３４をギャップ面３６にて接合した
構成になっているが、軟磁性薄膜３２をギャップ面３６
に対して斜めに形成することにより、軟磁性薄膜３２を
基板３１と低融点ガラス３３とで挟持するようにしたコ
ア片３４を用いている。
一対のコア片３４・３４をギャップ面３６にて接合した
構成になっているが、軟磁性薄膜３２をギャップ面３６
に対して斜めに形成することにより、軟磁性薄膜３２を
基板３１と低融点ガラス３３とで挟持するようにしたコ
ア片３４を用いている。
【０００８】このため、各コア片３４は、基板３１上に
ほぼトラック幅に相当する膜厚の軟磁性薄膜３２を形成
した後、その上から基板３１及び軟磁性薄膜３２を低融
点ガラス３３でモールドすることによって、容易に製造
される。
ほぼトラック幅に相当する膜厚の軟磁性薄膜３２を形成
した後、その上から基板３１及び軟磁性薄膜３２を低融
点ガラス３３でモールドすることによって、容易に製造
される。
【０００９】ところが、この磁気ヘッドにおいても、基
板３１及び軟磁性薄膜３２を低融点ガラス３３でモール
ドする際、基準面としての底面３８に低融点ガラス３３
がはみ出してしまうため、底面３８の基準出しを再度行
わない限り、底面３８を基準面とした磁気テープの摺動
面３７の研磨を行うことができないという問題点を有し
ており、磁気ヘッドの量産性を向上させるための根本的
な問題の解決にならない。
板３１及び軟磁性薄膜３２を低融点ガラス３３でモール
ドする際、基準面としての底面３８に低融点ガラス３３
がはみ出してしまうため、底面３８の基準出しを再度行
わない限り、底面３８を基準面とした磁気テープの摺動
面３７の研磨を行うことができないという問題点を有し
ており、磁気ヘッドの量産性を向上させるための根本的
な問題の解決にならない。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の磁気ヘッドは、
上記の課題を解決するために、基板上に成膜された軟磁
性薄膜を低融点ガラスで被った一対のコア片を前記軟磁
性薄膜の断面が対向するように接合して、磁気記録媒体
との摺動面上に磁気ギャップを形成した磁気ヘッドにお
いて、上記低融点ガラスが上記摺動面とは反対側の底面
にはみ出さないように形成されていることを特徴として
いる。
上記の課題を解決するために、基板上に成膜された軟磁
性薄膜を低融点ガラスで被った一対のコア片を前記軟磁
性薄膜の断面が対向するように接合して、磁気記録媒体
との摺動面上に磁気ギャップを形成した磁気ヘッドにお
いて、上記低融点ガラスが上記摺動面とは反対側の底面
にはみ出さないように形成されていることを特徴として
いる。
【００１１】
【作用】上記の構成によれば、基板上に成膜された軟磁
性薄膜を低融点ガラスで被った一対のコア片を前記軟磁
性薄膜の断面が対向するように接合して、磁気記録媒体
との摺動面上に磁気ギャップを形成した磁気ヘッドにお
いて、上記低融点ガラスが上記摺動面とは反対側の底面
にはみ出さないように形成したので、摺動面とは反対側
の底面を基準面として摺動面の研磨を行うことができる
。これにより、摺動面とは反対側の底面を基準面として
使うときの再基準出しを行う工程が不要になると共に、
再基準出しによる精度低下が起こらなくなり、磁気ヘッ
ドの量産性が向上する。
性薄膜を低融点ガラスで被った一対のコア片を前記軟磁
性薄膜の断面が対向するように接合して、磁気記録媒体
との摺動面上に磁気ギャップを形成した磁気ヘッドにお
いて、上記低融点ガラスが上記摺動面とは反対側の底面
にはみ出さないように形成したので、摺動面とは反対側
の底面を基準面として摺動面の研磨を行うことができる
。これにより、摺動面とは反対側の底面を基準面として
使うときの再基準出しを行う工程が不要になると共に、
再基準出しによる精度低下が起こらなくなり、磁気ヘッ
ドの量産性が向上する。
【００１２】
【実施例】本発明の一実施例について、図１ないし図７
に基づいて説明すれば、以下の通りである。
に基づいて説明すれば、以下の通りである。
【００１３】本実施例の磁気ヘッドに用いられるヘッド
チップ１２は、図１の斜視図に示すように、基板１と、
基板１に形成された高飽和磁束密度を有する軟磁性薄膜
２と、軟磁性薄膜２を被うように形成された低融点ガラ
ス３とを有する一対のコア片１６・１６からなっており
、前記基板１・１上の軟磁性薄膜２・２が磁気ギャップ
１７を有するヘッドコアを形成するように、軟磁性薄膜
２・２の断面を対向させて、一対のコア片１６・１６が
ギャップ面８にて接合された構成になっている。そして
、磁気ギャップ１７と磁気テープ等の磁気記録媒体とが
滑らかに接するように、摺動面１５は所定の面粗度にな
るように研磨仕上げが行われている。
チップ１２は、図１の斜視図に示すように、基板１と、
基板１に形成された高飽和磁束密度を有する軟磁性薄膜
２と、軟磁性薄膜２を被うように形成された低融点ガラ
ス３とを有する一対のコア片１６・１６からなっており
、前記基板１・１上の軟磁性薄膜２・２が磁気ギャップ
１７を有するヘッドコアを形成するように、軟磁性薄膜
２・２の断面を対向させて、一対のコア片１６・１６が
ギャップ面８にて接合された構成になっている。そして
、磁気ギャップ１７と磁気テープ等の磁気記録媒体とが
滑らかに接するように、摺動面１５は所定の面粗度にな
るように研磨仕上げが行われている。
【００１４】上記コア片１６において、軟磁性薄膜２は
、ギャップ面８に対して斜めに形成されており、軟磁性
薄膜２が基板１と低融点ガラス３とにより狭持された構
成になっている。また、低融点ガラス３は、上記摺動面
１５とは反対側の底面１４にはみ出さないように形成さ
れている。
、ギャップ面８に対して斜めに形成されており、軟磁性
薄膜２が基板１と低融点ガラス３とにより狭持された構
成になっている。また、低融点ガラス３は、上記摺動面
１５とは反対側の底面１４にはみ出さないように形成さ
れている。
【００１５】また、ヘッドチップ１２には、上記軟磁性
薄膜２・２からなるヘッドコアにヘッドコイル（図示さ
れていない）を巻回するために、図のように、内部巻線
溝４・４からなる内部巻線穴９と、外部巻線溝６・６と
が形成されている。
薄膜２・２からなるヘッドコアにヘッドコイル（図示さ
れていない）を巻回するために、図のように、内部巻線
溝４・４からなる内部巻線穴９と、外部巻線溝６・６と
が形成されている。
【００１６】上記軟磁性薄膜２には、例えばＦｅ−Ａｌ
−Ｓｉ系合金等の高飽和磁束密度を有する軟磁性材料が
使用される。また、基板１には、感光性結晶化ガラス、
結晶化ガラス、あるいはセラミックス等の非磁性材料あ
るいは軟磁性フェライト等の酸化物磁性材料が使用され
る。
−Ｓｉ系合金等の高飽和磁束密度を有する軟磁性材料が
使用される。また、基板１には、感光性結晶化ガラス、
結晶化ガラス、あるいはセラミックス等の非磁性材料あ
るいは軟磁性フェライト等の酸化物磁性材料が使用され
る。
【００１７】上記の構成において、基板１上に成膜され
た軟磁性薄膜２を低融点ガラス３で被った一対のコア片
１６・１６を軟磁性薄膜２・２の断面が対向するように
ギャップ面８にて接合して、軟磁性薄膜２・２の断面間
に磁気ギャップ１７を形成している。そして、上記軟磁
性薄膜２をギャップ面８に対して斜めに形成したので、
軟磁性薄膜２を基板１と低融点ガラス３とにより挟持し
たコア片１６を容易に製造できる。しかも、低融点ガラ
ス３を上記摺動面１５とは反対側の底面１４にはみ出さ
ないように形成したので、摺動面１５とは反対側の底面
１４を基準面として摺動面１５の研磨を行うことができ
る。これにより、底面１４を基準面として使うときの再
基準出しを行う工程が不要になると共に、再基準出しに
よる精度低下が起こらなくなり、磁気ヘッドの量産性が
向上する。
た軟磁性薄膜２を低融点ガラス３で被った一対のコア片
１６・１６を軟磁性薄膜２・２の断面が対向するように
ギャップ面８にて接合して、軟磁性薄膜２・２の断面間
に磁気ギャップ１７を形成している。そして、上記軟磁
性薄膜２をギャップ面８に対して斜めに形成したので、
軟磁性薄膜２を基板１と低融点ガラス３とにより挟持し
たコア片１６を容易に製造できる。しかも、低融点ガラ
ス３を上記摺動面１５とは反対側の底面１４にはみ出さ
ないように形成したので、摺動面１５とは反対側の底面
１４を基準面として摺動面１５の研磨を行うことができ
る。これにより、底面１４を基準面として使うときの再
基準出しを行う工程が不要になると共に、再基準出しに
よる精度低下が起こらなくなり、磁気ヘッドの量産性が
向上する。
【００１８】上記磁気ヘッドの一製造方法を、図２ない
し図７に基づいて説明すれば、以下のとおりである。
し図７に基づいて説明すれば、以下のとおりである。
【００１９】まず、図２に示すように、基板１の片面に
断面がＶ字状の溝５を所定のピッチ寸法Ａにて連続して
形成する。このとき、摺動面１５（図１）に対応する面
１５ａから、摺動面１５とは反対側の底面１４に対応す
る面１４ａにかけて、溝５の深さが浅くなるように形成
し、かつ、溝５が面１４ａにかからないように形成する
。また、このとき、溝５の縁の線１８が面１４ａに対し
て垂直になるように溝５を形成する方が、後述するコア
ブロック１１を形成する際に好都合である。
断面がＶ字状の溝５を所定のピッチ寸法Ａにて連続して
形成する。このとき、摺動面１５（図１）に対応する面
１５ａから、摺動面１５とは反対側の底面１４に対応す
る面１４ａにかけて、溝５の深さが浅くなるように形成
し、かつ、溝５が面１４ａにかからないように形成する
。また、このとき、溝５の縁の線１８が面１４ａに対し
て垂直になるように溝５を形成する方が、後述するコア
ブロック１１を形成する際に好都合である。
【００２０】続いて、図３に示すように、各溝５の一方
の壁面上に、所定の膜厚（トラック幅に相当する寸法）
の軟磁性薄膜２、例えばＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金を真空
蒸着法あるいはスパッタ法等により形成する。
の壁面上に、所定の膜厚（トラック幅に相当する寸法）
の軟磁性薄膜２、例えばＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金を真空
蒸着法あるいはスパッタ法等により形成する。
【００２１】次に、図４に示すように、溝５に低融点ガ
ラス３を充填する。そして、充填した低融点ガラス３を
、図５に示すように、低融点ガラス３の表面と基板１の
上面とが一致するように低融点ガラス３を平面状に研磨
して、ギャップ面８を形成する。また、摺動面１５（図
１）とは反対側の底面１４に対応する面１４ａを基準面
として、摺動面１５に対応する面１５ａを平面研磨し、
面１５ａ上にはみ出した低融点ガラス３を取り除く。
ラス３を充填する。そして、充填した低融点ガラス３を
、図５に示すように、低融点ガラス３の表面と基板１の
上面とが一致するように低融点ガラス３を平面状に研磨
して、ギャップ面８を形成する。また、摺動面１５（図
１）とは反対側の底面１４に対応する面１４ａを基準面
として、摺動面１５に対応する面１５ａを平面研磨し、
面１５ａ上にはみ出した低融点ガラス３を取り除く。
【００２２】次いで、図６に示すように、基板１の両側
面に内部巻線溝４と外部巻線溝６とを形成し、さらに、
所定の磁気ギャップ１７（図１）長が得られるように、
ギャップ面８上にＳｉＯ２ 等の非磁性ギャップ材料か
らなるギャップ充填層（図示されていない）を真空蒸着
法あるいはスパッタ法等により形成して、基板ブロック
１０を得る。
面に内部巻線溝４と外部巻線溝６とを形成し、さらに、
所定の磁気ギャップ１７（図１）長が得られるように、
ギャップ面８上にＳｉＯ２ 等の非磁性ギャップ材料か
らなるギャップ充填層（図示されていない）を真空蒸着
法あるいはスパッタ法等により形成して、基板ブロック
１０を得る。
【００２３】この後、図７に示すように、上記の一対の
基板ブロック１０・１０のギャップ面８・８を対向させ
て位置を合わせ、加圧固定を行って接合する、いわゆる
ギャップ溶着を行って、コアブロック１１を形成する。
基板ブロック１０・１０のギャップ面８・８を対向させ
て位置を合わせ、加圧固定を行って接合する、いわゆる
ギャップ溶着を行って、コアブロック１１を形成する。
【００２４】次いで、上記のコアブロック１１を同図に
示されている二点鎖線に沿って、所定のピッチ寸法Ｂで
切断して、図１のヘッドチップ１２を得る。
示されている二点鎖線に沿って、所定のピッチ寸法Ｂで
切断して、図１のヘッドチップ１２を得る。
【００２５】そして、このヘッドチップ１２をベース板
（図示されていない）に接着固定した後、内部巻線溝４
と外部巻線溝６とを利用して巻線を行ってヘッドコイル
を形成し、磁気テープ等の磁気記録媒体との摺動面１５
をテープ研磨することにより、本実施例の磁気ヘッドが
製造される。
（図示されていない）に接着固定した後、内部巻線溝４
と外部巻線溝６とを利用して巻線を行ってヘッドコイル
を形成し、磁気テープ等の磁気記録媒体との摺動面１５
をテープ研磨することにより、本実施例の磁気ヘッドが
製造される。
【００２６】以上の磁気ヘッドの製造方法では、摺動面
１５（図１）に対応する面１５ａ（図２）から、摺動面
１５とは反対側の底面１４に対応する面１４ａにかけて
、溝５の深さが浅くなるように形成し、かつ、溝５が面
１４ａにかからないように形成したので、溝５に低融点
ガラス３（図４）を充填する際、面１４ａには低融点ガ
ラス３がはみ出さなくなる。このため、摺動面１５とは
反対側の底面１４に対応する面１４ａを基準面として、
摺動面１５に対応する面１５ａを平面研磨することがで
きる。これにより、面１４ａを基準面として使うときの
再基準出しを行う工程が不要になると共に、再基準出し
による精度低下が起こらなくなり、磁気ヘッドの量産性
が向上する。
１５（図１）に対応する面１５ａ（図２）から、摺動面
１５とは反対側の底面１４に対応する面１４ａにかけて
、溝５の深さが浅くなるように形成し、かつ、溝５が面
１４ａにかからないように形成したので、溝５に低融点
ガラス３（図４）を充填する際、面１４ａには低融点ガ
ラス３がはみ出さなくなる。このため、摺動面１５とは
反対側の底面１４に対応する面１４ａを基準面として、
摺動面１５に対応する面１５ａを平面研磨することがで
きる。これにより、面１４ａを基準面として使うときの
再基準出しを行う工程が不要になると共に、再基準出し
による精度低下が起こらなくなり、磁気ヘッドの量産性
が向上する。
【００２７】
【発明の効果】本発明の磁気ヘッドは、以上のように、
低融点ガラスが上記摺動面とは反対側の底面にはみ出さ
ないように形成されているので、摺動面とは反対側の底
面を基準面として摺動面の研磨を行うことができる。こ
れにより、摺動面とは反対側の底面を基準面として使う
ときの再基準出しを行う工程が不要になると共に、再基
準出しによる精度低下が起こらなくなり、磁気ヘッドの
量産性が向上するという効果を奏する。
低融点ガラスが上記摺動面とは反対側の底面にはみ出さ
ないように形成されているので、摺動面とは反対側の底
面を基準面として摺動面の研磨を行うことができる。こ
れにより、摺動面とは反対側の底面を基準面として使う
ときの再基準出しを行う工程が不要になると共に、再基
準出しによる精度低下が起こらなくなり、磁気ヘッドの
量産性が向上するという効果を奏する。
【図１】本発明の磁気ヘッドに用いられるヘッドチップ
の構成を示す斜視図である。
の構成を示す斜視図である。
【図２】図１の磁気ヘッドの製造工程を示すものであり
、断面がほぼＶ字状になっている溝が形成されている基
板の平面図である。
、断面がほぼＶ字状になっている溝が形成されている基
板の平面図である。
【図３】図２の溝の一方の壁面上に軟磁性薄膜を形成す
る工程を示す平面図である。
る工程を示す平面図である。
【図４】図３の軟磁性薄膜上に低融点ガラスを充填する
工程を示す平面図である。
工程を示す平面図である。
【図５】図４の低融点ガラスを平面状に研磨して、ギャ
ップ面を形成する工程を示す平面図である。
ップ面を形成する工程を示す平面図である。
【図６】図５の基板の両側面に内部巻線溝と外部巻線溝
とを形成して基板ブロックを作製する工程を示す斜視図
である。
とを形成して基板ブロックを作製する工程を示す斜視図
である。
【図７】図６の基板ブロックを一対合わせてコアブロッ
クを形成する工程を示す斜視図である。
クを形成する工程を示す斜視図である。
【図８】従来の磁気ヘッドに用いられるヘッドチップの
構成を示す斜視図である。
構成を示す斜視図である。
【図９】磁気ヘッドに用いられるヘッドチップの考えう
る構成を示す斜視図である。
る構成を示す斜視図である。
１ 基板
２ 軟磁性薄膜
３ 低融点ガラス
１４ 底面
１５ 摺動面
１６ コア片
１７ 磁気ギャップ
Claims (1)
- 【請求項１】基板上に成膜された軟磁性薄膜を低融点ガ
ラスで被った一対のコア片を前記軟磁性薄膜の断面が対
向するように接合して、磁気記録媒体との摺動面上に磁
気ギャップを形成した磁気ヘッドにおいて、上記低融点
ガラスが上記摺動面とは反対側の底面にはみ出さないよ
うに形成されていることを特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP792191A JPH04248104A (ja) | 1991-01-25 | 1991-01-25 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP792191A JPH04248104A (ja) | 1991-01-25 | 1991-01-25 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04248104A true JPH04248104A (ja) | 1992-09-03 |
Family
ID=11678994
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP792191A Pending JPH04248104A (ja) | 1991-01-25 | 1991-01-25 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04248104A (ja) |
-
1991
- 1991-01-25 JP JP792191A patent/JPH04248104A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0546010B2 (ja) | ||
| JPS63257904A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH04248104A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JP2669965B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP2891817B2 (ja) | 磁気ヘッド製造方法 | |
| JP2977112B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| KR100206058B1 (ko) | 자기헤드 제조방법 | |
| JPH04241205A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JP2957319B2 (ja) | 基板材料の製造方法及び磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH04238105A (ja) | 磁気ヘッド | |
| KR100200809B1 (ko) | 자기헤드 및 그 제조방법 | |
| JP2887204B2 (ja) | 狭トラック磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH04134608A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH03102605A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH04241204A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH06124407A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH03292605A (ja) | 浮動型磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS59203210A (ja) | 磁気コアおよびその製造方法 | |
| JPS6390013A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS6249652B2 (ja) | ||
| JPH103606A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS60136004A (ja) | 垂直磁化記録用ヘツドの製造方法 | |
| JPH0421906A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH0528415A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH05250626A (ja) | 磁気ヘッド |